JPH08169075A - 光学プラスチック積層シート及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 光学的に透明なポリマーからなる第１層と、
該層よりガラス転移温度の低い光学的に透明なポリマー
からなる第２層とを積層してなる積層シートにおいて、
少なくとも一方の表面に有機コート層を介してガスもし
くは湿気バリヤー層、導電層等の二次加工層を有する光
学プラスチック積層シート。 【効果】 耐衝撃性、剛性、表面平滑性、光学的特性を
備え、かつバリヤー層や導電加工層が強固に付着したプ
ラスチック積層シートが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、有機コートを介してバ
リヤー層、透明導電層等の二次加工層を有する光学プラ
スチック積層シート及びその製造方法、並びに該積層シ
ートを用いた耐熱透明基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】エレクトロニクス技術の急速な進歩にと
もない、液晶表示素子に代表される光エレクトロニクス
素子が注目されており、素子を透明導電層を有するガラ
ス基板上に形成することにより各種用途に供されてい
る。特に、携帯型機器に組み込んだ場合、ガラスの大き
な比重のため機器の重量が大きくなり、そのためガラス
基板の薄厚化が指向され０．４ｍｍ程度の基板が利用可
能となった。しかし、ガラスの機械的強度、特に脆性に
課題があり、素子の耐久性を低下させるため、強化ガラ
ス等の特殊な処理をした基板の利用や、素子を衝撃から
保護するために、金属フレームや表面保護用のプラスチ
ックシートを用いる等の対策が実施されている。しか
し、該素子の製造プロセス中での割れによる歩留り低下
という課題を有している。

【０００３】以上のように、軽くて割れにくい基板が強
く望まれており、軽量性、耐衝撃性の点からプラスチッ
ク基板を用いた表示素子に対する期待は大きく、０．４
ｍｍ程度の厚みを有するプラスチック基板に対するいく
つかの試みがなされている。

【０００４】耐熱性が高くかつ表面平滑性の良いプラス
チック基板材料を得る代表的な方法としては、溶剤キャ
スティング法が知られているが、剛性を持たせるために
フィルムを厚膜化する場合、発泡等の欠陥が生じ易い
他、生産性が大幅に低下するので工業的実施は難しく、
２００μｍ程度が限界である。また、溶融押出法により
厚膜化した場合、光学的等方性が損なわれる他、成形時
のダイラインによる表面平滑性や外観が悪く、液晶表示
用基板として用いることは困難である。

【０００５】そのため、ポリメチルメタクリレートや変
性オレフィンの様な本質的に低複屈折材料であるプラス
チックや、特開平６−１９４５０１号にみられるような
架橋アクリルやエポキシの如き硬化型プラスチックをシ
ート状に成形して利用することが検討されているが、前
者はガラスプロセスで必要とされる耐熱性が無く、後者
は生産性が悪く量産実用性に欠ける等の課題を有してい
る。また、前記耐熱光学フィルムを積層しシート化する
ことも可能であるが、耐熱性と信頼性に優れた接着剤が
無いことや、加熱積層する場合は、高い処理温度が必要
となり、樹脂の変性、着色等の好ましくない劣化が起こ
る。

【０００６】これらの課題を解決するために、本発明者
らは、光学的に透明なポリアリレートやポリカーボネー
トに代表されるポリマーからなる少なくとも一つの第１
層と、該層よりガラス転移温度の低い光学的に透明な第
二の材料からなる第２層とを積層してなる、耐熱性と透
明性に優れた光学プラスチック積層シートを提案した
（特願平６−１８６４２２号）。かかる提案において、
第１層にキャスティング法で製膜したフィルムを用いる
ことにより低リターデーションで、かつ良好な表面平滑
性を得ることができる。また高いＴｇを有する樹脂を選
択すれば、高い耐熱性が得られる。該シートは、耐熱
性、剛性、光学的特性の点で実用可能な特性を有してい
る。しかし、表示素子用基板とするにはさらに該シート
表面にガス又は湿気バリヤー（以下、単にバリヤーと記
す）加工や透明導電加工が必要とされている。そのため
該加工層と積層シートとの付着力が不十分な場合、組立
工程時の熱による変化や、酸、アルカリによって、積層
シートは無事であっても、透明導電層やバリヤー層がシ
ートから剥離してしまう。例えば透明導電層にインジウ
ムと錫の複合酸化物であるＩＴＯを用い、バリヤー層に
金属やシリコンの酸化物を用いた場合、透明導電層とバ
リヤー層は接着力が強く、同じ無機物どうし相性が良い
と考えられる。しかし、シートとバリヤー層では、シー
トの種類にもよるが一般的に付着力は弱い。このため得
られた表示素子の信頼性が損なわれる他、極端な場合、
加工途中で付着力の弱いところに応力が集中し、シート
から透明導電層がバリヤー層ごと剥がれてしまうという
問題を生じる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
実情に鑑み、ガラスプロセスと互換性が期待でき、耐衝
撃性、剛性、表面平滑性、光学的特性に優れるととも
に、表面への各種二次加工層が強固に付着し容易に剥離
しない光学プラスチック積層シートを提供するものであ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記目的を
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、光学プラスチック積
層シートとバリヤー層又は透明導電層との間に隣接層間
の付着力を向上させるための有機コート層を介在させる
ことにより、耐衝撃性、剛性、光学的特性及び耐薬品
性、耐溶剤性を併せ持つ、ガラス基板と液晶組立工程が
プロセス互換な光学プラスチック積層シートが得られる
ことを見出し本発明に至った。

【０００９】即ち、本発明の第１は、光学的に透明なポ
リマーからなる第１層と、該層よりガラス転移温度の低
い光学的に透明なポリマーからなる第２層とを積層して
なる積層シートにおいて、少なくとも一方の表面に有機
コート層を介して二次加工層を有する光学プラスチック
積層シートを、本発明の第２は、表面に有機コート層を
有する、第１層を構成する光学的に透明なポリマーフィ
ルムと、第２層を構成する、第１層よりガラス転移温度
の低い光学的に透明なポリマーフィルムを直接加熱積層
し、次いで前記有機コート層の上に二次加工を施すこと
を特徴とする光学プラスチック積層シートの製造方法を
それぞれ内容とする。

【００１０】本発明の光学プラスチック積層シートは、
高ガラス転移温度を有する耐熱性の高い材料からなる第
１層と、低ガラス転移温度を有する材料からなる第２層
とからなり、少なくとも一方の表面に有機コート層を介
して二次加工層を有する積層構造からなることを特徴と
する。

【００１１】本発明において光学的に透明なポリマーと
は、光線透過率が８０％以上でヘイズ（ｈａｚｅ）値が
５％以下のものを云う。かかる光学的特性を有するポリ
マーとしては、例えば、ポリアリレートやポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン等、熱可塑
性のエンジニアリングプラスチックと呼ばれる耐熱性の
高い樹脂が用いられる。

【００１２】主鎖に芳香族基を有するポリアリレートや
ポリカーボネートは、耐熱性、透明性に優れ、フィルム
又はシートを得るのに適しており、好ましい材料であ
る。該ポリマーの詳細は、特開昭５７−７３０２１号、
特開平１−１３５８３号、特開平２−８８６３４号、特
開平２−２３７２０号等に記載されている。

【００１３】第１層は、該層よりも低ガラス転移温度を
有する第２層の片面もしくは両面に積層化され、第２層
の高温加熱時の熱変形を防止する役割を果たしている。
そのガラス転移温度は１６０℃以上、好ましくは１８０
℃以上、より好ましくは２００℃以上である。またこれ
ら樹脂の共重合体やブレンドもしくはアロイも好適に用
いることができる。第１層の厚みは、積層シートの厚み
や、要求される耐熱形状安定性により決定されるが、通
常、積層シートの２０〜８０％である。該シートを単に
液晶表示装置用基板として用いる場合、シートは低リタ
ーデーションであることが必要であり、液晶表示装置の
種類にもよるが、一般に５０ｎｍ以下が好ましく、より
好ましくは２０ｎｍ以下である。第１層は、単層又は２
層以上の複数層からなる。

【００１４】第２層を構成するポリマーとしては、耐熱
性は第１層より低いものを用いる。第２層を構成するポ
リマーのガラス転移温度は、要求される耐熱性の程度に
依存するが、一般には１００℃以上であれば良く、好ま
しくは、１４０℃以上、より好ましくは１８０℃以上で
あり、第１層を構成するポリマーのガラス転移温度より
も２０℃以上低いことが好ましく、更に４０℃以上低い
ことが一層好ましい。本発明の積層プラスチックシート
の耐熱性は、前記した如く、第１層の耐熱性からの寄与
が大きい。第２層も単層又は２層以上の複数層からな
る。

【００１５】第２層を構成するポリマーは、第１層との
親和性に優れたポリマーが好ましく、最適ポリマー材料
を選択する必要がある。第２層は、常温でのシートの剛
性を出すための役割を果たしている。また、熱的変形に
対しては第１層により守られているため、ガラス転移温
度以上の高温加熱時においても、その片面あるいは両面
に存在する高ガラス転移温度を有する第１層の保護を受
け、加圧等の応力に対しても流動すること無く形態を保
持する。第２層の厚みは、第１層厚みの場合と同様に、
積層シートに要求される特性により決定されるが、積層
シート全体の厚みの８０〜２０％が選択される。

【００１６】また、各層を単独にて溶剤キャスティング
法や溶融押出法により必要とする厚みにフィルム化した
後ラミネートすることにより、表面平滑性の優れた高品
位の積層シートを容易に得ることができ、より好ましい
方法である。この時、第１層は、積層シートの表面を形
成するため、表面平滑性に優れた溶剤キャスティング法
により得られたフィルムであることが特に好ましい。接
着剤を用いてラミネートすることも可能であるが、積層
シートの耐熱性を損なわないように接着剤を選択する必
要がある。接着剤の変色など高温時の好ましくない変化
を防ぐことから、接着剤を用いず、直接各層を加熱融着
することが好ましい。この時は、第１層と第２層の親和
性を特に考慮して加熱融着が可能な材料の対を選択する
必要がある。

【００１７】本発明の光学プラスチック積層シートは、
上記の如く、第１層と第２層とを積層してなるので、光
学的特性に優れた薄厚フィルムを得やすいという溶剤キ
ャスト法の利点を生かし、低コストで耐熱厚膜シートを
得ることが出来るという特徴を有している。また、ラミ
ネート法により積層シートを得る場合、高耐熱層（第１
層）は光学的特性や表面平滑性の点から溶剤キャスト法
により成膜したフィルムを用いることができる。更に、
比較的低ガラス転移温度を有する材料は溶融押出法で光
学的特性の良好なフィルムを生産性高く得ることが容易
であるという特徴を利用し、第２層溶融押出フィルムを
用い、積層シートのコストを低減することも可能であ
る。

【００１８】また、加熱ラミネート法によれば、一般的
に、第２層はラミネート時にガラス転移温度以上に加熱
されるため、熱アニールの効果を受けることになり、単
一フィルムで有していた複屈折は、熱アニールにより低
下改善され、その結果、得られた積層シートは、単一フ
ィルムのリターデーションの総和より小さくなるという
特徴を有する。このことは、第２層材料として、複屈折
の高い材料を利用可能であることを意味しており、工業
的に利用する場合、第２層材料を成型時に光学的異方性
を注意すること無く成形することができ、高い生産性を
期待することができる。

【００１９】好適な加熱ラミネートの方法の一つは、加
熱ロールあるいはベルトによる加熱・加圧ラミネート法
である、必要とする加熱温度はラミネートする材料によ
り異なるが、第２層を構成する材料のガラス転移温度よ
り高く、第１層を構成する材料のガラス転移温度より低
い温度が好適である。熱ラミネートは、比較的低温にて
予備圧着した後、ラミネート温度に加熱し本圧着する
等、加熱を複数の段階に分けて実施することも可能であ
る。熱ラミネート時の気泡巻き込みを防止するため、真
空ラミネート方式も好適に使用可能である。

【００２０】加熱ラミネートによる積層化の場合、第１
層及び第２層材料を、主鎖に芳香族基を有するポリアリ
レートやポリカーボネートから選択することが好まし
い。該材料は耐熱性・透明性に優れ、フィルム又はシー
トを得るのに適しており、工業的に容易に入手可能な材
料が多い他、一般的に相溶性が大きく、容易に加熱融着
することが出来る。特に好ましくは、置換又は非置換ヒ
ドロキシフェニルプロパンや置換又は非置換ヒドロキシ
フェニルメタン、置換又は非置換ヒドロキシフェニルシ
クロアルカンをモノマー成分として有する重合体及び共
重合体、及びそのブレンドあるいはアロイである。ビス
フェノールＡからなるポリカーボネートはエンジニアリ
ングプラスチックとして広く利用されており、また、ガ
ラス転移温度が約１５０℃と適度な値を有すると共に、
第１層材料と高い親和性を有しており、特性・コストの
面から、特に好ましい第２層材料である。

【００２１】一方、少なくとも一つの第１層に予め機能
を付与することも可能である。例えば、第１層を構成す
るフィルムを予め延伸し一定の複屈折性を付与して位相
差フィルムとした後、積層シート化することにより位相
差フィルムを一体化させたプラスチック積層シートを得
ることができる。この時、第１層を構成する位相差フィ
ルムは高いガラス転移温度を有するため、加熱ラミネー
ト時においても、余りリターデーションが低下しないと
いう特徴を有しており、高度にリターデーションを制御
されたシートを得ることができる。このような第１層を
有する積層シートを用いることにより、より高機能の表
示装置用基板を得ることができ、特にＳＴＮ液晶表示装
置にとって非常に有用である。

【００２２】本発明の積層シートは、上記積層シートの
少なくとも一方の表面に有機コート層を存在させ、該有
機コート層を介して二次加工層を設けたものである。本
発明の有機コート層は、積層シートとバリヤー層間の付
着力を高めるものであって積層シートの耐熱性、透明
性、表面性を妨げるものでなければ特に制限はない。例
えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、
ウレタン樹脂等のコーティング剤が好ましく、これらは
単独又は２種以上組み合わせて用いられる。エポキシ樹
脂は、ビスフェノール型、フェノールノボラック型、ｏ
−クレゾールノボラック型、アルコールエーテル型、グ
リシジルアミン型等のエポキシ樹脂と、硬化剤としてア
ミン類及びポリアミド類、酸及び酸無水物類等が好まし
い。アクリル樹脂は、アクリル酸、メタクリル酸、マレ
イン酸、メタクリル酸ヒドロキシプロピル等を含むアク
リルポリオールとイソブチル化メラミン樹脂等の組み合
わせが好ましい。ウレタン樹脂については、フェノール
樹脂の様な活性水素供与体とイソシアネートとの組み合
わせが好ましい。

【００２３】有機コート層は、また表面を改質するカッ
プリング剤、例えばシラン系、チタン系、アルミ系のカ
ップリング剤で処理することにより設けてもよく、これ
らは単独又は２種以上組み合わせて用いられる。シラン
系カップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が好ま
しい。チタン系カップリング剤としてはカルボキシ系、
ホスファイト系、ピロホスフェート系、アミノ系等が好
ましい。アルミ系カップリング剤としては、アセトアル
コキシアルミニウムジイソプロピレートが好ましい。

【００２４】これらの有機コート層は、積層シートとの
少なくとも一方の面に存在する。その厚みは０．０１〜
１０μｍが好ましく、さらに好ましくは、０．１〜５μ
ｍである。１０μｍを越えると有機コート層の内部応力
により有機コート層が積層シートから剥離しやすくな
り、また積層シートの表面平滑性を悪化させる恐れがあ
る。また０．０１μｍ未満では付着力の向上をもたらす
効果が不十分となる。

【００２５】本発明の積層シートに有機コート層を設け
るには、積層シートの特徴である表面性を悪化させない
ようにすることが必須である。その方法としては、有機
コート層を形成する材料を含有した溶液を通常行われて
いるスプレー法、スピンナー法、バーコーター法、転写
法、浸漬法によって塗工した後、必要により加熱硬化し
形成される。順序としては第１層のフィルム表面に有機
コートを施し、その後有機コート層の存在しない面を積
層しシート化してもよいし、積層シートに有機コート層
を塗工してもよい。有機コート層は、積層シートの少な
くとも片面に存在していればよいが、必要により両面に
存在させてもかまわない。

【００２６】上記有機コート層の上に設けられる二次加
工層としては、バリヤー層、透明導電層等が挙げられ
る。例えば、本発明の有機コート層を有する光学プラス
チック積層シートは、ガラスと同様に、光エレクトロニ
クス素子用基板として、有機コート層上にインジウムと
錫の複合酸化物に代表される透明導電加工等の２次加工
をすることができるが、加工条件としては、透明導電フ
ィルムで実施されている条件を参考にしながら最適な条
件を見出す必要がある。また、必要に応じ、エチレン─
ビニルアルコール共重合体（エバール：登録商標）やポ
リ塩化ビニリデン等の有機系ガスバリヤー加工や、シリ
カ、アルミナ等からなる無機系ガスバリヤー加工を行
う。本発明では有機コート表面にバリヤー加工をするこ
とは言うまでもない。該バリヤー層上に透明導電加工を
することもできる。また、両面に有機コート層を設け、
その一方の面にペン入力装置を構成するための透明導電
層を、他方の面にバリヤー層及び液晶表示装置駆動用の
透明導電層を逐次形成させ、ペン入力装置が一体となっ
た液晶表示装置用の基板とすることもできる。

【００２７】いずれの場合においても、プラスチック積
層シート上に有機コートを施したことにより、これまで
のように積層シートとバリヤー層や透明導電層が剥離す
ることなく、良好な耐熱性、耐溶剤性を保持した基板を
得ることができる。

【００２８】本発明の光学プラスチック積層シートは、
耐熱性、光学特性、表面平滑性を備えガラスと共用又は
互換可能であり、表示素子用基板として有用である。更
に、ガラスと異なり耐衝撃性に優れ、かつ軽量であるた
め、大面積化が要求されている液晶表示素子用基板材料
として特に有用である。

【００２９】

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００３０】実施例１ 第１層の材料として、溶剤キャスティング法により製膜
され、ガラス転移温度が２１５℃、リターデーションが
１０ｎｍである７５μｍ厚のＡ４版サイズの透明ポリア
リレートフィルム（エルメック Ｆ−１１００：鐘淵化
学工業株式会社の登録商標）を用い、第２層の材料とし
て溶融押出法により成形された、ガラス転移温度が１５
０℃、リターデーションが１５０ｎｍである、ビスフェ
ノールＡからなる３００μｍ厚の透明ポリカーボネート
フィルムを用い、ポリカーボネートフィルムをポリアリ
レートフィルム２枚で挟み、真空ラミネート機で１００
℃にて仮圧着した。その後ガラス板で挟み２００℃に加
熱・本圧着し、強固に融着した４５０μｍ厚の積層シー
トを得た。

【００３１】得られた積層シートのＴＭＡ分析による軟
化温度は２４５℃であり、ポリアリレート単独のフィル
ムとほぼ同程度の軟化温度を示した。一方、ポリカーボ
ネートの軟化温度は１８０℃であった。また、作成した
積層シートはリターデーションは２０ｎｍと、優れた光
学的等方性を有していた。また、表面粗さは、平均で
０．０２８μｍであった。

【００３２】得られた積層シートの一方の面に、シラン
カップリング剤（Ｙ−５１８７：日本ユニカー株式会社
の商品名）の１重量％エタノール溶剤をスピンコーター
で塗布した後１００℃で５分、２００℃で２０分乾燥
し、０．２μｍの厚さの有機コート層を有する積層シー
トを得た。このシートの有機コート層上に、真空スパッ
タリング法にて、ＳｉＯｘ層を５００Å、ＩＴＯ層１０
００Åを順次形成させ、バリヤー層と透明導電層を有す
る耐熱透明基板を作成した。得られた透明耐熱基板は、
表面抵抗が５２Ω／□、酸素透過性が０．４ｃｃ／／ｍ
² ／ｄａｙ以下であった。該シートをエタノールアミン
を主成分とするエチレングリコールの３０％溶液に６０
℃にて１５分浸漬しても何ら変化は認められなかった。
一方、有機コート層を有しないものは５分でＩＴＯ層に
剥離が認められた。

【００３３】実施例２ １，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，
５−トリメチルシクロヘキサンとビスフェノールＡをフ
ェノール成分として含有する耐熱ポリカーボネート（ガ
ラス転移温度：２０６℃、Ａｐｅｃ ＨＴ ＫＵＩ−９
３７１：バイエル株式会社の登録商標）を用い、溶剤キ
ャスティング法により、リターデーションが８ｎｍであ
る７５μｍ厚のポリカーボネートフィルムを得た。該フ
ィルムを第１層として用いた他は、実施例１と同様にし
て、強固に融着した４５０μｍの積層シートを得た。得
られた積層シートのＴＭＡ分析による軟化温度は２３０
℃であり、第１層のポリカーボネート単独のフィルムと
ほぼ同程度の軟化温度を示した。作成した積層シートの
リターデーションは１９ｎｍと、優れた耐熱性と光学的
等方性を有していた。

【００３４】得られた積層シートの一方の面に、エポキ
シ系オーバーコート剤（ＨＯＣ−１００：日本化薬株式
会社の商品名）をスピンコーターで塗布後１００℃で３
分、１９０℃で１０分乾燥し、２μｍの厚さの有機コー
ト層を得た。有機コート層上に真空スパッタリング法に
て、ＳｉＯｘ層を５００Å、ＩＴＯ層１０００Åを順次
形成させ、バリヤー層と透明導電層を有する耐熱透明基
板を作成した。得られた透明耐熱基板は、表面抵抗が６
１Ω／□、酸素透過性が０．５ｃｃ／／ｍ² ／ｄａｙ以
下であった。該シートを５％水酸化ナトリウム水溶液に
３０分浸漬しても何ら変化が認められなかった。一方、
有機コート層を有しないものは５分でＩＴＯ層に剥離が
認められた。

【００３５】実施例３ 実施例２で用いた耐熱ポリカーボネートからなるフィル
ムを自由端一軸延伸により縦一軸延伸を行いリターデー
ションが４１０ｎｍを有する位相差フィルムを得た。こ
の位相差フィルムにメラミン系コーティング剤（ＳＭ−
６７：帝人化成株式会社製の商品名）を２μｍの厚さで
コーティングしたものと、未延伸の厚さ７５μｍを有す
る実施例２で用いた耐熱ポリカーボネートフィルムを第
１層の材料として用い、第２層の材料として、溶融押出
法により成形された１２０ｎｍのリターデーションを有
する２００μｍ厚のポリカーボネートフィルムを用い、
有機コート層を施していない面を重ね合わせ実施例２と
同様に加熱融着を行い、表面に有機コート層を有する位
相差フィルム２枚がポリカーボネートフィルムを介して
一体となった３４５μｍ厚の積層シートを得た。次に実
施例２と同様に、有機コート層上にＳｉＯｘ層、ＩＴＯ
層を順次形成させ、リターデーションを有する耐熱透明
基板を作成した。得られた透明耐熱基板は、表面抵抗が
６１Ω／□、酸素透過性が０．５ｃｃ／／ｍ² ／ｄａｙ
以下であった。得られた積層シートは、３９２ｎｍのリ
ターデーションを有していた。また、面内のリターデー
ション分布は１２ｎｍと良好な均一性を有していた。実
施例２と同様の耐アルカリ性試験では、良好な結果を得
た。

【００３６】実施例４ 一方の表面にコロナ放電処理を施し、シリコン系のカバ
ーコート剤（ＯＳ−８０８２Ａ：大八化学品の登録商
標）のコーティング層（厚さ０．８μｍ）、ＳｉＯｘか
らなるバリヤー層（厚さ５００Å）を設けた厚さ７７μ
ｍのポリアリレートフィルム、及び、実施例１に記載の
ポリアリレートフィルムを第１層の材料として用い、第
２層の材料として、溶融押出法により成形された１２０
ｎｍのリターデーションを有する２００μｍ厚のポリカ
ーボネートフィルムを用い、ポリカーボネートフィルム
を上記２種類のポリアリレートフィルムで挟み、実施例
１と同様に加熱融着を行い、表面にガスバリヤー層を有
する積層シートを得た。得られた積層シートは、厚みが
３５５μｍであり、酸素透過性が０．５ｃｃ／／ｍ² ／
ｄａｙであった。該バリヤー層に１ｍｍ角の切れ目を入
れ、セロテープによる剥離テストを行った結果、１００
％の保持率を有していた。一方、有機コート層を設けて
いないものは２０％の保持率であった。

【００３７】実施例５ 厚さ７５μｍを有するポリアリレートフィルムを自由端
一軸延伸により縦一軸延伸を行いリターデーションが３
８０ｎｍを有する位相差フィルムを得た。このポリアリ
レート位相差フィルム、及び、実施例４記載のバリヤー
層を有するポリアリレートフィルムをそれぞれ第１層と
して用い、第２層の材料として、溶融押出法により成形
された１２０ｎｍのリターデーションを有する２００μ
ｍ厚のポリカーボネートフィルムを用い、実施例１と同
様に加熱融着を行い、バリヤー層を有し、しかも位相差
を有する積層シートを得た。得られた積層シートは、厚
みが３２７μｍであり、３６９ｎｍの位相差を有してい
た。実施例２と同様の耐アルカリ試験の結果は、良好で
あった。

【００３８】

【発明の効果】叙上のとおり、本発明によれば、耐熱
性、耐衝撃性、剛性を備えるとともに、有機層を介して
バリヤー層や導電加工層が強固に付着した光学プラスチ
ック積層シートが提供される。本プラスチック積層シー
トは、光エレクトロニクス分野、特に、液晶表示装置分
野でのガラスに代わる光学基板として有用である。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学的に透明なポリマーからなる第１層
   と、該層よりガラス転移温度の低い光学的に透明なポリ
   マーからなる第２層とを積層してなる積層シートにおい
   て、少なくとも一方の表面に有機コート層を介して二次
   加工層を有する光学プラスチック積層シート。
2. 【請求項２】 第１層を第２層の両面に配置してなる請
   求項１記載の光学プラスチック積層シート。
3. 【請求項３】 第１層と第２層が直接積層されてなる請
   求項１又は２記載の光学プラスチック積層シート。
4. 【請求項４】 第１層及び第２層が、主鎖に芳香族基を
   有する光学的に透明な耐熱ポリアリレート又はポリカー
   ボネートからなる請求項１〜３記載の光学プラスチック
   積層シート。
5. 【請求項５】 有機コート層が、エポキシ樹脂、アクリ
   ル樹脂、フェノール樹脂及びウレタン樹脂からなる群よ
   り選ばれる少なくとも１種からなる請求項１〜４記載の
   光学プラスチック積層シート。
6. 【請求項６】 有機コート層が、シラン系カップリング
   剤、チタン系カップリング剤及びアルミ系カップリング
   剤からなる群より選ばれる少なくとも１種からなる請求
   項１〜４記載の光学プラスチック積層シート。
7. 【請求項７】 二次加工層がガスもしくは湿気バリヤー
   層又は透明導電層である請求項１〜６記載の光学プラス
   チック積層シート。
8. 【請求項８】 表面に有機コート層を有する、第１層を
   構成する光学的に透明なポリマーフィルムと、第２層を
   構成する、第１層よりガラス転移温度の低い光学的に透
   明なポリマーフィルムを直接加熱積層し、次いで前記有
   機コート層の上に二次加工を施すことを特徴とする光学
   プラスチック積層シートの製造方法。
9. 【請求項９】 第１層を構成するフィルムが溶剤キャス
   ティング法により得られたフィルムである請求項８記載
   の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項１〜７記載の光学プラスチック
    積層シートを用いたことを特徴とする耐熱透明基板。