JPH08165294A - １，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの製造方法 - Google Patents
１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの製造方法Info
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- JPH08165294A JPH08165294A JP33347594A JP33347594A JPH08165294A JP H08165294 A JPH08165294 A JP H08165294A JP 33347594 A JP33347594 A JP 33347594A JP 33347594 A JP33347594 A JP 33347594A JP H08165294 A JPH08165294 A JP H08165294A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式（１）で示される環状ジメチルポ
リシロキサン及び／又は下記一般式（２）で示される鎖
状ジメチルポリシロキサンとジメチルジクロロシランと
を接触させて１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンを製造する方法において、触媒と
して塩化第２鉄・６水和物と水とを併用することを特徴
とする１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチ
ルジシロキサンの製造方法。 【化１】 （式中、ｎは３以上の整数を示す。） 【化２】 （式中、Ｘは水素原子、水酸基、炭素数１〜６のアルキ
ル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれ、同一
でも異なっていてもよい。ｍは２以上の整数を示す。） 【効果】 本発明によれば、高反応速度で効率よく、し
かも好収率で１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンを製造でき、また無溶媒下で反応
を行うことができ、ジエチルエーテルなどの危険な溶媒
を使用しないため、操作的にも優れ、安全性も高いもの
である。
リシロキサン及び／又は下記一般式（２）で示される鎖
状ジメチルポリシロキサンとジメチルジクロロシランと
を接触させて１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンを製造する方法において、触媒と
して塩化第２鉄・６水和物と水とを併用することを特徴
とする１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチ
ルジシロキサンの製造方法。 【化１】 （式中、ｎは３以上の整数を示す。） 【化２】 （式中、Ｘは水素原子、水酸基、炭素数１〜６のアルキ
ル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれ、同一
でも異なっていてもよい。ｍは２以上の整数を示す。） 【効果】 本発明によれば、高反応速度で効率よく、し
かも好収率で１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンを製造でき、また無溶媒下で反応
を行うことができ、ジエチルエーテルなどの危険な溶媒
を使用しないため、操作的にも優れ、安全性も高いもの
である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シリコーン樹脂の原料
として重要な１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンの製造方法に関する。
として重要な１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサンの合成方法は、ウイントン・パットノード及び
ドナルド・ウイルコックによって既に報告されている
〔Ｗｉｎｔｏｎ Ｐａｔｎｏｄｅ ａｎｄ Ｄｏｎａｌ
ｄ Ｆ．Ｗｉｌｃｏｃｋ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，６８，３５８（１９４６）〕。また、上記ジシロ
キサンよりメチル基が１個少ない１，３−ジクロロ−
１，１，３−トリメチルジシロキサンの製造方法はスチ
ュアート・デキスター・ブリューワー及びバルストン・
レークによって提案されている〔米国特許第２，５１
９，８８１号公報〕。
１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサンの合成方法は、ウイントン・パットノード及び
ドナルド・ウイルコックによって既に報告されている
〔Ｗｉｎｔｏｎ Ｐａｔｎｏｄｅ ａｎｄ Ｄｏｎａｌ
ｄ Ｆ．Ｗｉｌｃｏｃｋ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，６８，３５８（１９４６）〕。また、上記ジシロ
キサンよりメチル基が１個少ない１，３−ジクロロ−
１，１，３−トリメチルジシロキサンの製造方法はスチ
ュアート・デキスター・ブリューワー及びバルストン・
レークによって提案されている〔米国特許第２，５１
９，８８１号公報〕。
【０００３】しかし、上記パットノードらの方法は、多
量のジエチルエーテルに溶解されたジメチルジクロロシ
ランの中へ純水とジオキサンの溶液を導入する方法であ
るが、多量のジエチルエーテルを使用するので危険であ
る上、単位容量当りの生産効率も悪いことから、工業的
製造に適さないという欠点があった。
量のジエチルエーテルに溶解されたジメチルジクロロシ
ランの中へ純水とジオキサンの溶液を導入する方法であ
るが、多量のジエチルエーテルを使用するので危険であ
る上、単位容量当りの生産効率も悪いことから、工業的
製造に適さないという欠点があった。
【０００４】また、ブリューワーらの方法は、ジメチル
ポリシロキサンとメチルジクロロシランとを塩化第２鉄
・６水和物（ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ）の存在下で反応させ
るものであるが、この方法をジメチルポリシロキサンと
ジメチルジクロロシランに応用し、１，３−ジクロロ−
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンを製造しよ
うとした場合、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テ
トラメチルジシロキサンの生成反応では反応速度が極め
て遅く、反応完結に室温（２０℃）で５００分というよ
うな長時間を要し、生産効率が悪いという欠点があっ
た。
ポリシロキサンとメチルジクロロシランとを塩化第２鉄
・６水和物（ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ）の存在下で反応させ
るものであるが、この方法をジメチルポリシロキサンと
ジメチルジクロロシランに応用し、１，３−ジクロロ−
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンを製造しよ
うとした場合、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テ
トラメチルジシロキサンの生成反応では反応速度が極め
て遅く、反応完結に室温（２０℃）で５００分というよ
うな長時間を要し、生産効率が悪いという欠点があっ
た。
【０００５】本発明は上記事情を改善するためになされ
たもので、高反応速度でしかも好収率で１，３−ジクロ
ロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンを製造
する方法を提供することを目的とする。
たもので、高反応速度でしかも好収率で１，３−ジクロ
ロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンを製造
する方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者らは、
上記目的を達成し、危険な溶媒を使用することなく、室
温付近の温度で効率よく１，３−ジクロロ−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサンを製造する方法につ
いて鋭意検討を行った結果、下記一般式（１）で示され
る環状ジメチルポリシロキサン及び／又は下記一般式
（２）で示される鎖状ジメチルポリシロキサンをジメチ
ルジクロロシランと反応させること、この場合、触媒と
して塩化第２鉄・６水和物に水を共存させて使用した場
合、塩化第２鉄・６水和物を水と共存させずに使用した
場合に比べて驚異的にも２０℃での反応速度が約１００
倍となり、反応が５分程度で完了するという予想外の結
果が得られることを知見し、本発明をなすに至ったもの
である。
上記目的を達成し、危険な溶媒を使用することなく、室
温付近の温度で効率よく１，３−ジクロロ−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサンを製造する方法につ
いて鋭意検討を行った結果、下記一般式（１）で示され
る環状ジメチルポリシロキサン及び／又は下記一般式
（２）で示される鎖状ジメチルポリシロキサンをジメチ
ルジクロロシランと反応させること、この場合、触媒と
して塩化第２鉄・６水和物に水を共存させて使用した場
合、塩化第２鉄・６水和物を水と共存させずに使用した
場合に比べて驚異的にも２０℃での反応速度が約１００
倍となり、反応が５分程度で完了するという予想外の結
果が得られることを知見し、本発明をなすに至ったもの
である。
【０００７】
【化３】 （式中、ｎは３以上の整数を示す。）
【０００８】
【化４】 （式中、Ｘは水素原子、水酸基、炭素数１〜６のアルキ
ル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれ、同一
でも異なっていてもよい。ｍは２以上の整数を示す。）
ル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれ、同一
でも異なっていてもよい。ｍは２以上の整数を示す。）
【０００９】従って、本発明は、上記式（１）の環状ジ
メチルポリシロキサン及び／又は式（２）の鎖状ジメチ
ルポリシロキサンとジメチルジクロロシランとを接触さ
せて１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチル
ジシロキサンを製造する方法において、触媒として塩化
第２鉄・６水和物と水とを併用することを特徴とする
１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサンの製造方法を提供する。
メチルポリシロキサン及び／又は式（２）の鎖状ジメチ
ルポリシロキサンとジメチルジクロロシランとを接触さ
せて１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチル
ジシロキサンを製造する方法において、触媒として塩化
第２鉄・６水和物と水とを併用することを特徴とする
１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサンの製造方法を提供する。
【００１０】以下、本発明につき更に詳しく説明する
と、本発明の１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンの製造方法は、環状ジメチルポリ
シロキサン及び／又は鎖状ジメチルポリシロキサンをジ
メチルジクロロシランと塩化第２鉄・６水和物及び水の
存在下において無溶媒で反応させるものであり、その反
応式は下記の通りである。
と、本発明の１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンの製造方法は、環状ジメチルポリ
シロキサン及び／又は鎖状ジメチルポリシロキサンをジ
メチルジクロロシランと塩化第２鉄・６水和物及び水の
存在下において無溶媒で反応させるものであり、その反
応式は下記の通りである。
【００１１】
【化５】
【００１２】ここで、原料の環状ジメチルポリシロキサ
ン及び鎖状ジメチルポリシロキサンとしては、下記式
（１），（２）で示されるものが用いられ、これらはそ
の１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
ン及び鎖状ジメチルポリシロキサンとしては、下記式
（１），（２）で示されるものが用いられ、これらはそ
の１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００１３】
【化６】 （式中、ｎは３以上の整数を示す。）
【００１４】
【化７】 （式中、Ｘは水素原子、水酸基、炭素数１〜６のアルキ
ル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれ、同一
でも異なっていてもよい。ｍは２以上の整数を示す。）
ル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれ、同一
でも異なっていてもよい。ｍは２以上の整数を示す。）
【００１５】なお、ｎは３以上であるが、好ましくは３
〜２０、より好ましくは３〜６、特に好ましくは原料の
入手し易さから４であり、またｍの値は上記のように２
以上であるが、好ましくは２〜１００、特に２〜２０で
あり、例えば式（１）の環状ジメチルポリシロキサンと
して１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルシクロトリ
シロキサン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタ
メチルシクロテトラシロキサンなどが使用し得る。ま
た、式（２）の鎖状ジメチルポリシロキサンとして、ジ
メチルジクロロシラン加水分解物である下記に示すもの
などが使用し得る。なお、Ｘとしては水酸基が好まし
い。
〜２０、より好ましくは３〜６、特に好ましくは原料の
入手し易さから４であり、またｍの値は上記のように２
以上であるが、好ましくは２〜１００、特に２〜２０で
あり、例えば式（１）の環状ジメチルポリシロキサンと
して１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルシクロトリ
シロキサン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタ
メチルシクロテトラシロキサンなどが使用し得る。ま
た、式（２）の鎖状ジメチルポリシロキサンとして、ジ
メチルジクロロシラン加水分解物である下記に示すもの
などが使用し得る。なお、Ｘとしては水酸基が好まし
い。
【００１６】
【化８】
【００１７】上記式（１），（２）のジメチルポリシロ
キサンとジメチルジクロロシランとの反応モル比は適宜
選定されるが、式（１），（２）のジメチルポリシロキ
サンの構成単位である−〔（ＣＨ3）2ＳｉＯ〕−１モル
に対してジメチルジクロロシランは１モル以上必要であ
り、経済的には１〜１０倍モル、最適には１．２〜５倍
モルが好ましい。
キサンとジメチルジクロロシランとの反応モル比は適宜
選定されるが、式（１），（２）のジメチルポリシロキ
サンの構成単位である−〔（ＣＨ3）2ＳｉＯ〕−１モル
に対してジメチルジクロロシランは１モル以上必要であ
り、経済的には１〜１０倍モル、最適には１．２〜５倍
モルが好ましい。
【００１８】本発明においては、上記ジメチルポリシロ
キサンとジメチルジクロロシランとの反応は塩化第２鉄
・６水和物（ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ）と水とを触媒として
行うものである。
キサンとジメチルジクロロシランとの反応は塩化第２鉄
・６水和物（ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ）と水とを触媒として
行うものである。
【００１９】即ち、本発明者の検討の結果によれば、Ｚ
ｎ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｎのハロゲン化合物についても検討
したが、Ｆｅのハロゲン化合物よりも優れたものはな
く、またハロゲン化鉄について比較検討した結果は、下
記の通りであり、 ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ≫ＦｅＣｌ3＞ＦｅＢｒ3＞ＦｅＩ3
＞ＦｅＦ3＞ＦｅＣｌ2＞ＦｅＣｌ2・４Ｈ2Ｏ 更にＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏの活性化剤について検討した結
果は、下記の通りである。 Ｈ2Ｏ≫ＣＨ3ＯＨ＞（ＣＨ3）2Ｃ＝Ｏ＞ＣＨ3ＣＮ
ｎ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｎのハロゲン化合物についても検討
したが、Ｆｅのハロゲン化合物よりも優れたものはな
く、またハロゲン化鉄について比較検討した結果は、下
記の通りであり、 ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ≫ＦｅＣｌ3＞ＦｅＢｒ3＞ＦｅＩ3
＞ＦｅＦ3＞ＦｅＣｌ2＞ＦｅＣｌ2・４Ｈ2Ｏ 更にＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏの活性化剤について検討した結
果は、下記の通りである。 Ｈ2Ｏ≫ＣＨ3ＯＨ＞（ＣＨ3）2Ｃ＝Ｏ＞ＣＨ3ＣＮ
【００２０】このようにＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏと水とを併
用することにより、本発明の驚異的な高反応速度が達成
されるものである。
用することにより、本発明の驚異的な高反応速度が達成
されるものである。
【００２１】ここで、ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏの使用量は、
上記ジメチルポリシロキサン（分子量グラム換算）に対
して１０ｐｐｍ〜１０重量％であり、最適には１００ｐ
ｐｍ〜１重量％が好ましい。また、水の添加量はＦｅＣ
ｌ3・６Ｈ2Ｏ（分子量グラム換算）に対して１００ｐｐ
ｍ〜５００重量％、最適には５〜５００重量％であるこ
とが好ましい。
上記ジメチルポリシロキサン（分子量グラム換算）に対
して１０ｐｐｍ〜１０重量％であり、最適には１００ｐ
ｐｍ〜１重量％が好ましい。また、水の添加量はＦｅＣ
ｌ3・６Ｈ2Ｏ（分子量グラム換算）に対して１００ｐｐ
ｍ〜５００重量％、最適には５〜５００重量％であるこ
とが好ましい。
【００２２】なお、ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏと水とは反応系
に別々に投入してもよいが、ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ水溶液
としてジメチルポリシロキサンとジメチルジクロロシラ
ンとの混合物に添加することが操作上から有利である。
に別々に投入してもよいが、ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ水溶液
としてジメチルポリシロキサンとジメチルジクロロシラ
ンとの混合物に添加することが操作上から有利である。
【００２３】本発明の反応は無溶媒で行われる。また、
反応温度は、０℃より低いと水が氷結して反応速度が低
下するおそれがあり、７０℃を超えると反応試剤のジメ
チルジクロロシランが沸騰し、取り扱いに不便が生じる
場合があるので、０〜７０℃が適当であり、最適には室
温付近の温度（１５〜４０℃）である。なお、反応時間
は限定されないが、通常１〜１０分である。
反応温度は、０℃より低いと水が氷結して反応速度が低
下するおそれがあり、７０℃を超えると反応試剤のジメ
チルジクロロシランが沸騰し、取り扱いに不便が生じる
場合があるので、０〜７０℃が適当であり、最適には室
温付近の温度（１５〜４０℃）である。なお、反応時間
は限定されないが、通常１〜１０分である。
【００２４】反応終了後は、ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏを除去
した後、蒸留精製することにより、目的とする１，３−
ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン
を得ることができる。
した後、蒸留精製することにより、目的とする１，３−
ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン
を得ることができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、高反応速度で効率よ
く、しかも好収率で１，３−ジクロロ−１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサンを製造でき、また無溶媒下
で反応を行うことができ、ジエチルエーテルなどの危険
な溶媒を使用しないため、操作的にも優れ、安全性も高
いものである。
く、しかも好収率で１，３−ジクロロ−１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサンを製造でき、また無溶媒下
で反応を行うことができ、ジエチルエーテルなどの危険
な溶媒を使用しないため、操作的にも優れ、安全性も高
いものである。
【００２６】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【００２７】〔実施例１〕撹拌機、還流器、滴下ロー
ト、固体投入口、温度計付きの５００ｍｌの５つ口フラ
スコにジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと１，１，
３，３，５，５，７，７−オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン７４．２ｇを入れ、撹拌した。温度２０℃にお
いて滴下ロートからＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏの３０％水溶液
０．２ｇを一度に加えた。ガスクロマトグラフィー分析
により５分後に原料の１，１，３，３，５，５，７，７
−オクタメチルシクロテトラシロキサンは完全に消失し
ており、反応が完結していることがわかった。
ト、固体投入口、温度計付きの５００ｍｌの５つ口フラ
スコにジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと１，１，
３，３，５，５，７，７−オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン７４．２ｇを入れ、撹拌した。温度２０℃にお
いて滴下ロートからＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏの３０％水溶液
０．２ｇを一度に加えた。ガスクロマトグラフィー分析
により５分後に原料の１，１，３，３，５，５，７，７
−オクタメチルシクロテトラシロキサンは完全に消失し
ており、反応が完結していることがわかった。
【００２８】直ちに反応終了液を濾紙濾過して触媒を除
いた後、濾液を蒸留精製したところ、７６０ｍｍＨｇで
１３８℃の沸点を持つ液体１４３．１ｇを得た。このも
のは、信越化学工業（株）から純正試料（商品名ＬＳ−
７０３０）として市販されている化合物との比較分析
（ＧＣ−ＭＳ，ＩＲ，ＮＭＲ分析）より、１，３−ジク
ロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンであ
ることが確認された。収量１４３．１ｇ（収率７０．４
％）。
いた後、濾液を蒸留精製したところ、７６０ｍｍＨｇで
１３８℃の沸点を持つ液体１４３．１ｇを得た。このも
のは、信越化学工業（株）から純正試料（商品名ＬＳ−
７０３０）として市販されている化合物との比較分析
（ＧＣ−ＭＳ，ＩＲ，ＮＭＲ分析）より、１，３−ジク
ロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンであ
ることが確認された。収量１４３．１ｇ（収率７０．４
％）。
【００２９】〔実施例２〕実施例１と同様のフラスコに
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと１，１，３，
３，５，５−ヘキサメチルシクロトリシロキサン７４．
２ｇを入れ、撹拌した。温度２０℃において滴下ロート
から水０．１ｇと固体投入口からＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏを
０．２ｇ一度に加えた。ガスクロマトグラフィー分析に
より４分後に原料の１，１，３，３，５，５−ヘキサメ
チルシクロトリシロキサンは完全に消失しており、反応
が完結していることがわかった。実施例１と同様な処理
をして、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサン１４５．１ｇ（収率７１．４％）を得
た。
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと１，１，３，
３，５，５−ヘキサメチルシクロトリシロキサン７４．
２ｇを入れ、撹拌した。温度２０℃において滴下ロート
から水０．１ｇと固体投入口からＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏを
０．２ｇ一度に加えた。ガスクロマトグラフィー分析に
より４分後に原料の１，１，３，３，５，５−ヘキサメ
チルシクロトリシロキサンは完全に消失しており、反応
が完結していることがわかった。実施例１と同様な処理
をして、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサン１４５．１ｇ（収率７１．４％）を得
た。
【００３０】〔実施例３〕実施例１と同様のフラスコに
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと下記式で示すジ
メチルジクロロシラン加水分解物７４．２ｇを入れ、撹
拌した。温度０℃において滴下ロートからＦｅＣｌ3・
６Ｈ2Ｏの３０％水溶液０．３ｇを一度に加えた。ＩＲ
分析により５分後に原料のジメチルジクロロシランは完
全に消失しており、反応が完結していることがわかっ
た。実施例１と同様な処理をして、１，３−ジクロロ−
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１４２．９
ｇ（収率７０．３％）を得た。
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと下記式で示すジ
メチルジクロロシラン加水分解物７４．２ｇを入れ、撹
拌した。温度０℃において滴下ロートからＦｅＣｌ3・
６Ｈ2Ｏの３０％水溶液０．３ｇを一度に加えた。ＩＲ
分析により５分後に原料のジメチルジクロロシランは完
全に消失しており、反応が完結していることがわかっ
た。実施例１と同様な処理をして、１，３−ジクロロ−
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１４２．９
ｇ（収率７０．３％）を得た。
【００３１】
【化９】
【００３２】〔実施例４〕実施例１と同様のフラスコに
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇとジメチルジクロ
ロシランを水−メタノール溶媒中で加水分解させて合成
した下記式で示す化合物７４．２ｇを入れ、撹拌した。
温度１０℃において滴下ロートからＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ
の３０％水溶液０．５ｇを一度に加えた。ＩＲ分析によ
り５分後に原料の加水分解物は完全に消失しており、反
応が完結していることがわかった。実施例１と同様な処
理をして、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラ
メチルジシロキサン１４２．８ｇ（収率７０．３％）を
得た。
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇとジメチルジクロ
ロシランを水−メタノール溶媒中で加水分解させて合成
した下記式で示す化合物７４．２ｇを入れ、撹拌した。
温度１０℃において滴下ロートからＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ
の３０％水溶液０．５ｇを一度に加えた。ＩＲ分析によ
り５分後に原料の加水分解物は完全に消失しており、反
応が完結していることがわかった。実施例１と同様な処
理をして、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラ
メチルジシロキサン１４２．８ｇ（収率７０．３％）を
得た。
【００３３】
【化１０】
【００３４】〔実施例５〕実施例１と同様のフラスコに
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと不純物としてジ
メチルクロロシランを含む下記に示す工業用のジメチル
ジクロロシランの加水分解物７４．２ｇを入れ、撹拌し
た。温度３５℃において滴下ロートからＦｅＣｌ3・６
Ｈ2Ｏの３０％水溶液０．４ｇを一度に加えた。ＩＲ分
析により５分後に原料の加水分解物は完全に消失してお
り、反応が完結していることがわかった。実施例１と同
様な処理をして、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−
テトラメチルジシロキサン１４２．８ｇ（収率７０．３
％）を得た。
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと不純物としてジ
メチルクロロシランを含む下記に示す工業用のジメチル
ジクロロシランの加水分解物７４．２ｇを入れ、撹拌し
た。温度３５℃において滴下ロートからＦｅＣｌ3・６
Ｈ2Ｏの３０％水溶液０．４ｇを一度に加えた。ＩＲ分
析により５分後に原料の加水分解物は完全に消失してお
り、反応が完結していることがわかった。実施例１と同
様な処理をして、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−
テトラメチルジシロキサン１４２．８ｇ（収率７０．３
％）を得た。
【００３５】
【化１１】
【００３６】〔実施例６〕実施例１と同様のフラスコに
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと不純物としてト
リメチルクロロシランを含む下記に示す工業用のジメチ
ルジクロロシランの加水分解物７４．２ｇを入れ、撹拌
した。温度３５℃において滴下ロートからＦｅＣｌ3・
６Ｈ2Ｏの３０％水溶液０．５ｇを一度に加えた。ＩＲ
分析により５分後に原料の加水分解物は完全に消失して
おり、反応が完結していることがわかった。実施例１と
同様な処理をして、１，３−ジクロロ−１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン１４２．９ｇ（収率７０．
３％）を得た。
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと不純物としてト
リメチルクロロシランを含む下記に示す工業用のジメチ
ルジクロロシランの加水分解物７４．２ｇを入れ、撹拌
した。温度３５℃において滴下ロートからＦｅＣｌ3・
６Ｈ2Ｏの３０％水溶液０．５ｇを一度に加えた。ＩＲ
分析により５分後に原料の加水分解物は完全に消失して
おり、反応が完結していることがわかった。実施例１と
同様な処理をして、１，３−ジクロロ−１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン１４２．９ｇ（収率７０．
３％）を得た。
【００３７】
【化１２】
【００３８】〔比較例１〕実施例１と同様のフラスコに
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと１，１，３，
３，５，５，７，７−オクタメチルシクロテトラシロキ
サン７４．２ｇを入れ、撹拌した。温度２０℃において
ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏを０．２ｇ固体投入口より一度に加
えた。ガスクロマトグラフィー分析により５分後に原料
の１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチルシク
ロテトラシロキサンは消費されておらず９９％以上残存
しており、反応が進んでいないことがわかった。ガスク
ロマトグラフィー分析による反応完結は５００分後であ
った。反応完結後は実施例１と同様な処理をして、１，
３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキ
サン１３９．８ｇ（収率６８．８％）を得た。
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと１，１，３，
３，５，５，７，７−オクタメチルシクロテトラシロキ
サン７４．２ｇを入れ、撹拌した。温度２０℃において
ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏを０．２ｇ固体投入口より一度に加
えた。ガスクロマトグラフィー分析により５分後に原料
の１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチルシク
ロテトラシロキサンは消費されておらず９９％以上残存
しており、反応が進んでいないことがわかった。ガスク
ロマトグラフィー分析による反応完結は５００分後であ
った。反応完結後は実施例１と同様な処理をして、１，
３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキ
サン１３９．８ｇ（収率６８．８％）を得た。
【００３９】〔比較例２〕実施例１と同様のフラスコに
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと実施例４と同じ
加水分解物７４．２ｇを入れ、撹拌した。温度１０℃に
おいてＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏを固体投入により一度に加え
た。ＩＲ分析の結果、５分後に原料の加水分解物は消費
されておらず９９％以上残存しており、反応が進んでい
ないことがわかった。ＩＲ分析による反応完結は５０５
分後であった。反応完結後は実施例１と同様な処理をし
て、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチル
ジシロキサン１３９．９ｇ（収率６８．８％）を得た。
ジメチルジクロロシラン２５８．１ｇと実施例４と同じ
加水分解物７４．２ｇを入れ、撹拌した。温度１０℃に
おいてＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏを固体投入により一度に加え
た。ＩＲ分析の結果、５分後に原料の加水分解物は消費
されておらず９９％以上残存しており、反応が進んでい
ないことがわかった。ＩＲ分析による反応完結は５０５
分後であった。反応完結後は実施例１と同様な処理をし
て、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチル
ジシロキサン１３９．９ｇ（収率６８．８％）を得た。
フロントページの続き (72)発明者 高橋 政晴 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 一戸 省二 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、ｎは３以上の整数を示す。）で示される環状ジ
メチルポリシロキサン及び／又は下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｘは水素原子、水酸基、炭素数１〜６のアルキ
ル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれ、同一
でも異なっていてもよい。ｍは２以上の整数を示す。）
で示される鎖状ジメチルポリシロキサンとジメチルジク
ロロシランとを接触させて１，３−ジクロロ−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサンを製造する方法にお
いて、触媒として塩化第２鉄・６水和物と水とを併用す
ることを特徴とする１，３−ジクロロ−１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33347594A JPH08165294A (ja) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | １，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33347594A JPH08165294A (ja) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | １，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08165294A true JPH08165294A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=18266491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33347594A Pending JPH08165294A (ja) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | １，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08165294A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3196336A1 (en) * | 2016-01-20 | 2017-07-26 | Versum Materials US, LLC | High temperature atomic layer deposition of silicon-containing films |
-
1994
- 1994-12-15 JP JP33347594A patent/JPH08165294A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3196336A1 (en) * | 2016-01-20 | 2017-07-26 | Versum Materials US, LLC | High temperature atomic layer deposition of silicon-containing films |
| US10283348B2 (en) | 2016-01-20 | 2019-05-07 | Versum Materials Us, Llc | High temperature atomic layer deposition of silicon-containing films |
| CN112899648A (zh) * | 2016-01-20 | 2021-06-04 | 弗萨姆材料美国有限责任公司 | 含硅薄膜的高温原子层沉积 |
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