JPH08164496A - Sn-zn solder, sn-zn-bi solder, method for surface treatment of same, and mounted substrate using it - Google Patents

Sn-zn solder, sn-zn-bi solder, method for surface treatment of same, and mounted substrate using it

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JPH08164496A
JPH08164496A JP26117195A JP26117195A JPH08164496A JP H08164496 A JPH08164496 A JP H08164496A JP 26117195 A JP26117195 A JP 26117195A JP 26117195 A JP26117195 A JP 26117195A JP H08164496 A JPH08164496 A JP H08164496A
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Japan
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solder
ball
coating
alternatively
eutectic
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JP26117195A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideyoshi Shimokawa
英恵 下川
Tasao Soga
太佐男 曽我
Tetsuya Nakatsuka
哲也 中塚
Toshiharu Ishida
寿治 石田
Kenichi Yamamoto
健一 山本
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3478Applying solder preforms; Transferring prefabricated solder patterns

Abstract

PURPOSE: To easily achieve the soldering of the printed circuit board even with the normal flux for the electronic equipment by incorporating the prescribed contents in Sn-Zn solder or Sn-Zn-Bi solder to prevent the oxidation of the molten Zn, and to improve the wettability. CONSTITUTION: The solder ball 3 consists of the Sn-Zn eutectic solder 1 at the center and the Au covered layer 2 on the surface. The solder ball 3 is made by preliminarily preparing the Sn-Zn eutectic solder ball 1, heating the solution where sodium metasilicate, sodium orthosilicate, and the interface active agent are solved in water, and dipping the Sn-Zn eutectic solder ball 1 therein to perform alkaline degreasing. Then, the ball is water rinsed, and dipped in sulfuric acid to remove the oxide film on the surface, water rinsed, and dipped in the solution where PdCl2 and HCl are solved in water to perform PD activation. Then, the ball is dipped in the solution for semi-bright Ni-plating to perform Ni-plating. After the water rinsing, the ball is dipped in sulfuric acid, dipped in the Au-plating solution to perform Au-plating to obtain the solder ball 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、テレビ、ビデオ、
パ−ソナルコンピュ−タ、ワ−クステ−ション等の電子
機器一般の基板もしくは部品にSn、ZnあるいはS
n、Zn、Biからなるはんだ合金を用いた接続に関す
る。これらは、例えば、はんだペースト中のはんだボー
ル、BGA(ボールグリッドアレイ)用のはんだボー
ル、及び各種電子部品、基板の端子表面の被覆に用いる
ことができ、人体に対して有害なPbを含まないはんだ
を用いた電子回路基板のはんだ付けの高信頼化に寄与で
きる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a television, a video,
Substrates or parts of electronic equipment such as personal computers, workstations, etc. are generally made of Sn, Zn or S.
The present invention relates to a connection using a solder alloy composed of n, Zn and Bi. These can be used, for example, for solder balls in a solder paste, BGA (ball grid array) solder balls, various electronic components, and coating of the terminal surface of a substrate, and do not contain Pb harmful to the human body. This can contribute to higher reliability in soldering of electronic circuit boards using solder.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の電子機器の配線基板の接続に用い
られるはんだは、Sn、Pbからなるものが古くから知
られている(以下Sn−Pb系はんだとする)。しか
し、これに含まれるPbは、人体に対して毒性が強いと
いう問題があった。Pbが含まれず、環境に悪影響を及
ぼさないはんだ材料の1つに、SnとZnあるいはSn
とZnとBiを含むはんだがある(以下Sn−Zn系は
んだ、Sn−Zn−Bi系はんだとする)。Sn−Zn
共晶はんだの融点は199℃で、従来のはんだ付け接続
に最もよく使われているSn−Pb共晶はんだの融点
(183℃)と近いため、該Sn−Zn系はんだは該S
n−Pb系はんだの代替材料の有力な候補である。更に
Sn−Zn−Bi系はんだは、Sn−Zn共晶はんだよ
り更に融点が下がり、Sn−Pb共晶はんだの代替材料
として最有力候補である。しかし、ジェイオ−エム、ジ
ュライ(1993年)第36項(JOM,July 1993,p.
36)に記載の通り、Sn−Zn系はんだは、溶融時にZ
nが酸化されやすいため、従来のSn−Pbはんだと比
較してぬれが著しく悪いという欠点があった。同様に、
Sn−Zn−Bi系はんだもSn−Pb共晶と比較して
ぬれ性が悪い。また、別元素の添加により該Sn−Zn
系もしくはSn−Zn−Bi系はんだのぬれ性を改善す
る試みもなされているが、該Sn−Pb系はんだと同等
のぬれ性を得ることは難しく、まだ実用化には至ってい
ない。このため該Sn−Zn系、Sn−Zn−Bi系は
んだを該Sn−Pb系はんだと同じ条件で、配線基板等
のはんだ付けに用いることができなかった。活性の強い
フラックスを用いてはんだ付けを行い、ぬれ性を改善す
ることも考えられるが、はんだ付け後の洗浄問題、フラ
ックス残渣による腐食の問題があり、接続後の信頼性に
問題が生じる恐れがある。
2. Description of the Related Art A conventional solder used for connecting a wiring board of an electronic device is composed of Sn and Pb (hereinafter referred to as Sn-Pb type solder). However, Pb contained in this has a problem that it is highly toxic to the human body. One of the solder materials that does not contain Pb and has no adverse effect on the environment is Sn and Zn or Sn.
There is a solder containing Zn and Bi (hereinafter referred to as Sn—Zn based solder, Sn—Zn—Bi based solder). Sn-Zn
The melting point of the eutectic solder is 199 ° C., which is close to the melting point (183 ° C.) of the Sn—Pb eutectic solder most commonly used for the conventional soldering connection.
It is a strong candidate for an alternative material for n-Pb based solder. Furthermore, the melting point of Sn-Zn-Bi solder is lower than that of Sn-Zn eutectic solder, and it is the most promising candidate as a substitute material for Sn-Pb eutectic solder. However, J. M., Jurai (1993), Item 36 (JOM, July 1993, p.
As described in 36), Sn-Zn based solder is
Since n is easily oxidized, there is a drawback that the wettability is remarkably poor as compared with the conventional Sn-Pb solder. Similarly,
Sn-Zn-Bi solder also has poor wettability as compared with Sn-Pb eutectic. In addition, by adding another element, the Sn--Zn
Attempts have been made to improve the wettability of solders or Sn-Zn-Bi solders, but it is difficult to obtain wettability equivalent to that of the Sn-Pb solders, and it has not yet been put to practical use. Therefore, the Sn-Zn-based solder and the Sn-Zn-Bi-based solder could not be used for soldering a wiring board or the like under the same conditions as the Sn-Pb-based solder. It is possible to use a highly active flux for soldering to improve the wettability, but there are cleaning problems after soldering and corrosion due to flux residue, which may cause problems in reliability after connection. is there.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】Sn−Zn系、Sn−
Zn−Bi系はんだの、Cu、もしくははんだめっき上
へのぬれ性は、強固なZnの酸化膜のために、従来のS
n−Pb系はんだと異なって極端に悪い。本発明は、S
n−Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はんだを用いた
はんだ付けにおいて、溶融時の該はんだに含まれるZn
の酸化を防ぐことにより、ぬれ性を確保して、活性の弱
い通常の電子機器用フラックスでも容易に配線基板のは
んだ付けを行うことができる該Sn−Zn系もしくはS
n−Zn−Bi系はんだの表面処理、及び、実装品を提
供するものである。
Problems to be Solved by the Invention Sn-Zn system, Sn-
The wettability of Zn-Bi solder onto Cu or solder plating is due to the strong oxide film of Zn, and therefore the conventional S
Extremely bad unlike n-Pb type solder. The present invention is S
In soldering using n-Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder, Zn contained in the solder when melted
The Sn-Zn-based or S-based Zn-Sn system or S
The present invention provides a surface treatment of an n-Zn-Bi solder and a mounted product.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明はSn−Zn系、Sn−Zn−Bi系はんだ
の表面に耐酸化性の強い金属、もしくは酸化されても通
常の電子機器用フラックスで容易に還元される別の金属
を被覆するものである。はんだとしては、Sn−Zn、
Sn−Zn−Bi、もしくはこれらに、In、Ag、S
b、Cuのいずれか一つ、もしくは二つ以上を含むSn
−Zn系、Sn−Zn−Bi系はんだが考えられる。
In order to achieve the above object, the present invention provides a metal having strong oxidation resistance on the surface of a Sn—Zn system or Sn—Zn—Bi system solder, or a normal electron even if oxidized. It coats another metal that is easily reduced by equipment flux. As the solder, Sn-Zn,
Sn-Zn-Bi or these, In, Ag, S
Sn containing one or more of b and Cu
-Zn-based and Sn-Zn-Bi-based solders are considered.

【0005】表面処理については、Sn−Zn系、Sn
−Zn−Bi系はんだに 1)Auを0.01μm以上、 2)SnもしくはSn合金を2μm以上、 3)NiもしくはCuを0.01μm以上、 4)Pdを0.01μm以上、 5)Agを0.01μm以上、 を被覆、もしくは上記3)〜5)の、NiもしくはC
u、Pd、Ag被覆層上にSnもしくはSn合金を更に
2μm以上被覆するものである。被覆は、蒸着、めっ
き、浸漬等の方法によって行う。
Regarding the surface treatment, Sn--Zn system, Sn
-Zn-Bi solder 1) Au 0.01 μm or more, 2) Sn or Sn alloy 2 μm or more, 3) Ni or Cu 0.01 μm or more, 4) Pd 0.01 μm or more, 5) Ag 0.01 μm or more, or Ni or C of the above 3) to 5)
The coating layer of u, Pd, or Ag is further coated with Sn or Sn alloy by 2 μm or more. The coating is performed by a method such as vapor deposition, plating and dipping.

【0006】Sn−Zn、Sn−Zn−Bi、もしくは
これらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一つ、もし
くは二つ以上を含むSn−Zn系もしくはSn−Zn−
Bi系はんだ表面に、上記金属を被覆することにより、
該Sn−Zn系、Sn−Zn−Bi系はんだが溶融した
時に、該はんだは直接大気に触れることがないので、従
来の様にぬれ性に特に問題となるZnの酸化が起こらな
い。また、表面の金属の被覆層が薄いために、溶融時の
Sn−Zn系、Sn−Zn−Bi系はんだの体積膨張に
よって被覆層は簡単に亀裂が生じ、表面が酸化されてい
ない清浄なSn−Zn系、Sn−Zn−Bi系はんだと
下地金属が接触してぬれが行なわれる。また、被覆層が
薄いので、被覆層の金属の量は少なく、溶融しているS
n−Zn系、Sn−Zn−Bi系はんだ中に被覆層の金
属は完全に溶け込んで、これらの金属による被覆がはん
だ付けの接続強度に問題を起こすことはない。このよう
に、表面に別の金属を被覆することにより、Sn−Zn
系、Sn−Zn−Bi系はんだでも十分にぬれ性を確保
し、強いフラックスを用いず、通常の電子機器用フラッ
クスではんだ付けを行うことができる。
Sn-Zn, Sn-Zn-Bi, or Sn-Zn-based or Sn-Zn-containing one or more of In, Ag, Sb, and Cu.
By coating the Bi-based solder surface with the above metal,
When the Sn-Zn-based solder or the Sn-Zn-Bi-based solder is melted, the solder does not come into direct contact with the atmosphere, and thus Zn oxidation, which is particularly problematic in wettability, does not occur unlike the conventional case. In addition, since the metal coating layer on the surface is thin, the coating layer easily cracks due to the volume expansion of the Sn—Zn-based and Sn—Zn—Bi-based solders at the time of melting, and the surface of the clean Sn is not oxidized. The -Zn-based and Sn-Zn-Bi-based solders come into contact with the base metal to cause wetting. Also, since the coating layer is thin, the amount of metal in the coating layer is small, and the molten S
The metal of the coating layer completely dissolves in the n-Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder, and the coating with these metals does not cause a problem in connection strength of soldering. In this way, by coating the surface with another metal, Sn--Zn
System, Sn-Zn-Bi-based solder can also secure sufficient wettability, and soldering can be performed with a normal electronic device flux without using a strong flux.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
例を説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0008】(実施例1)図1は本発明の実施例のはん
だボ−ルを示す図である。このはんだボール3は、中心
のSn−Zn共晶はんだ1と、その表面のAuの被覆層
2によって構成されている。このAu層の厚みは0.5
μmである。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a view showing a solder ball according to an embodiment of the present invention. The solder ball 3 is composed of a central Sn—Zn eutectic solder 1 and an Au coating layer 2 on the surface thereof. The thickness of this Au layer is 0.5
μm.

【0009】このような構造のはんだボール3の作成方
法を、次に説明する。図2に、このはんだボール3の作
成のプロセスフローを示した。
A method of forming the solder ball 3 having such a structure will be described below. FIG. 2 shows a process flow of making the solder balls 3.

【0010】予めSn−Zn共晶はんだボール1を用意
しておく。次に、メタケイ酸ナトリウム30g,オルソ
ケイ酸ナトリウム20g,界面活性剤1gを1lの水に
溶かした溶液を70℃に加熱して、この溶液に上記Sn
−Zn共晶はんだボール1を10分間浸漬して、アルカ
リ脱脂を行った。その後水洗し、5%硫酸中に1分間浸
漬して表面の酸化層をとり除いた。その後水洗し、Pd
Cl2 0.2g、HCl 100mlを1lの水に溶か
した溶液に1分間浸漬して、Pd活性化処理を行った。
その後水洗し、65℃に温めた半光沢Niめっき液に3
分間浸漬し、Niめっきした。その後水洗、5%硫酸中
に1分間浸漬、水洗を行い、90℃に温めたAuめっき
液に5分間浸漬して、Auめっきを行った。水洗した
後、乾燥させ、図1に示したはんだボール3を得た。こ
の方法によると、Sn−Zn共晶はんだ1とAu層2の
間に薄いNi層が残るが、このNi層は薄いため表面の
Au層の役割を妨たげず、問題とならない。また今回
は、Sn−Zn共晶はんだを例にとり、上記のような無
電解めっき法によって図1のはんだボール3を作成した
が、Sn−Zn−Bi系はんだにおいても適用でき、こ
の方法に限るものではない。
Sn-Zn eutectic solder balls 1 are prepared in advance. Next, a solution prepared by dissolving 30 g of sodium metasilicate, 20 g of sodium orthosilicate and 1 g of a surfactant in 1 l of water was heated to 70 ° C., and the Sn solution was added to the solution.
-Zn eutectic solder ball 1 was immersed for 10 minutes to perform alkaline degreasing. Then, it was washed with water and immersed in 5% sulfuric acid for 1 minute to remove the oxide layer on the surface. After that, wash with water, Pd
Pd activation treatment was carried out by immersing in a solution of 0.2 g of Cl 2 and 100 ml of HCl in 1 l of water for 1 minute.
Then wash in water and apply 3 to the semi-bright Ni plating solution warmed to 65 ° C.
It was immersed for a minute and plated with Ni. Then, it was washed with water, immersed in 5% sulfuric acid for 1 minute, washed with water, immersed in an Au plating solution warmed to 90 ° C. for 5 minutes, and plated with Au. After washing with water and drying, the solder balls 3 shown in FIG. 1 were obtained. According to this method, a thin Ni layer remains between the Sn—Zn eutectic solder 1 and the Au layer 2, but since this Ni layer is thin, it does not interfere with the role of the Au layer on the surface and is not a problem. Also, this time, the Sn-Zn eutectic solder was used as an example to prepare the solder ball 3 of FIG. 1 by the electroless plating method as described above, but it is also applicable to the Sn-Zn-Bi solder and the method is not limited to this method. Not a thing.

【0011】このような構造のはんだボールは、加熱さ
れて温度が上昇し、Sn−Zn共晶はんだの融点に達し
て溶融した時に、表面にAuが0.5μmの厚みで存在す
るために、酸素を含む大気に直接接することがなく、該
はんだに含まれるZnが酸化することがない。また、A
uによる表面被覆層が0.5μmと薄いために、Sn−Z
n共晶はんだの融解時の体積膨張により、簡単に亀裂が
生じ、表面が酸化されていない清浄なSn−Zn共晶は
んだと下地金属が接触してぬれが行われる。また、Au
の量が少ないために、AuはSn−Zn共晶はんだ中に
溶け込み、表面の被覆層がはんだ付け強度等の機械的性
質を劣化させることもない。このように、Sn−Zn共
晶はんだの表面に、Auを0.5μm被覆することによ
り、Sn−Zn系はんだの欠点であるぬれ性を改善した
はんだボールを得ることができる。
When the solder ball having such a structure is heated and its temperature rises to reach the melting point of the Sn--Zn eutectic solder and melted, Au is present on the surface in a thickness of 0.5 .mu.m. The Zn contained in the solder does not oxidize because it does not come into direct contact with the atmosphere containing. Also, A
Since the surface coating layer of u is as thin as 0.5 μm, Sn-Z
Due to the volume expansion of the n-eutectic solder during melting, cracks easily occur, and a clean Sn—Zn eutectic solder whose surface is not oxidized and the underlying metal come into contact with each other for wetting. Also, Au
Because of the small amount of Au, Au dissolves into the Sn—Zn eutectic solder, and the surface coating layer does not deteriorate mechanical properties such as soldering strength. Thus, by coating the surface of the Sn—Zn eutectic solder with Au at 0.5 μm, it is possible to obtain a solder ball with improved wettability, which is a drawback of the Sn—Zn solder.

【0012】この例では、Auを0.5μmの厚みで被覆
を施した例を示したが、Auの厚みはこの厚みに限るも
のではなく、0.01μm以上の厚みであれば良い。また、
Auの他に、SnもしくはSn合金、NiもしくはC
u、Pd、Agによって被覆を行い、あるいは、これら
のNi、Cu、Pd、Agの上にSnもしくはSn合金
を更に被覆し、ぬれ性を改善することも可能である。
In this example, an example is shown in which Au is coated to a thickness of 0.5 μm, but the thickness of Au is not limited to this thickness, and may be 0.01 μm or more. Also,
In addition to Au, Sn or Sn alloy, Ni or C
It is also possible to improve the wettability by coating with u, Pd or Ag or by further coating Sn or Sn alloy on these Ni, Cu, Pd or Ag.

【0013】中心のはんだの材質は、上記例では、Sn
−Zn共晶はんだであるが、Sn−Zn−Bi、もしく
はSn−Zn、Sn−Zn−BiはんだにIn、Ag、
Sb、Cuのいずれか一つ、もしくは二つ以上含むSn
−Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はんだであって
も、上記の構成の表面処理によってぬれ性を改善するこ
とができる。
The material of the center solder is Sn in the above example.
-Zn eutectic solder, Sn-Zn-Bi or Sn-Zn, Sn-Zn-Bi solder In, Ag,
Sn containing one or more of Sb and Cu
Even with a -Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder, the wettability can be improved by the surface treatment having the above configuration.

【0014】Sn−Zn−Bi系はんだについて、Pb
−Sn共晶はんだ代替用として可能性のある組成域を検
討し、表1にはんだ組成と融点を示す。
Regarding Sn-Zn-Bi solder, Pb
A possible composition range as a substitute for -Sn eutectic solder was examined, and Table 1 shows the solder composition and melting point.

【0015】[0015]

【表1】 [Table 1]

【0016】この組成域は4mass%≦Zn≦6mass%、1
2mass%≦Bi≦19mass%、残Snで表現できる。上記
組成のSn−Zn−Biはんだは、表1のように液相温
度が200℃以下、固相温度が160℃以上であるた
め、Sn−Pb共晶はんだの融点と近い。このため、ガ
ラスエポキシ基板の耐熱温度以下である220〜230
℃でリフローが可能であり、且つ125℃程度の高温で
の信頼性を保証することもできる。他の、Pbを含まな
いPbフリーはんだとしては、Sn−Ag共晶付近のは
んだや、Sn−AgにBiを加えたSn−Ag−Biは
んだがあるが、Sn−Ag共晶付近のはんだは固相線が
220℃付近であり、またSn−Ag−Biはんだは液
相温度を200℃以下に下げると固相温度が140℃以
下に下がり、逆に固相温度を150℃以上に上げると液
相温度は200℃以上に上がるため、ガラスエポキシ基
板へ220〜230℃でリフロー可能、及び高温での信
頼性の保証の両条件を満たすことが難しい。従って上記
組成のSn−Zn−BiはんだがSn−Pb共晶はんだ
の代替材料として適している。しかしながら、上記組成
のSn−Zn−Biはんだは、Sn−Pb共晶と比較し
てぬれ性が悪い。このためこの組成のはんだについて、
ぬれ性を向上させるために表面処理を行うことは有効で
ある。
This composition range is 4 mass% ≦ Zn ≦ 6 mass%, 1
2 mass% ≦ Bi ≦ 19 mass%, which can be expressed by the remaining Sn. The Sn—Zn—Bi solder having the above composition has a liquidus temperature of 200 ° C. or lower and a solid phase temperature of 160 ° C. or higher as shown in Table 1, and thus is close to the melting point of the Sn—Pb eutectic solder. Therefore, 220 to 230, which is lower than the heat resistant temperature of the glass epoxy substrate.
The reflow is possible at a temperature of ℃, and the reliability at a high temperature of about 125 ℃ can be guaranteed. Other Pb-free solders that do not contain Pb include solders near the Sn-Ag eutectic and Sn-Ag-Bi solders in which Bi is added to Sn-Ag, but solders near the Sn-Ag eutectic are The solidus line is around 220 ° C, and in the Sn-Ag-Bi solder, when the liquidus temperature is lowered to 200 ° C or lower, the solidus temperature is lowered to 140 ° C or lower, and conversely, when the solidus temperature is raised to 150 ° C or higher. Since the liquidus temperature rises to 200 ° C. or higher, it is difficult to satisfy both conditions of reflowing to a glass epoxy substrate at 220 to 230 ° C. and guaranteeing reliability at high temperature. Therefore, the Sn-Zn-Bi solder having the above composition is suitable as a substitute material for the Sn-Pb eutectic solder. However, the Sn—Zn—Bi solder having the above composition has poor wettability as compared with the Sn—Pb eutectic. Therefore, for solder of this composition,
It is effective to perform a surface treatment to improve the wettability.

【0017】(実施例2)実施例2では、実施例1に示
したはんだボールと同じ構成のはんだボール3を用いて
BGA(ボールグリッドアレイ)を作成した例を示す。
図3にBGA作成のプロセスフローを示した。まず、図
3の(a)の様に、チップが内部の基板に搭載されてい
て、BGA本体4上にはCu端子5が存在し、Cu端子
間5にはソルダーレジスト6が存在しているBGA本体
4を用意した。次に、このBGA本体4のCu端子5上
にフラックス7を図3(b)の様に印刷した。このフラ
ックス7上にSn−Zn共晶はんだ1の表面にAu2を
被覆したはんだボール3を、図3(c)の様に搭載し、
リフローし、その後洗浄した。上記の様な工程を経るこ
とによって、Sn−Zn共晶はんだ1中の成分とCu端
子5のCuとが反応して、接続が起こり、バンプ8が形
成されて、図3(d)の様なBGA9を作成することが
できた。
(Embodiment 2) Embodiment 2 shows an example in which a BGA (ball grid array) is prepared by using the solder balls 3 having the same structure as the solder balls shown in Embodiment 1.
FIG. 3 shows a process flow of BGA preparation. First, as shown in FIG. 3A, a chip is mounted on an internal substrate, Cu terminals 5 are present on the BGA body 4, and solder resists 6 are present between the Cu terminals 5. The BGA body 4 was prepared. Next, the flux 7 was printed on the Cu terminal 5 of the BGA body 4 as shown in FIG. On this flux 7, a solder ball 3 in which the surface of the Sn—Zn eutectic solder 1 is coated with Au 2 is mounted as shown in FIG.
Reflowed and then washed. Through the steps described above, the components in the Sn—Zn eutectic solder 1 react with Cu of the Cu terminal 5 to cause connection, and the bumps 8 are formed, as shown in FIG. I was able to create a simple BGA9.

【0018】ここで、このBGA9では、毒性のあるP
bを含まないSn−Zn共晶はんだを用いているため、
人体に影響を及ぼすことはない。また、Sn−Zn共晶
はんだ1の表面は、Au2によって被覆されているた
め、Cu端子5との接続が容易である。
In this BGA9, toxic P
Since Sn-Zn eutectic solder not containing b is used,
It does not affect the human body. Moreover, since the surface of the Sn—Zn eutectic solder 1 is covered with Au 2, the connection with the Cu terminal 5 is easy.

【0019】ここで、Auを被覆したはんだボール3を
用いたBGAの例を示したが、Au以外にも、Snもし
くはSn合金、NiもしくはCu,Pd,Agの被覆層
を施した、Sn−Zn系もしくはSn−Zn−Bi系は
んだボールでも同様な結果を得ることができる。
Here, an example of BGA using the solder balls 3 coated with Au is shown, but in addition to Au, a Sn-Sn alloy, a coating layer of Ni, Cu, Pd, or Ag, Sn-. Similar results can be obtained with Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder balls.

【0020】(実施例3)実施例3では、Snを被覆し
たはんだボールを用いたはんだペーストの例を示す。図
4に本発明のはんだペーストの拡大図を示した。Sn−
Zn共晶はんだボール10の表面には3μmの厚みのS
n層11が被覆してあり、このはんだボール12の間に
は、有機溶剤、活性剤等を含むフラックス成分13が存
在している。このはんだペースト14は、ペースト中の
Sn−Zn共晶はんだボール10が溶融した時、Sn層
11の存在によりZnの酸化が防げられるため、Sn層
11のないSn−Zn系はんだボールのみを用いた場合
より、ぬれ性が優れている。このため、プリント配線基
板等のはんだ付けの高信頼化に寄与することができる。
上記はんだペーストを融点的にSn−Pb共晶はんだに
近い80mass%Sn−15mass%Bi−5mass%Znの組
成のはんだ(以下Sn−15Bi−5Znと略す)にS
nを3μm被覆したはんだボールを用いて同様に作成し
た。はんだボール間には、フラックス成分が存在してい
る。フラックス成分は上記のSn−Zn共晶はんだに用
いたものと違うものを用いた。このはんだペーストも、
加熱されて、Sn−15Bi−5Znはんだが190℃
付近で溶融した時、該はんだの表面はSnが被覆されて
いるため、Znの酸化の問題がなく、ぬれ性が優れてい
る。被覆層のSnは溶融しいるSn−15Bi−5Zn
はんだ中に溶け込み、酸化膜のない清浄な表面をもつ該
はんだは、容易に部品や基板の電極にぬれて、接続さ
れ、また、はんだボール同志も、容易に凝集が起こり、
はんだボールの発生も少ない。このためプリント基板等
のはんだ付けに適している。
(Example 3) In Example 3, an example of a solder paste using a solder ball coated with Sn is shown. FIG. 4 shows an enlarged view of the solder paste of the present invention. Sn-
On the surface of the Zn eutectic solder ball 10, S with a thickness of 3 μm is formed.
The n-layer 11 is coated, and the flux components 13 containing an organic solvent, an activator, etc. are present between the solder balls 12. In this solder paste 14, when the Sn—Zn eutectic solder ball 10 in the paste is melted, the presence of the Sn layer 11 prevents the oxidation of Zn. Therefore, only the Sn—Zn based solder ball without the Sn layer 11 is used. It has better wettability than if it had been present. Therefore, it is possible to contribute to high reliability of soldering of a printed wiring board or the like.
The above-mentioned solder paste is used as a solder having a composition of 80 mass% Sn-15mass% Bi-5mass% Zn (hereinafter abbreviated as Sn-15Bi-5Zn), which is close to the Sn-Pb eutectic solder in terms of melting point.
It was similarly prepared by using a solder ball in which n was coated with 3 μm. A flux component exists between the solder balls. The flux component used was different from that used for the Sn-Zn eutectic solder. This solder paste also
When heated, Sn-15Bi-5Zn solder is 190 ℃
When melted in the vicinity, since the surface of the solder is coated with Sn, there is no problem of Zn oxidation and the wettability is excellent. Sn of the coating layer is molten Sn-15Bi-5Zn.
The solder that melts into the solder and has a clean surface without an oxide film is easily wetted and connected to the electrodes of the component or the substrate, and the solder balls are also easily aggregated,
Less solder balls are generated. Therefore, it is suitable for soldering a printed circuit board or the like.

【0021】(実施例4)図5には本発明の表面処理を
用いた接続端子の例を示した。Cuリード15表面には
約10μmの厚みでSn−Znはんだ層16が被覆して
あり、この表面にAg層17が1μm被覆してある。こ
のような構成の接続端子18を用いることにより、はん
だペーストを用いた表面実装、または、フローはんだ付
けにおいて、Sn−Znはんだ層16中のZnの酸化を
防ぐことができ、配線基板と良好な接続を得ることがで
きる。
(Embodiment 4) FIG. 5 shows an example of a connection terminal using the surface treatment of the present invention. The surface of the Cu lead 15 is covered with a Sn—Zn solder layer 16 with a thickness of about 10 μm, and the surface of the Cu lead 15 is covered with an Ag layer 17 of 1 μm. By using the connection terminal 18 having such a configuration, it is possible to prevent the Zn in the Sn—Zn solder layer 16 from being oxidized in the surface mounting using the solder paste or the flow soldering, and the wiring board is excellent. You can get a connection.

【0022】(実施例5)実施例5では、Au、Sn、
Ni、Cu、Pd、Agによって表面を被覆されたSn
−Zn共晶はんだボールのぬれ性が、被覆を施さなかっ
たはんだボールのぬれ性に比べて、改善された結果を示
す。
(Fifth Embodiment) In the fifth embodiment, Au, Sn,
Sn whose surface is coated with Ni, Cu, Pd, Ag
-Zn eutectic solder balls exhibit improved wettability as compared to uncoated solder balls.

【0023】Sn−Zn共晶はんだボールの表面に、表
2に示した材質、厚みの被覆を施したNo1〜No7ま
での7種類のはんだボールを作成し、はんだのぬれ性の
評価を行った。
Seven kinds of solder balls No. 1 to No. 7 in which the materials and thicknesses shown in Table 2 were coated on the surface of the Sn-Zn eutectic solder ball were prepared, and the wettability of the solder was evaluated. .

【0024】[0024]

【表2】 [Table 2]

【0025】はんだのぬれ性の評価は以下の手順で行っ
た。Cu板上に表2に示したはんだボールをそれぞれ1
つずつ載せ、その上に弱活性化ロジンフラックスを一定
量塗布した。このCu板を、230℃に設定されたホッ
トプレート上に置いて加熱し、該はんだボールが溶けて
から10秒後にCu板をホットプレートからおろした。
加熱は大気中で行った。はんだが固まった後、有機溶剤
で洗浄した後、それぞれのはんだボールがCu板上をぬ
れ拡がった面積(以下、拡がり面積とする)を測定し
た。上記のはんだぬれ性評価を、No.1〜No.7ま
での7種類のはんだボールについて各5回ずつ行い、そ
の平均を求めて、表3に示した。
The wettability of the solder was evaluated by the following procedure. 1 each solder ball shown in Table 2 on the Cu plate
Each of them was placed one by one, and a fixed amount of weakly activated rosin flux was applied thereon. This Cu plate was placed on a hot plate set at 230 ° C. and heated, and 10 seconds after the solder balls were melted, the Cu plate was removed from the hot plate.
The heating was performed in the atmosphere. After the solder was solidified and washed with an organic solvent, the area where each solder ball wet and spread on the Cu plate (hereinafter referred to as a spread area) was measured. The above solder wettability evaluation is No. 1 to No. Each of the 7 types of solder balls up to 7 was performed 5 times, and the average thereof was calculated and shown in Table 3.

【0026】[0026]

【表3】 [Table 3]

【0027】この結果から、表面に被覆を施さなかった
Sn−Zn共晶はんだボールは、Cu板上をぬれ拡がら
なかったが、表面に被覆を施したNo.1〜No.6ま
でのはんだボールはすべてCu板上をぬれ拡がり、ぬれ
が改善されることがわかった。No.1〜No.6まで
のはんだボールのうち、最もぬれが改善されたのは、表
面にSnを3μm被覆したはんだボールであった。上記
の様に、SnーZn共晶はんだボールの表面に表1のN
o.1〜No.6に示した被覆を施すことによって、ぬ
れ性を改善できることがわかった。
From these results, the Sn-Zn eutectic solder balls having no surface coating did not spread on the Cu plate, but No. 1 to No. It was found that all the solder balls up to 6 spread wet on the Cu plate and the wetness is improved. No. 1 to No. Among the solder balls up to 6, the solder ball having the most improved wettability was the solder ball having a surface coated with Sn of 3 μm. As described above, N of Table 1 was formed on the surface of the Sn-Zn eutectic solder ball.
o. 1 to No. It was found that the wettability can be improved by applying the coating shown in No. 6.

【0028】上記実験結果は、Sn−Zn共晶はんだの
表面に被覆を施したはんだボールを用いて実験した結果
であるが、Sn−Zn−Bi、もしくはSn−Zn、S
n−Zn−BiにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つ、もしくは二つ以上含むSn−Zn系はんだの場合で
も、上記の被覆を行うことにより、ぬれ性が改善できる
ことが同様の実験からわかった。
The above-mentioned experimental results are the results of an experiment using a solder ball having a surface coated with Sn-Zn eutectic solder. Sn-Zn-Bi, Sn-Zn, S
Even in the case of Sn-Zn based solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu in n-Zn-Bi, the same experiment shows that the wettability can be improved by performing the above-mentioned coating. I understood from.

【0029】Sn−Zn−Bi系はんだの実施例につい
て以下に示す。表1からも分かるように、76mass%S
n−5mass%Zn−19mass%Biの組成のはんだ(以下
Sn−5Zn−19Biと略す)は液相温度186℃、
固相温度165℃であり、Pb−Sn共晶はんだと液相
温度が近いため、同一の炉でリフローし、通常の電子機
器用フラックスを使用し、ほぼ同一のプロセスで接続が
可能である。固相温度165℃と低いが、125℃での
高温強度は保証できる。このはんだボール表面に3μm
のSnを被覆しても溶融後に若干Sn量は増すが、融点
はあまり変わらない。このSnを被覆したはんだボール
について、被覆を施さなかったSn−5Zn−19Bi
はんだボールとはんだぬれ性の比較を行った。この実験
ではホットプレート温度は220℃とした。この結果、
Snを被覆したSn−5Zn−19Biはんだボ−ルは
被覆を施さなかったSn−5Zn−19Biはんだボ−
ルよりもCu板上を大きく拡がり、ぬれ性が改善できた
ことがわかった。同様に82mass%Sn−5mass%Zn−
13mass%Biの組成のはんだ(以下Sn−5Zn−1
3Biと略す)についてもSnを3μm被覆し、ぬれ性
を測定したが、被覆をしなかったSn−5Zn−13B
iよりも被覆を施したSn−5Zn−13Biはんだの
方が拡がり面積が大きく、ぬれ性を向上できることがわ
かった。
An example of Sn-Zn-Bi solder is shown below. As can be seen from Table 1, 76 mass% S
Solder having a composition of n-5mass% Zn-19mass% Bi (hereinafter abbreviated as Sn-5Zn-19Bi) has a liquidus temperature of 186 ° C.
Since the solid phase temperature is 165 ° C. and the liquidus temperature is close to that of the Pb—Sn eutectic solder, reflow can be performed in the same furnace, ordinary electronic device flux can be used, and connections can be made in almost the same process. Although the solid phase temperature is as low as 165 ° C, the high temperature strength at 125 ° C can be guaranteed. 3 μm on the surface of this solder ball
Even if Sn is coated, the amount of Sn increases slightly after melting, but the melting point does not change much. With respect to this solder ball coated with Sn, Sn-5Zn-19Bi without coating was applied.
The solder balls and solder wettability were compared. In this experiment, the hot plate temperature was 220 ° C. As a result,
The Sn-5Zn-19Bi solder ball coated with Sn is the Sn-5Zn-19Bi solder ball not coated.
It was found that the wettability was improved by spreading the Cu plate on the Cu plate more greatly than that on the Cu plate. Similarly, 82 mass% Sn-5 mass% Zn-
Solder having a composition of 13 mass% Bi (hereinafter Sn-5Zn-1
3Bi) was also coated with Sn to 3 μm, and the wettability was measured, but Sn-5Zn-13B that was not coated was used.
It was found that the coated Sn-5Zn-13Bi solder had a larger spread area than i and the wettability could be improved.

【0030】[0030]

【発明の効果】Sn−Zn系もしくはSn−Zn−Bi
系はんだの表面に、Au、SnもしくはSn合金、Ni
もしくはCu、Pd、Agのどれかを被覆する本発明を
用いることにより、溶融時にZnが酸化されるためにぬ
れが悪いというSn−Zn系はんだの欠点を改善でき、
活性度の弱い通常の電子機器用のフラックスで容易には
んだ付けすることができる。これらの技術は、通常のは
んだ付け用のはんだペースト用のはんだボール、BGA
用のはんだボール、接続端子表面の被覆等に用いること
ができ、人体に対して毒性のあるPbを含まないはんだ
を用いたプリント配線基板のはんだ付けの高信頼化に寄
与できる。
[Effect of the invention] Sn-Zn system or Sn-Zn-Bi
Au, Sn or Sn alloy, Ni on the surface of the system solder
Alternatively, by using the present invention for coating any of Cu, Pd, and Ag, the disadvantage of Sn—Zn-based solder that Zn is oxidized at the time of melting and wettability is improved,
It can be easily soldered with a flux for ordinary electronic equipment with weak activity. These technologies are applied to solder balls for solder paste for normal soldering, BGA
It can be used as a solder ball for coating, coating on the surface of the connection terminal, etc., and can contribute to high reliability of soldering of a printed wiring board using a solder containing no Pb which is toxic to the human body.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例のはんだボールを示す。FIG. 1 shows a solder ball according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明のはんだボール作成のプロセスフローを
示す。
FIG. 2 shows a process flow for making solder balls of the present invention.

【図3】本発明のはんだボールを用いたBGAの作成方
法を示す。
FIG. 3 shows a method for producing a BGA using the solder balls of the present invention.

【図4】本発明の表面被覆を施したはんだボールを用い
たはんだペーストを示す。
FIG. 4 shows a solder paste using a solder ball having a surface coating according to the present invention.

【図5】本発明の表面被覆を施したCu系導体の接続端
子を示す。
FIG. 5 shows a Cu-based conductor connection terminal provided with a surface coating of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 … Sn−Zn共晶はんだ、 2 … Au層 3 … はんだボール、 4 … BGA本
体 5 … Cu端子、 6 … ソルダー
レジスト 7 … フラックス、 8 … バンプ 9 … BGA、 10 … Sn−Z
n共晶はんだ 11 … Sn層、 12 … はんだ
ボール 13 … フラックス成分、 14 … はんだ
ペースト 15 … Cuリード、 16 … Sn−
Znはんだ層 17 … Ag層、 18 … 接続端
1 ... Sn-Zn eutectic solder, 2 ... Au layer 3 ... Solder ball, 4 ... BGA body 5 ... Cu terminal, 6 ... Solder resist 7 ... Flux, 8 ... Bump 9 ... BGA, 10 ... Sn-Z
n eutectic solder 11 ... Sn layer, 12 ... Solder ball 13 ... Flux component, 14 ... Solder paste 15 ... Cu lead, 16 ... Sn-
Zn solder layer 17 ... Ag layer, 18 ... Connection terminal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石田 寿治 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 山本 健一 東京都小平市上水本町五丁目20番1号株式 会社日立製作所半導体事業部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshiharu Ishida, 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa, Ltd., Institute of Industrial Science, Hitachi, Ltd. No. 1 stock company Hitachi Ltd. semiconductor division

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に金属層を有す
ることを特徴とするSn−Zn系もしくはSn−Zn−
Bi系はんだ。
1. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, a Sn—Zn-based or Sn—Zn— characterized by having a metal layer on the surface of a solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu in these.
Bi solder.
【請求項2】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Auの0.
01μm以上の被覆層を有することを特徴とするSn−
Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はんだ。
2. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, it is possible to reduce the amount of Au of 0..A on the surface of the solder containing any one or more of In, Ag, Sb and Cu.
Sn- characterized by having a coating layer of 01 μm or more
Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder.
【請求項3】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Snもしく
はSn−Bi等のSn合金の2μm以上の被覆層を有す
ることを特徴とするSn−Zn系もしくはSn−Zn−
Bi系はんだ。
3. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, the surface of the solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu may have a coating layer of 2 μm or more of Sn or an Sn alloy such as Sn—Bi. Zn-based or Sn-Zn-
Bi solder.
【請求項4】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Niもしく
はCuの0.01μm以上の被覆層を有することを特徴
とするSn−Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はん
だ。
4. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, a Sn-Zn system or Sn characterized by having a coating layer of 0.01 μm or more of Ni or Cu on the surface of a solder containing any one or more of In, Ag, Sb and Cu. -Zn-Bi based solder.
【請求項5】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Pdの0.
01μm以上の被覆層を有することを特徴とするSn−
Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はんだ。
5. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, Pd of 0..Pd on the surface of the solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu in these.
Sn- characterized by having a coating layer of 01 μm or more
Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder.
【請求項6】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Agの0.
01μm以上の被覆層を有することを特徴とするSn−
Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はんだ。
6. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, it is possible to reduce the Ag content of 0..A on the surface of the solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu.
Sn- characterized by having a coating layer of 01 μm or more
Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder.
【請求項7】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、金属被覆工
程を有することを特徴とするSn−Zn系もしくはSn
−Zn−Bi系はんだの表面処理方法。
7. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, the surface of the solder containing any one or two or more of In, Ag, Sb and Cu has a metal coating step, Sn—Zn system or Sn.
-Zn-Bi solder surface treatment method.
【請求項8】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Auを0.
01μm以上被覆する工程を有することを特徴とするS
n−Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はんだの表面処
理方法。
8. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, Au on the surface of the solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu may be added to 0.
S characterized by having a step of covering at least 01 μm
Surface treatment method for n-Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder.
【請求項9】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−Bi、
もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれか一
つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Snもしく
はSn−Bi等のSn合金を2μm以上被覆する工程を
有することを特徴とするSn−Zn系もしくはSn−Z
n−Bi系はんだの表面処理方法。
9. Sn-Zn or Sn-Zn-Bi,
Alternatively, there is provided a step of coating the surface of a solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu with Sn or Sn alloy such as Sn-Bi in an amount of 2 μm or more. Zn-based or Sn-Z
Surface treatment method for n-Bi solder.
【請求項10】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−B
i、もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれ
か一つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Niも
しくはCuを0.01μm以上被覆する工程を有するこ
とを特徴とするSn−Zn系もしくはSn−Zn−Bi
系はんだの表面処理方法。
10. Sn-Zn or Sn-Zn-B
i, or a Sn—Zn system characterized by having a step of coating the surface of a solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu with 0.01 μm or more of Ni or Cu. Or Sn-Zn-Bi
Surface soldering method.
【請求項11】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−B
i、もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれ
か一つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Pdを
0.01μm以上被覆する工程を有することを特徴とす
るSn−Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はんだの表
面処理方法。
11. Sn-Zn or Sn-Zn-B
i, or a Sn—Zn-based or Sn-based solder having a step of coating Pd on the surface of a solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu in 0.01 μm or more. -Zn-Bi solder surface treatment method.
【請求項12】Sn−Zn、もしくはSn−Zn−B
i、もしくはこれらにIn、Ag、Sb、Cuのいずれ
か一つもしくは二つ以上を含むはんだの表面に、Agを
0.01μm以上被覆する工程を有することを特徴とす
るSn−Zn系もしくはSn−Zn−Bi系はんだの表
面処理方法。
12. Sn-Zn or Sn-Zn-B
i, or a Sn-Zn-based or Sn-based solder having a step of coating Ag on a surface of a solder containing any one or more of In, Ag, Sb, and Cu with 0.01 μm or more. -Zn-Bi solder surface treatment method.
【請求項13】請求項1乃至6いずれかに記載のはんだ
がはんだ線であることを特徴とするSn−Zn系もしく
はSn−Zn−Bi系はんだ線及びこれを用いた実装
品。
13. A Sn-Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder wire, and a mount using the same, wherein the solder according to any one of claims 1 to 6 is a solder wire.
【請求項14】請求項1乃至6いずれかに記載のはんだ
が球状であることを特徴とするSn−Zn系、もしくは
Sn−Zn−Bi系はんだボール。
14. A Sn—Zn based or Sn—Zn—Bi based solder ball, wherein the solder according to any one of claims 1 to 6 is spherical.
【請求項15】請求項14記載のSn−Zn系もしくは
Sn−Zn−Bi系はんだボールを用いたことを特徴と
するはんだペースト及びこれを用いた実装品。
15. A solder paste comprising the Sn—Zn-based or Sn—Zn—Bi-based solder ball according to claim 14, and a packaged product using the same.
【請求項16】請求項14記載のSn−Zn系もしくは
Sn−Zn−Bi系はんだボールを電気的接続部材とし
て用いたことを特徴とするBGA(ボールグリッドアレ
イ)。
16. A BGA (ball grid array) using the Sn—Zn-based or Sn—Zn—Bi-based solder ball according to claim 14 as an electrical connecting member.
【請求項17】請求項14記載のSn−Zn系もしくは
Sn−Zn−Bi系はんだボールを電子部品に配置し、
これを回路基板に接続したことを特徴とする実装品。
17. The Sn-Zn-based or Sn-Zn-Bi-based solder ball according to claim 14 is arranged in an electronic component,
Mounted product characterized by connecting this to a circuit board.
【請求項18】電子部品、基板の接続端子部のCuもし
くはNi等の導体表面にSn−Zn系もしくはSn−Z
n−Bi系はんだを被覆し、該表面に請求項8乃至12
記載の表面処理を行った該電子部品、基板を用いたこと
を特徴とする実装方法。
18. An Sn-Zn system or Sn-Z is formed on the surface of a conductor such as Cu or Ni of a connection terminal portion of an electronic component or a substrate.
An n-Bi solder is coated, and the surface is coated with the solder.
A mounting method using the electronic component or substrate that has been subjected to the surface treatment as described above.
【請求項19】請求項1乃至18記載のSn−Zn−B
i系はんだにおいて、組成が4mass%≦Zn≦6mass%、
12mass%≦Bi≦19mass%、残りSnであることを特
徴とするSn−Zn−Biはんだ及び、その表面処理方
法並びにそれを用いた実装品。
19. Sn-Zn-B according to any one of claims 1 to 18.
In i-based solder, the composition is 4 mass% ≦ Zn ≦ 6 mass%,
A Sn-Zn-Bi solder characterized by 12 mass% ≤ Bi ≤ 19 mass% and the remaining Sn, a surface treatment method thereof, and a mounted product using the same.
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