JPH08161737A - Texture treatment method for amorphous carbon substrate for magnetic disk - Google Patents

Texture treatment method for amorphous carbon substrate for magnetic disk

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JPH08161737A
JPH08161737A JP30338094A JP30338094A JPH08161737A JP H08161737 A JPH08161737 A JP H08161737A JP 30338094 A JP30338094 A JP 30338094A JP 30338094 A JP30338094 A JP 30338094A JP H08161737 A JPH08161737 A JP H08161737A
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JP
Japan
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amorphous carbon
carbon substrate
substrate
magnetic disk
texture treatment
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JP30338094A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiro Hara
宣宏 原
Shunsuke Takada
俊助 高田
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Kobe Steel Ltd
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Kobe Steel Ltd
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Abstract

PURPOSE: To obtain a texture treatment method for an amorphous carbon substrate for a magnetic disk which enables texture treatment for the amorphous carbon substrate. CONSTITUTION: After the mirror finished grinding of an amorphous carbon substrate, the amorphous carbon substrate is ground by a grinding liquid in which 0.1-10% of aluminum nitrate is added to grits with a particle size thereof 2-8μm to perform a texture treatment. This eliminates probable cause of recording/reproduction errors.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド浮上面と磁気
ディスク表面との間の吸着現象の発生を防止するために
テクスチャー処理する磁気ディスク用アモルファスカー
ボン基板のテクスチャ−(texture)処理方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a texture treatment method for an amorphous carbon substrate for a magnetic disk, which is texture-treated in order to prevent an adsorption phenomenon between the air bearing surface of the magnetic head and the surface of the magnetic disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気ディスクはNi(ニッケル)
−P(リン)メッキ材等が被覆されたAl(アルミニウ
ム)基板上に磁性膜を形成して構成されている。そし
て、磁気ディスク再生装置においては、磁気ディスク上
に浮揚型磁気ヘッドを配置し、磁気ディスクを回転させ
ることにより前記磁気ヘッドを浮揚させた状態で、この
磁気ヘッドにより磁気ディスクへの書込み及び再生を行
う。
2. Description of the Related Art Conventionally, magnetic disks are Ni (nickel)
A magnetic film is formed on an Al (aluminum) substrate coated with a -P (phosphorus) plating material or the like. Then, in the magnetic disk reproducing apparatus, a floating magnetic head is arranged on the magnetic disk, and the magnetic head is levitated by rotating the magnetic disk. To do.

【0003】しかしながら、磁気ディスクへの書込み及
び再生を行う際、ディスク静止時において磁気ヘッド浮
揚面と磁気ディスク表面との間に吸着が生じる場合があ
る。この現象は磁気ヘッド浮揚面及び磁気ディスク表面
が極めて平滑であって双方が微小間隔で対面していると
きに、その間隙が02、N2又はH20の分子により埋め
尽くされて表面張力により大きな吸着力が発生すること
に起因する。このような吸着現象が発生すると、磁気デ
ィスクを駆動するモーターが起動する時に多大の電力を
消費するという不都合を招来する。
However, when writing to and reproducing from a magnetic disk, adsorption may occur between the magnetic head levitating surface and the magnetic disk surface when the disk is stationary. This phenomenon is caused by the fact that when the magnetic head levitation surface and the magnetic disk surface are extremely smooth and both face each other with a minute gap, the gap is filled with molecules of 0 2 , N 2 or H 2 0 and the surface tension is increased. Due to the generation of a larger suction force. If such an adsorption phenomenon occurs, it causes an inconvenience that a large amount of electric power is consumed when the motor for driving the magnetic disk is activated.

【0004】そこで、上記吸着現象を防止するため、磁
気ディスク用Al基板においては、磁性膜を被着するに
先立ち、基板表面を一旦鏡面仕上げした後、テクスチャ
ー処理を施すことによりその表面粗さを調整している。
このテクスチャー処理方法としては、以下に示すものが
ある。即ち、Al基板(Ni−Pメッキ材)を回転させ
た状態で、このAl基板に研磨テープをローラーで押し
つけて接触させつつ、前記研磨テープをAl基板の半径
方向に移動させてその全面を粗面化する方法と、Al基
板に対面して回転する定盤を設け、遊離砥粒をAl基板
と定盤との間に介在させてAl基板の全面を研磨して粗
面化する方法とがある。研磨砥粒としては炭化珪素、ア
ルミナ又はダイアモンド等が用いられる。
Therefore, in order to prevent the above-mentioned adsorption phenomenon, in the Al substrate for a magnetic disk, before the magnetic film is deposited, the surface of the substrate is once mirror-finished and then subjected to a texture treatment to reduce its surface roughness. I am adjusting.
The following texture processing methods are available. That is, while the Al substrate (Ni-P plated material) is rotated, the polishing tape is pressed against the Al substrate by a roller so as to be in contact with the Al substrate, and the polishing tape is moved in the radial direction of the Al substrate to roughen the entire surface. A surface-roughening method and a method of providing a rotating platen facing the Al substrate, interposing free abrasive grains between the Al substrate and the platen, and polishing the entire surface of the Al substrate to roughen the surface. is there. Silicon carbide, alumina, diamond or the like is used as the abrasive grains.

【0005】このように、機械的なテクスチャー処理を
施すことにより、磁気ディスク用Al基板の表面に同心
円状の条痕を付し、この条痕が円周方向に配向した粗面
を得ることができる(例えば、特開昭62一20374
8号)。
As described above, by performing the mechanical texture treatment, concentric circular scratches are formed on the surface of the Al substrate for the magnetic disk, and a rough surface in which the scratches are oriented in the circumferential direction can be obtained. It is possible (for example, JP-A-62-120374).
No. 8).

【0006】なお、従来の磁気ディスク基板として、ア
モルファスカーボン基板に対しては、基板表面を所定の
表面粗さに研磨した後、酸化性雰囲気中にて所定の温度
で加熱処理することにより、化学的に微細な凹凸を形成
する化学的なテクスチャ−処理が行われている(特開平
02一410434号、02一410436号)。
As a conventional magnetic disk substrate, an amorphous carbon substrate is chemically treated by polishing the substrate surface to a predetermined surface roughness and then heat-treating it at a predetermined temperature in an oxidizing atmosphere. A chemical texture treatment is performed to form fine irregularities (Japanese Patent Laid-Open Nos. 02-410434 and 02-410436).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アモル
ファスカーボンは脆性材料であるため、従来の磁気ディ
スク用Al基板のテクスチャー処理方法においては、基
板表面が脆性破壊を起こし、表面粗さを適切なものに調
整することが極めて困難であり、記録エラーの原因とな
ってしまう。また、アモルファスカーボン基板を酸化雰
囲気中にて加熱処理することによりテクスチャー処理す
る方法では、洗浄不良等の原因で過剰な酸化が起こるた
め、安定したテクスチャー処理が困難であった。
However, since amorphous carbon is a brittle material, in the conventional texture treatment method for an Al substrate for a magnetic disk, the substrate surface causes brittle fracture and the surface roughness is made appropriate. Adjustment is extremely difficult and causes a recording error. Further, in the method of performing texture treatment by heating the amorphous carbon substrate in an oxidizing atmosphere, it is difficult to perform stable texture treatment because excessive oxidation occurs due to poor cleaning or the like.

【0008】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、記録エラーの原因となるような基板表面の
欠陥を生じさせることなく、また酸化過剰のような不都
合を生じさせることなく、アモルファスカーボン基板の
テクスチャー面を得ることができる磁気ディスク用アモ
ルファスカーボン基板のテクスチャー処理方法を提供す
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and does not cause a defect on the surface of the substrate that causes a recording error and does not cause a problem such as excessive oxidation. An object of the present invention is to provide a texture treatment method for an amorphous carbon substrate for a magnetic disk, which can obtain a textured surface of the amorphous carbon substrate.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ディス
ク用アモルファスカーボン基板のテクスチャー処理方法
は、研磨されたアモルフアスカーボン基板に対し、砥粒
平均粒径2乃至8μmの砥粒を用いて研磨を行うことを
特徴とする。
According to the method for texturing an amorphous carbon substrate for a magnetic disk according to the present invention, a polished amorphous carbon substrate is polished with abrasive grains having an average grain size of 2 to 8 μm. It is characterized by performing.

【0010】この場合に、前記砥粒による研磨工程は、
アモルファスカーボン基板を回転させた状態で、0.1
%以上10%未満の硝酸アルミニウムを添加した研磨液
を使用して前記砥粒により前記アモルファスカーボン基
板の表面に同心円状の条痕を形成するものであることが
好ましい。
In this case, the polishing step using the abrasive grains is
With the amorphous carbon substrate rotated, 0.1
% To less than 10% of aluminum nitrate is used to form concentric scratches on the surface of the amorphous carbon substrate by the abrasive grains.

【0011】[0011]

【作用】本願発明者等はアモルファスカーボン基板が持
つ性質に着目してそのテクスチャー処理方法について種
々の研究を重ねた。その結果、アモルファスカーボン基
板を所定の表面粗さに研磨した後に、延性モードで研磨
を行うことにより、アモルファスカーボン基板を磁気デ
ィスク用基板として適切な表面粗さに処理することがで
きることを見出した。
The inventors of the present application paid attention to the properties of the amorphous carbon substrate and conducted various studies on the texture treatment method. As a result, they have found that the amorphous carbon substrate can be processed to have an appropriate surface roughness as a magnetic disk substrate by polishing the amorphous carbon substrate to a predetermined surface roughness and then polishing in a ductile mode.

【0012】即ち、アモルファスカーボンを機械加工し
た場合、その切り込み量が60nm(臨界切り込み量)
を超えると加工面が脆性破壊を起こすが、この臨界切り
込み量以下で機械加工された場合、延性モードでの加工
となり、脆性破壊を起こすことがなく材料が除去される
(1992年度精密工業学会秋期大会学術講演会論文集
19,20頁)。研磨を行う場合、各砥粒の実切り込み
量を直接制御することはできず、砥粒径、パッド材種、
加工圧等の条件により切り込み量が決定される。
That is, when the amorphous carbon is machined, the cutting depth is 60 nm (critical cutting depth).
If it exceeds, the machined surface will cause brittle fracture, but if machined below this critical depth of cut, it will be machined in ductile mode, and the material will be removed without causing brittle fracture. Conference Proceedings, Proceedings 19 and 20 pages). When polishing, it is not possible to directly control the actual cutting amount of each abrasive grain, abrasive grain size, pad material type,
The depth of cut is determined by conditions such as processing pressure.

【0013】そして、本願発明者等の実験によると、上
記実切り込み量を支配する最大要因が砥粒径であり、砥
粒を用いてアモルファスカーボン基板を研磨する場合、
前記臨界切り込み量が得られる砥粒の最大粒径は8μm
であった。このような、砥粒の番手は#1500であ
る。このため、砥粒粒径が8μm以下、砥粒番手は#1
500以上の砥粒を使用して研磨することにより、アモ
ルファスカーボン基板を延性モードでの加工で粗面化処
理することができる。
According to experiments conducted by the inventors of the present application, the largest factor that governs the actual cutting amount is the abrasive grain size, and when polishing an amorphous carbon substrate using abrasive grains,
The maximum grain size of the abrasive grain that achieves the critical cutting depth is 8 μm
Met. The abrasive grain count is # 1500. Therefore, the abrasive grain size is 8 μm or less, and the abrasive grain count is # 1.
By polishing with 500 or more abrasive grains, the amorphous carbon substrate can be roughened by processing in a ductile mode.

【0014】また、切り込み量が過少である場合、所定
の表面粗さが得られないため、磁気ヘッドの吸着が生じ
やすい。テクスチャー面として必要な20ÅRaの表面
粗さを得るためには、平均粒径が2μm以上(砥粒番手
#6000以下)の砥粒でアモルファスカーボンを研磨
する必要がある。
If the cut amount is too small, a predetermined surface roughness cannot be obtained, so that the magnetic head is likely to be attracted. In order to obtain the surface roughness of 20 ÅRa required as a textured surface, it is necessary to polish the amorphous carbon with abrasive grains having an average grain size of 2 μm or more (abrasive grain count # 6000 or less).

【0015】このため、研磨砥粒の平均粒径は2乃至8
μm(砥粒番手#1500乃至#6000)にする。
Therefore, the average grain size of the polishing abrasive grains is 2 to 8
μm (abrasive grain count # 1500 to # 6000).

【0016】更に、本願発明者等の実験によると、上述
の砥粒を使用してアモルファスカーボン基板を研磨する
場合、研磨液に0.1%以上の硝酸アルミニウムを添加
することにより、磁気ディスク用カーボン基板として最
適の表面粗さを得ることができると共に、適切な基板表
面性状のカーボン基板を得ることができる。
Further, according to experiments conducted by the inventors of the present invention, when an amorphous carbon substrate is polished by using the above-mentioned abrasive grains, by adding 0.1% or more of aluminum nitrate to the polishing liquid, It is possible to obtain an optimal surface roughness as a carbon substrate and also to obtain a carbon substrate having an appropriate substrate surface property.

【0017】また、基板表面が必要以上に粗面化されて
面だれを起こすと、ヘッドクラッシュが起きやすくな
る。適切な基板表面性状を達成するためには、最大で1
0%の硝酸アルミニウムの添加に止める必要がある。こ
のため、添加すべき硝酸アルミニウムの添加量は0.1
乃至10%である。
If the surface of the substrate is roughened more than necessary and the surface is sagging, a head crash easily occurs. Up to 1 to achieve proper substrate surface texture
It is necessary to stop adding 0% aluminum nitrate. Therefore, the addition amount of aluminum nitrate to be added is 0.1
To 10%.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明の実施例に係る磁気ディスク用
アモルファスカーボン基板の製造方法について、本願特
許請求の範囲から外れる比較例と比較して説明する。
EXAMPLES Hereinafter, a method for manufacturing an amorphous carbon substrate for a magnetic disk according to an example of the present invention will be described in comparison with a comparative example which is out of the scope of the claims of the present application.

【0019】先ず、炭化焼成後にアモルファスカーボン
となる熱硬化性樹脂と、フェノールホルムアルデヒド樹
脂との混合樹脂を、ホットプレスにより磁気ディスクの
形状に成形した後、この成形体を例えばN2ガス雰囲気
中で1450℃に加熱して予備焼成する。
First, a mixed resin of a thermosetting resin that becomes amorphous carbon after carbonization and firing and a phenol formaldehyde resin is molded into a magnetic disk shape by hot pressing, and then this molded body is subjected to, for example, an N 2 gas atmosphere. Preheat by heating to 1450 ° C.

【0020】次いで、この予備焼成体を熱間静水圧加圧
(HIP)装置を使用して例えば約2350℃に加熱し
つつ、例えば約1800気圧の等方的圧力を加えてHI
P処理する。これにより、アモルファスカーボン基板
(未処理)が得られる。このアモルファスカーボン基板
に鏡面研磨を施し、表面祖さが10ÅRaの基板を得
る。
Then, the pre-fired body is heated to, for example, about 2350 ° C. by using a hot isostatic pressing (HIP) apparatus, and isotropic pressure of, for example, about 1800 atmosphere is applied to the HI.
P process. As a result, an amorphous carbon substrate (untreated) is obtained. This amorphous carbon substrate is mirror-polished to obtain a substrate having a surface roughness of 10ÅRa.

【0021】次いで、この鏡面研磨したアモルファスカ
ーボン基板を回転させた状態で、例えば、基板に対面し
て回転する定盤により、遊離砥粒を基板と定盤との間に
介在させた状態でテクスチャー処理を行う。
Then, while the mirror-polished amorphous carbon substrate is rotated, for example, by a surface plate that rotates facing the substrate, the loose abrasive grains are intervened between the substrate and the surface plate to form a texture. Perform processing.

【0022】本実施例においては、この砥粒の平均粒径
は2乃至8μm(砥粒番手#1500乃至#6000)
である。また、このテクスチャー条件は、例えば以下の
通りである。
In this embodiment, the average grain size of the abrasive grains is 2 to 8 μm (abrasive grain count # 1500 to # 6000).
Is. The texture conditions are, for example, as follows.

【0023】 基板回転数:180rpm 定盤回転数:20rpm 加圧力 :20PSI 加工時間 :30秒 砥粒番手 :#1500乃至#6000 研磨液 :0.1乃至10%硝酸アルミニウム添加。Substrate rotation speed: 180 rpm Surface plate rotation speed: 20 rpm Applied pressure: 20 PSI Processing time: 30 seconds Abrasive grain count: # 1500 to # 6000 Polishing liquid: 0.1 to 10% aluminum nitrate added.

【0024】なお、研磨砥粒材質としてはアルミナ砥粒
を使用したが、ダイヤモンド及び炭化珪素等のようにア
モルファスカーボンより硬度が高い砥粒であれば同様の
効果が得られる。
Although alumina abrasive grains were used as the material for the abrasive grains, similar effects can be obtained with abrasive grains having a hardness higher than that of amorphous carbon such as diamond and silicon carbide.

【0025】上述の如くしてテクスチャー処理すること
により、延性モードで基板表面が加工され、脆性破壊が
生じることなく材料が除去されるので、磁性膜の形成後
にデータエラーが生じるような欠陥が基板表面に発生す
ることはない。また、この粗面化処理により、磁気ヘッ
ドの吸着を防止することができる。
By performing the texture treatment as described above, the surface of the substrate is processed in the ductile mode, and the material is removed without causing brittle fracture. Therefore, a defect such as a data error may occur after the magnetic film is formed on the substrate. It does not occur on the surface. Further, this roughening treatment can prevent the magnetic head from being attracted.

【0026】次に、上述の条件でテクスチャー処理した
アモルファスカーボン基板の特性を評価した結果につい
て説明する。先ず、表面粗さ計を使用してテクスチャー
処理後の基板の表面粗さRaを測定した。その結果を下
記表1及び表2に示す。なお、表面粗さ計は、WYKO
社製のTOP03D(商品名)を使用した。また、ヘッ
ドクラッシュの有無も下記表1及び表2に併せて記載し
た。
Next, the results of evaluating the characteristics of the amorphous carbon substrate textured under the above conditions will be described. First, the surface roughness Ra of the substrate after the texture treatment was measured using a surface roughness meter. The results are shown in Tables 1 and 2 below. The surface roughness meter is WYKO.
TOP03D (trade name) manufactured by the company was used. The presence or absence of head crash is also shown in Tables 1 and 2 below.

【0027】但し、表1は#1500乃至#6000の
砥粒を使用し、1%の硝酸アルミニウムを添加した研磨
液を使用して研磨したものである。また、表2は#50
00の砥粒を使用し、0.1乃至10%の硝酸アルミニ
ウムを含有する研磨液を使用した場合のものである。表
1には研磨砥粒番手が本願発明の範囲から外れる比較例
も記載し、表2には硝酸アルミニウム濃度が本発明の範
囲から外れる比較例も記載した。
However, Table 1 shows that the abrasive grains # 1500 to # 6000 were used and polishing was performed using a polishing liquid containing 1% aluminum nitrate. Table 2 shows # 50
No. 00 abrasive grains are used and a polishing liquid containing 0.1 to 10% aluminum nitrate is used. Table 1 also shows comparative examples in which the abrasive grain count is out of the range of the present invention, and Table 2 also shows comparative examples in which the concentration of aluminum nitrate is out of the range of the present invention.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】次に、これらの実施例及び比較例に係る磁
気ディスク用アモルファスカーボン基板を精密洗浄した
後、マグネトロンスパッタリング装置を使用してこのア
モルファスカーボン基板上にCoNiCrからなるメデ
ィア層(磁性膜)とカーボン保護膜とを順次形成し、更
に表面に潤滑材を塗布して磁気ディスクを作成した。
Next, the amorphous carbon substrates for magnetic disks according to these examples and comparative examples were precisely cleaned, and then a media layer (magnetic film) made of CoNiCr was formed on the amorphous carbon substrates using a magnetron sputtering device. A carbon protective film was sequentially formed, and a lubricant was applied to the surface to prepare a magnetic disk.

【0031】そして、プクイップ社製のディスクサーテ
ィファイヤ(商品名)を使用して記録再生を行い、ヘッ
ドクラッンュの発生状況を評価し、ヘッドテスタを用い
て記録再生試験を行った。なお、磁気ディスクとMIG
(Metal In Gap)ヘッドとの間のヘッド浮上高さは約
0.03μmにした。
Then, recording / reproducing was performed using a disc certifier (trade name) manufactured by Pquip Co., the state of occurrence of head crush was evaluated, and a recording / reproducing test was conducted using a head tester. In addition, magnetic disk and MIG
The head flying height from the (Metal In Gap) head was set to about 0.03 μm.

【0032】これらの表1及び表2から明らかなよう
に、実施例2〜5及び実施例8〜12に係る磁気ディス
ク用アモルファスカーボン基板では、何れもヘッド浮上
高さが約0.03μmと低くても、ヘッドクラッシュが
発生することが無く、またヘッドの吸着も発生しなかっ
た。
As is clear from Tables 1 and 2, the head flying height of the amorphous carbon substrates for magnetic disks according to Examples 2 to 5 and Examples 8 to 12 was as low as about 0.03 μm. However, head crash did not occur, and head adsorption did not occur.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
磁気ディスク用アモルファスカーボン基板の表面を砥粒
平均粒径が2乃至8μm(砥粒番手#1500乃至#6
000)の砥粒を使用して研磨するので、記録再生エラ
ーの原因となる欠陥が発生せず、安定したテクスチャー
処理ができる。また、0.1乃至10%の濃度の硝酸ア
ルミニウムを添加して研磨することにより、その表面粗
さを磁気ディスク用アモルファスカーボン基板として最
適なものにすることができる。このため、磁気ディスク
に対する磁気ヘッドの吸着を防止することができると共
に、磁気ヘッドの浮上高さを従来より小さくすることが
できる。
As described above, according to the present invention,
The surface of the amorphous carbon substrate for a magnetic disk has an average grain size of 2 to 8 μm (abrasive grain numbers # 1500 to # 6).
Since the abrasive grains of No. 000) are used for polishing, defects that cause recording / reproducing errors do not occur and stable texture processing can be performed. Further, by adding aluminum nitrate having a concentration of 0.1 to 10% and polishing, the surface roughness can be optimized as an amorphous carbon substrate for a magnetic disk. Therefore, the magnetic head can be prevented from being attracted to the magnetic disk, and the flying height of the magnetic head can be made smaller than before.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 研磨されたアモルファスカーボン基板に
対し、砥粒平均粒径2乃至8μmの砥粒を用いて研磨を
行うことを特徴とする磁気ディスク用アモルファス用カ
ーボン基板のテクスチャー処理方法。
1. A method of texture-treating an amorphous carbon substrate for a magnetic disk, which comprises polishing a polished amorphous carbon substrate with abrasive grains having an average grain size of 2 to 8 μm.
【請求項2】 前記砥粒による研磨工程は、アモルファ
スカーボン基板を回転させた状態で、0.1%以上10
%未満の硝酸アルミニウムを添加した研磨液を使用して
前記砥粒により前記アモルファスカーボン基板の表面に
同心円状の条痕を形成するものであることを特徴とする
請求項1に記載の磁気ディスク用アモルファスカーボン
基板のテクスチャー処理方法。
2. The polishing step using the abrasive grains is 0.1% or more and 10% or more when the amorphous carbon substrate is rotated.
% Of aluminum nitrate is used to form concentric scratches on the surface of the amorphous carbon substrate with the abrasive grains. A texture treatment method for an amorphous carbon substrate.
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