JP2001079763A - Pellet for grinding wheel dresser - Google Patents

Pellet for grinding wheel dresser

Info

Publication number
JP2001079763A
JP2001079763A JP25911999A JP25911999A JP2001079763A JP 2001079763 A JP2001079763 A JP 2001079763A JP 25911999 A JP25911999 A JP 25911999A JP 25911999 A JP25911999 A JP 25911999A JP 2001079763 A JP2001079763 A JP 2001079763A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grindstone
pellet
grinding wheel
dresser
diamond abrasive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25911999A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Otani
幸一 大谷
Tsutomu Okabe
務 岡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ARU TECHNO KK
Original Assignee
ARU TECHNO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ARU TECHNO KK filed Critical ARU TECHNO KK
Priority to JP25911999A priority Critical patent/JP2001079763A/en
Publication of JP2001079763A publication Critical patent/JP2001079763A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pellet for a grinding wheel dresser to make a grinding wheel capable of further reducing fine waviness of a polished article. SOLUTION: This pellet 2 is used for a grinding wheel dresser to carry out setting of a grinding wheel of a surface polishing machine. In this case, it is possible to make the grinding wheel capable of further reducing fine waviness of a polished article by using diamond abrasive grains of size of #800-#1500 for a pellet 1. Additionally, it is favourable that the diamond abrasive grains are contained in density of 1.5-3.0 carats per one cubic centimeter.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平面研磨機の砥石
の目立てに使用される砥石ドレッサ用ペレットに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pellet for a grinding wheel dresser used for dressing a grinding wheel of a plane polishing machine.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピューターで使用されている磁気デ
ィスク装置では、ドーナツ型で円盤状の記録媒体である
磁気ディスクが高速回転し、その上を流体力学的に浮上
している磁気ヘッドによって信号の記録・再生が行われ
る。そのため、磁気ディスクには、高い表面平坦度が要
求されている。こうした表面平坦度を向上させるため
に、従来から、磁気ディスク用基板の研磨工程の改良、
磁気ディスク用基板の焼鈍工程の改良、磁気ディスク基
板上に積層する磁性膜等の均一性の改良等がなされてい
る。特に、アルミニウム合金を基板とする磁気ディスク
においては、アルミニウム合金基板の表面平坦度を高め
るため、平面研磨機を用いた高精度な研磨が行われてい
る。このとき使用される平面研磨機は、上下に配置され
た円盤状の砥石の間に、研磨すべきアルミニウム合金基
板をセットし、上下の砥石の自転と、アルミニウム合金
基板の公転とによって、アルミニウム合金基板の表裏両
面を研磨する装置である。
2. Description of the Related Art In a magnetic disk drive used in a computer, a magnetic disk, which is a donut-shaped disk-shaped recording medium, rotates at a high speed, and signals are recorded by a magnetic head floating above it in a hydrodynamic manner.・ Playback is performed. Therefore, high surface flatness is required for magnetic disks. Conventionally, in order to improve such surface flatness, a polishing process of a magnetic disk substrate has been improved,
Improvements have been made to the annealing process of a magnetic disk substrate, and to the uniformity of a magnetic film and the like laminated on a magnetic disk substrate. In particular, for a magnetic disk using an aluminum alloy substrate, high-precision polishing using a plane polisher is performed in order to increase the surface flatness of the aluminum alloy substrate. The plane polishing machine used at this time sets the aluminum alloy substrate to be polished between the disk-shaped grinding wheels arranged vertically, and the rotation of the upper and lower grinding wheels and the revolution of the aluminum alloy substrate cause the aluminum alloy substrate to rotate. This is a device for polishing both front and back surfaces of a substrate.

【0003】用いられる砥石は、PVA等の樹脂に砥粒
を混ぜた扇状の砥石片を複数個配置して円盤状に構成し
たものである。この砥石は、研磨処理量の増加と共に研
磨面の平坦度が低下するので、研磨すべきアルミニウム
合金基板の表面平坦度が低下して十分な品質のアルミニ
ウム合金基板を得ることができなくなるという問題があ
る。そのため、従来より、砥石のドレッシングを行って
いる。なお、砥石のドレッシングは、ダイヤモンド砥石
である円盤状のペレットを多数配置した砥石ドレッサを
用い、その砥石ドレッサを平面研磨機にセットして上下
面の砥石の平坦度を回復させる方法である。
[0003] The grindstone used is a disk-shaped one in which a plurality of fan-shaped grindstone pieces in which abrasive grains are mixed with resin such as PVA are arranged. Since the flatness of the polished surface of the grindstone decreases with an increase in the amount of the polishing treatment, there is a problem that the surface flatness of the aluminum alloy substrate to be polished is reduced and an aluminum alloy substrate of sufficient quality cannot be obtained. is there. Therefore, dressing of a grindstone has been conventionally performed. The dressing of the grindstone is a method of using a grindstone dresser in which a large number of disc-shaped pellets, which are diamond grindstones, are arranged and setting the grindstone dresser in a plane polishing machine to restore the flatness of the grindstone on the upper and lower surfaces.

【0004】従来、こうした砥石ドレッシングに関して
は、特開平10−329004号公報等に示すように、
複数の円盤状のペレットを設ける代わりに、一つのリン
グ状のペレットを有する砥石ドレッサによって、砥石の
平坦度を向上させる技術等が開示されている。
Conventionally, such a grinding wheel dressing has been disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-329004.
Instead of providing a plurality of disc-shaped pellets, a technique for improving the flatness of a grindstone using a grindstone dresser having one ring-shaped pellet has been disclosed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
方法は、平面研磨機にセットされた複数のアルミニウム
合金基板間の研磨ムラの原因となる砥石上の大きなうね
りに関して検討されているものであり、一つのアルミニ
ウム合金基板内の表面平坦度を低下させる原因となる砥
石上の微小な表面の凹凸(以下「微小うねり」ともい
う。)を十分に小さくすることはできていなかった。
However, the above-mentioned method has been studied with respect to a large undulation on a grindstone which causes polishing unevenness between a plurality of aluminum alloy substrates set in a plane polishing machine. It has not been possible to sufficiently reduce minute surface irregularities (hereinafter, also referred to as "small undulations") on a grindstone, which cause a reduction in surface flatness in one aluminum alloy substrate.

【0006】こうした砥石上の微小うねりは、研磨され
た磁気ディスク基板の表面平坦度を低下させて、磁気デ
ィスク基板上にも微小うねりを生じさせる原因となる。
その結果、磁気ディスクの高速回転が抑制されるという
問題を起こすおそれがある。
[0006] Such minute undulations on the grindstone cause the surface flatness of the polished magnetic disk substrate to be reduced, causing small undulations on the magnetic disk substrate.
As a result, there is a possibility that a problem that high-speed rotation of the magnetic disk is suppressed may occur.

【0007】そこで、本発明は、被研磨物である磁気デ
ィスク基板の微小うねりをより一層小さくすることがで
きるように、平面研磨機にセットする砥石のドレッサー
用のペレットを提供する。
Accordingly, the present invention provides a pellet for a dresser of a grindstone to be set in a plane polisher so that a micro waviness of a magnetic disk substrate to be polished can be further reduced.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、平面研磨機の砥石の目立てを行う砥石ドレッサに使
用されるペレットであって、#800〜#1500の粒
度のダイヤモンド砥粒が用いられていることに特徴を有
する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a pellet used for a grindstone dresser for dressing a grindstone of a flat-surface polisher, wherein diamond grains having a grain size of # 800 to # 1500 are used. It is characterized by being used.

【0009】この発明によれば、ペレットには、#80
0〜#1500の粒度のダイヤモンド砥粒が用いられて
いるので、このペレットを備えた砥石ドレッサで研磨さ
れた砥石は、それ自身の微小うねりが小さくなり、被研
磨物である磁気ディスク基板の微小うねりを小さくする
ことができる。
According to the present invention, the pellet contains # 80
Since diamond abrasive grains having a particle size of 0 to # 1500 are used, the grindstone polished by the grindstone dresser provided with the pellets has its own minute waviness, and the minute wrinkles of the magnetic disk substrate as the object to be polished are reduced. The swell can be reduced.

【0010】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の砥石ドレッサ用ペレットにおいて、前記ダイヤモンド
砥粒が、1立方センチメートル当たり1.5〜3.0カ
ラットの密度で含有していることに特徴を有する。
According to a second aspect of the present invention, in the pellet for a grinding wheel dresser according to the first aspect, the diamond abrasive grains are contained at a density of 1.5 to 3.0 carats per cubic centimeter. Has features.

【0011】この発明によれば、ダイヤモンド砥粒が、
1立方センチメートル当たり1.5〜3.0カラットの
密度で含有しているので、このペレットを備えた砥石ド
レッサで研磨された砥石は、それ自身の微小うねりが小
さくなり、被研磨物である磁気ディスク基板の微小うね
りをより一層小さくすることができる。
According to the present invention, the diamond abrasive grains
Since it is contained at a density of 1.5 to 3.0 carats per cubic centimeter, the grindstone polished by the grindstone dresser equipped with these pellets has a small undulation of its own, and the magnetic disk to be polished is The minute waviness of the substrate can be further reduced.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0013】図1は、本発明の砥石ドレッサ用ペレット
(以下「ペレット2」という。)が配置された砥石ドレ
ッサ1の一例を示す正面図であり、平面研磨機の砥石の
ドレッシングに使用されるものである。この砥石ドレッ
サ1において、ペレット2は、平面研磨機の砥石の目立
てを行う役割を担っている。
FIG. 1 is a front view showing an example of a grindstone dresser 1 on which a pellet for a grindstone dresser (hereinafter referred to as “pellet 2”) of the present invention is arranged, and is used for dressing a grindstone of a plane polishing machine. Things. In the grindstone dresser 1, the pellets 2 play a role in sharpening the grindstone of the plane polishing machine.

【0014】ペレット2は、ダイヤモンド砥粒とバイン
ダーとで主に構成されている。ペレット2の大きさは、
そのペレット2が配置される砥石ドレッサ1の大きさ、
ペレット2の配置パターン等によって異なるが、例え
ば、図1に示す砥石ドレッサ1においては、直径約16
mmで厚さ約5mm程度の円盤状のペレット1を使用す
ることができる。
The pellet 2 is mainly composed of diamond abrasive grains and a binder. The size of the pellet 2 is
The size of the grinding wheel dresser 1 on which the pellets 2 are arranged,
For example, in the grindstone dresser 1 shown in FIG.
A disk-shaped pellet 1 having a thickness of about 5 mm and a thickness of about 5 mm can be used.

【0015】バインダーは、ペレット2の基材をなすも
のであり、均一に分散させたダイヤモンド砥粒をペレッ
ト2中に固着させるためのものである。バインダーとし
ては、通常使用されているメタルボンド、レジノイドボ
ンド、ビトリファイボンド、電着ボンド等を挙げること
ができる。本発明においては、メタルボンドの一つであ
るCu−Sn合金を好ましく用いることができる。
The binder forms the base material of the pellets 2, and serves to fix the uniformly dispersed diamond abrasive grains in the pellets 2. Examples of the binder include commonly used metal bonds, resinoid bonds, vitrify bonds, and electrodeposited bonds. In the present invention, a Cu—Sn alloy that is one of the metal bonds can be preferably used.

【0016】ダイヤモンド砥粒は、ペレット2中にバイ
ンダーによって固着されて均一に分散して存在し、砥石
表面を研磨する役割を担っている。ダイヤモンド砥粒
は、#800〜#1500の範囲内の粒度を有するもの
が使用され、#1000〜#1500の範囲のものがよ
り好ましく使用される。こうした粒度範囲のダイヤモン
ド砥粒で作製されたペレット2は、砥石表面のうねりを
小さくすることができるので、そうした砥石で研磨され
た磁気ディスク基板の表面粗さを小さくさせ、微小うね
りを小さくして表面平坦度の向上に寄与することができ
る。なお、ここでいう微小うねりは、概ね表面粗さと同
義であり、JIS B 0601に規定される表面粗さ
測定によって得られる中心線平均粗さ(Ra)や、得ら
れた曲線の山頂間のピッチ等で評価されるものである。
微小うねりが小さいということは、得られる中心線平均
粗さ(Ra)が小さく、得られた曲線の山頂間のピッチ
も小さいことをいい、微小うねりが大きいということ
は、得られる中心線平均粗さ(Ra)が大きく、得られ
た曲線の山頂間のピッチも大きいことをいう。
The diamond abrasive grains are fixed in the pellets 2 by a binder and exist uniformly dispersed therein, and play a role of polishing the surface of the grinding stone. As the diamond abrasive, those having a particle size in the range of # 800 to # 1500 are used, and those having a particle size of # 1000 to # 1500 are more preferably used. The pellets 2 made of diamond abrasive grains having such a particle size range can reduce the waviness of the grinding wheel surface, so that the surface roughness of the magnetic disk substrate polished by such a whetstone is reduced, and the micro waviness is reduced. It can contribute to the improvement of the surface flatness. Note that the fine waviness here is almost synonymous with the surface roughness, and the center line average roughness (Ra) obtained by the surface roughness measurement specified in JIS B0601, and the pitch between the peaks of the obtained curve. And so on.
A small undulation means that the obtained center line average roughness (Ra) is small, and the pitch between the peaks of the obtained curve is small. A large undulation means that the obtained center line average roughness is small. (Ra) is large, and the pitch between the peaks of the obtained curve is also large.

【0017】ダイヤモンド砥粒の粒度が#800未満の
場合には、ドレッシング後の砥石の微小うねりを小さく
することができず、そうした砥石で研磨された磁気ディ
スク基板の微小うねりを十分に小さくすることができな
い。一方、ダイヤモンド砥粒の粒度が#1500を超え
る場合には、ドレッシング後の砥石の微小うねりを十分
に小さくすることができ、そうした砥石で研磨された磁
気ディスク基板の微小うねりを十分に小さくすることが
できるが、使用するダイヤモンド砥粒がかなり微細にな
るので、コストアップの原因となり、経済的な問題が生
じてくる。従って、技術的な効果の点では、#1500
を超える粒度のダイヤモンド砥粒であってもよいが、経
済性も考慮すると#800〜#1500の範囲が実用上
好ましい。上記の粒度範囲のダイヤモンド砥粒で構成さ
れたペレット2を砥石ドレッサ1に用いると、その砥石
ドレッサ1で研磨される砥石の微小うねりを小さくする
ことができ、その結果、そうした砥石を用いることによ
って、被研磨物である磁気ディスク用アルミニウム合金
基板の微小うねりを小さくして、表面平坦度をより一層
向上させることができる。
If the particle size of the diamond abrasive grains is less than # 800, the fine waviness of the grinding wheel after dressing cannot be reduced, and the fine waviness of the magnetic disk substrate polished by such a whetstone must be sufficiently reduced. Can not. On the other hand, when the grain size of the diamond abrasive grains exceeds # 1500, the fine waviness of the grinding wheel after dressing can be sufficiently reduced, and the fine waviness of the magnetic disk substrate polished with such a whetstone is sufficiently reduced. However, since the diamond abrasive grains to be used are extremely fine, it causes an increase in cost and causes an economic problem. Therefore, in terms of technical effect, # 1500
However, in consideration of economy, the range of # 800 to # 1500 is practically preferable. When the pellet 2 composed of the diamond abrasive grains having the above-mentioned particle size range is used for the grindstone dresser 1, the minute waviness of the grindstone polished by the grindstone dresser 1 can be reduced. As a result, by using such a grindstone, Further, it is possible to reduce the minute waviness of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk which is the object to be polished, and to further improve the surface flatness.

【0018】さらに、ダイヤモンド砥粒は、1立方セン
チメートル当たり1.5〜3.0カラットの密度でペレ
ット2中に含有されていることが好ましい。こうした密
度でダイヤモンド砥粒が分散したペレット2は、砥石表
面のうねりを一層小さくすることができるので、そうし
た砥石で研磨された磁気ディスク基板の表面粗さを小さ
くさせ、微小うねりをより一層小さくして表面平坦度の
向上に寄与することができる。
Further, it is preferable that the diamond abrasive grains are contained in the pellets 2 at a density of 1.5 to 3.0 carats per cubic centimeter. The pellets 2 in which diamond abrasive grains are dispersed at such a density can further reduce the waviness of the whetstone surface, so that the surface roughness of the magnetic disk substrate polished by such whetstones is reduced, and the fine waviness is further reduced. This contributes to the improvement of the surface flatness.

【0019】ダイヤモンド砥粒の密度が1立方センチメ
ートル当たり1.5カラット未満の場合には、ドレッシ
ング後の砥石の微小うねりを十分に小さくすることがで
きず、そうした砥石で研磨された磁気ディスク基板の微
小うねりを十分に小さくすることができない。このと
き、ダイヤモンド砥粒の密度は大きい程好ましいが、実
際には、ダイヤモンド砥粒を固着するバインダーの結合
性能の限界から、その上限を1立方センチメートル当た
り3.0カラット以下とすることが好ましい。ダイヤモ
ンド砥粒の密度が1立方センチメートル当たり3.0カ
ラットを超える場合には、ダイヤモンド砥粒がバインダ
ーで十分に固着されないので、ぼろぼろと剥がれ落ちる
おそれがある。
If the density of the diamond abrasive grains is less than 1.5 carats per cubic centimeter, it is not possible to sufficiently reduce the waviness of the whetstone after dressing, and the fine wrinkles of the magnetic disk substrate polished by such whetstones will not be obtained. The swell cannot be reduced sufficiently. At this time, the density of the diamond abrasive grains is preferably as high as possible. However, in practice, it is preferable to set the upper limit to 3.0 carats or less per cubic centimeter from the limit of the binding performance of the binder for fixing the diamond abrasive grains. When the density of the diamond abrasive grains exceeds 3.0 carats per cubic centimeter, the diamond abrasive grains are not sufficiently fixed by the binder, and may be ragged and peeled off.

【0020】なお、ダイヤモンド砥粒の密度は一般的に
集中度で表され、集中度100が4.4カラットに相当
する。また、1カラットはダイヤモンド砥粒200mg
に相当するので、上述の1立方センチメートル当たり
1.5〜3.0カラット(集中度34.1〜68.2)
の範囲は、300〜600mgの範囲のダイヤモンド砥
粒に相当する。
Note that the density of diamond abrasive grains is generally represented by a degree of concentration, and a degree of concentration of 100 corresponds to 4.4 carats. One carat is 200mg of diamond abrasive
1.5 to 3.0 carats per cubic centimeter (concentration 34.1 to 68.2)
Range corresponds to diamond abrasive grains in the range of 300-600 mg.

【0021】本発明の砥石ドレッサ用ペレット2は、図
1に示すように、砥石ドレッサ1の所定の位置に複数個
配置されて使用される。その砥石ドレッサ1は、研磨さ
れた砥石の表面粗さを小さくし、砥石上の微小うねりを
解消するのに寄与することができる。こうして微小うね
りが十分に解消された砥石を用いることによって、被研
磨物である磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面
平坦度をより一層向上させることができる。
As shown in FIG. 1, a plurality of the pellets 2 for a grinding wheel dresser of the present invention are used at a predetermined position of the grinding wheel dresser 1. The grindstone dresser 1 can contribute to reducing the surface roughness of the polished grindstone and eliminating minute waviness on the grindstone. By using the grindstone in which the minute waviness is sufficiently eliminated in this way, the surface flatness of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk, which is the object to be polished, can be further improved.

【0022】[0022]

【実施例】以下に、本発明を実施例と比較例によって更
に詳しく説明する。 (実施例1)ダイヤモンド砥粒としては、#1000の
粒度のもの(平均粒径:約7〜14μm)を使用し、こ
のダイヤモンド砥粒の含有量を、1立方センチメートル
当たり2.2カラット(集中度50)の密度で均一に分
散するように調整し、Cu−Sn合金のバインダーによ
ってダイヤモンド砥粒を固着させてペレットを作製し
た。図2は、ペレット中に分散したダイヤモンド砥粒の
分散状態の顕微鏡写真(60倍)である。このペレット
において、ダイヤモンド砥粒は、後述する比較例1より
もかなり微細なピッチでバインダー中に分散していた。
得られた本発明のペレットはφ16mmで厚さ5mmの
円盤状であり、図1に示したように配置して砥石ドレッ
サを作製した。 (比較例1)ダイヤモンド砥粒としては、#600の粒
度のもの(平均粒径:約20〜30μm)を使用し、こ
のダイヤモンド砥粒の含有量を、1立方センチメートル
当たり0.88カラット(集中度20)の密度で均一に
分散するように調整し、Cu−Sn合金のバインダーに
よってダイヤモンド砥粒を固着させてペレットを作製し
た。図3は、ペレット中に分散したダイヤモンド砥粒の
分散状態の顕微鏡写真(60倍)である。このペレット
において、ダイヤモンド砥粒は、上述の実施例1よりも
大きなピッチでバインダー中に分散していた。得られた
従来タイプのペレットはφ16mmで厚さ5mmの円盤
状であり、図1に示したように配置して砥石ドレッサを
作製した。 (研磨結果)実施例1で作製した砥石ドレッサと、比較
例1で作製した砥石ドレッサとを用いて、ほぼ同程度に
表面が荒れた使用済み砥石を研磨した。その後、その砥
石によって平面研磨したアルミニウム合金製の磁気ディ
スク基板の表面形態と表面粗さを測定した。
The present invention will be described below in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. (Example 1) Diamond abrasive grains having a grain size of # 1000 (average grain diameter: about 7-14 µm) were used, and the content of the diamond abrasive grains was adjusted to 2.2 carats per cubic centimeter (concentration degree The particles were adjusted so as to be uniformly dispersed at a density of 50), and diamond abrasive grains were fixed with a Cu-Sn alloy binder to produce pellets. FIG. 2 is a micrograph (× 60) of the dispersed state of diamond abrasive grains dispersed in the pellet. In this pellet, the diamond abrasive grains were dispersed in the binder at a much finer pitch than in Comparative Example 1 described later.
The obtained pellets of the present invention were disk-shaped with a diameter of 16 mm and a thickness of 5 mm, and were arranged as shown in FIG. 1 to produce a grindstone dresser. (Comparative Example 1) A diamond abrasive having a particle size of # 600 (average particle size: about 20 to 30 µm) was used, and the content of the diamond abrasive was set to 0.88 carats per cubic centimeter (concentration degree Adjustment was performed so that the particles were uniformly dispersed at the density of 20), and diamond abrasive grains were fixed with a binder of a Cu-Sn alloy to produce pellets. FIG. 3 is a micrograph (× 60) of the dispersed state of the diamond abrasive grains dispersed in the pellet. In this pellet, the diamond abrasive grains were dispersed in the binder at a larger pitch than in Example 1 described above. The obtained conventional-type pellets were disk-shaped with a diameter of 16 mm and a thickness of 5 mm, and were arranged as shown in FIG. 1 to produce a grinding wheel dresser. (Polishing Result) Using the grindstone dresser manufactured in Example 1 and the grindstone dresser manufactured in Comparative Example 1, a used grindstone having a roughly rough surface was polished. Thereafter, the surface morphology and surface roughness of the aluminum alloy magnetic disk substrate polished by the grindstone were measured.

【0023】図4(a)は、実施例1で作製した砥石ド
レッサを用いた場合に得られた磁気ディスク基板の表面
形態のプロファイルであり、図4(b)は、比較例1で
作製した砥石ドレッサを用いた場合に得られた磁気ディ
スク基板の表面形態のプロファイルである。これらから
明らかなように、実施例1で作製した砥石ドレッサを用
いた場合に得られた磁気ディスク基板の表面形態は、比
較例1で作製した砥石ドレッサを用いた場合に得られた
磁気ディスク基板の表面形態よりも、平坦であることが
わかり、表面平坦度が改善されていることが明らかであ
る。
FIG. 4A shows the profile of the surface morphology of the magnetic disk substrate obtained when the grindstone dresser prepared in Example 1 was used. FIG. 4B shows the profile prepared in Comparative Example 1. 4 is a profile of a surface morphology of a magnetic disk substrate obtained when a grindstone dresser is used. As is clear from these, the surface morphology of the magnetic disk substrate obtained using the grindstone dresser manufactured in Example 1 was the same as that of the magnetic disk substrate obtained using the grindstone dresser manufactured in Comparative Example 1. It can be seen that the surface is flatter than the surface morphology, and it is clear that the surface flatness is improved.

【0024】また、図5(a)は、実施例1で作製した
砥石ドレッサを用いた場合に得られた磁気ディスク基板
の表面粗さのプロファイルであり、図5(b)は、比較
例1で作製した砥石ドレッサを用いた場合に得られた磁
気ディスク基板の表面粗さのプロファイルである。これ
らから明らかなように、実施例1で作製した砥石ドレッ
サを用いた場合に得られた磁気ディスク基板は、比較例
1で作製した砥石ドレッサを用いた場合に得られた磁気
ディスク基板よりも、中心線平均粗さ(Ra)およびピ
ッチの何れにおいても小さく、微小うねりが改善されて
いることが明らかである。
FIG. 5A shows the profile of the surface roughness of the magnetic disk substrate obtained when the grindstone dresser manufactured in Example 1 was used, and FIG. 5B shows Comparative Example 1. 4 is a profile of the surface roughness of a magnetic disk substrate obtained when the grindstone dresser manufactured in step 1 was used. As is clear from these, the magnetic disk substrate obtained using the grindstone dresser manufactured in Example 1 is more than the magnetic disk substrate obtained using the grindstone dresser manufactured in Comparative Example 1. It is clear that both the center line average roughness (Ra) and the pitch are small, and the fine waviness is improved.

【0025】こうした微小うねりの相違は、図2および
図3に示すように、ペレット中に分散したダイヤモンド
砥粒の大きさ、および、その分散状態すなわちダイヤモ
ンド砥粒間のピッチの差に基づくものと考えられる。す
なわち、ペレット中に分散したダイヤモンド砥粒の粒度
や密度を変えることによって、そのペレットが配置され
た砥石ドレッサで研磨された砥石表面の微小うねりが改
善され、そのように改善された砥石で平面研磨されるこ
とによって、磁気ディスク基板表面の微小うねりが小さ
くなると考えられる。
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the difference between the minute undulations is based on the size of the diamond abrasive grains dispersed in the pellets and the dispersion state, that is, the difference in pitch between the diamond abrasive grains. Conceivable. In other words, by changing the particle size and density of the diamond abrasive particles dispersed in the pellet, the fine waviness of the grindstone surface polished by the grindstone dresser on which the pellet is arranged is improved, and the surface is polished with the improved grindstone. It is considered that this reduces the undulation on the surface of the magnetic disk substrate.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、#800〜#15
00のダイヤモンド砥粒を有する本発明のペレットを配
置した砥石ドレッサは、砥石の表面粗さを小さくして微
小うねりを小さくするので、そうした砥石で研磨された
磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、微小うねりが
小さくなりその表面平坦度が向上する。その結果、品質
の高い磁気ディスクの製造に寄与することができる。ま
た、1立方センチメートル当たり1.5〜3.0カラッ
トの密度でダイヤモンド砥粒が固着された本発明のペレ
ットを配置した砥石ドレッサは、砥石の表面粗さをより
一層小さくして微小うねりを小さくするので、被研磨物
である磁気ディスク基板の微小うねりをより一層小さく
することができる。
As described above, # 800 to # 15
Since the grinding wheel dresser on which the pellets of the present invention having the diamond abrasive grains of 00 are arranged reduces the surface roughness of the grinding wheel to reduce minute undulations, the aluminum alloy substrate for a magnetic disk polished with such a grinding stone has small undulations. And its surface flatness is improved. As a result, it is possible to contribute to the manufacture of a high quality magnetic disk. Further, the grinding wheel dresser on which the pellets of the present invention in which the diamond abrasive grains are fixed at a density of 1.5 to 3.0 carats per cubic centimeter is arranged to further reduce the surface roughness of the grinding wheel and to reduce minute waviness. Therefore, it is possible to further reduce the minute waviness of the magnetic disk substrate to be polished.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の砥石ドレッサ用ペレットが配置された
砥石ドレッサの一例を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an example of a grinding wheel dresser on which pellets for the grinding wheel dresser of the present invention are arranged.

【図2】本発明の砥石ドレッサ用ペレットにおいて、ペ
レット中に分散したダイヤモンド砥粒の分散状態の顕微
鏡写真(60倍)である。
FIG. 2 is a micrograph (× 60) of a dispersed state of diamond abrasive grains dispersed in the pellet for a grinding wheel dresser of the present invention.

【図3】従来の砥石ドレッサ用ペレットにおいて、ペレ
ット中に分散したダイヤモンド砥粒の分散状態の顕微鏡
写真(60倍)である。
FIG. 3 is a photomicrograph (× 60) of a conventional grinding stone dresser pellet in a state of dispersion of diamond abrasive grains dispersed in the pellet.

【図4】作製した砥石ドレッサで砥石を研磨した後、そ
の砥石によって平面研磨したアルミニウム合金製の磁気
ディスク基板の表面形態のプロファイルについて、本発
明のペレットを用いた場合(a)と従来のペレットを用
いた場合(b)とを比較したものである。
FIG. 4 shows the profile of the surface morphology of a magnetic disk substrate made of an aluminum alloy, which is obtained by polishing a grindstone with the prepared grindstone dresser and then polished by the grindstone, using the pellet of the present invention (a) and the conventional pellet Is compared with (b) in the case of using.

【図5】作製した砥石ドレッサで砥石を研磨した後、そ
の砥石によって平面研磨したアルミニウム合金製の磁気
ディスク基板の表面粗さのプロファイルについて、本発
明のペレットを用いた場合(a)と従来のペレットを用
いた場合(b)とを比較したものである。
FIG. 5 shows the profile of the surface roughness of a magnetic disk substrate made of an aluminum alloy, which is obtained by polishing a grindstone with a prepared grindstone dresser and then polished by the grindstone, using the pellet of the present invention (a) and the conventional one. This is a comparison between the case where pellets are used and the case (b).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 砥粒ドレッサ 2 ペレット 3 ダイヤモンド砥粒 4 バインダー 1 Abrasive dresser 2 Pellet 3 Diamond abrasive 4 Binder

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平面研磨機の砥石の目立てを行う砥石ド
レッサに使用されるペレットであって、 前記ペレットは、#800〜#1500の粒度のダイヤ
モンド砥粒が用いられていることを特徴とする砥石ドレ
ッサ用ペレット。
1. A pellet used for a grinding wheel dresser for sharpening a grinding wheel of a plane polishing machine, wherein the pellets are diamond abrasive grains having a grain size of # 800 to # 1500. Pellet for whetstone dresser.
【請求項2】 前記ダイヤモンド砥粒が、1立方センチ
メートル当たり1.5〜3.0カラットの密度で含有し
ていることを特徴とする請求項1に記載の砥石ドレッサ
用ペレット。
2. A pellet for a grinding wheel dresser according to claim 1, wherein said diamond abrasive grains are contained at a density of 1.5 to 3.0 carats per cubic centimeter.
JP25911999A 1999-09-13 1999-09-13 Pellet for grinding wheel dresser Pending JP2001079763A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25911999A JP2001079763A (en) 1999-09-13 1999-09-13 Pellet for grinding wheel dresser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25911999A JP2001079763A (en) 1999-09-13 1999-09-13 Pellet for grinding wheel dresser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001079763A true JP2001079763A (en) 2001-03-27

Family

ID=17329588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25911999A Pending JP2001079763A (en) 1999-09-13 1999-09-13 Pellet for grinding wheel dresser

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001079763A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006088320A (en) * 2004-08-27 2006-04-06 Showa Denko Kk Substrate for magnetic disk and manufacturing method of magnetic disk
CN112643561A (en) * 2020-12-17 2021-04-13 新乡市荣锋材料科技有限公司 High-precision finishing tool and method for end face of superhard grinding disc

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006088320A (en) * 2004-08-27 2006-04-06 Showa Denko Kk Substrate for magnetic disk and manufacturing method of magnetic disk
CN112643561A (en) * 2020-12-17 2021-04-13 新乡市荣锋材料科技有限公司 High-precision finishing tool and method for end face of superhard grinding disc

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105579198A (en) Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk and method for manufacturing magnetic disk
JP3975047B2 (en) Polishing method
JP2000153453A (en) Glass substrate polishing method
JP2001191247A (en) Both surface grinding method of disc-like substrate, manufacturing method of substrate for information recording medium and manufacturing method of information recording medium
JPH07134823A (en) Manufacture of glass base for magnetic recording medium and magnetic recording medium
JP2001079763A (en) Pellet for grinding wheel dresser
JPH11138407A (en) Abrasive cloth and its manufacture, and texture machining method
JPH10286755A (en) Conditioning method of abrasive grain fix type grinding surface plate
JP2971764B2 (en) Abrasive fixed type polishing table
JP3370648B2 (en) Method of manufacturing glass substrate for magnetic recording medium
JPH04256574A (en) Correction method for electrodeposited grinding wheel
JP4203486B2 (en) Polishing pad dresser for dressing polishing pad used for finish polishing of aluminum substrate for hard disk, and method for polishing aluminum substrate for hard disk
JPS62236664A (en) Texturing method for magnetic disk substrate
JP2003117823A (en) Dresser for polishing pad
JP2004055128A (en) Manufacturing method of glass disk substrate for magnetic recording medium
JP2001250224A (en) Substrate for magnetic recording medium, its manufacturing method and magnetic recording medium
JPH10328986A (en) Disk substrate intermediate, manufacture thereof, and grinding work device
JP2000084834A (en) Grinding carrier
JP2001334469A (en) Diamond wheel for glass substrate work and working method of glass substrate
JP2001246536A (en) Method of mirror-finishing edge of recording medium disc original plate
JPH1160282A (en) Polishing of glass substrate for magnetic disk
JPH1110527A (en) Method for grinding substrate for magnetic disc
JPH11188588A (en) Disk substrate intermediate product and its manufacture
JP2000317792A (en) Polishing device for inner circumferential surface edge of workpiece
JPH08161737A (en) Texture treatment method for amorphous carbon substrate for magnetic disk