JPH08146427A - 液晶表示パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 分割配向方式を改善して、視角依存性の少な
い高品質な液晶表示パネルを低コストにて実現する。 【構成】 液晶表示パネルは所定の間隙を介して対向配
置した一対の基板１，２と、この間隙に保持されたネマ
ティック液晶層３とを有する。両基板１，２の内表面に
は所定の電極４，５が形成され互いに対向して画素領域
を構成する。又、各基板１，２の内表面には配向膜１
４，１５が形成され、ネマティック液晶層３に含まれる
液晶分子１６と接してこれをチルト状態に維持してい
る。上側基板１に形成された配向膜１５は液晶分子１６
のチルト角を高めに制御する高チルト領域Ｈと、同じく
液晶分子１６のチルト角を低めに制御する低チルト領域
Ｌとに細分化されている。下側基板２に形成された配向
膜１４は液晶分子１６のチルト角を中程度に維持してい
る。かかる構成により、画素領域に二方向のチルト状態
を混在させている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示パネルに関す
る。より詳しくは視角特性の改善技術に関する。さらに
詳しくは、視角改善の為の分割配向技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から液晶表示パネルでは、ツイスト
整列されたネマティック液晶が一般的に利用されてい
る。図１０はツイストネマティックモードの液晶表示パ
ネルの動作原理を示す模式図である。左側が電圧無印加
状態を示し右側が電圧印加状態を示す。上側の偏光板１
０１の偏光軸Ａと下側の偏光板１０２の偏光軸Ｂは互い
に直交している。又、上側の配向膜１０３の配向方向ａ
と下側の配向膜１０４の配向方向ｂも互いに直交してい
る。従って、ネマティック液晶分子１０５は９０°捩じ
れたツイスト整列となる。電圧無印加状態では、上側の
偏光板１０１を通過した入射光の直線偏光成分が、ツイ
スト整列された液晶分子１０５により９０°旋光され下
側の偏光板１０２を透過する。従って電圧無印加状態で
は白色表示が得られる。一方、電圧を印加すると液晶分
子１０５は立ち上がり旋光能が失われる。従って、入射
光の直線偏光成分は下側の偏光板１０２により遮断され
黒色表示が得られる。この様な表示方式はノーマリホワ
イトモードと呼ばれている。印加電圧のレベルを適宜選
択する事により、白色表示と黒色表示の間の中間調表示
（灰色表示）が得られる。中間調表示ではネマティック
液晶分子１０５は完全に寝た状態と完全に立ち上がった
状態の間にあり、その分子軸は基板面に対して傾斜して
いる。中間調表示もしくは階調表示は、例えばテレビジ
ョン画像やビデオ画像の再生に必要となる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ツイストネマティック
モードの液晶表示パネルは視角特性が悪いという課題が
ある。即ち、液晶表示パネルの透過率には視角依存性が
あり、見る方向により表示濃度（コントラスト）が変化
し視認性が悪い。この視角依存性は特に中間調表示で顕
著になり、画像品位が著しく損なわれる。場合によって
は、見る方向により表示状態が白黒反転し画像品位を著
しく低下させていた。前述した様に、中間調表示では液
晶分子が傾斜状態にあり、分子軸の方向と視認方向との
関係に依存して、透過率が極端に変化し最悪の場合には
表示反転が起きてしまう。

【０００４】かかる視角依存性を改善する為、例えば特
開昭６４−８８５２０号公報に分割配向技術が開示され
ている。液晶分子の配向方向（配向膜のラビング方向）
を一画素内で複数個の領域に分割し、個々の領域で配向
方向を異ならしめている。これにより、目の位置が液晶
パネルの法線から傾斜し、ある部分で画像が白黒反転
し、ある部分では白抜けを生じた場合でも、一画素全体
では平均化されて、表示画面全体では視角に関係なく白
黒反転や白抜けが生じない良好な画像を得る事ができ
る。しかしながら、実際には個々の微細な画素内で配向
方向（ラビング方向）を領域毎に異ならせる事は製造技
術上極めて困難である。例えば、ラビング時にレジスト
を用いてマスクを形成し、基板に対し二方向のラビング
処理を行なう方法が提案されている。この二方向ラビン
グ処理は工程数の増加を伴なう為製造コストアップとな
る。

【０００５】他の配向分割方式としては、上下一対の基
板の各々にチルト角の異なる二種類の配向膜を塗布し、
フォトリソグラフィを用いて精度良く領域分割的にパタ
ニングする。しかしながら、この方法ではフォトリソグ
ラフィに用いるレジストの微量な残渣が不純物として液
晶の特性劣化を生じさせている。さらに、プロセス的に
もフォトリソグラフィ工程が加わる為製造コストアップ
の要因となる。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の課
題に鑑み、本発明は例えばツイストネマティックモード
の液晶表示パネルにおいて、視角依存性を簡便な配向制
御で改善する事を目的とする。かかる目的を達成する為
に以下の手段を講じた。即ち、本発明にかかる液晶表示
パネルは基本的な構成として、所定の間隙を介して対向
配置した一対の基板と、該間隙に保持された液晶層とを
有する。両基板の内表面には所定の電極が形成され互い
に対向して表示面を構成する。各基板の内表面には配向
膜が形成され、該液晶層に含まれる液晶分子と接してこ
れをチルト状態に維持している。特徴事項として、一方
の基板に形成された配向膜は液晶分子のチルト角を高め
に制御する高チルト領域と、液晶分子のチルト角を低め
に制御する低チルト領域とに細分化されている。他方の
基板に形成された配向膜は液晶分子のチルト角を中程度
に維持可能である。かかる構成により、表示面に二方向
のチルト状態を混在させる。前記一方の基板に形成され
た配向膜は高チルト領域及び低チルト領域共に第一の方
向にラビング処理を施されており、他方の基板に形成さ
れた配向膜は第一の方向に直交する第二の方向にラビン
グ処理を施されている。

【０００７】本発明の一態様では、前記一方の基板に形
成された配向膜は液晶分子のチルト角を高め及び低めに
制御する二種類の配向膜を重ねた積層構造を有する。上
側の配向層は選択的に形成され高チルト領域又は低チル
ト領域の一方にのみ残し他方から除去されている。下側
の配向層は連続的に形成され他方のみに露出している。
他の態様によれば、前記一方の基板に形成された配向膜
は選択的な紫外線照射を受けており、照射部位が低チル
ト領域になる一方非照射部位が高チルト領域になる。

【０００８】

【作用】本発明によれば、一方の基板に形成された配向
膜は液晶分子のチルト角を高めに制御する高チルト領域
と、液晶分子のチルト角を低めに制御する低チルト領域
とに細分化されている。他方の基板に形成された配向膜
は液晶分子のチルト角を中程度に維持する。一方の基板
と他方の基板の配向方向は互いに直交している。従っ
て、液晶分子は高チルト領域及び低チルト領域共に同方
向に９０°捩じれたツイスト整列となる。液晶分子のチ
ルト方向については一対の基板のうち何れかチルト角の
大きい方に従って配向する。この為、高チルト領域では
一方の基板によってチルト方向が支配され、低チルト領
域では他方の基板によってチルト方向が支配される。こ
の結果液晶表示パネルの表示面に順逆二方向のチルト状
態が混在する事になり、従って液晶分子のチルト方向で
決まる優先視角方位（主視角方位）が高チルト領域と低
チルト領域に分れて順逆両方向に存在する為、視角の改
善となる。

【０００９】

【実施例】以下図面を参照して本発明の好適な実施例を
詳細に説明する。図１は本発明にかかる液晶表示パネル
の第一実施例を示す模式的な部分断面図であり、アクテ
ィブマトリクス型の例を表わしている。但し、本発明は
アクティブマトリクス型に限られるものではなく、単純
マトリクス型にも適用可能である事は勿論である。図示
する様に、液晶表示パネルは所定の間隙を介して対向配
置した上下一対の基板１，２と、該間隙に保持されたネ
マティック液晶層３とから構成されている。両基板１，
２の内表面には所定の電極が形成されており互いに対向
してマトリクス状の画素領域を無数に含んだ表示画面を
規定している。本例では、下側基板２の内表面にマトリ
クス状に細分化された画素電極４が形成されており、上
側基板１の内表面には連続的な対向電極５が形成されて
いる。画素電極４と対向電極５が平面的に重なる部分に
マトリクス状の画素領域が規定される。なお、下側基板
２には個々の画素電極４と対応してスイッチング駆動用
の薄膜トランジスタ６も集積形成されている。薄膜トラ
ンジスタ６は所定の形状にパタニングされた多結晶シリ
コン薄膜７を素子領域として構成されており、その上に
ゲート絶縁膜８を介してゲート電極Ｇがパタニングされ
ている。又、第一層間絶縁膜９を介して配線電極１０が
薄膜トランジスタ６のソース領域Ｓに電気接続してい
る。この配線電極１０は第二層間絶縁膜１１により被覆
されており、その上に前述した画素電極４がパタニング
形成されている。画素電極４は第二層間絶縁膜１１及び
第一層間絶縁膜９に開口したコンタクトホールを介して
薄膜トランジスタ６のドレイン領域Ｄに電気接続してい
る。一方、上側基板１の内表面には薄膜トランジスタ６
と整合する様にブラックマスク１２が設けられている。
このブラックマスク１２と対向電極５との間には絶縁膜
１３が介在している。下側基板２の内表面には配向膜１
４が形成されている。又、上側基板１の内表面にも同様
に配向膜１５が形成されている。下側の配向膜１４は紙
面と垂直の方向にラビング処理されており、上側の配向
膜１５は紙面と平行な方向にラビング処理を施されてい
る。従って、両配向膜１４，１５のラビング方向は互い
に直交している。これらの配向膜１４，１５は上下から
ネマティック液晶層３と接して液晶分子１６を９０°捩
じれたツイスト整列状態に維持している。本例では配向
膜１４，１５はポリイミド系の樹脂を用いている。

【００１０】特徴事項として、上側基板１に形成された
配向膜１５は液晶分子１６のチルト角を高めに制御する
高チルト領域Ｈと、液晶分子１６のチルト角を低めに制
御する低チルト領域Ｌとに細分化されている。本例で
は、高チルト領域Ｈにおける液晶分子１６のチルト角θ
１は３〜１０°に設定されている。低チルト領域Ｌにお
ける液晶分子１６のチルト角θ３は０〜３°に設定され
ている。これに対し下側基板２に形成された配向膜１４
は液晶分子１６のチルト角を中程度に維持可能である。
本例では、このチルト角θ２は２〜７°に設定されてい
る。何れにしても、これらのチルト角の関係はθ１＞θ
２＞θ３を満たす様に設定されている。本例では、上側
基板１に対して予めチルト角が高くなる配向膜１５を全
面的に形成している。この配向膜１５に選択的な紫外線
照射を行なう事により、照射部位が低チルト領域Ｌにな
る一方、非照射部位が高チルト領域Ｈになる。即ち、紫
外線照射を行なうとポリイミド等からなる配向膜１５の
表面状態が変化し、初期の高チルト角θ１が低チルト角
θ３に変化する。

【００１１】高チルト領域Ｈでは、上側の配向膜１５に
より得られるチルト角θ１が下側の配向膜１４により得
られるチルト角θ２より大きい為、上側基板１の支配を
受けて液晶分子１６のチルト方向が決定される。一方、
低チルト領域Ｌでは、上側の配向膜１５のチルト角θ３
に比べ、下側の配向膜１４のチルト角θ２の方が大き
い。従って、低チルト領域Ｌでは下側基板２の支配を受
けて液晶分子１６のチルト方向が決定される。両領域
Ｈ，Ｌでチルト方向が互いに逆になる様に配向膜１４，
１５はラビングされている。従って、本液晶表示パネル
は表示面に順逆二方向のチルト状態が混在する事にな
る。液晶分子１６のチルト方向で決まる優先視角方位
（主視角方位）が高チルト領域Ｈと低チルト領域Ｌで異
なる為、視角の改善に繋がる。

【００１２】図２はマトリクス状に配列した個々の画素
領域を模式的に表わした平面図である。個々の画素領域
２０は高チルト領域Ｈと低チルト領域Ｌとに二分割され
ている。この例では、個々の画素領域２０に整合したマ
スクを用いて紫外線照射を行ない、ハッチングで示した
低チルト領域Ｌのみに紫外線照射を加えている。

【００１３】図３は、図１に示した液晶表示パネルの製
造方法を示す工程図である。先ず工程Ｓ１で上側基板の
内表面に対向電極を形成する。次に工程Ｓ２で配向膜を
塗布する。この配向膜は高チルト角θ１を実現可能であ
り、例えば３〜１０°の範囲に設定される。次の工程Ｓ
３に進み、選択的な紫外線照射を行ない高チルト領域と
低チルト領域を作成する。紫外線照射を受けた低チルト
領域のチルト角θ３は０〜３°程度となる。さらに工程
Ｓ４に進み配向膜を第一の方向にラビングする。一方、
下側基板については工程Ｓ５で同じく画素電極を形成す
る。それに先立ち、予めスイッチング駆動用の薄膜トラ
ンジスタ等を集積形成しておく。次に工程Ｓ６で配向膜
を全面的に塗布する。この配向膜は中チルト角θ２を実
現可能であり、２〜７°程度に設定されている。なお、
所望のチルト角の設定はポリイミド系等からなる配向膜
の組成を適宜選ぶ事により可能である。工程Ｓ７に進
み、配向膜を第二の方向に沿ってラビング処理する。前
述した第一の方向とこの第二の方向は互いに直交してい
る。この後工程Ｓ８で上側及び下側の基板を互いに接合
する。工程Ｓ９で両基板の間隙に液晶を注入封止する。
最後に工程Ｓ１０で加熱処理を施し、液晶の配向安定化
を図る。

【００１４】図４は、上述した選択的紫外線照射工程Ｓ
３を模式的に表わした説明図である。（Ａ）に示す様
に、上側基板１の内表面には対向電極５が形成されてお
り、その上に配向膜１５が被覆している。（Ｂ）に示す
様に、所定のマスク２１を介して紫外線（ＵＶ）を照射
する。（Ｃ）に示す様に、紫外線の照射を受けた部位が
低チルト領域Ｌに転換され、非照射部位が高チルト領域
Ｈとしてそのまま残される。この後、ラビングローラ２
２を用いて配向膜１５の表面を所定方向にラビング処理
する。図から明らかな様に、低チルト領域Ｌ及び高チル
ト領域Ｈ共に同一方向にラビング処理される。

【００１５】代表的な配向膜としてはポリイミドが挙げ
られる。その分子構造を以下に示す。

【化１】 紫外線照射を受けた部分はＣ−Ｃ，Ｃ−Ｎ等の結合基が
解離し、その後のラビング処理にてチルト角の低い配向
となる。参考の為、以下の表１に結合基の化学結合エネ
ルギーを示しておく。

【表１】 例えば、波長が２５３．７nmの紫外線は光エネルギーと
して１１３kcal/molを有しており、Ｃ−Ｎ，Ｃ−Ｃの結
合は解離可能である。この様に、照射する紫外線の波長
を適宜選択する事により、解離すべき結合基を決定でき
る。

【００１６】図５は、ラビング方向の一例を模式的に表
わしたものである。図示する様に、上側基板１の内表面
はａ方向にラビングされている。これに対し、下側基板
２の内表面はｂ方向にラビング処理されている。ラビン
グ方向は互いに直交している。このラビング方向は、高
チルト領域と低チルト領域とで液晶分子のチルト方向が
逆になる様に設定されている。この場合、液晶分子のチ
ルト方向は上下一対の基板の何れか大きい方に従って配
向する為、高チルト領域と低チルト領域では液晶分子の
チルト方向が逆になる。この為、液晶分子のチルト方向
で決まる優先視角方位が高チルト領域と低チルト領域で
別々に存在する為、視角の改善に繋がる。

【００１７】図６は液晶表示パネルの等コントラスト曲
線を概略的に示している。（Ａ）は配向分割を行なわな
い場合であり、優先視角方位は１８０°と２７０°の間
に位置する。一方（Ｂ）は本発明に従って配向分割を行
なった液晶表示パネルの等コントラスト曲線を表わして
おり、優先視角方位は１８０°と２７０°の間と０°と
９０°の間に存在する。なお、両グラフ共に、直交軸の
目盛は液晶表示パネルの法線に対する視線の傾斜角を表
わしている。又、直交軸の各端部に付された角度は視線
の方位角を表わしている。

【００１８】図７は本発明にかかる液晶表示パネルの第
二実施例を示す模式的な断面図である。本液晶表示パネ
ルは一対の基板５１，５２を互いに接合した構成を有し
ており、両基板の間隙にネマティック液晶層が介在して
いる。両基板５１，５２共に所定の電極等が形成されて
いる。下側基板５１の内表面に配向膜５３が塗布されて
おり、上側基板５２の内表面にも配向膜５４が塗布され
ている。下側の配向膜５３は液晶分子５５のチルト角を
高め及び低めに制御する二種類の配向層を重ねた積層構
造を有している。上側の配向層５６は選択的に形成され
ている。即ち、低チルト領域Ｌのみに残され、高チルト
領域Ｈからは除去されている。換言すると、上側の配向
層５６は液晶分子５５を低チルト角θ３（０〜３°）に
配向制御する。これに対し、下側の配向層５７は連続的
に形成され高チルト領域Ｈに露出している。換言する
と、この下側配向層５７は液晶分子５５を高チルト角θ
１（３〜１０°）に配向制御可能である。一方上側の配
向膜５４は液晶分子５５を中チルト角θ２（２〜７°）
に維持している。なお、本実施例では先にチルト角の高
い配向層５７を塗布した後、チルト角の低い配向層５６
を選択的に塗布しているが、順序は逆になっても構わな
い。

【００１９】本実施例では、上下一対の基板のチルト角
の違いを利用して、液晶分子５５のチルト方向が異なる
２つの配向状態を実現するものである。図示する様に、
同一表示面内において液晶分子５５のチルト方向が低チ
ルト領域Ｌと高チルト領域Ｈで異なっており、二方向存
在する事になる。従って、液晶分子５５のチルト方向で
決まる優先視角方位も二方向となり、ツイストネマティ
ックモードの液晶表示パネルの視角依存性を少なくする
事ができる。

【００２０】図８を参照して、図７に示した液晶表示パ
ネルの製造方法を具体的に説明する。先ず（Ａ）に示す
様に、予め電極等が集積形成された一対の基板５１，５
２を用意する。次に（Ｂ）に示す様に、下側基板５１の
表面に第一の配向層５７を塗布する。この配向層５７は
ポリイミド系の樹脂等からなり高チルト角θ１を実現で
きる。続いて（Ｃ）に示す様に、第一の配向層５７の上
に、第二の配向層５６を選択的に塗布する。この配向層
５６は同じくポリイミド系の材料からなり、低チルト角
θ３を実現できる。なお、選択的な塗布方法としては印
刷を用いる事ができる。あるいは、感光性の配向層５６
を全面的に被覆した後、フォトリソグラフィ等により選
択的に除去しても良い。続いて（Ｄ）に示す様に、重な
り合った配向層５６，５７を一括してラビングローラ６
１により所定方向にラビング処理する。上側基板５２に
ついては、（Ｅ）に示す様に配向膜５４を塗布する。こ
の配向膜５４もポリイミド系の樹脂等からなり、中チル
ト角θ２を実現できる。続いて（Ｆ）に示す様に、この
配向膜５４をラビングローラ６１で所定方向にラビング
処理する。なお、（Ｄ）及び（Ｆ）で示した上下基板の
ラビング処理は、チルト方向が逆になる様にラビング方
向が設定されている。最後に（Ｇ）に示す様に、上下一
対の基板５１，５２をシール材６２により互いに接合
し、両者の間隙にネマティック液晶６３を注入封止す
る。この後加熱処理を行ない、液晶６３の配向安定化を
図る。この様にして作成された液晶表示パネルの液晶分
子のチルト方向は上下一対の基板５１，５２のチルト角
の大きい方に従って決まる。

【００２１】最後に、図９は図８に示した製造方法を工
程図に表わして理解を容易にしたものである。先ず工程
Ｔ１で上下一対の基板の各々について電極形成等の加工
を行なう。次に工程Ｔ２で下側基板に高チルト角θ１の
配向膜を全面塗布する。続いて工程Ｔ３で、低チルト角
θ３の配向膜を選択的に塗布する。工程Ｔ４でラビング
処理を行なう。又、工程Ｔ５で上側基板の内表面にも中
チルト角θ２の配向膜を塗布する。続いて工程Ｔ６でこ
の配向膜をラビング処理する。次に工程Ｔ７に進み、上
下一対の基板を接合する。工程Ｔ８で接合された両基板
の間隙に液晶を注入封止する。最後に工程Ｔ９で加熱処
理を施し、注入封止された液晶の配向安定化を図る。

【００２２】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、一
方の基板に形成された配向膜は液晶分子のチルト角を高
めに制御する高チルト領域と、液晶分子のチルト角を低
めに制御する低チルト領域とに細分化されており、他方
の基板に形成された配向膜は液晶分子のチルト角を中程
度に維持可能である。かかる構成により、液晶表示パネ
ルの表示面に二方向のチルト状態を混在させる事が可能
になり、視角特性を分割配向により大幅に改善できる。
本発明の一側面によれば、高チルト領域と低チルト領域
を紫外線の選択照射により実現している。これによれ
ば、レジスト等のマスクを必要としない為、レジスト残
渣による液晶特性の劣化が生じない。又、ラビング処理
については高チルト領域と低チルト領域を一括して同一
方向にラビング可能であり、工数を増やす必要がない。
フォトマスクによる紫外線照射のみでチルト角を変化さ
せている為、フォトリソグラフィ等複雑なプロセスは必
要としない。以上、視角依存性の少ない高品質な液晶表
示パネルが低コストにて実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる液晶表示パネルの第一実施例を
示す模式的な断面図である。

【図２】紫外線の選択照射を示す説明図である。

【図３】図１に示した液晶表示パネルの製造方法を示す
フローチャートである。

【図４】特に紫外線の選択照射工程を表わす説明図であ
る。

【図５】上下一対の基板のラビング方向の一例を示す模
式図である。

【図６】液晶表示パネルの等コントラスト曲線を示すグ
ラフである。

【図７】本発明にかかる液晶表示パネルの第二実施例を
示す模式的な断面図である。

【図８】図７に示した液晶表示パネルの製造工程図であ
る。

【図９】同じく図７に示した液晶表示パネルの製造方法
を示すフローチャートである。

【図１０】液晶表示パネルの一般的な動作原理を示す説
明図である。

【符号の説明】

１ 上側基板 ２ 下側基板 ３ ネマティック液晶層 ４ 画素電極 ５ 対向電極 １４ 配向膜 １５ 配向膜 １６ 液晶分子 Ｈ 高チルト領域 Ｌ 低チルト領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 啓文 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 林 久雄 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の間隙を介して対向配置した一対の
   基板と、該間隙に保持された液晶層とを有し、両基板の
   内表面には所定の電極が形成され互いに対向して表示面
   を構成し、各基板の内表面には配向膜が成形され該液晶
   層に含まれる液晶分子と接してこれをチルト状態に維持
   している液晶表示パネルであって、 一方の基板に形成された配向膜は、液晶分子のチルト角
   を高めに制御する高チルト領域と、液晶分子のチルト角
   を低めに制御する低チルト領域とに細分化されており、 他方の基板に形成された配向膜は、液晶分子のチルト角
   を中程度に維持可能であり、 表示面に二方向のチルト状態を混在させた事を特徴とす
   る液晶表示パネル。
2. 【請求項２】 前記一方の基板に形成された配向膜は液
   晶分子のチルト角を高め及び低めに制御する二種類の配
   向層を重ねた積層構造を有し、上側の配向層は選択的に
   形成され高チルト領域又は低チルト領域の一方にのみ残
   し他方から除去されており、下側の配向層は連続的に形
   成され他方のみに露出している事を特徴とする請求項１
   記載の液晶表示パネル。
3. 【請求項３】 前記一方の基板に形成された配向膜は選
   択的な紫外線照射を受けており、照射部位が低チルト領
   域になる一方非照射部位が高チルト領域になる事を特徴
   とする請求項１記載の液晶表示パネル。
4. 【請求項４】 前記一方の基板に形成された配向膜は高
   チルト領域及び低チルト領域共に第一の方向にラビング
   処理を施されており、他方の基板に形成された配向膜は
   第一の方向に直交する第二の方向にラビング処理を施さ
   れている事を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネ
   ル。