JPH08146221A

JPH08146221A - 光学補償シート及びその製造方法並びに液晶表示装置

Info

Publication number: JPH08146221A
Application number: JP7212872A
Authority: JP
Inventors: Yoji Ito; 洋士伊藤
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1994-09-21
Filing date: 1995-07-28
Publication date: 1996-06-07

Abstract

(57)【要約】【目的】容易に製造することができそして視野角が拡
大しかつ耐久性に優れた光学補償シート及びその製造方
法並びに液晶表示装置を提供する。【構成】透明支持体及びその上に光学異方層が設けら
れてなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が、重
合性円盤状化合物の重合により形成された架橋ポリマー
からなり、かつその表面の引掻き強度が、２０ｇ以上で
あることを特徴とする光学補償シート；及び透明支持体
上に、重合性円盤状化合物と、波長３６０〜４５０ｎｍ
ｎの範囲におけるモル吸光係数の最大値が１００以上の
光重合開始剤とを含む層を形成し、該重合性円盤状化合
物を配向させた後、光照射することにより重合性円盤状
化合物を重合させて重合性円盤状化合物の架橋ポリマー
からなる光学異方層を形成することを特徴とする光学補
償シートの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置及びカラ
ーの液晶表示装置に利用することができる光学補償シー
ト及びその製造方法並びに液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】デスクトップ型パーソナルコンピュータ
ーおよびワードプロセッサー等のＯＡ機器の表示装置と
しては、ＣＲＴ（cathode ray tube）がこれまで主に使
用されてきた。最近、液晶表示装置（以下ＬＣＤと称
す）が、薄型で、軽量、また消費電力が小さいことから
ＣＲＴの代わりに広く使用されている。ＬＣＤは、一般
に液晶セルとその両側に設けられた一対の偏光板からな
る。このようなＬＣＤの多くはねじれネマチック液晶が
用いられている。

【０００３】ＬＣＤの表示方式は大きく複屈折モードと
旋光モードに分けることができる。複屈折モードを利用
する超ねじれ（スーパーツィスティッド）ネマチック液
晶表示装置（以下ＳＴＮ−ＬＣＤと称す）は、９０度を
超えるねじれ角及び急峻な電気光学特性を有するスーパ
ーツィスティッドネマチック液晶を用いている。このた
め、このようなＳＴＮ−ＬＣＤは、時分割駆動による大
容量の表示が可能である。しかしながら、ＳＴＮ−ＬＣ
Ｄは、応答速度が遅い（数百ミリ秒）、階調表示が困難
との問題があることから、能動素子を使用した液晶表示
装置（例、ＴＦＴ−ＬＣＤ及びＭＩＭ−ＬＣＤ）の表示
特性に比べて劣っている。ＴＦＴ−ＬＣＤ及びＭＩＭ−
ＬＣＤにおいては、９０度のねじれ角および正の複屈折
を有するねじれネマティック液晶が、画像を表示するた
めに使用されている。ＴＮ−ＬＣＤの表示モードでは、
高速応答性（数十ミリ秒）及び高いコントラストが得ら
れる。従って、旋光モードは、複屈折モードや他のモー
ドに比べて多くの点で有利である。しかしながら、ＴＮ
−ＬＣＤは、表示色や表示コントラストが液晶表示装置
を見る時の角度によって変化するため（視野角特性）、
その表示特性はＣＲＴのレベルには至っていない。

【０００４】上記視野角特性を改善するため（即ち、視
野角の拡大）、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差
板（光学補償シート）を設けるとの提案が、特開平４−
２２９８２８号公報及び特開平４−２５８９２３号公報
に記載されている。上記公報で提案されている位相差板
は、液晶セルに対して垂直方向の位相差はほぼ０である
ため真正面からは何ら光学的作用を与えないが、傾けた
時に位相差が発現し、これで液晶セルで発生する位相差
を補償するものである。この位相差が、表示画像の着色
や消失等の好ましくない視野角特性をもたらしている。
このような光学補償シートとしては、ネマチック液晶の
正の複屈折を補償するように負の複屈折を有し、かつ光
軸が傾いているシートが有効である。

【０００５】特開平６−７５１１５号公報及びＥＰ０５
７６３０４Ａ１には、負の複屈折を有し、かつ光軸が傾
いてい光学補償シートが開示されている。即ち、上記シ
ートは、ポリカーボネートやポリエステル等のポリマー
を延伸することにより製造され、そしてシートの法線か
ら傾いた主屈折率の方向を持つ。延伸処理により上記シ
ートを製造するには、極めて複雑な延伸処理が必要とさ
れるため、大面積の光学補償シートを開示されている方
法で製造することは極めて困難である。

【０００６】一方、液晶性ポリマーを用いたも知られて
いる。例えば、特開平３−９３２６号公報及び特開平３
−２９１６０１号公報には、液晶性を有するポリマーを
支持フィルム上の配向膜表面に塗布することにより得ら
れる光学補償シートが開示されている。しかしながら、
液晶性を有するポリマーは、配向させるために高温で長
時間の熟成が必要なため、生産性が極めて低く、大量生
産に向いていない。また特開平５−２１５９２１号公報
には、支持体と液晶性及び正の複屈折を有する重合性棒
状化合物からなる光学補償シート（複屈折板）が開示さ
れている。この光学補償シートは、重合性棒状化合物の
溶液を支持体に塗布、加熱硬化することにより得られ
る。しかしながら、この液晶性を有するポリマーは、光
学的に正の一軸性であるため、全方向視野角をほとんど
拡大することができない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、容易
に製造することができかつ視野角が拡大した光学補償シ
ートを提供することにある。また、本発明の目的は、容
易に製造することができ、そして耐熱性等の耐久性に優
れた光学補償シートを提供することにある。さらに、本
発明の目的は、耐久性に優れた光学補償シートを容易に
製造することができる光学補償シートの製造方法を提供
することにある。また、本発明の目的は、視野角が拡大
し、そして視角変化による、コントラスト低下、階調ま
たは黒白反転、および色相変化等がほとんど発生するこ
とのなく、更に耐久性に優れた光学補償シートを有する
液晶表示装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、透明支持体及
びその上に光学異方層が設けられてなる光学補償シート
において、該光学異方層が、重合性円盤状化合物の重合
により形成された架橋ポリマーからなり、且つその表面
の引掻き強度が、２０ｇ以上であることを特徴とする光
学補償シートにある。尚、上記引掻き強度は、円すい頂
角が９０度で、先端の直径が０．２５ｍｍのサファイア
針を用いて光学異方層の表面を引掻き、引掻き跡が目視
で認められた時の加重（ｇ）を意味する。

【０００９】上記光学補償シートの好ましい態様は下記
のとおりである。１）重合性円盤状化合物が、下記一般式（Ｉ）：（Ｉ）（Ｒ）_n Ｄ（Ｌ−Ｐ）_k （但し、Ｄは、トリフェニレン環、トルキセン環、イノ
シトール環、アザクラウン環、トリチアトルキセン環、
トリオキサトルキセン環、ヘキサエチレン置換ベンゼン
環、コロネン環、ジベンゾピレン環、フタロシアニン環
又はフェニルアセチレンのマクロサイクル環を表わし、
Ｒは非反応性基を表わし、Ｐは各々独立に、アクリロイ
ル基、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、プロパ
ギル基、メタクリロイル基、アセチレニル基又はアレニ
ル基を表わし、Ｌは各々独立に、ＰとＤを連結する二価
の基もしくは化学結合を表わし、そしてｎ＋ｋ≦８の条
件下で、ｎが０〜７の整数を表わし、ｋが１〜８の整数
を表わす。）で表わされる。Ｄは、トリフェニレン環ま
たはトルキセン環であることが好ましく、Ｐはアクリロ
イル基、ビニルオキシ基またはエポキシ基であることが
好ましく、Ｌはアルキレンオキシ基であることが好まし
い。またｋは８、ｎは０であることが好ましい。

【００１０】２）透明支持体と光学異方層との間に、配
向膜が形成されている。３）光学補償シートが、光学補償シートの法線方向から
傾いた方向に、レターデーションの絶対値の最小値を有
する。４）光学補償シートが、光学補償シートの法線方向から
５〜５０度傾いた方向に、レターデーションの絶対値の
最小値を有し、光軸を持たない。５）重合性円盤状化合物の重合が、波長３６０〜４５０
ｎｍの範囲におけるモル吸光係数の最大値が１００以上
の光重合開始剤の存在下に行なわれる。６）該光学補償シートの波長４２０ｎｍにおける吸光度
が、０．２０以下（好ましくは０．１０以下）である。７）透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、かつ該
透明支持体面の法線方向に光軸を有し、さらに下記の条
件：２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦４００（但し、ｎｘ及びｎｙは支持体の面内の主屈折率を表わ
し、ｎｚは厚み方向の主屈折率を表わし、ｄは、支持体
の厚さを表わし、そして上記式の単位はｎｍである）８）該配向膜が、ラビング処理されたポリマー層であ
る。

【００１１】上記光学補償シートは、透明支持体上に、
重合性円盤状化合物と、波長３６０〜４５０ｎｍｎの範
囲におけるモル吸光係数の最大値が１００以上の光重合
開始剤とを含む層を形成し、該重合性円盤状化合物を配
向させた後、波長３００〜４００ｎｍの範囲における光
の照射エネルギー１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ² となる
ように光照射することにより重合性円盤状化合物を重合
させて円盤状化合物の配向状態を固定化することにより
透明支持体上に重合性円盤状化合物の架橋ポリマーから
なる光学異方層を形成することを特徴とする光学補償シ
ートの製造方法により有利に得ることができる。

【００１２】上記光学補償シートの製造方法の好ましい
態様は下記のとおりである。１）円盤状化合物が、下記一般式（Ｉ）：（Ｉ）（Ｒ）_n Ｄ（Ｌ−Ｐ）_k （但し、Ｄは、トリフェニレン環、トルキセン環、イノ
シトール環、アザクラウン環、トリチアトルキセン環、
トリオキサトルキセン環、ヘキサエチレン置換ベンゼン
環、コロネン環、ジベンゾピレン環、フタロシアニン環
又はフェニルアセチレンのマクロサイクル環を表わし、
Ｒは非反応性基を表わし、Ｐは各々独立に、アクリロイ
ル基、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、プロパ
ギル基、メタクリロイル基、アセチレニル基又はアレニ
ル基を表わし、Ｌは各々独立に、ＰとＤを連結する二価
の基もしくは化学結合を表わし、そしてｎ＋ｋ≦８の条
件下で、ｎが０〜７の整数を表わし、ｋが１〜８の整数
を表わす。）で表わされる。Ｄは、トリフェニレン環ま
たはトルキセン環であることが好ましく、Ｐはアクリロ
イル基、ビニルオキシ基またはエポキシ基であることが
好ましく、Ｌはアルキレンオキシ基であることが好まし
く、そしてｋは８、ｎは０であることが好ましい。

【００１３】２）透明支持体に配向膜を形成したのち、
配向膜上に上記光学異方層を形成する。３）該光照射が、０．０１〜６０秒間（好ましくは０．
０５〜３０秒間）行なわれる。４）該光照射が、５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ² （好まし
くは１００〜１０００ｍＷ／ｃｍ² ）の照度で行なわれ
る。５）該光照射エネルギーが、１００〜１２００ｍＪ／ｃ
ｍ² （１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ² ）の範囲にある。６）透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、かつ該
透明支持体面の法線方向に光軸を有し、さらに下記の条
件：２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦４００（但し、ｎｘ及びｎｙは支持体の面内の主屈折率を表わ
し、ｎｚは厚み方向の主屈折率を表わし、ｄは、支持体
の厚さを表わし、そして上記式の単位はｎｍである）７）上記２）において、配向膜がラビング処理されたポ
リマー層である。

【００１４】また本発明は、一対の透明電極付きの基板
と、その基板間に封入されたねじれ配向したネマチック
液晶とからなる液晶セル、液晶セルの両側に設けられた
一対の配向板、及び液晶セルと配向板との間に設けられ
た光学補償シートからなる液晶表示装置において、該光
学補償シートが、透明支持体及びその上に重合性円盤状
化合物の重合により形成された架橋ポリマーからなり且
つその表面の引掻き強度が２０ｇ以上である光学異方層
が設けられてなるシートであることを特徴とする液晶表
示装置似もある。

【００１５】本発明の光学補償シートは、透明支持体、
及びその上に設けられた重合性円盤状化合物の重合によ
り形成された架橋ポリマーからなる基本構成を有する。
一般に、透明支持体と光学異方層との間には、円盤状化
合物の配向を付与するために配向膜が形成される。円盤
状化合物（ディスコティック化合物）は、一般に、ディ
スコティック液晶相（即ち、ディスコティックネマチッ
ク相）を有する化合物とディスコティック液晶相を持た
ない化合物に大別することができる。円盤状化合物は一
般に負の複屈折を有し、本発明の光学異方層は、ディス
コティック化合物のこの負の複屈折性を利用し、さらに
このような光学異方層の表面の引掻き強度を２０ｇ以上
となるように主に円盤状化合物の架橋ポリマーの架橋密
度を向上させ、さらには光照射による黄変の程度の減少
させた（４２０ｎｍの吸光度が低い）ものである。

【００１６】本発明の光学補償シートは、透明支持体、
その上に設けられた配向膜及び配向膜上に形成された円
盤状構造単位を有する架橋ポリマーの光学異方層からな
る基本構成を有する。本発明の透明支持体の材料として
は、透明である限りどのような材料でも使用することが
できる。光透過率が８０％以上を有する材料が好まし
く、特に正面から見た時に光学的等方性を有するものが
好ましい。従って、透明支持体は、小さい固有複屈折を
有する材料から製造することが好ましい。このような材
料としては、ゼオネックス（日本ゼオン（株）製）、Ａ
ＲＴＯＮ（日本合成ゴム（株）製）及びフジタック（富
士写真フイルム（株）製）などの市販品を使用すること
ができる。さらに、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリスルフォン及びポリエーテルスルホンなどの固
有複屈折率の大きい素材であっても、溶液流延、溶融押
し出し等の条件、さらには縦、横方向に延伸状検討を適
宜設定することにより、得ることができる。

【００１７】透明支持体（フィルム）面内の主屈折率を
ｎｘ、ｎｙ、厚み方向の主屈折率をｎｚ、フイルムの厚
さをｄとしたとき、三軸の主屈折率の関係がｎｚ＜ｎｙ
＝ｎｘ（負の一軸性）を満足し、式｛（ｎｘ＋ｎｙ）／
２−ｎｚ｝×ｄで表されるレタデーションが、２０ｎｍ
から４００ｎｍ（好ましくは３０〜１５０ｎｍ）である
ことが好ましい。但し、ｎｘとｎｙの値は厳密に等しい
必要はなく、ほぼ等しければ充分である。具体的には、
｜ｎｘ−ｎｙ｜／｜ｎｘ−ｎｚ｜≦０．３であれば実用
上問題はない。｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄで表される正面レタ
ーデーションは、５０ｎｍ以下であることが好ましく、
２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。上記のｎ
ｘ、ｎｙ、ｎｚ及びｄの関係を図１に示す。

【００１８】下塗層を、透明支持体上に、透明支持体と
配向膜との接着強度を増大させるためいに設けることが
好ましい。一般にゼラチンが使用される。

【００１９】配向膜は、一般に透明支持体上又は上記下
塗層上に設けられる。配向膜は、その上に設けられる液
晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するよう
に機能する。そしてこの配向が、光学補償シートから傾
いた光軸を与える。配向膜は、光学異方層に配向性を付
与できるものであれば、どのような層でも良い。配向膜
の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマ
ー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着
層、及びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリ
コサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライ
ド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェ
ット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電
場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙
げることができる。

【００２０】配向膜用の有機化合物の例としては、ポリ
メチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重
合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニル
アルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、
スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共
重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、
ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及び
シランカップリング剤等の化合物を挙げることができ
る。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリ
スチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリ
ビルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６以上が好
ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙
げることができる。これらのポリマーの層を配向処理す
ることにより得られる配向膜は、液晶性ディスコティッ
ク化合物を斜めに配向させることができる。

【００２１】中でもアルキル変性のポリビニルアルコー
ルは特に好ましく、液晶性ディスコティック化合物を均
一に配向させる能力に優れている。これは配向膜表面の
アルキル鎖とディスコティック液晶のアルキル側鎖との
強い相互作用のためと推察される。また、アルキル基
は、炭素原子数６〜１４が好ましく、更に、−Ｓ−、-
(CH₃)C(CN)-または-(C₂H₅)N-CS-S-を介してポリビニル
アルコールに結合していることが好ましい。上記アルキ
ル変性ポリビニルアルコールは、未端にアルキル基を有
するものであり、けん化度８０％以上、重合度２００以
上が好ましい。また、上記側鎖にアルキル基を有するポ
リビニルアルコールは、クラレ（株）製のＭＰ１０３、
ＭＰ２０３、Ｒ１１３０などの市販品を利用することが
できる。

【００２２】また、ＬＣＤの配向膜として広く用いられ
ているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイ
ミド）も有機配向膜として好ましい。これはポリアミッ
ク酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリー
ズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に
塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した
後、ラビングすることにより得られる。

【００２３】また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶
配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用
することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガー
ゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊
維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方
法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが
均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度
ラビングを行うことにより実施される。あるいは、この
ようなラビング処理の代わりに、例えばポリビニルアル
コールの薄膜を４〜５倍に延伸する方法、あるいはガラ
ス板を直接ラビングする方法も利用することができる。

【００２４】また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質として
は、ＳｉＯを代表とし、ＴｉＯ₂ 、ＺｎＯ₂ 等の金属酸
化物、あるいやＭｇＦ₂ 等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａ
ｌ、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電
率のものであれば斜方蒸着物質として用いることがで
き、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜
は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム
（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィル
ムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸
着膜を形成することができる。

【００２５】光学異方層を配向膜を使用せずに配向させ
る方法として、支持体上の光学異方層をディスコティッ
ク液晶層を形成し得る温度に加熱しながら、電場あるい
は磁場を付与する方法を挙げることができる。

【００２６】本発明の光学異方層は、透明支持体または
配向膜上に形成される。本発明の光学異方層は、重合性
の液晶性円盤状化合物の重合（硬化）により得られる負
の複屈折を有するポリマー層であり、且つその表面の引
掻き強度として２０ｇ以上有する。上記の重合性円盤状
（ディスクティック）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓ
ｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１
巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン
誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．
Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈ
ｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９
０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎ
ｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０
頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及
びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏ
ｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎ
ｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６
巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザク
ラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを
挙げることができる。上記円盤状化合物は、一般的にこ
れらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコ
キシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放
射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的
にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。た
だし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与
できるものであれば上記記載に限定されるものではな
い。

【００２７】本発明で使用することができる円盤状化合
物は、下記の一般式（Ｉ）で表わされる化合物が好まし
い。（Ｉ）（Ｒ）_n Ｄ（Ｌ−Ｐ）_k （但し、Ｄは、トリフェニレン環、トルキセン環、イノ
シトール環、アザクラウン環、トリチアトルキセン環、
トリオキサトルキセン環、ヘキサエチレン置換ベンゼン
環、コロネン環、ジベンゾピレン環、フタロシアニン環
又はフェニルアセチレンのマクロサイクル環を表わし、
Ｒは非反応性基を表わし、Ｐは各々独立に、アクリロイ
ル基、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、プロパ
ギル基、メタクリロイル基、アセチレニル基又はアレニ
ル基を表わし、Ｌは各々独立に、ＰとＤを連結する二価
の基もしくは化学結合を表わし、そしてｎ＋ｋ≦８の条
件下で、ｎが０〜７の整数を表わし、ｋが１〜８の整数
を表わす。）で表わされる。

【００２８】Ｄの例としては、トリフェニレン環、トル
キセン環、イノシトール環、アザクラウン環、及びフェ
ニルアセチレンのマクロサイクル環が好ましく、更にト
リフェニレン環またはトルキセン環が好ましい。Ｐの例
としては、アクリロイル基、ビニルオキシ基、エポキシ
基及びメタクリロイル基が好ましく、特にアクリロイル
基及びビニルオキシ基が好ましい。

【００２９】Ｌは、ＰとＤを連結する基あるいは化学結
合を表わす。Ｌの例としては、アルキレン基（例、エチ
レン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレ
ン、ヘプチレン、オクチレン及びノニレン）、アルキレ
ンオキシ基（例、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、
ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、ヘキシレンオキ
シ、ヘプチレンオキシ、オクチレンオキシ及びノニレン
オキシ）、及びフェニレン基の一方にカルボニル基を有
する基（例、１−オキソノニレン）を挙げることができ
る。アルキレンオキシ基が好ましく、特にエチレンオキ
シ基及びヘキシレンオキシ基が好ましい。あるいは、隣
接するＬが互いに連結して環を形成し、さらに放射状に
１乃至２本の側鎖が置換されて、その末端にＰが置換し
た構造でもよい。ｎおよびｋについては、前記のように
ｎ＋ｋ≦８の条件下で、ｎが０〜７の整数を表わし、ｋ
が１〜８の整数を表わす。ｎは０〜６の整数が好まし
く、ｋは２から８の整数が好ましい。特に、ｋが６でｎ
が０が好ましい。本発明の光学補償シートは、前述のよ
うに、透明支持体上に上記本発明の配向膜を設け、次い
で配向膜上に光学異方層を形成することにより作製され
る。

【００３０】以下に、一般式（Ｉ）で表わされる円盤状
化合物の特に好ましい化合物は下記の一般式（II）(II
I) 及び(IV)で表わされる。

【００３１】

【化１】

【００３２】（但し、Ｒ¹⁰は、下記の基：

【００３３】

【化２】（Ｒ¹¹及びＲ¹²のそれぞれは、水素原子またはメチル基
を表わし、そしてＲ¹³は炭素原子数１〜１２のアルコキ
シ基または下記の基：

【００３４】

【化３】（但し、ｍ１は０または１を表わし、Ｒ¹⁷は炭素原子数
１〜６のアルキレンオキシ基を表わし、ｊ１は０〜４の
整数を表わし、Ｒ¹⁸は炭素原子数１〜１２のアルキレン
基を表わし、ｇ１は０〜４の整数を表わし、ｈ１は０ま
たは１を表わし、そしてＲ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶のそれぞれ
は水素原子又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表わ
す）を表わす）を表わす。）

【００３５】

【化４】

【００３６】（但し、Ｒ²⁰は、下記の基：

【００３７】

【化５】（Ｒ²¹及びＲ²²のそれぞれは、水素原子またはメチル基
を表わし、そしてＲ²³は炭素原子数１〜１２のアルコキ
シ基または下記の基：

【００３８】

【化６】（但し、ｍ２は０または１を表わし、Ｒ²⁷は炭素原子数
１〜６のアルキレンオキシ基を表わし、ｊ２は０〜４の
整数を表わし、Ｒ²⁸は炭素原子数１〜１２のアルキレン
基を表わし、ｇ２は０〜４の整数を表わし、そして
Ｒ²⁴、Ｒ²⁵及びＲ²⁶のそれぞれは水素原子又は炭素原子
数１〜１２のアルキル基を表わす）を表わす）を表わ
す。）

【００３９】

【化７】

【００４０】（但し、Ｒ³⁰は、下記の基：

【００４１】

【化８】（Ｒ³¹及びＲ³²のそれぞれは、水素原子またはメチル基
を表わし、そしてＲ³³は炭素原子数１〜１２のアルコキ
シ基または下記の基：

【００４２】

【化９】（但し、ｍ３は０または１を表わし、Ｒ³⁷は炭素原子数
１〜６のアルキレンオキシ基を表わし、ｊ３は０〜４の
整数を表わし、Ｒ³⁸は炭素原子数１〜１２のアルキレン
基を表わし、ｇ３は０〜４の整数を表わし、ｈ１は０ま
たは１を表わし、そしてＲ³⁴、Ｒ³⁵及びＲ³⁶のそれぞれ
は水素原子又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表わ
す）を表わす）を表わす。）

【００４３】上記一般式（II）のＲ¹⁰の例を下記に示
す。

【００４４】

【化１０】

【００４５】

【化１１】

【００４６】

【化１２】

【００４７】

【化１３】

【００４８】

【化１４】

【００４９】

【化１５】

【００５０】

【化１６】

【００５１】

【化１７】

【００５２】上記一般式（III)のＲ²⁰の例を下記に示
す。

【００５３】

【化１８】

【００５４】

【化１９】

【００５５】

【化２０】

【００５６】

【化２１】

【００５７】上記一般式（IV) のＲ³⁰の例を下記に示
す。

【００５８】

【化２２】

【００５９】

【化２３】

【００６０】

【化２４】

【００６１】

【化２５】

【００６２】本発明の光学異方層は、引掻き強度として
２０ｇ以上を有する架橋密度の高い層である。このよう
な層は、一般に、前記重合性円盤状化合物と光重合開始
剤を適宜組み合わせることにより得ることができる。本
発明における光重合開始剤としては、光源である高圧水
銀ランプやメタルハライドランプなどの近赤外線を強く
吸収できるものが好ましく、３６０〜４５０ｎｍの光に
対するモル吸光係数の最大値が１００以上、更には５０
０以上のものが好ましい。このような光重合開始剤とし
て下記のものを挙げることができる。

【００６３】

【化２６】 ε(max) ＝200

【００６４】

【化２７】 ε(max) ＝1100

【００６５】

【化２８】 ε(max) ＝21000

【００６６】

【化２９】 ε(max) ＝17500

【００６７】

【化３０】 ε(max) ＝3070

【００６８】上記光重合開始剤と、共に使用される増感
剤して下記のものを挙げることができる。

【００６９】

【化３１】

【００７０】

【化３２】

【００７１】

【化３３】

【００７２】

【化３４】

【００７３】即ち、本発明において好ましく使用される
ベンゾイルオキシトリフェニレン環化合物（重合性円盤
状化合物）の場合は、一般的に２７０ｎｍ付近にλｍａ
ｘを有し、吸収端は３５０ｎｍ付近まで及び、またその
モル吸光係数も大きいため、２５４ｎｍなどの短波の紫
外線は有効には用いられない。従って、上記光重合開始
剤の使用が有効である。これらは、一般にビニル基、ア
クリロイル基。メタクリロイル基を有する円盤状化合物
の光重合に使用される。また、酸素による重合阻害を抑
制するために、窒素雰囲気下で光照射することも効果的
である場合が多い。

【００７４】また上記光重合開始剤を、２種以上併用す
ることにより（例えば上記ＰＩ−１とＰＩ−５）重合速
度等の重合効率を上げることができる。さらに上記光重
合開始剤と併用することができる他の光重合開始剤とし
ては、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイ
ン類、チオキサントン類等を挙げることができる。これ
らの詳細については「紫外線硬化システム」（総合技術
センター、６３〜１４７頁、１９８９年）等に記載され
ている。またエポキシ基を有する円盤状化合物の重合に
は、紫外線活性化カチオン触媒として、アリルジアゾニ
ウム塩（ヘキサフルオロフォスフェート、テトラフルオ
ロボラート）、ジアリルヨードニウム塩、ｖｌａ族アリ
ロニウム塩（ＰＦ₆ 、ＡｓＦ₆ 、ＳｂＦ₆ のようなアニ
オンをもつアリルスルホニウム塩）が一般に用いられ
る。

【００７５】また、本発明では、前述した光源の照射エ
ネルギーは、充分な架橋反応を引き起こすために１００
ｍＪ／ｃｍ² 以上が好ましく、光学補償シートの黄変を
防ぐために、２０００ｍＪ／ｃｍ² 以下、更には１００
０ｍＪ／ｃｍ² 以下が好ましい。従って、光源の照射エ
ネルギー１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ² が一般的で、１
００〜１２００ｍＪ／ｃｍ² が好ましく、特に１００〜
１０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましい。照度は５０〜１００
０ｍＷ／ｃｍ² が一般的であり、１００〜１０００ｍＷ
／ｃｍ² が好ましい。また照射時間は、０．０１〜６０
秒間が一般的で、０．０５〜３０秒間が好ましい。特
に、黄変に関しては、１００ｍＷ／ｃｍ²以上の高照度
で短時間露光（好ましくは１０秒以下の露光）が好まし
い。上記光重合開始剤を使用することにより、高照度で
短時間露光で高架橋密度のポリマーからなる光学異方層
を得ることができる。このようにして得られる光学補償
シートは、黄変の程度も極めて小さいものである。即
ち、上記光重合開始剤を用いて高照度で短時間露光によ
り形成された光学異方層を有する光学補償シートは、一
般に波長４２０ｎｍにおける吸光度として、０．２０以
下（０．０１以上）を有し、好ましくは０．１０以下、
特に０．０８以下を有する。

【００７６】また光重合用の光線としては、電子線、紫
外線、可視光線、赤外線（熱線）を必要に応じて用いる
ことができるが、一般的には、紫外線が好ましい。紫外
線の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光
ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ
（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）及びショー
トアク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンラン
プ、水銀キセノンランプ）を挙げることができる。

【００７７】本発明の光学異方層は、上記材料を用い
て、上記光照射条件にて形成される。即ち、一般的な塗
布法により透明支持体上（または支持体上に設けられた
配向膜上）に、重合性円盤状化合物と光重合開始剤から
なる薄膜を形成し、乾燥後、液晶相形成温度範囲内の温
度で、ディスコティックネマテイック相または一軸性の
柱状相を形成させつつ一定時間熱処理し、そのまま続い
て上記光源を用いて上記照射エネルギーの範囲で、光重
合（架橋）させた後、冷却することによって、本発明の
優れた光学特性と耐熱性を有する光学補償シートを得る
ことができる。

【００７８】光学異方層を形成するための塗布液は、重
合性円盤状化合物及び前述の光重合開始剤等の化合物を
溶剤に溶解することにより作製することができる。上記
溶剤の例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）、ジメチルスルフォキシド（ＤＭＳＯ）及びピリ
ジン等の極性溶剤；ベンゼン及びヘキサン等の無極性溶
剤；クロロホルム及びジクロロメタン等のアルキルハラ
イド類；酢酸メチル及び酢酸ブチル等のエステル類；ア
セトン及びメチルエチルケトン等のケトン類；及びテト
ラヒドロフラン及び１，２−ジメトキシエタン等のエー
テル類を挙げることができる。アルキルハライド類及び
ケトン類が好ましい。溶剤は単独でも、組合わせて使用
しても良い。

【００７９】上記塗布液の塗布方法としては、カーテン
コーティング、押出コーティング、ロールコーティン
グ、ディップコーティング、スピンコーティング、印刷
コーティング、スプレーコーティング及びスライドコー
ティングを挙げることができる。本発明では、ディスコ
ティック化合物のみの混合物の場合は蒸着法も使用する
ことができる。本発明では、連続塗布が好ましい。従っ
てカーテンコーティング、押出コーティング、ロールコ
ーティング及びスライドコーティングが好ましい。上記
光学異方層は、前述したように、上記塗布液を配向膜上
に塗布し、乾燥し、次いでガラス転移温度以上に加熱
し、その後光照射により硬化させ、冷却することにより
得られる。

【００８０】上記光学異方層の上には、保護層を設けて
も良い。保護層の材料としては、ポリメチルメタクリレ
ート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／
無水マレイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ
（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニル
トルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニ
トロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィ
ン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニ
ル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、ポリエチ
レン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマ
ーを挙げることができる。

【００８１】本発明の光学補償シートは、一般に光学補
償シートの法線方向から傾いた方向に、レターデーショ
ンの絶対値の最小値を有する（この方向は最小値が０の
場合光軸に当たる）。また光軸を持たないことが好まし
い。本発明の光学異方層を含む光学補償シートの代表的
な構成例を図２に示す。図２において、透明支持体２
１、配向膜２２そしてディスコティック化合物の層（光
学異方層）２３が、順に積層され、光学補償シートを構
成している。Ｒは配向膜のラビング方向を示す。ｎ₁ ｎ
₂ 及びｎ₃ は、光学補償シートの三軸方向の屈折率を表
わし、正面から見た場合にｎ₁ ≦ｎ₃ ≦ｎ₂ の関係を満
足する。βは、Ｒｅ（レターデーション）の最小値を示
す方向の光学異方層の法線２４からの傾きである。ＴＮ
−ＬＣＤ及びＴＦＴ−ＬＣＤの視野角特性を改善するた
めに、Ｒｅの絶対値の最小値を示す方向が、光学異方層
の法線４４から５〜５０度（傾きの平均値）傾いている
ことが好ましく、更に１０〜４０度が好ましい（上記
β）。更に、上記シートは、下記の条件：５０≦［（ｎ₃ ＋ｎ₂ ）／２−ｎ₁ ］×Ｄ≦４００（ｎ
ｍ）（但し、Ｄはシートの厚さ）を満足することが好まし
く、更に下記の条件：１００≦［（ｎ₃ ＋ｎ₂ ）／２−ｎ₁ ］×Ｄ≦４００
（ｎｍ）を満足することが好ましい。

【００８２】本発明の光学補償シートは、液晶表示装置
において、液晶セルによる複屈折を補償するものである
から、光学異方素子の波長分散は、液晶セルと等しいこ
とが好ましい。すなわち、光学異方素子の４５０、５５
０μｍの光によるレタデーションをそれぞれＲ₄₅₀ 、Ｒ
₅₅₀ とすれば、波長分散を表すＲ₄₅₀ ／Ｒ₅₅₀ 値は、
１．０以上であることが好ましい。

【００８３】本発明の光学補償シートを用いた液晶表示
装置の代表的構成例を図３に示す。図３において、透明
電極を備えた一対の基板とその基板間に封入されたねじ
れ配向したネマチック液晶とからなる液晶セルＴＮＣ、
液晶セルの両側に設けられた一対の偏光板Ａ、Ｂ、液晶
セルと偏光板との間に配置された光学補償シートＲＦ
₁ 、ＲＦ₂ 及びバックライトＢＬが、組み合わされて液
晶表示装置を構成している。光学補償シートは一方のみ
配置しても良い（即ち、ＲＦ₁ またはＲＦ₂ ）。Ｒ₁ は
光学補償シートＲＦ₁ の、正面から見た場合のラビング
方向を示し、Ｒ₂は光学補償シートＲＦ₂ のラビング方
向を示す。液晶セルＴＮＣの実線の矢印は、液晶セルの
偏光板Ｂ側の基板のラビング方向を表わし、液晶セルＴ
ＮＣの点線の矢印は、液晶セルの偏光板Ａ側の基板のラ
ビング方向を表わす。ＰＡ及びＰＢは、それぞれ偏光板
Ａ、Ｂの偏光軸を表わす。

【００８４】本発明の光学補償シートを用いたカラー液
晶表示装置の代表的構成例を図４に示す。図４におい
て、対向透明電極１２２とカラーフィルタ１２５を備え
たガラス基板１２４ａ、画素電極１２３とＴＦＴ１２６
を備えたガラス基板１２４ｂ、この２枚の基板間に封入
されたねじれ配向したネマチック液晶１２１とからなる
液晶セル、液晶セルの両側に設けられた一対の偏光板１
２８ａ、１２８ｂ、及び液晶セルと偏光板との間に配置
された一対の光学補償シート１２７ａ、１２７ｂが、組
み合わせられてカラー液晶表示装置を構成している。光
学補償シートは一方のみ配置しても良い（即ち、１２７
ａまたは１２７ｂ）。

【００８５】

【実施例】

［実施例１］ゼラチン薄膜（０．１μｍ）を塗設した８
５μｍ厚さを有するトリアセチルセルロースのフィルム
（富士写真フイルム（株）製）上に下記の構造を有する
直鎖アルキル変性ポリビニルアルコール（ＭＰ２０３；
クラレ（株）製）を含む塗布液を塗布し、４０℃温風に
て乾燥させた後、ラビング処理を行い、配向膜を形成し
た。この配向膜上に、前述した液晶性ディスコティック
化合物ＴＰ−２８（前記化合物例番号）１８重量部、ト
リプロピレングリコールジアクリレート（ＳＲ３０６；
ソマール（株）製）２重量部、セルロースアセテートブ
チレート（ＣＡＢ５３１−１；イーストマンケミカル社
製）０．５重量部及び光重合開始剤ＰＩ−１（前記光重
合開始剤番号）０．５重量部を、７９重量部のメチルエ
チルケトンに溶解して得られた塗布液を、ワイヤーバー
で塗布（＃３バー）した。この塗布層を１４５℃まで加
熱し、５分後（デイスコティック化合物を配向させた
後）、１４５℃のまま紫外線照射装置（アイグラフィッ
ク社製）を用いて、照度１００ｍＷ／ｃｍ² で１０秒間
紫外線（ＵＶ）照射し、室温まで放冷して、厚さ１．８
μｍの円盤状化合物が硬化した架橋ポリマーの層（光学
異方層）を有する本発明の光学補償シート（ＲＦ−１）
を作製した。

【００８６】［実施例２］実施例１において、ＵＶ照射
を照度１００ｍＷ／ｃｍ² で３０秒間行なった以外は実
施例１と同様にしてように本発明の光学補償シート（Ｒ
Ｆ−２）を作製した。

【００８７】［実施例３］実施例１において、光重合開
始剤としてＰＩ−１の代わりにＰＩ−２（前記光重合開
始剤番号）を同量用い、ＵＶ照射を照度４００ｍＷ／ｃ
ｍ² で０．５秒間行なった以外は実施例１と同様にして
ように本発明の光学補償シート（ＲＦ−３）を作製し
た。

【００８８】［実施例４］実施例１において、光重合開
始剤としてＰＩ−１の代わりにＰＩ−２（前記光重合開
始剤番号）を同量用い、ＵＶ照射を照度４００ｍＷ／ｃ
ｍ² で７秒間行なった以外は実施例１と同様にしてよう
に本発明の光学補償シート（ＲＦ−４）を作製した。

【００８９】［実施例５］実施例１において、光重合開
始剤としてＰＩ−１の代わりにＰＩ−３（前記光重合開
始剤番号）を同量用い、ＵＶ照射を照度２００ｍＷ／ｃ
ｍ² で１秒間行なった以外は実施例１と同様にしてよう
に本発明の光学補償シート（ＲＦ−５）を作製した。

【００９０】［実施例６］実施例１において、光重合開
始剤としてＰＩ−１の代わりにＰＩ−３（前記光重合開
始剤番号）を同量用い、ＵＶ照射を照度２００ｍＷ／ｃ
ｍ² で１５秒間行なった以外は実施例１と同様にしてよ
うに本発明の光学補償シート（ＲＦ−６）を作製した。

【００９１】［比較例１］実施例１において、光重合開
始剤としてＰＩ−１の代わりに下記のＰＩ−６を同量用
い、ＵＶ照射を照度１００ｍＷ／ｃｍ² で１０秒間行な
った以外は実施例１と同様にしてように本発明の光学補
償シート（ＲＦ−７）を作製した。

【００９２】

【化３５】

【００９３】［比較例２］実施例１において、光重合開
始剤としてＰＩ−１の代わりにＰＩ−６（前記光重合開
始剤番号）を同量用い、ＵＶ照射を照度１００ｍＷ／ｃ
ｍ² で３０秒間行なった以外は実施例１と同様にしてよ
うに本発明の光学補償シート（ＲＦ−８）を作製した。

【００９４】［実施例９］ゼラチン薄膜（０．１μｍ）
を塗設した８５μｍ厚さを有するトリアセチルセルロー
スのフィルム（富士写真フイルム（株）製）上に下記の
構造を有する変性ポリビニルアルコール（ＭＰ２０３；
クラレ（株）製）を含む塗布液を塗布し、９０℃温風に
て乾燥させた後、ラビング処理を行い、配向膜を形成し
た。

【００９５】

【化３６】

【００９６】この配向膜上に、前述した液晶性ディスコ
ティック化合物ＴＰ−５３（前記化合物例番号）１８重
量部、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパン
トリアクリレート（Ｖ＃３６０；大阪有機化学（株）
製）２重量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡ
Ｂ５５１−０．２；イーストマンケミカル社製）０．４
重量部、光重合開始剤（ＰＩ−１（前記光重合開始剤番
号）、イルガキュアー９０７、チバ・ガイギー（株）
製）０．６重量部及び光重合開始剤（ＰＩ−５（前記光
重合開始剤番号）、カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）０．２重量部を、３４．３重量部のメチルエ
チルケトンに溶解して得られた塗布液を、ワイヤーバー
で塗布（＃３バー）し、金属の枠に貼りつけて固定して
１２０℃の高温槽中で５分間加熱し、デイスコティック
化合物を配向させた後、１２０℃のまま紫外線照射装置
（アイグラフィック社製）を用いて、照度６００ｍＷ／
ｃｍ² で１秒間ＵＶ照射し、室温まで放冷して、厚さ
１．８μｍの円盤状化合物が硬化した架橋ポリマーの層
（光学異方層）を有する本発明の光学補償シート（ＲＦ
−９）を作製した。

【００９７】［光学補償シートの評価］上記実施例１〜
９及び比較例１〜２で得られた光学補償シートについて
光学特性を下記のように評価した。（１）光学補償シートのＲｅの最小値の方向とその光軸
の傾き角得られた光学補償シートについて、ラビング軸を含み位
相差板面に垂直な面において、あらゆる方向からのレタ
ーデション値をエリプソメーター（ＡＥＰ−１００；島
津製作所製）で測定した。また、これらの測定値より、
計算してＲｅの最小値の方向の傾き角を計算して求め
た。また測定値より、得られた光学異方層は負の複屈折
を有していることがわかった。尚、透明支持体であるト
リアセチルセルロースの光軸はフィルム法線方向であ
り、面配向（正面）Ｒｅ値は６０ｎｍであった。（２）高温下放置後の光学補償シートの光学異方層のＲ
ｅとその光軸の傾き角（耐熱性）得られた光学補償シート、８０℃の雰囲気に１０００時
間放置し、上記（１）と同様に光学補償シートのＲｅと
Ｒｅの最小値の方向の傾き角を求めた。（３）黄変性得られた光学補償シートの紫外線照射による黄変の程度
を、目視で観察し，下記のように評価した。ＡＡ：紫外線照射する前のシートに比べてほとんど黄変
していなかった。ＣＣ：紫外線照射する前のシートに比べてかなり黄変し
ていた。（４）４２０ｎｍの吸光度（黄変の程度）得られた光学補償シートの４２０ｎｍの吸光度を分光光
度計（ＵＶ２１００、（株）島津製作所製）を用いて測
定し、黄変の程度を評価した。（５）引掻き強度円すい頂角が９０度で、先端の直径が０．２５ｍｍのサ
ファイア針を用いて光学異方層の表面を引掻き、引掻跡
が目視で認められた時の加重（ｇ）を測定した。

【００９８】上記結果を表１及び２に示す。

【００９９】

【表１】表１ ──────────────────────────────────── シート光重合 ε(Max) 照度照射時間照射エネルＮｏ．開始剤 (mW/cm²) （秒）ギー(mJ/cm²) ──────────────────────────────────── 実施例１ＲＦ−１ＰＩ−１ 200 100 10 1000 実施例２ＲＦ−２ＰＩ−１ 200 100 30 3000 実施例３ＲＦ−３ＰＩ−２ 1100 400 0.5 200 実施例４ＲＦ−４ＰＩ−２ 1100 400 7 1400 実施例５ＲＦ−５ＰＩ−３ 21000 200 1 200 実施例６ＲＦ−６ＰＩ−３ 21000 200 15 3000 ──────────────────────────────────── 比較例１ＲＦ−７ＰＩ−６ 30 100 10 1000 比較例２ＲＦ−８ＰＩ−６ 30 100 30 3000 ──────────────────────────────────── 実施例９ＲＦ−９ＰＩ−１／５ 200 600 1 600 ────────────────────────────────────

【０１００】

【表２】表２ ──────────────────────────────────── シート耐熱試験前耐熱試験後黄変引掻きＮｏ．傾き角 Re値傾き角 Re値（吸光度）強度 ──────────────────────────────────── 実施例１ＲＦ−１ 30° 108nm 30° 108nm AA(0.050) 20g 実施例２ＲＦ−２ 28° 115nm 28° 115nm CC(0.210) 27g 実施例３ＲＦ−３ 30° 97nm 30° 97nm AA(0.050) 21g 実施例４ＲＦ−４ 29° 114nm 29° 114nm CC(0.220) 25g 実施例５ＲＦ−５ 31° 110nm 31° 110nm AA(0.050) 20g 実施例６ＲＦ−６ 30° 111nm 30° 111nm CC(0.210) 30g ──────────────────────────────────── 比較例１ＲＦ−７ 32° 98nm 51° 52nm AA(0.110) 9g 比較例２ＲＦ−８ 33° 102nm 32° 102nm CC(0.220) 15g ──────────────────────────────────── 実施例９ＲＦ−９ 45° 70nm 45° 70nm AA(0.050) 40g ────────────────────────────────────

【０１０１】［実施例１０及び比較例３］（液晶表示装置の作製）ネマチック液晶を９０℃の捻れ
角で、かつ４．５μｍのギャップサイズとなる様に挟み
込まれた液晶セルの一方の表面に、実施例１で作成した
光学補償シートＲＦ−１を２枚積層して貼り付け、液晶
表示装置を作製した（図３参照）。但し、下側の光学補
償シートのレターデーションの最小値を示す投影方向と
上側基板のラビング方向とのなす角が１８０度となり、
そして上側の光学補償シートのレターデーションの最小
値を示す投影方向と上側基板のラビング方向とのなす角
が０度となるように、上記積層体を液晶セル上に配置し
た。さらに、一対の偏光板を、光学補償シートを有する
液晶セルの両側に、二つの偏光軸が直交するように貼り
つけた。得られたＴＮ−ＬＣＤは、ノーマリーホワイト
モード用に設定した。比較例３として、上記光学補償シ
ートを持たないＴＮ−ＬＣＤも作製した。

【０１０２】得られたＴＮ−ＬＣＤに５５Ｈｚの矩形波
の電圧を、０から５Ｖで印加し、正面方向および上／下
および左／右方向へ傾いた方向からのコントラストを、
分光計（ＬＣＤ−５０００、大塚電子（株）製）を用い
て測定し、正面コントラスト（Ｔ_0V／Ｔ_5V）およびコン
トラストが１０以上となる上／下および左／右の視野角
を求めた。得られた結果を、表３に示す。

【０１０３】

【表３】表３ ──────────────────────────────────── シート正面コントラスト視野角Ｎｏ．上下左右 ──────────────────────────────────── 実施例１０ＲＦ−１１００以上１１５° １２５° ──────────────────────────────────── 比較例３ −− １００以上６１° ６８° ────────────────────────────────────

【０１０４】

【発明の効果】本発明の光学補償シートは、ＴＮ型液晶
セルを有する液晶表示装置及びカラー液晶表示装置に使
用した場合、視野角が大きく拡大させることができ、さ
らに視野角の増加に伴う黒表示部の反転、諧調の反転、
画像の着色等の発生が大きく低減することができ、優れ
た視野角特性を付与することができる。さらに本発明の
光学補償シートは耐熱性に優れ、特に低照射エネルギー
により得られるシートは黄変が少なく、液晶表示装置に
使用した場合に耐久性の向上が得られ、さらには鮮明な
画像を得ることができる。本発明の光学補償シートを用
いたＴＮ型液晶セルを有する液晶表示装置は、視野角が
大きく拡大しており、視野角の増加に伴う黒表示部の反
転、諧調の反転、画像の着色等の発生が大きく低減され
ており、優れた視野角特性を示す。

【図面の簡単な説明】

【図１】透明支持体（フィルム）面内の主屈折率ｎｘ、
ｎｙ、厚み方向の主屈折率ｎｚの関係を概略的に示す図
である。

【図２】本発明の光学補償シートの代表的構成及び三軸
の主屈折率の関係を概略的に示す図である。

【図３】本発明の液晶表示装置の代表的構造を示す図で
ある。

【図４】本発明の光学補償シートを組み込んだカラー液
晶表示装置の代表的構造を示す図である。

【符号の説明】

２１透明支持体２２配向膜２３光学異方層２４透明支持体の法線

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明支持体及びその上に光学異方層が設
けられてなる光学補償シートにおいて、該光学異方層
が、重合性円盤状化合物の重合により形成された架橋ポ
リマーからなり、且つその表面の引掻き強度が、２０ｇ
以上であることを特徴とする光学補償シート。
【請求項２】該重合性円盤状化合物が、下記一般式
（Ｉ）：（Ｉ）（Ｒ）_n Ｄ（Ｌ−Ｐ）_k （但し、Ｄは、トリフェニレン環、トルキセン環、イノ
シトール環、アザクラウン環、トリチアトルキセン環、
トリオキサトルキセン環、ヘキサエチレン置換ベンゼン
環、コロネン環、ジベンゾピレン環、フタロシアニン環
又はフェニルアセチレンのマクロサイクル環を表わし、
Ｒは非反応性基を表わし、Ｐは各々独立に、アクリロイ
ル基、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、プロパ
ギル基、メタクリロイル基、アセチレニル基又はアレニ
ル基を表わし、Ｌは各々独立に、ＰとＤを連結する二価
の基もしくは化学結合を表わし、そしてｎ＋ｋ≦８の条
件下で、ｎが０〜７の整数を表わし、ｋが１〜８の整数
を表わす。）で表わされる請求項１に記載の光学補償シ
ート。
【請求項３】該透明支持体と光学異方層との間に、配
向膜が形成されている請求項１に記載の光学補償シー
ト。
【請求項４】該光学補償シートが、光学補償シートの
法線方向から５〜５０度傾いた方向に、レターデーショ
ンの絶対値の最小値を有し、且つ光軸を持たない請求項
１に記載の光学補償シート。
【請求項５】該重合性円盤状化合物の重合が、波長３
６０〜４５０ｎｍの範囲におけるモル吸光係数の最大値
が１００以上の光重合開始剤の存在下に行なわれる請求
項１に記載の光学補償シート。
【請求項６】該光学補償シートの波長４２０ｎｍにお
ける吸光度が、０．２０以下である請求項１に記載の光
学補償シート。
【請求項７】透明支持体上に、重合性円盤状化合物
と、波長３６０〜４５０ｎｍの範囲におけるモル吸光係
数の最大値が１００以上の光重合開始剤とを含む層を形
成し、該重合性円盤状化合物を配向させた後、波長３０
０〜４００ｎｍの範囲における光の照射エネルギー１０
０〜２０００ｍＪ／ｃｍ² となるように光照射すること
により重合性円盤状化合物を重合させて円盤状化合物の
配向状態を固定化することにより、透明支持体上に重合
性円盤状化合物の架橋ポリマーからなる光学異方層を形
成することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項８】該透明支持体に配向膜を形成した後、該
配向膜上に該光学異方層を形成する請求項７に記載の光
学補償シートの製造方法。
【請求項９】該光照射が、０．０１〜６０秒間行なわ
れる請求項７に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項１０】一対の透明電極付きの基板と、その基
板間に封入されたねじれ配向したネマチック液晶とから
なる液晶セル、液晶セルの両側に設けられた一対の配向
板、及び液晶セルと配向板との間に設けられた光学補償
シートからなる液晶表示装置において、該光学補償シートが、透明支持体及びその上に重合性円
盤状化合物の重合により形成された架橋ポリマーからな
り且つその表面の引掻き強度が２０ｇ以上である光学異
方層が設けられてなるシートであることを特徴とする液
晶表示装置。