JPH08141519A - 回転式基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の反り変形のいかんにかかわらず、比較
的簡単な構成で基板の反り変形に容易に追随して、基板
表面全面を均一に洗浄できるようにする。 【構成】 電動モータＭによって回転される回転体１０
に、第１および第２のベローズ１４，１５を介して、洗
浄具８を一体的に取り付けた洗浄具支持体１３を昇降可
能に設け、第２のベローズ１５で形成される密閉空間Ｓ
にエアー配管１８を接続するとともに、そのエアー配管
１８に圧力計１９とレギュレータ２０とを介装し、基板
Ｗに対する洗浄具８の押圧力の変化に応じてレギュレー
タ２０を働かせ、洗浄具支持体１３を基板Ｗに対して昇
降し、基板Ｗに対する洗浄具８の押圧力を設定範囲内に
維持する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、フォト
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、
光ディスク用の基板等の基板に、純水などの洗浄液を供
給して洗浄処理するために、基板を鉛直方向の軸芯周り
で回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面を洗浄
する洗浄具と、その洗浄具を鉛直方向の軸芯周りで回転
させる洗浄具回転手段と、洗浄具を基板表面に沿って水
平方向に変位する洗浄具移動手段と、基板表面の洗浄具
による洗浄箇所に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを
備えた回転式基板洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の回転式基板洗浄装置としては、例
えば、実開平１−１０７１２９号公報に開示されている
ものが知られている。この従来例によれば、基板を鉛直
方向の軸芯周りで回転させながら、その基板表面に洗浄
液を供給し、洗浄具を回転させながら基板表面に沿わせ
て移動させ、洗浄具を所定の押圧力により基板に押し付
けながら基板表面に付着したパーティクルやゴミを剥離
させるとともに、その剥離したパーティクルやゴミなど
の洗浄除去物を洗浄液とともに基板回転による遠心力を
利用しながら基板の外方へ流出させるようにしていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
の場合、洗浄位置における洗浄時の洗浄具の高さは一定
であり、洗浄具から基板に付与される押圧力は初期設定
によって一義的に決定されていた。一方、基板では、そ
れ自体の重量や、冷却や加熱などの熱処理の影響を受け
ることに起因し、高低差で 0.5mm程度の反り変形を生じ
ていることが多い。その結果、反り上がっている箇所と
凹んでいる箇所とで、洗浄具から基板に付与される押圧
力に違いを生じ、基板表面での洗浄性が不均一になる欠
点があった。

【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項１に係る発明の回転式基板洗浄
装置は、基板の反り変形のいかんにかかわらず、基板の
反り変形に容易に追随して、基板表面全面を均一に洗浄
できるようにすることを目的とし、また、請求項２に係
る発明の回転式基板洗浄装置は、基板の反り変形のいか
んにかかわらず、比較的簡単な構成で基板の反り変形に
容易に追随して、基板表面全面を均一に洗浄できるよう
にすることを目的とし、また、請求項３に係る発明の回
転式基板洗浄装置は、基板の反り変形により良好に追随
しやすくして基板に対する押圧力を良好に一定化できる
ようにすることを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の回
転式基板洗浄装置は、上述のような目的を達成するため
に、基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基
板保持手段と、基板表面を洗浄する洗浄具と、その洗浄
具を鉛直方向の軸芯周りで回転させる洗浄具回転手段
と、洗浄具を基板表面に沿って水平方向に変位する洗浄
具移動手段と、基板表面の洗浄具による洗浄箇所に洗浄
液を供給する洗浄液供給手段とを備えた回転式基板洗浄
装置において、洗浄具を基板に対して昇降可能に支持す
る昇降支持手段と、洗浄具の基板に対する押圧力を付与
する押圧手段と、基板に対する洗浄具の押圧力を感知す
る押圧力感知手段と、その押圧力感知手段によって感知
した圧力が設定範囲内に維持されるように押圧手段を作
動して洗浄具を基板に対して昇降する押圧力制御機構と
を備えて構成する。

【０００６】また、請求項２に係る発明の回転式基板洗
浄装置は、上述のような目的を達成するために、請求項
１に係る発明の回転式基板洗浄装置における洗浄具回転
手段によって回転される回転体を洗浄具移動手段に対し
て回転可能に設け、洗浄具を一体的に取り付けた洗浄具
支持体を昇降支持手段を介して回転体に対して昇降可能
に設け、かつ、洗浄具支持体を洗浄具移動手段に対して
押圧手段を介して設け、洗浄具支持体を基板に対して昇
降可能とするとともに基板に対する押圧力を付与するよ
うに構成する。

【０００７】また、請求項３に係る発明の回転式基板洗
浄装置は、上述のような目的を達成するために、請求項
１または請求項２に係る発明の回転式基板洗浄装置にお
ける押圧手段を、エアーを駆動源とする伸縮機構で構成
する。

【０００８】

【作用】請求項１に係る発明の回転式基板洗浄装置の構
成によれば、昇降支持手段によって洗浄具は基板に対し
て昇降可能に支持されており、基板の反り変形に起因し
て回転基板に対する洗浄具による押圧力が設定範囲から
変化すると、そのことを押圧力感知手段が感知し、その
感知した押圧力が設定範囲よりも大きければ、押圧手段
によって洗浄具を上昇させることにより、洗浄具を基板
から離れる側に上昇させ、一方、感知した押圧力が設定
範囲よりも小さければ、洗浄具を基板に対して下降させ
ることにより、洗浄具を基板に近づく側に移動させ、基
板に対する洗浄具の押圧力を設定範囲内に維持すること
ができる。

【０００９】請求項２に係る発明の回転式基板洗浄装置
の構成によれば、基板の反り変形に起因して回転基板に
対する洗浄具による押圧力が設定範囲から変化すると、
そのことを押圧力感知手段が感知し、その感知した押圧
力が設定範囲よりも大きければ、洗浄具支持体を回転体
に対して上昇させることにより洗浄具を基板から離れる
側に移動させ、一方、感知した押圧力が設定範囲よりも
小さければ、洗浄具支持体を回転体に対して下降させる
ことにより洗浄具を基板に近づく側に移動させ、基板に
対する洗浄具の押圧力を設定範囲内に維持することがで
きる。

【００１０】請求項３に係る発明の回転式基板洗浄装置
の構成によれば、回転基板に対する洗浄具による押圧力
の変化を、エアー自体の膨張収縮による緩衝性能を利用
しながら抑えることができる。

【００１１】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。図１は本発明の回転式基板洗浄装置の第１実
施例を示す全体概略縦断面図、図２は平面図である。

【００１２】電動モータ１の駆動によって鉛直方向の軸
芯周りで回転する回転軸２の上端に、基板Ｗを真空吸着
保持する回転台３が一体回転可能に取り付けられ、基板
Ｗを鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持
手段４が構成されている。

【００１３】なお、本実施例においては、回転台３を真
空吸着式のものとして基板保持手段４を構成している
が、これに限られるものではなく、例えば、回転台３上
に基板Ｗの外縁を支持する基板支持部材を複数設けると
ともに、この基板支持部材の上端に基板Ｗの水平方向の
位置を規制する位置決めピンを設けて基板保持手段を構
成し、基板Ｗを回転台３上面から離間した状態で回転可
能に保持させるようにしてもよい。

【００１４】基板保持手段４およびそれによって保持さ
れた基板Ｗの周囲は、昇降駆動機構（図示せず）によっ
て昇降可能なカップ５で覆われている。カップ５の横外
側方に、基板Ｗの回転中心側に向けて純水などの洗浄液
を噴出供給する洗浄液供給手段としてのノズル６…が設
けられている。

【００１５】また、カップ５の横外側方に、アングル形
状の支持アーム７が、電動モータ（図示せず）により鉛
直方向の第１の軸芯Ｐ１周りで回転可能に設けられ、そ
の支持アーム７の先端側アーム部分７ａの下部に、鉛直
方向の第２の軸芯Ｐ２周りで回転可能に、基板表面を洗
浄する洗浄具８が設けられている。

【００１６】図３の要部の拡大縦断面図に示すように、
先端側アーム部分７ａ内には、ベアリング９…を介して
中空筒状の回転体１０が前記第２の軸芯Ｐ２周りで回転
可能に設けられ、その回転体１０の長手方向中間にプー
リー１１が一体回転自在に取り付けられるとともに、プ
ーリー１１と、支持アーム７の回転中心側に設けられた
洗浄具回転手段としての電動モータＭとがタイミングベ
ルト１２を介して連動連結されている。

【００１７】前記洗浄具８は多数の毛を植設して構成さ
れ、その洗浄具８が洗浄具支持体１３に一体的に取り付
けられ、洗浄具支持体１３が回転体１０内に挿入され、
洗浄具支持体１３の中間よりやや上部側と回転体１０の
上部側、および、洗浄具支持体１３の中間よりやや下部
側と回転体１０の下部側それぞれが、伸縮可能なステン
レス製の第１のベローズ１４を介して一体回転可能に連
結されている。

【００１８】前記洗浄具支持体１３の上端に対向する箇
所で、先端側アーム部分７ａ内に、伸縮可能なステンレ
ス製の第２のベローズ１５を介してストッパー部材１６
が設けられ、そのストッパー部材１６に、洗浄具支持体
１３の上端側が回転および相対昇降可能に嵌入保持され
ている。先端側アーム部分７ａと第２のベローズ１５と
ストッパー部材１６とによって密閉空間Ｓが形成される
とともに、先端側アーム部分７ａの上部に密閉空間Ｓに
連なる給排孔１７が設けられている。第１および第２の
ベローズ１４，１４，１５と、密閉空間Ｓと、その密閉
空間Ｓにエアーを給排する構成とから成るものをして、
エアーを駆動源とする伸縮機構と称する。第１および第
２のベローズ１４，１４，１５それぞれとしては、プラ
スチック製のものでも良い。

【００１９】なお、この第１実施例において、第１のベ
ローズ１４，１４は洗浄具８を昇降可能に支持する昇降
支持手段を構成している。また、密閉空間Ｓを形成する
先端側アーム部分７ａと第２のベローズ１５とストッパ
ー部材１６と、その密閉空間Ｓにエアーを給排するもの
とで、洗浄具８の基板Ｗに対する押圧力を付与する押圧
手段を構成している。

【００２０】給排孔１７には、エアー配管１８を介して
加圧空気の供給源（図示せず）が接続され、エアー配管
１８の途中箇所に、押圧力感知手段としての圧力計１９
と押圧力制御機構としてのレギュレータ２０と開閉弁２
１が介装され、エアー配管１８内の圧力を設定範囲内に
自動的に維持するように構成されている。

【００２１】先端側アーム部分７ａと回転体１０の下部
側との間に、磁性流体シール２２とラビリンス機構２３
が設けられ、その上部のベアリング９で回転に伴う摩耗
によって発生するゴミが基板Ｗ上に落下したり、洗浄液
が浸入したりすることを回避できるように構成されてい
る。

【００２２】以上の構成により、基板Ｗの表面を、洗浄
液を供給するとともに洗浄具８を基板Ｗの表面に押圧し
て洗浄するに際し、基板Ｗに反り変形が生じている場
合、基板Ｗの回転と洗浄具８の移動に伴い、洗浄具８に
よる基板Ｗに対する押圧力に変化が生じる。基板Ｗの反
り上がっている箇所においては、圧力計１９により、設
定範囲よりも高い圧力が感知される。そこでレギュレー
タ２０は、エアー配管１８内の圧力を減じて、エアー配
管１８内の圧力が設定範囲内になるように働き、第２の
ベローズ１５を縮めさせる。これによって洗浄具支持体
１３に支持された洗浄具８を上昇させ、基板Ｗに対する
洗浄具８の押圧力を設定範囲内に維持できる。一方、基
板Ｗの凹んでいる箇所においては、圧力計１９により、
設定範囲よりも低い圧力が感知される。そこでレギュレ
ータ２０は、エアー配管１８内の圧力を増加させて、エ
アー配管１８内の圧力が設定範囲内になるように第２の
ベローズ１５を伸長させる。これによって洗浄具支持体
１３に支持された洗浄具８を下降させ、基板Ｗに対する
洗浄具８の押圧力を設定範囲内に維持できる。

【００２３】なお、第１のベローズ１４，１４が洗浄具
８と洗浄具支持体１３の重さで縮むように弾性変形され
ることによる反発力と、洗浄具８と洗浄具支持体１３の
重さとが、等しく釣り合うように構成すれば、エアー配
管１８内の圧が、洗浄具８の基板Ｗに対する押圧とほぼ
一致し、設定しやすくて望ましい。その場合には第１の
ベローズ１４，１４としてバネ定数を極力小さいものを
使用することが好ましい。

【００２４】図４は、第２実施例の要部の拡大縦断面図
であり、第１実施例と異なるところは次の通りである。
すなわち、第２のベローズ１５を無くし、上側の第１の
ベローズ１４の上方側が蓋部材２４で閉塞されて密閉空
間Ｓ１に構成され、蓋部材２４が先端側アーム部分７ａ
にシール部材２５を介して回転および昇降可能に設けら
れている。先端側アーム部分７ａに形成された給排孔１
７と密閉空間Ｓ１とが蓋部材２４に形成された貫通孔２
６を介して接続されている。第１のベローズ１４，１４
と、密閉空間Ｓ１と、その密閉空間Ｓ１にエアーを給排
する構成とか成るものをして、エアーを駆動源とする伸
縮機構と称する。

【００２５】給排孔１７には、エアー配管１８ａを介し
て真空吸引源（図示せず）が接続され、エアー配管１８
ａの途中箇所に、押圧力感知手段としての圧力計１９ａ
と押圧力制御機構としての真空用レギュレータ２０ａと
が介装され、エアー配管１８ａ内の圧力を設定範囲内に
自動的に維持するように構成されている。他の構成は第
１実施例と同じであり、同一図番を付すことによりその
説明は省略する。

【００２６】なお、この第２実施例において、第１のベ
ローズ１４，１４は洗浄具８を昇降自在に支持する昇降
支持手段を構成している。また、密閉空間Ｓ１を形成す
る蓋部材２４と上側の第１のベローズ１４と洗浄具支持
体１３の上側フランジ部分と、その密閉空間Ｓ１にエア
ーを給排するもので、洗浄具８を基板Ｗに押圧する力を
付与する押圧手段を構成している。

【００２７】この第２実施例によれば、洗浄具８および
洗浄具支持体１３の重量が、それら自体で基板Ｗに与え
る押圧力が設定圧力よりも大きくなるような場合に、内
部空間Ｓ１内の圧力を負圧にすることで引き上げ、上記
重量分の一部を打ち消し、設定圧力を得ることができる
利点を有している。設定圧力が上記重量分よりも大きく
なるときには、第１実施例と同じようにエアー配管１８
ａを加圧空気源に接続すれば良い。

【００２８】図５は要部の拡大縦断面図、図６は横断面
図であり、第１実施例と異なるところは次の通りであ
る。すなわち、洗浄具支持体１３の長手方向途中箇所が
横断面形状小判形に構成され、その小判形部分により回
転体１０に昇降のみ可能に設けられている。洗浄具支持
体１３の上端と先端側アーム部分７ａの上部とが、洗浄
具支持体１３を下降させる側に押圧力を付与するよう
に、エアーを駆動源とする伸縮機構としての、圧縮コイ
ルスプリング２７を介装した単動式エアシリンダ２８を
介して連結され、その単動式エアシリンダ２８にエアー
配管１８が接続されている。また、回転体１０の下部と
洗浄具支持体１３の下部側との間に、伸縮可能なシール
部材２９が熱溶着によって一体的に設けられ、回転体１
０と洗浄具支持体１３との間での摺動に伴って発生する
ゴミが基板Ｗ上に落下したり、洗浄液が浸入したりする
ことを回避できるように構成されている。他の構成は第
１実施例と同じであり、同一図番を付すことによりその
説明は省略する。

【００２９】なお、この第３実施例において、回転体１
０と、回転体１０に対して僅かな隙間を有して貫通させ
た洗浄具支持体１３の横断面小判形部分と、洗浄具支持
体１３を釣り上げるように支持している単動式エアシリ
ンダ２８とで、洗浄具８を昇降自在に支持する昇降支持
手段を構成している。また、単動式エアシリンダ２８と
圧縮コイルスプリング２７と、単動式エアシリンダ２８
にエアーを給排するもので、洗浄具８を基板Ｗに押圧す
る力を付与する押圧手段を構成している。

【００３０】図７は、本発明の回転式基板洗浄装置の第
４実施例を示す全体概略縦断面図であり、装置フレーム
２９に支持筒体３０がベアリング３１を介して回転可能
に設けられ、その支持筒体３０に、支持アーム７の一端
側に一体の回転支軸３２が昇降のみ可能に設けられてい
る。支持筒体３０にプーリー３３が一体的に取り付けら
れ、そのプーリー３３と正逆転可能な電動モータ３４と
が伝動ベルト３５を介して連動連結されている。

【００３１】支持アーム７の他端側に、洗浄具８を取り
付けた洗浄具支持体１３が回転のみ可能に設けられ、そ
の洗浄具支持体１３と、支持アーム７に設けた電動モー
タＭとがベルト式伝動機構３６を介して連動連結されて
いる。

【００３２】回転支軸３２の下方に対応位置させて押圧
手段としてのエアーを駆動源とする伸縮機構としての単
動式エアシリンダ３７が設けられ、その単動式エアシリ
ンダ３７のシリンダロッド３７ａの上端が回転支軸３２
の下端に当接されている。

【００３３】単動式エアシリンダ３７に、前述第１実施
例と同様に、エアー配管１８を介して加圧空気の供給源
（図示せず）が接続され、エアー配管１８の途中箇所
に、押圧力感知手段としての圧力計１９と押圧力制御機
構としてのレギュレータ２０と開閉弁２１が介装され、
エアー配管１８内の圧力を設定範囲内に自動的に維持す
るように構成されている。

【００３４】なお、この第４実施例において、支持筒体
３０と、支持アーム７の回転支軸３２と、単動式エアシ
リンダ３７とで、洗浄具８を昇降自在に支持する昇降支
持手段を構成している。また、支持アーム７と、支持ア
ーム７が支持する洗浄具８・洗浄具支持体１３や電動モ
ータＭ・ベルト式伝動機構３６や、回転支軸３２と、こ
れら回転支軸３２が支える物品の重さを支える単動式エ
アシリンダ３７と、単動式エアシリンダ３７にエアーを
給排するもので、洗浄具８を基板Ｗに押圧する力を付与
する押圧手段を構成している。

【００３５】以上の構成により、基板Ｗの表面を、洗浄
液を供給するとともに洗浄具８を基板Ｗの表面に押圧し
て洗浄するに際し、基板Ｗに反り変形が生じている場
合、基板Ｗの回転と洗浄具８の移動に伴い、洗浄具８に
よる基板Ｗに対する押圧力に変化が生じる。基板Ｗの反
り上がっている箇所においては、圧力計１９により、設
定範囲よりも高い圧力が感知される。そこでレギュレー
タ２０は、エアー配管１８内の圧力を減じて、エアー配
管１８内の圧力が設定範囲内になるように働き、単動式
エアシリンダ３７を伸長する。これによって洗浄具支持
体１３に支持された洗浄具８を上昇させ、基板Ｗに対す
る洗浄具８の押圧力を設定範囲内に維持できる。一方、
基板Ｗの凹んでいる箇所においては、圧力計１９によ
り、設定範囲よりも低い圧力が感知される。そこでレギ
ュレータ２０は、エアー配管１８内の圧力を増加させ
て、エアー配管１８内の圧力が設定範囲内になるように
単動式エアシリンダ３７を短縮する。これによって洗浄
具支持体１３に支持された洗浄具８を下降させ、基板Ｗ
に対する洗浄具８の押圧力を設定範囲内に維持できる。

【００３６】なお、上記実施例においてエアー配管１８
内の圧力を設定範囲内に維持するようにして、基板Ｗに
対する洗浄具８の押圧力を設定範囲内に維持する場合と
は、設定値に幅を設けずに、所定の一点の圧力のみを設
定値とするような場合をも含むものである。

【００３７】本発明としては、洗浄具８として、ナイロ
ンブラシやモヘアブラシやスポンジ製やフェルト製など
のように、軟質材料の洗浄具を使用する場合により好適
に実施できるが、プラスチック製の洗浄具を使用する場
合にも適用できる。

【００３８】また、上記実施例では、エアーを駆動源と
する伸縮機構により洗浄具支持体１３を回転体１０に対
して昇降させるように構成しているが、例えば、回転体
１０に、電動モータによって正逆転可能にネジ軸を設
け、そのネジ軸に螺合する内ネジ部材を洗浄具支持体１
３に取り付けるなど各種の構成が採用でき、それらの構
成をして押圧手段と称する。

【００３９】また、上記実施例では、洗浄具８を基板Ｗ
の表面に沿って水平方向に変位するのに、電動モータに
より支持アーム７を鉛直方向の第１の軸芯Ｐ１周りで回
転させるように構成しているが、エアシリンダなどによ
り支持アーム７を直線方向に移動させるように構成して
も良く、それらの構成をして洗浄具移動手段と総称す
る。

【００４０】本発明としては、上述実施例のような円形
基板に限らず、角型基板に対する回転式基板洗浄装置に
も適用できる。

【００４１】

【発明の効果】請求項１に係る発明の回転式基板洗浄装
置によれば、基板の反り変形に起因する回転基板に対す
る洗浄具による押圧力の変化に伴い、押圧手段により洗
浄具を基板に対して昇降させ、基板に対する洗浄具の押
圧力を設定範囲内に維持するから、基板表面での反り変
形に追随し、基板の反り変形のいかんにかかわらず、基
板表面全面を、所定の押圧力を付与しながら洗浄具によ
って均一に洗浄できるようになった。

【００４２】また、請求項２に係る発明の回転式基板洗
浄装置によれば、基板の反り変形に起因する回転基板に
対する洗浄具による押圧力の変化に伴い、洗浄具を取り
付けた洗浄具支持体を回転体に対して昇降させ、基板に
対する洗浄具の押圧力を設定範囲内に維持するから、例
えば、洗浄具回転手段や洗浄具移動手段を支持する基端
側において、その全体を昇降する場合に比べて、昇降す
べき部材重量が軽量で迅速容易に洗浄具を昇降でき、基
板表面での反り変形に追随しやすく、基板の反り変形の
いかんにかかわらず、比較的簡単な構成で、基板表面全
面を、所定の押圧力を付与しながら洗浄具により均一に
洗浄できるようになった。

【００４３】また、請求項３に係る発明の回転式基板洗
浄装置によれば、回転基板に対する洗浄具による押圧力
の変化を、エアー自体の膨張収縮による緩衝性能を利用
しながら抑えることができるから、洗浄具を基板表面で
の反り変形に一層追随させやすく、基板に対する押圧力
を良好に一定化でき、一層均一に洗浄できるようになっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の回転式基板洗浄装置の第１実施例を示
す全体概略縦断面図である。

【図２】平面図である。

【図３】要部の拡大縦断面図である。

【図４】第２実施例の要部の拡大縦断面図である。

【図５】第３実施例の要部の拡大縦断面図である。

【図６】図５の横断面図である。

【図７】本発明の回転式基板洗浄装置の第４実施例を示
す全体概略縦断面図である。

【符号の説明】

４…基板保持手段 ６…洗浄液供給手段としてのノズル ８…洗浄具 １０…回転体 １３…洗浄具支持体 １９…圧力計 ２０…レギュレータ ３７…単動式エアシリンダ Ｍ…洗浄具回転手段としての電動モータ Ｗ…基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に
   保持する基板保持手段と、 基板表面を洗浄する洗浄具と、 前記洗浄具を鉛直方向の軸芯周りで回転させる洗浄具回
   転手段と、 前記洗浄具を基板表面に沿って水平方向に変位する洗浄
   具移動手段と、 基板表面の前記洗浄具による洗浄箇所に洗浄液を供給す
   る洗浄液供給手段とを備えた回転式基板洗浄装置におい
   て、 前記洗浄具を前記基板に対して昇降可能に支持する昇降
   支持手段と、 前記洗浄具の前記基板に対する押圧力を付与する押圧手
   段と、 前記基板に対する前記洗浄具の押圧力を感知する押圧力
   感知手段と、 その押圧力感知手段によって感知した圧力が設定範囲内
   に維持されるように前記押圧手段を作動して前記洗浄具
   を前記基板に対して昇降する押圧力制御機構と、 を備えたことを特徴とする回転式基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の洗浄具回転手段によっ
   て回転される回転体を洗浄具移動手段に対して回転可能
   に設け、洗浄具を一体的に取り付けた洗浄具支持体を昇
   降支持手段を介して前記回転体に対して昇降可能に設
   け、かつ、前記洗浄具支持体を前記洗浄具移動手段に対
   して押圧手段を介して設け、前記洗浄具支持体を基板に
   対して昇降可能とするとともに前記基板に対する押圧力
   を付与するものである回転式基板洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の押圧手
   段が、エアーを駆動源とする伸縮機構である回転式基板
   洗浄装置。