JPH08139172A - ウェーハ保管庫 - Google Patents
ウェーハ保管庫Info
- Publication number
- JPH08139172A JPH08139172A JP27633894A JP27633894A JPH08139172A JP H08139172 A JPH08139172 A JP H08139172A JP 27633894 A JP27633894 A JP 27633894A JP 27633894 A JP27633894 A JP 27633894A JP H08139172 A JPH08139172 A JP H08139172A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas supply
- branch
- gas
- storage
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多数の保管室すべてに均等に窒素を導入し、
保管中のウェーハの品質劣化を防止する。 【構成】 個別にガス導入口2A〜2Fを備えた多数の保管
室１に区画され、ガス供給配管10はガス供給源に連通す
る幹管路12の異なる位置で各一本の枝管路13を分岐し、
各枝管路13をそれぞれ一個のガス導入口2A〜2Fに接続し
て各保管室１に窒素を導入するウェーハ保管庫におい
て、ガス導入口2A〜2Fは幹管路12との間に介在する枝管
路13の分岐位置がガス供給源寄りとなるものほど口径を
小さくする。
保管中のウェーハの品質劣化を防止する。 【構成】 個別にガス導入口2A〜2Fを備えた多数の保管
室１に区画され、ガス供給配管10はガス供給源に連通す
る幹管路12の異なる位置で各一本の枝管路13を分岐し、
各枝管路13をそれぞれ一個のガス導入口2A〜2Fに接続し
て各保管室１に窒素を導入するウェーハ保管庫におい
て、ガス導入口2A〜2Fは幹管路12との間に介在する枝管
路13の分岐位置がガス供給源寄りとなるものほど口径を
小さくする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウェーハを窒素雰
囲気中で保管するためのウェーハ保管庫に関する。半導
体デバイスの製造において、ウェーハ処理工程でのウェ
ーハ保管に際してはウェーハへのパーティクル付着や表
面の自然酸化を防止する必要がある。そのため、通常、
保管庫に清浄窒素を導入して清浄窒素雰囲気中でウェー
ハを保管する。
囲気中で保管するためのウェーハ保管庫に関する。半導
体デバイスの製造において、ウェーハ処理工程でのウェ
ーハ保管に際してはウェーハへのパーティクル付着や表
面の自然酸化を防止する必要がある。そのため、通常、
保管庫に清浄窒素を導入して清浄窒素雰囲気中でウェー
ハを保管する。
【０００２】
【従来の技術】図７は従来のウェーハ保管庫の一例を示
す模式図である。同図において、図１と同じものには同
一の符号を付与した。この例は、５列６段，計３０の保
管室からなるロッカー型ウェーハ保管庫であり、各列の
背後にそれぞれ１本（計５本）の幹管路12が下から上に
向けて延在し、これが各保管室１の背後で枝管路13を分
岐し、各枝管路13の末端が各保管室１のガス導入口２に
接続している。このガス導入口２の口径は総て同じ（こ
の例では８mm）である。
す模式図である。同図において、図１と同じものには同
一の符号を付与した。この例は、５列６段，計３０の保
管室からなるロッカー型ウェーハ保管庫であり、各列の
背後にそれぞれ１本（計５本）の幹管路12が下から上に
向けて延在し、これが各保管室１の背後で枝管路13を分
岐し、各枝管路13の末端が各保管室１のガス導入口２に
接続している。このガス導入口２の口径は総て同じ（こ
の例では８mm）である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところがこのようなウ
ェーハ保管庫では、幹管路を流れる窒素の圧力は下流に
行くほど低くなるため、下流側で分岐した枝管路から保
管室に流入する窒素の量は上流側で分岐した枝管路から
のそれよりも少なく、従って下段の保管室と上段の保管
室とでは窒素置換の程度、即ち酸素含有率が異なり、酸
素含有率の高い保管室（上段）で保管したウェーハの表
面に酸化膜が成長する等、品質劣化を生じ易い、と言う
問題があった。
ェーハ保管庫では、幹管路を流れる窒素の圧力は下流に
行くほど低くなるため、下流側で分岐した枝管路から保
管室に流入する窒素の量は上流側で分岐した枝管路から
のそれよりも少なく、従って下段の保管室と上段の保管
室とでは窒素置換の程度、即ち酸素含有率が異なり、酸
素含有率の高い保管室（上段）で保管したウェーハの表
面に酸化膜が成長する等、品質劣化を生じ易い、と言う
問題があった。
【０００４】本発明はこのような問題を解決して、保管
室間の窒素流入量のバラツキを減らして保管中のウェー
ハの品質劣化を防止することが可能なウェーハ保管庫を
提供することを目的とする。
室間の窒素流入量のバラツキを減らして保管中のウェー
ハの品質劣化を防止することが可能なウェーハ保管庫を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的は本発明によれ
ば、個別にガス導入口を備えた複数の保管室と、ガス供
給源に連通するガス供給配管とを有するウェーハ保管庫
において、該ガス供給配管が少なくとも一本の幹管路と
該幹管路の異なる位置で該幹管路から分岐する複数の枝
管路とを有し、該各枝管路が末端でそれぞれ一個の前記
ガス導入口に接続されており、該ガス導入口は該幹管路
との間に介在する該枝管路の分岐位置が前記ガス供給源
寄りとなるものほど口径が小さいことを特徴とするウェ
ーハ保管庫とすることで達成される。
ば、個別にガス導入口を備えた複数の保管室と、ガス供
給源に連通するガス供給配管とを有するウェーハ保管庫
において、該ガス供給配管が少なくとも一本の幹管路と
該幹管路の異なる位置で該幹管路から分岐する複数の枝
管路とを有し、該各枝管路が末端でそれぞれ一個の前記
ガス導入口に接続されており、該ガス導入口は該幹管路
との間に介在する該枝管路の分岐位置が前記ガス供給源
寄りとなるものほど口径が小さいことを特徴とするウェ
ーハ保管庫とすることで達成される。
【０００６】又、この目的は、前記ガス供給配管が前記
ガス供給源側から下流に向けて順次二本の分岐管路に多
段分岐しており、各終段の分岐管路がそれぞれ一個の前
記ガス導入口に接続されていることを特徴とするウェー
ハ保管庫とすることで達成される。
ガス供給源側から下流に向けて順次二本の分岐管路に多
段分岐しており、各終段の分岐管路がそれぞれ一個の前
記ガス導入口に接続されていることを特徴とするウェー
ハ保管庫とすることで達成される。
【０００７】又、この目的は、前記ガス供給配管がマニ
ホールドと、該マニホールドから分岐してそれぞれ一個
の該ガス導入口に接続されている複数の分岐管路と、を
含むことを特徴とするウェーハ保管庫とすることで達成
される。
ホールドと、該マニホールドから分岐してそれぞれ一個
の該ガス導入口に接続されている複数の分岐管路と、を
含むことを特徴とするウェーハ保管庫とすることで達成
される。
【０００８】
【作用】本発明の請求項１に係るウェーハ保管庫では、
幹管路の上流側に連通するガス導入口ほど、即ち通過す
るガスの圧力が高いガス導入口ほど、口径が小さいか
ら、各ガス導入口を通過するガス流量は均等化される。
幹管路の上流側に連通するガス導入口ほど、即ち通過す
るガスの圧力が高いガス導入口ほど、口径が小さいか
ら、各ガス導入口を通過するガス流量は均等化される。
【０００９】本発明の請求項２及び３に係るウェーハ保
管庫では、ガス導入口におけるガス圧に大きな差がない
から、各ガス導入口を通過するガス流量にも大きな差を
生じない。
管庫では、ガス導入口におけるガス圧に大きな差がない
から、各ガス導入口を通過するガス流量にも大きな差を
生じない。
【００１０】その結果、保管室間での窒素置換の程度、
即ち酸素含有率のバラツキは僅少となり、窒素供給量を
増加することにより、酸素含有率を全保管室ほぼ一様に
減らすことが可能となる。
即ち酸素含有率のバラツキは僅少となり、窒素供給量を
増加することにより、酸素含有率を全保管室ほぼ一様に
減らすことが可能となる。
【００１１】
【実施例】本発明に係るウェーハ保管庫の実施例を図１
〜図６を参照しながら説明する。図１は本発明の第一の
実施例の説明図である。この例は、５列６段，計30個の
保管室からなるロッカー型ウェーハ保管庫である。同図
において、１は保管室、2A〜2Fはガス導入口、10は元管
路11、幹管路12、枝管路13からなるガス供給配管であ
る。
〜図６を参照しながら説明する。図１は本発明の第一の
実施例の説明図である。この例は、５列６段，計30個の
保管室からなるロッカー型ウェーハ保管庫である。同図
において、１は保管室、2A〜2Fはガス導入口、10は元管
路11、幹管路12、枝管路13からなるガス供給配管であ
る。
【００１２】各保管室１はそれぞれ一個のガス導入口2A
〜2Fを備えており、前面には扉が設けられている。元管
路11は一端が窒素供給源に連通し、レギュレータ、流量
計、ガスフィルタを備え、他端は各列の保管室１の下方
で幹管幹12に分岐している。幹管路12は各列の保管室１
の背後に１本ずつ（計５本）、下から上に向けて延在し
ている。従って、ガス流路としては幹管路12の上部が下
流側となる。
〜2Fを備えており、前面には扉が設けられている。元管
路11は一端が窒素供給源に連通し、レギュレータ、流量
計、ガスフィルタを備え、他端は各列の保管室１の下方
で幹管幹12に分岐している。幹管路12は各列の保管室１
の背後に１本ずつ（計５本）、下から上に向けて延在し
ている。従って、ガス流路としては幹管路12の上部が下
流側となる。
【００１３】幹管路12にはＴ型継手が各段の保管室１に
対応して一個ずつ挿入されており（但し、上端はＬ型継
手）、そのＴ型継手の分岐部分が枝管路13となってい
る。このＴ型継手の分岐部分の先端には孔付きのキャッ
プが取り付けられており、この孔が保管室１のガス導入
口2A〜2Fとなっている。このガス導入口2A〜2Fの口径
は、幹管路12の窒素供給源寄り（上流側）で分岐したも
のほど口径が小さい。この例では、各列共、最上段の2A
が８mm、以下2Bが６mm、2Cが５mm、2Dが４mm、2Eが３m
m、2Fが２mmとなっている。
対応して一個ずつ挿入されており（但し、上端はＬ型継
手）、そのＴ型継手の分岐部分が枝管路13となってい
る。このＴ型継手の分岐部分の先端には孔付きのキャッ
プが取り付けられており、この孔が保管室１のガス導入
口2A〜2Fとなっている。このガス導入口2A〜2Fの口径
は、幹管路12の窒素供給源寄り（上流側）で分岐したも
のほど口径が小さい。この例では、各列共、最上段の2A
が８mm、以下2Bが６mm、2Cが５mm、2Dが４mm、2Eが３m
m、2Fが２mmとなっている。
【００１４】図２は本発明の第一の実施例の効果を示す
図である。図において、各枠はそれぞれ保管室を表し、
枠内の数字は各保管室内を同時に30分間窒素パージした
後の各室雰囲気の酸素含有率の実測値である。（Ａ）が
本発明の第一の実施例の方式での測定結果であり、
（Ｂ）は従来の方式での測定結果である。これらより明
らかなように、（Ａ）における保管室間の酸素含有率の
バラツキが（Ｂ）に比して著しく小さくなっている（Ｒ
＝15.3％→ 3.9％）。
図である。図において、各枠はそれぞれ保管室を表し、
枠内の数字は各保管室内を同時に30分間窒素パージした
後の各室雰囲気の酸素含有率の実測値である。（Ａ）が
本発明の第一の実施例の方式での測定結果であり、
（Ｂ）は従来の方式での測定結果である。これらより明
らかなように、（Ａ）における保管室間の酸素含有率の
バラツキが（Ｂ）に比して著しく小さくなっている（Ｒ
＝15.3％→ 3.9％）。
【００１５】図３は本発明の第二の実施例の説明図であ
る。同図において、図１と同じものには同一の符号を付
与した。この例も、５列６段，計30の保管室からなるロ
ッカー型ウェーハ保管庫である。２はガス導入口、20は
元管路11、分岐管路22、終段分岐管路23からなるガス供
給配管である。
る。同図において、図１と同じものには同一の符号を付
与した。この例も、５列６段，計30の保管室からなるロ
ッカー型ウェーハ保管庫である。２はガス導入口、20は
元管路11、分岐管路22、終段分岐管路23からなるガス供
給配管である。
【００１６】元管路11は下流側の末端でＴ型継手により
二本の分岐管路22に分岐し、各分岐管路22は更にＴ型継
手によりそれぞれ二本の分岐管路22に分岐している。こ
の分岐が４〜５回繰り返されて30本の終段分岐管路23と
なり、各終段分岐管路23の末端には孔付きのキャップが
取り付けられており、この孔が保管室１のガス導入口２
となっている。このガス導入口２の口径は総て同じ（こ
の例では８mm）である。
二本の分岐管路22に分岐し、各分岐管路22は更にＴ型継
手によりそれぞれ二本の分岐管路22に分岐している。こ
の分岐が４〜５回繰り返されて30本の終段分岐管路23と
なり、各終段分岐管路23の末端には孔付きのキャップが
取り付けられており、この孔が保管室１のガス導入口２
となっている。このガス導入口２の口径は総て同じ（こ
の例では８mm）である。
【００１７】図４は本発明の第二の実施例の効果を示す
図である。図において、各枠はそれぞれ保管室を表し、
枠内の数字は各保管室内を同時に30分間窒素パージした
後の各室雰囲気の酸素含有率の実測値である。この方式
でも保管室間の酸素含有率のバラツキは従来方式（図２
（Ｂ））に比して著しく小さくなっている。
図である。図において、各枠はそれぞれ保管室を表し、
枠内の数字は各保管室内を同時に30分間窒素パージした
後の各室雰囲気の酸素含有率の実測値である。この方式
でも保管室間の酸素含有率のバラツキは従来方式（図２
（Ｂ））に比して著しく小さくなっている。
【００１８】図５は本発明の第三の実施例の説明図であ
る。同図において、図１及び図３と同じものには同一の
符号を付与した。この例も、５列６段，計30の保管室か
らなるロッカー型ウェーハ保管庫である。30は元管路1
1、マニホールド（分岐チャンバ）32及び34、分岐管路3
3及び35からなるガス供給配管である。
る。同図において、図１及び図３と同じものには同一の
符号を付与した。この例も、５列６段，計30の保管室か
らなるロッカー型ウェーハ保管庫である。30は元管路1
1、マニホールド（分岐チャンバ）32及び34、分岐管路3
3及び35からなるガス供給配管である。
【００１９】元管路11は下流側末端で第一のマニホール
ド32を介して六本の分岐管路33に分岐し、各分岐管路33
はそれぞれ第二のマニホールド34を介して五本の分岐管
路35に分岐し、各分岐管路35の末端には孔付きのキャッ
プが取り付けられており、この孔が保管室１のガス導入
口２となっている。このガス導入口２の口径は総て同じ
（この例では８mm）である。尚、図において複数の分岐
管路33及び35の分岐個所はマニホールド32及び34の長手
方向に並んでいるが、それぞれ円周方向に並べてもよ
い。又、マニホールド32から30本の分岐管路33を分岐さ
せれば、マニホールド34及び分岐管路35が不要となる。
ド32を介して六本の分岐管路33に分岐し、各分岐管路33
はそれぞれ第二のマニホールド34を介して五本の分岐管
路35に分岐し、各分岐管路35の末端には孔付きのキャッ
プが取り付けられており、この孔が保管室１のガス導入
口２となっている。このガス導入口２の口径は総て同じ
（この例では８mm）である。尚、図において複数の分岐
管路33及び35の分岐個所はマニホールド32及び34の長手
方向に並んでいるが、それぞれ円周方向に並べてもよ
い。又、マニホールド32から30本の分岐管路33を分岐さ
せれば、マニホールド34及び分岐管路35が不要となる。
【００２０】図６は本発明の第三の実施例の効果を示す
図である。図において、各枠はそれぞれ保管室を表し、
枠内の数字は各保管室内を同時に30分間窒素パージした
後の各室雰囲気の酸素含有率の実測値である。この方式
でも保管室間の酸素含有率のバラツキは従来方式（図２
（Ｂ））に比して著しく小さくなっている。
図である。図において、各枠はそれぞれ保管室を表し、
枠内の数字は各保管室内を同時に30分間窒素パージした
後の各室雰囲気の酸素含有率の実測値である。この方式
でも保管室間の酸素含有率のバラツキは従来方式（図２
（Ｂ））に比して著しく小さくなっている。
【００２１】本発明は以上の実施例に限定されることな
く、更に種々変形して実施することが出来る。例えば第
一乃至第三の実施例の内の二つ乃至三つを組み合わせた
方式においても、本発明は有効である。
く、更に種々変形して実施することが出来る。例えば第
一乃至第三の実施例の内の二つ乃至三つを組み合わせた
方式においても、本発明は有効である。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
保管室間の窒素流入量のバラツキを減らし、保管中のウ
ェーハの品質劣化を防止することが可能なウェーハ保管
庫を提供することが出来る。
保管室間の窒素流入量のバラツキを減らし、保管中のウ
ェーハの品質劣化を防止することが可能なウェーハ保管
庫を提供することが出来る。
【図１】 本発明の第一の実施例の説明図である。
【図２】 本発明の第一の実施例の効果を示す図であ
る。
る。
【図３】 本発明の第二の実施例の説明図である。
【図４】 本発明の第二の実施例の効果を示す図であ
る。
る。
【図５】 本発明の第三の実施例の説明図である。
【図６】 本発明の第三の実施例の効果を示す図であ
る。
る。
【図７】 従来例の説明図である。
１ 保管室 ２，2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F ガス導入口 10, 20, 30 ガス供給配管 11 元管路 12 幹管路 13 枝管路 22, 33, 35 分岐管路 23 終段分岐管路 32, 34 マニホールド
Claims (3)
- 【請求項１】 個別にガス導入口を備えた複数の保管室
と、ガス供給源に連通するガス供給配管とを有するウェ
ーハ保管庫において、 該ガス供給配管は少なくとも一本の幹管路と該幹管路の
異なる位置で該幹管路から分岐する複数の枝管路とを有
し、 該各枝管路は末端でそれぞれ一個の前記ガス導入口に接
続されており、 該ガス導入口は前記幹管路との間に介在する該枝管路の
分岐位置が前記ガス供給源寄りとなるものほど口径が小
さいことを特徴とするウェーハ保管庫。 - 【請求項２】 個別にガス導入口を備えた複数の保管室
と、ガス供給源に連通するガス供給配管とを有するウェ
ーハ保管庫において、 該ガス供給配管は該ガス供給源側から下流に向けて順次
二本の分岐管路に多段分岐しており、各終段の分岐管路
がそれぞれ一個の前記ガス導入口に接続されていること
を特徴とするウェーハ保管庫。 - 【請求項３】 個別にガス導入口を備えた複数の保管室
と、ガス供給源に連通するガス供給配管とを有するウェ
ーハ保管庫において、 該ガス供給配管はマニホールドと、該マニホールドから
分岐してそれぞれ一個の前記ガス導入口に接続されてい
る複数の分岐管路と、を含むことを特徴とするウェーハ
保管庫。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27633894A JPH08139172A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ウェーハ保管庫 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27633894A JPH08139172A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ウェーハ保管庫 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08139172A true JPH08139172A (ja) | 1996-05-31 |
Family
ID=17568054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27633894A Pending JPH08139172A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ウェーハ保管庫 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08139172A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011509520A (ja) * | 2007-12-27 | 2011-03-24 | ラム リサーチ コーポレーション | ショートエッチングレシピのためのガス輸送遅延の解消 |
-
1994
- 1994-11-10 JP JP27633894A patent/JPH08139172A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011509520A (ja) * | 2007-12-27 | 2011-03-24 | ラム リサーチ コーポレーション | ショートエッチングレシピのためのガス輸送遅延の解消 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4917136A (en) | Process gas supply piping system | |
| KR100633190B1 (ko) | 가스 패널 | |
| KR100257305B1 (ko) | 열처리장치 및 그의 크리닝 방법 | |
| KR100242982B1 (ko) | 반도체 장비의 가스 공급 장치 | |
| TW200936886A (en) | Multi-port pumping system for substrate processing chambers | |
| JP4235076B2 (ja) | 半導体製造装置および半導体製造方法 | |
| CN110565161B (zh) | 半导体设备 | |
| CN109712906B (zh) | 具有清洗功能的晶圆存储装置及半导体生产设备 | |
| JP3360539B2 (ja) | ガス供給装置及び気相成長用設備 | |
| WO2020062607A1 (zh) | 进气系统、原子层沉积设备和方法 | |
| JPS6312336A (ja) | 超高純度ガスの供給方法及び供給系 | |
| JPH08139172A (ja) | ウェーハ保管庫 | |
| JPH07321047A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH0254751A (ja) | 金属酸化処理装置及び金属酸化処理方法並びに金属装入方法 | |
| KR102057336B1 (ko) | 가스압력 완충장치가 구비된 가스분석기용 매니폴드 | |
| US20040083588A1 (en) | Vacuum/purge operation of loadlock chamber and method of transferring a wafer using said operation | |
| WO1990000633A1 (en) | Gas supply pipeline system for process equipment | |
| JP2000332095A (ja) | 基板保管装置及び基板保管方法 | |
| JP2001070781A (ja) | 真空処理装置 | |
| CN112349631B (zh) | 一种输气管道、半导体机台 | |
| CN200996041Y (zh) | 多段式反应溅射气体进气装置 | |
| TW200413666A (en) | Fluid controller and heat treatment device | |
| CN219637339U (zh) | 一种进气管路模块 | |
| KR100234531B1 (ko) | 반도체 저압화학기상증착설비의 배기장치 | |
| JPH11294698A (ja) | ガス供給設備 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020219 |