JPH08139136A - Terminal structure of film carrier - Google Patents

Terminal structure of film carrier

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JPH08139136A
JPH08139136A JP27504694A JP27504694A JPH08139136A JP H08139136 A JPH08139136 A JP H08139136A JP 27504694 A JP27504694 A JP 27504694A JP 27504694 A JP27504694 A JP 27504694A JP H08139136 A JPH08139136 A JP H08139136A
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JP
Japan
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lead
leads
film carrier
film
substrate
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Application number
JP27504694A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shin Tada
伸 多田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Publication of JPH08139136A publication Critical patent/JPH08139136A/en
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/36Assembling printed circuits with other printed circuits
    • H05K3/361Assembling flexible printed circuits with other printed circuits
    • H05K3/363Assembling flexible printed circuits with other printed circuits by soldering

Abstract

PURPOSE: To obtain a terminal structure for film carrier in which a lead is protected against breakage through reinforcement while preventing solder touch surely. CONSTITUTION: A plurality of leads 2 are formed on a film base member. Holes 6a are made independently in the film base member between adjacent leads 2 on the outer lead side of the lead 2 and a part 1b of the film base material is bonded integrally onto the lead 2. The part 1b of the base material enhances the strength of the lead 2. The lead 2 is soldered 13 to the wiring pattern 12 on a board 11. The holes 6a prevents the solder 13 bulging from the lead 2 from touching the lead 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電卓、電子手帳、携帯
情報端末、ワープロ、パソコンなど各種の電子機器にお
いて使用されるテープキャリアパッケージ(TCP)な
どを基板にハンダ付けするフィルムキャリアの端子構造
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a terminal structure of a film carrier for soldering a tape carrier package (TCP) or the like used in various electronic devices such as a calculator, an electronic notebook, a personal digital assistant, a word processor and a personal computer to a substrate. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】図15は従来例においてフィルムキャリ
アを基板にハンダ付けした状態の断面図、図16はその
フィルムキャリアの平面図、図17はフィルムキャリア
を基板にハンダ付けした場合の図16のe−e線での断
面図である。図において、1はポリイミドからなるフィ
ルム基材、2はフィルム基材1上に銅箔パターンのエッ
チングによって複数本形成されたリード、3はリード2
のインナーリードに接合された半導体チップ、4は半導
体チップ3に対する封止樹脂、5は出力端子部、6はリ
ード2の入力端子部側(アウターリード側)においてフ
ィルム基材1に細長く形成されたスリット、6aは細長
いスリット6に臨む箇所において隣接する各リード2間
に互いに独立した状態で存在する孔、11は基板、12
は基板11上に形成された銅箔による配線パターン、1
3はリード2のアウターリードと配線パターン12とを
接合するハンダ、31は細長いスリット6の部分におい
て押圧するOLB(アウターリードボンディング)ボン
ディングツールである。リード2そのものの厚みが20
μmと非常に薄いため、リード2の最外端に対しては基
材1aを残している。スリット6の部分において並んだ
複数のリード2はむき出しの状態となっている。
2. Description of the Related Art FIG. 15 is a sectional view showing a state in which a film carrier is soldered to a substrate in a conventional example, FIG. 16 is a plan view of the film carrier, and FIG. 17 is a plan view of FIG. 16 when the film carrier is soldered to a substrate. It is sectional drawing in the ee line. In the figure, 1 is a film base made of polyimide, 2 is a lead formed by etching a copper foil pattern on the film base 1, and 3 is a lead 2.
Of the semiconductor chip bonded to the inner lead of the above, 4 is a sealing resin for the semiconductor chip 3, 5 is an output terminal portion, and 6 is formed on the film base material 1 on the input terminal portion side (outer lead side) of the lead 2 so as to be elongated. Slits, 6a are holes existing independently of each other between the leads 2 adjacent to each other at a position facing the elongated slit 6, 11 is a substrate, 12
Is a wiring pattern made of copper foil formed on the substrate 11, 1
Reference numeral 3 is a solder that joins the outer lead of the lead 2 and the wiring pattern 12, and 31 is an OLB (outer lead bonding) bonding tool that presses in the portion of the elongated slit 6. The lead 2 itself has a thickness of 20
Since the thickness is very thin (μm), the base material 1a is left on the outermost end of the lead 2. The plurality of leads 2 arranged in the slit 6 are exposed.

【0003】図18は従来におけるフィルムキャリアの
製造工程を示す断面図、図19はそのフローチャートで
ある。まず、フィルム基材1(ポリイミドフィルム)の
表面に接着剤14をコーティングしてカバーフィルム1
5を貼り合わせ、フィルム基材1の表面をカバーフィル
ム15で保護する。次に、フィルム基材1に対するカッ
ティングにより所定幅のテープ状に分離した後、スリッ
トパンチを行って、フィルム基材1にデバイスホール1
6、OLB(アウターリードボンディング)用の細長い
スリット6、折り曲げ用スリット17を形成する。スリ
ットパンチについては、1つの細長いスリット6が形成
されるように金型で打ち抜く。次に、カバーフィルム1
5上に銅箔18をラミネーティングする。そして、銅箔
18上にホトレジスト19をコーティングし、マスキン
グしてパターンを焼き付け、現像する。次いで、デバイ
スホール16やOLB用のスリット6に対して裏止め樹
脂20,21をコーティングし、エッチングした後、レ
ジストおよび裏止め樹脂を除去して所定のパターンでリ
ード2を形成する。その後、ソルダーレジストを塗布
し、リード2上にスズメッキ等のメッキを施し、フィル
ムキャリアを完成させる。
FIG. 18 is a sectional view showing a conventional manufacturing process of a film carrier, and FIG. 19 is a flowchart thereof. First, the surface of the film substrate 1 (polyimide film) is coated with the adhesive 14 to cover the film 1.
5 are attached and the surface of the film substrate 1 is protected by the cover film 15. Next, after the film substrate 1 is cut into a tape having a predetermined width, slit punching is performed so that the film substrate 1 has the device holes 1
6, an elongated slit 6 for OLB (outer lead bonding) and a bending slit 17 are formed. The slit punch is punched with a die so that one elongated slit 6 is formed. Next, cover film 1
The copper foil 18 is laminated on the surface 5. Then, a photoresist 19 is coated on the copper foil 18, masked, baked into a pattern, and developed. Next, the device holes 16 and the slits 6 for OLB are coated with backing resins 20 and 21, and after etching, the resist and the backing resin are removed to form the leads 2 in a predetermined pattern. After that, a solder resist is applied, and plating such as tin plating is performed on the leads 2 to complete the film carrier.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】配線パターン12に対
してリード2がハンダ付けされるスリット6の部分にお
いては、リード2にはフィルム基材1がカバーされてお
らず、リード2はむき出しの状態となっているため、T
CP単体においても基板11にハンダ付けした状態にお
いても、外的なストレス(曲げ、ひねり、剪断など)が
加わると、スリット6の境界でリード2が断線するとい
う問題があった。
In the portion of the slit 6 where the lead 2 is soldered to the wiring pattern 12, the lead 2 is not covered with the film base material 1 and the lead 2 is exposed. Because T is
There is a problem that the lead 2 is disconnected at the boundary of the slit 6 when external stress (bending, twisting, shearing, etc.) is applied to both the CP alone and the soldered state to the substrate 11.

【0005】リード2が断線しないよう補強するために
細長いスリット6をなくしたのが図20〜図22に示す
ものである。図20はフィルムキャリアを基板にハンダ
付けした状態の断面図、図21はフィルムキャリアの平
面図、図22は図21におけるf−f線での断面図であ
る。この場合、フィルム基材1がリード2の全体を覆う
から、リード2の強度が弱くならずにすみ断線を防止で
きる。しかし、図22に示すように、ハンダ13が隣接
するリード2どうしおよび配線パターン12どうしを接
続してしまうハンダタッチの問題が生じる。
The elongated slit 6 is eliminated in order to reinforce the lead 2 so as not to be broken, as shown in FIGS. 20 is a cross-sectional view of the film carrier soldered to the substrate, FIG. 21 is a plan view of the film carrier, and FIG. 22 is a cross-sectional view taken along line ff of FIG. In this case, since the film base material 1 covers the whole of the lead 2, the strength of the lead 2 is not weakened and it is possible to prevent breakage of the lead. However, as shown in FIG. 22, there arises a problem of solder touch in which the solder 13 connects the adjacent leads 2 and the wiring patterns 12 to each other.

【0006】なお、OLB用のスリット6は、フィルム
キャリアの製造工程において、配線パターン12のラミ
ネーティング前に形成されていたため、エッチングによ
ってリード2を形成するに際して、前もってスリット6
に裏止め樹脂21を塗布し、パターニング後に裏止め樹
脂21を除去しなければならず、製造が煩雑で高コスト
につくという問題もあった。
Since the OLB slit 6 was formed before the laminating of the wiring pattern 12 in the manufacturing process of the film carrier, the slit 6 is formed in advance when the lead 2 is formed by etching.
There is also a problem that the backing resin 21 has to be applied to the above, and the backing resin 21 must be removed after patterning, resulting in complicated manufacturing and high cost.

【0007】本発明は、このような事情に鑑みて創案さ
れたものであって、リードの断線およびハンダタッチを
確実に防止することができるフィルムキャリアの端子構
造を提供することを目的としている。
The present invention was devised in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a film carrier terminal structure capable of reliably preventing disconnection of leads and solder touch.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明に係る請求項1の
フィルムキャリアの端子構造は、フィルム基材上に複数
のリードが形成されており、アウターリード側において
隣接リード間で前記フィルム基材に互いに独立した孔が
形成されて各リード上にフィルム基材の一部が一体的に
接合されており、基板のパターンに対して前記リードが
ハンダ付けされていることを特徴とするものである。
A terminal structure for a film carrier according to claim 1 of the present invention has a plurality of leads formed on a film base material, and the film base material is provided between adjacent leads on the outer lead side. Independent holes are formed in each of the holes, a part of the film base material is integrally bonded on each lead, and the leads are soldered to the pattern of the substrate. .

【0009】本発明に係る請求項2のフィルムキャリア
の端子構造は、上記請求項1において、各リード上のフ
ィルム基材の幅がリード幅よりも小さく、リードの両側
部分がむき出し状態になっていることを特徴とするもの
である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a film carrier terminal structure according to the first aspect, wherein the width of the film base material on each lead is smaller than the lead width and both sides of the lead are exposed. It is characterized by being present.

【0010】本発明に係る請求項3のフィルムキャリア
の端子構造は、フィルム基材上に複数のリードが形成さ
れており、アウターリード側において全リードにわたる
細長いスリットが形成され、この細長いスリットに臨む
箇所において各リード上に補強樹脂を塗布してあること
を特徴とするものである。
In the film carrier terminal structure according to a third aspect of the present invention, a plurality of leads are formed on the film base material, and elongated slits are formed over all the leads on the outer lead side to face the elongated slits. Reinforcing resin is applied to each lead at the location.

【0011】[0011]

【作用】請求項1のフィルムキャリアの端子構造におい
ては、各リード上にフィルム基材の一部が一体接合され
ているから、リードがむき出しであった従来例に比べて
外的ストレスに対するリードの強度が高くなる。また、
リード間の孔がハンダ付けの際にリード間にはみ出した
ハンダが逃げる空間となり、ハンダタッチが避けられ
る。
In the terminal structure of the film carrier according to claim 1, since a part of the film base material is integrally joined onto each lead, the lead is not exposed to external stress as compared with the conventional example in which the lead is exposed. Increases strength. Also,
The holes between the leads provide a space for the solder that protrudes between the leads to escape during soldering, thus avoiding solder touch.

【0012】請求項2のフィルムキャリアの端子構造に
おいては、リード間にはみ出したハンダがリードの両側
部分のむき出し部にまわり込むようして吸収され、ハン
ダタッチ防止が一層確実なものとなる。
In the film carrier terminal structure according to the second aspect of the invention, the solder protruding between the leads is absorbed so as to wrap around the exposed portions on both sides of the leads, and the solder touch can be prevented more reliably.

【0013】請求項3のフィルムキャリアの端子構造に
おいては、各リード上に補強樹脂が一体化されているか
ら、リードがむき出しであった従来例に比べて外的スト
レスに対するリードの強度が高くなる。また、リード間
の孔がハンダ付けの際にリード間にはみ出したハンダが
逃げる空間となり、ハンダタッチが避けられる。
In the terminal structure of the film carrier of claim 3, since the reinforcing resin is integrated on each lead, the strength of the lead against external stress becomes higher than that of the conventional example in which the lead is exposed. . Further, the holes between the leads serve as spaces for the solder protruding between the leads to escape during soldering, so that solder touch can be avoided.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明に係るフィルムキャリアの端子
構造の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the terminal structure of the film carrier according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0015】〔第1実施例〕図1は第1実施例において
フィルムキャリアを基板にハンダ付けした状態の断面
図、図2はそのフィルムキャリアの平面図、図3はフィ
ルムキャリアを基板にハンダ付けした場合の図2のa−
a線での断面図である。ポリイミドからなるフィルム基
材1上に銅箔パターンのエッチングによって複数のリー
ド2が形成され、リード2のインナーリードに半導体チ
ップ3が接合され、その半導体チップ3が封止樹脂4に
より封止結合されている。5は出力端子部である。リー
ド2の入力端子部側(アウターリード側)において、従
来例のようにすべてのリード2にわたって細長いスリッ
トを形成するのではなく、隣接リード2間において互い
に独立した孔6aだけをフィルム基材1に形成してい
る。したがって、厚さ20μmのリード2の上側に厚さ
75μmの基材1bが一体的に接合され、リード2がむ
き出しであった従来例に比べて外的ストレスに対するリ
ード2の強度を高めている。リード2間および基材1b
間には互いに独立した複数の孔6aが存在している。こ
のような孔6aの形成は、隣接するリード2どうしの
間、および最も外側の両リード2のさらに外側のみを打
ち抜く金型を用いることによって形成できる。
[First Embodiment] FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in which a film carrier is soldered to a substrate in the first embodiment, FIG. 2 is a plan view of the film carrier, and FIG. 3 is a film carrier soldered to the substrate. A- in the case of
It is sectional drawing in a line. A plurality of leads 2 are formed by etching a copper foil pattern on a film base material 1 made of polyimide, a semiconductor chip 3 is bonded to an inner lead of the lead 2, and the semiconductor chip 3 is sealed and bonded by a sealing resin 4. ing. Reference numeral 5 is an output terminal section. On the input terminal portion side (outer lead side) of the lead 2, instead of forming elongated slits over all the leads 2 as in the conventional example, only the independent holes 6a between the adjacent leads 2 are formed in the film substrate 1. Is forming. Therefore, the base material 1b having a thickness of 75 μm is integrally joined to the upper side of the lead 2 having a thickness of 20 μm, and the strength of the lead 2 against external stress is increased as compared with the conventional example in which the lead 2 is exposed. Between leads 2 and base material 1b
There are a plurality of holes 6a that are independent from each other. Such holes 6a can be formed by using a die for punching only between the leads 2 adjacent to each other and only the outer sides of the outermost leads 2 as well.

【0016】基板11の上には配線パターン12が形成
されているが、この基板11と上記構成のフィルムキャ
リアとを重ね合わせ、その際にアウターリード部分にお
いてリード2と配線パターン12とをハンダ13を用い
て一体接合する。隣接するリード2間に孔6aが存在し
ているので、リード2と配線パターン12の間からはみ
出したハンダ13が隣のハンダ付け部分にタッチするこ
とがない(ハンダタッチ防止)。また、フィルムキャリ
アを基板に接合した後に、補強樹脂を塗布する必要性も
ない。なお、ハンダ付けの際にはOLBボンディングツ
ール31によって押圧する。
A wiring pattern 12 is formed on the substrate 11, and the substrate 11 and the film carrier having the above-mentioned structure are superposed on each other. At that time, the leads 2 and the wiring pattern 12 are soldered to each other in the outer lead portion. Are integrally joined using. Since the hole 6a exists between the adjacent leads 2, the solder 13 protruding from between the lead 2 and the wiring pattern 12 does not touch the adjacent soldered portion (solder touch prevention). Further, there is no need to apply the reinforcing resin after the film carrier is bonded to the substrate. When soldering, the OLB bonding tool 31 presses.

【0017】〔第2実施例〕図4は第2実施例のフィル
ムキャリアの平面図、図5はフィルムキャリアを基板に
ハンダ付けした場合の図4のb−b線での断面図であ
る。第1実施例と比べると、アウターリード側において
リード2の上に残されている基材1bの幅がリード2よ
りも小さくなっている。残された基材1bの両側がリー
ド2の端縁より内側に位置しており、リード2の両側部
分がむき出し状態となっている。残された基材1bの付
け根部はリード2と同幅となっている。その他の構成は
第1実施例と同様であるので、対応する部分に同一符号
を付すにとどめ、説明を省略する。
[Second Embodiment] FIG. 4 is a plan view of a film carrier according to a second embodiment, and FIG. 5 is a sectional view taken along line bb in FIG. 4 when the film carrier is soldered to a substrate. Compared with the first embodiment, the width of the base material 1b left on the lead 2 on the outer lead side is smaller than that of the lead 2. Both sides of the remaining base material 1b are located inside the end edges of the leads 2, and both side portions of the leads 2 are exposed. The root portion of the remaining base material 1b has the same width as the lead 2. Since other configurations are similar to those of the first embodiment, the same reference numerals are given to corresponding portions, and the description thereof will be omitted.

【0018】この実施例の場合、リード2に基材1bを
一体化することにより外的ストレスに対するリード2の
強度を高めるとともに、リード2の両側部分がむき出し
の状態になることから、ハンダ13を残された基材1b
の両側のむき出し部分にまわり込ませるように吸収する
ので、ハンダタッチ防止を一層確実なものとできる。
In the case of this embodiment, since the base material 1b is integrated with the lead 2 to increase the strength of the lead 2 against external stress and both sides of the lead 2 are exposed, the solder 13 is used. Remaining base material 1b
Since it absorbs so that it wraps around the exposed parts on both sides of, the solder touch can be prevented more reliably.

【0019】また、フィルムキャリアを基板に接合した
後に、補強樹脂を塗布する必要性はない。
Further, it is not necessary to apply the reinforcing resin after the film carrier is bonded to the substrate.

【0020】〔第3実施例〕図6は第3実施例において
フィルムキャリアを基板にハンダ付けした状態の断面
図、図7はそのフィルムキャリアの平面図、図8はフィ
ルムキャリアを基板にハンダ付けした場合の図7のc−
c線での断面図である。この実施例においては、従来例
と同様にフィルム基材1にすべてのリード2にわたる細
長いスリット6を形成し、ソルダーレジストの塗布工程
においてスリット6に臨んでいる複数のリード2のそれ
ぞれに対してポリイミドなどからなる補強樹脂22をリ
ード2の幅で塗布してある。塗布方法としては印刷法が
用いられる。補強樹脂22の厚さはリード2と同様に2
0μm程度である。その他の構成は第1実施例と同様で
あるので、対応する部分に同一符号を付すにとどめ、説
明を省略する。
[Third Embodiment] FIG. 6 is a sectional view showing a state in which a film carrier is soldered to a substrate in the third embodiment, FIG. 7 is a plan view of the film carrier, and FIG. 8 is a soldering method to the substrate. C- in FIG.
It is sectional drawing in the c line. In this embodiment, elongated slits 6 extending over all the leads 2 are formed on the film substrate 1 as in the conventional example, and polyimide is applied to each of the leads 2 facing the slits 6 in the solder resist coating process. A reinforcing resin 22 made of, for example, is applied to the width of the lead 2. A printing method is used as the coating method. The thickness of the reinforcing resin 22 is 2 as with the lead 2.
It is about 0 μm. Since other configurations are similar to those of the first embodiment, the same reference numerals are given to corresponding portions, and the description thereof will be omitted.

【0021】この実施例の場合、リード2がむき出しで
あった従来例に比べて外的ストレスに対するリード2の
強度を高めている。また、リード2間の孔6aの存在に
よりハンダタッチを防止できる。さらに、補強樹脂22
が20μmと比較的薄いので、ハンダ付けの際のOLB
ボンディングツール31の温度はリードがむき出しにな
っている従来例の場合と同じくらいでよい。
In the case of this embodiment, the strength of the lead 2 against external stress is increased as compared with the conventional example in which the lead 2 is exposed. Further, the presence of the holes 6a between the leads 2 can prevent solder touch. Further, the reinforcing resin 22
Is relatively thin at 20 μm, so it is an OLB for soldering.
The temperature of the bonding tool 31 may be the same as in the case of the conventional example in which the leads are exposed.

【0022】図9はフィルムキャリアを上下で反転し、
図6の場合とは反対側から補強樹脂22を塗布したもの
である。
FIG. 9 shows the film carrier turned upside down,
The reinforcing resin 22 is applied from the side opposite to the case of FIG.

【0023】図6と図9との対比から明らかなように、
補強樹脂22をフィルムキャリアの表面、裏面のどちら
に塗布するかにより、基板11に対してどちらの面でも
自由にハンダ付けすることができる。
As is clear from the comparison between FIGS. 6 and 9,
Depending on whether the reinforcing resin 22 is applied to the front surface or the back surface of the film carrier, it is possible to freely solder either surface to the substrate 11.

【0024】〔第4実施例〕図10は第4実施例のフィ
ルムキャリアの平面図、図11はフィルムキャリアを基
板にハンダ付けした場合の図10のd−d線での断面図
である。この実施例においては、従来例と同様にフィル
ム基材1にすべてのリード2にわたる細長いスリット6
を形成し、ソルダーレジストの塗布工程においてスリッ
ト6に臨んでいる複数のリード2のそれぞれに対してポ
リイミドなどからなる補強樹脂22をリード2よりも細
い幅で塗布してある。補強樹脂22の両側がリード2の
端縁より内側に位置しており、補強樹脂22の付け根部
はリード2と同幅となっている。その他の構成は第1実
施例と同様であるので、対応する部分に同一符号を付す
にとどめ、説明を省略する。
[Fourth Embodiment] FIG. 10 is a plan view of a film carrier according to a fourth embodiment, and FIG. 11 is a sectional view taken along line d-d of FIG. 10 when the film carrier is soldered to a substrate. In this embodiment, the elongated slits 6 extending over all the leads 2 are formed on the film substrate 1 as in the conventional example.
And a reinforcing resin 22 made of polyimide or the like is applied to each of the plurality of leads 2 facing the slit 6 in a width smaller than that of the leads 2 in the solder resist applying step. Both sides of the reinforcing resin 22 are located inside the end edges of the leads 2, and the base portion of the reinforcing resin 22 has the same width as the leads 2. Since other configurations are similar to those of the first embodiment, the same reference numerals are given to corresponding portions, and the description thereof will be omitted.

【0025】この実施例の場合、外的ストレスに対する
リード2の強度を高めるとともに、リード2の両側部分
がむき出し状態になっていることから、ハンダ13を補
強樹脂22の両側にまわり込ませるように吸収し、ハン
ダタッチ防止を一層確実なものとできる。また、補強樹
脂22は薄いので、ハンダ付けの際のOLBボンディン
グツールの温度をそれほど上げる必要もない。
In the case of this embodiment, the strength of the lead 2 against external stress is increased and both sides of the lead 2 are exposed, so that the solder 13 is made to wrap around both sides of the reinforcing resin 22. Absorbs and prevents solder touch even more reliably. Further, since the reinforcing resin 22 is thin, it is not necessary to raise the temperature of the OLB bonding tool so much during soldering.

【0026】〔第5実施例〕図12は第5実施例のフィ
ルムキャリアの製造工程を示す断面図、図13はそのフ
ローチャートである。従来例(図18,図19)の場合
に比べて、フィルム基材1に対するスリットパンチの際
にアウターリード部において細長いスリット6を形成し
ない点が異なっている(図12の(c)参照)。したが
って、銅箔のエッチングに際して裏止め樹脂21をコー
ティングする必要もない。そして、エッチング用のレジ
ストおよび裏止め樹脂20を除去した後に、アウターリ
ード部に細長いスリット6をパンチングする(図12の
(f)参照)。その他については従来例と同様であるの
で、対応する部分に同一符号を付す。すなわち、14は
接着剤、15はカバーフィルム、16はデバイスホー
ル、17は折り曲げ用スリット、18は銅箔、19はホ
トレジスト、20は裏止め樹脂である。そして、2は銅
箔18をエッチングして形成されたリードである。
[Fifth Embodiment] FIG. 12 is a sectional view showing a manufacturing process of a film carrier of a fifth embodiment, and FIG. 13 is a flowchart thereof. Compared with the case of the conventional example (FIGS. 18 and 19), the point that the elongated slit 6 is not formed in the outer lead portion when slit punching the film base material 1 is different (see FIG. 12C). Therefore, it is not necessary to coat the backing resin 21 when etching the copper foil. Then, after removing the resist for etching and the backing resin 20, an elongated slit 6 is punched in the outer lead portion (see FIG. 12 (f)). The other parts are the same as in the conventional example, and corresponding parts are designated by the same reference numerals. That is, 14 is an adhesive, 15 is a cover film, 16 is a device hole, 17 is a slit for bending, 18 is a copper foil, 19 is a photoresist, and 20 is a backing resin. Reference numeral 2 is a lead formed by etching the copper foil 18.

【0027】この実施例の場合、スリット6に対する裏
止め樹脂21のコーティングと、裏止め樹脂21の除去
作業が不要となる。
In the case of this embodiment, it is not necessary to coat the slit 6 with the backing resin 21 and to remove the backing resin 21.

【0028】〔第6実施例〕図14は第6実施例のフィ
ルムキャリアの製造工程を示す断面図である。第5実施
例とは異なり、従来例(図19)と同様に、フィルム基
材1に対するスリットパンチの際にデバイスホール16
や折り曲げ用スリット17と同時にアウターリード部に
おいて細長いスリット6を形成する。そして、銅箔18
のエッチングに先立ってデバイスホール16に裏止め樹
脂20をコーティングするとともに、スリット6におい
てリード2の面にリード2の幅と同幅で裏止め樹脂21
をコーティングする。リード幅で裏止め樹脂21がコー
ティングされている部分はエッチングされないので、リ
ード2に裏止め樹脂21がコーティングされた状態でフ
ィルムキャリアが作製される。すなわち、裏止め樹脂2
1は残したままとする。
[Sixth Embodiment] FIG. 14 is a sectional view showing a manufacturing process of a film carrier of a sixth embodiment. Unlike the fifth example, the device hole 16 is not formed when slit punching the film substrate 1 as in the conventional example (FIG. 19).
At the same time as the bending slit 17 and the bending slit 17, the elongated slit 6 is formed in the outer lead portion. And copper foil 18
Prior to the etching, the device hole 16 is coated with a backing resin 20, and the surface of the lead 2 in the slit 6 has the same width as the width of the lead 2 and the backing resin 21.
Coating. Since the portion of the lead width coated with the backing resin 21 is not etched, the film carrier is produced with the lead 2 coated with the backing resin 21. That is, backing resin 2
Leave 1 as it is.

【0029】その他の構成は第5実施例と同様であるの
で、対応する部分に同一符号を付すにとどめ、説明を省
略する。
Since the other construction is the same as that of the fifth embodiment, the corresponding portions are allotted with the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0030】この実施例の場合、裏止め樹脂21をコー
ティングする工程で、リード2に対する補強を兼ね備え
た裏止め樹脂21とすることができ、パターニングによ
るリード2の形成の後に補強樹脂を塗布する必要性がな
い。
In the case of this embodiment, in the step of coating the backing resin 21, the backing resin 21 which also functions as a reinforcement for the leads 2 can be obtained, and it is necessary to apply the reinforcement resin after forming the leads 2 by patterning. There is no nature.

【0031】[0031]

【発明の効果】請求項1のフィルムキャリアの端子構造
によれば、各リード上にフィルム基材の一部を一体接合
しているので、リードがむき出しであった従来例に比べ
て外的ストレスに対するリードの強度を高くしてその断
線を防止でき、また、リード間の孔がハンダ付けの際に
リード間にはみ出したハンダが逃げる空間となり、隣接
リード間でのハンダタッチを避けることができる。
According to the terminal structure of the film carrier of claim 1, since a part of the film base material is integrally bonded onto each lead, external stress is applied as compared with the conventional example in which the lead is exposed. It is possible to increase the strength of the lead to prevent the breakage of the lead, and the hole between the leads serves as a space for escape of the solder protruding between the leads at the time of soldering, so that solder touch between adjacent leads can be avoided.

【0032】請求項2のフィルムキャリアの端子構造に
よれば、各リード上のフィルム基材の幅をリード幅より
も小さくしリードの両側部分をむき出し状態としている
ので、リード間にはみ出したハンダをリード両側部分の
むき出し部にまわり込ませるようして吸収するため、ハ
ンダタッチ防止を一層確実なものとできる。
According to the terminal structure of the film carrier of claim 2, since the width of the film base material on each lead is made smaller than the lead width and both side portions of the lead are exposed, the solder protruding between the leads can be removed. Since it absorbs by wrapping it around the exposed parts of both sides of the lead, it is possible to further prevent solder touch.

【0033】請求項3のフィルムキャリアの端子構造に
よれば、各リード上に補強樹脂を一体化しているから、
リードがむき出しであった従来例に比べて外的ストレス
に対するリードの強度を高くしてその断線を防止でき、
また、リード間の孔がハンダ付けの際にリード間にはみ
出したハンダが逃げる空間となり、ハンダタッチを避け
ることができる。
According to the terminal structure of the film carrier of claim 3, since the reinforcing resin is integrated on each lead,
Compared with the conventional example where the lead was bare, the strength of the lead against external stress can be increased and the disconnection can be prevented,
Further, the holes between the leads serve as spaces for escape of the solder protruding between the leads during soldering, so that solder touch can be avoided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例においてフィルムキャリア
を基板にハンダ付けした状態の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a state in which a film carrier is soldered to a substrate in a first embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるフィルムキャリアの平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view of the film carrier in FIG.

【図3】フィルムキャリアを基板にハンダ付けした場合
の図2のa−a線での断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line aa in FIG. 2 when the film carrier is soldered to the substrate.

【図4】第2実施例のフィルムキャリアの平面図であ
る。
FIG. 4 is a plan view of a film carrier according to a second embodiment.

【図5】フィルムキャリアを基板にハンダ付けした場合
の図4のb−b線での断面図である。
5 is a sectional view taken along line bb of FIG. 4 when the film carrier is soldered to the substrate.

【図6】第3実施例においてフィルムキャリアを基板に
ハンダ付けした状態の断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a state in which a film carrier is soldered to a substrate in the third embodiment.

【図7】図6におけるフィルムキャリアの平面図であ
る。
FIG. 7 is a plan view of the film carrier shown in FIG.

【図8】フィルムキャリアを基板にハンダ付けした場合
の図7のc−c線での断面図である。
8 is a sectional view taken along line cc of FIG. 7 when the film carrier is soldered to the substrate.

【図9】第3実施例の変形例の図6に相当する断面図で
ある。
FIG. 9 is a sectional view corresponding to FIG. 6 of a modification of the third embodiment.

【図10】第4実施例のフィルムキャリアの平面図であ
る。
FIG. 10 is a plan view of a film carrier according to a fourth embodiment.

【図11】フィルムキャリアを基板にハンダ付けした場
合の図10のd−d線での断面図である。
11 is a cross-sectional view taken along the line dd of FIG. 10 when the film carrier is soldered to the substrate.

【図12】第5実施例のフィルムキャリアの製造工程を
示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the film carrier of the fifth embodiment.

【図13】第5実施例の場合の製造工程を示すフローチ
ャートである。
FIG. 13 is a flowchart showing a manufacturing process in the case of the fifth embodiment.

【図14】第6実施例のフィルムキャリアの製造工程を
示す断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the film carrier of the sixth embodiment.

【図15】従来例においてフィルムキャリアを基板にハ
ンダ付けした状態の断面図である。
FIG. 15 is a sectional view showing a state in which a film carrier is soldered to a substrate in a conventional example.

【図16】図15におけるフィルムキャリアの平面図で
ある。
16 is a plan view of the film carrier in FIG.

【図17】フィルムキャリアを基板にハンダ付けした場
合の図16におけるe−e線での断面図である。
17 is a sectional view taken along the line ee in FIG. 16 when the film carrier is soldered to the substrate.

【図18】従来におけるフィルムキャリアの製造工程を
示す断面図である。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a conventional film carrier.

【図19】従来のフィルムキャリアの製造工程を説明す
るフローチャートである。
FIG. 19 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a conventional film carrier.

【図20】別の従来例においてフィルムキャリアを基板
にハンダ付けした状態の断面図である。
FIG. 20 is a sectional view showing a state in which a film carrier is soldered to a substrate in another conventional example.

【図21】図20におけるフィルムキャリアの平面図で
ある。
21 is a plan view of the film carrier shown in FIG. 20. FIG.

【図22】フィルムキャリアを基板にハンダ付けした場
合の図21におけるf−f線での断面図である。
22 is a cross-sectional view taken along line ff in FIG. 21 when the film carrier is soldered to the substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……フィルム基材 1b…リード上に残された基材 2……リード 3……半導体チップ 4……封止樹脂 5……出力端子部 6……細長いスリット 6a…孔 11……基板 12……配線パターン 13……ハンダ 14……接着剤 15……カバーフィルム 16……デバイスホール 17……折り曲げ用スリット 18……銅箔 19……ホトレジスト 20……裏止め樹脂 21……裏止め樹脂 22……補強樹脂 31……OLBボンディングツール 1 ... Film base material 1b ... Base material left on the lead 2 ... Lead 3 ... Semiconductor chip 4 ... Sealing resin 5 ... Output terminal portion 6 ... Elongated slit 6a ... Hole 11 ... Substrate 12 Wiring pattern 13 Solder 14 Adhesive 15 Cover film 16 Device hole 17 Bending slit 18 Copper foil 19 Photoresist 20 Backing resin 21 Backing resin 22 ... Reinforcing resin 31 ... OLB bonding tool

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィルム基材上に複数のリードが形成さ
れており、アウターリード側において隣接リード間で前
記フィルム基材に互いに独立した孔が形成されて各リー
ド上にフィルム基材の一部が一体的に接合されており、
基板のパターンに対して前記リードがハンダ付けされて
いることを特徴とするフィルムキャリアの端子構造。
1. A plurality of leads are formed on a film base, and independent holes are formed in the film base between adjacent leads on the outer lead side to form a part of the film base on each lead. Are integrally joined,
A terminal structure of a film carrier, wherein the lead is soldered to a pattern of a substrate.
【請求項2】 各リード上のフィルム基材の幅がリード
幅よりも小さく、リードの両側部分がむき出し状態にな
っていることを特徴とする請求項1に記載のフィルムキ
ャリアの端子構造。
2. The terminal structure of the film carrier according to claim 1, wherein the width of the film base material on each lead is smaller than the lead width, and both side portions of the lead are exposed.
【請求項3】 フィルム基材上に複数のリードが形成さ
れており、アウターリード側において全リードにわたる
細長いスリットが形成され、この細長いスリットに臨む
箇所において各リード上に補強樹脂を塗布してあること
を特徴とするフィルムキャリアの端子構造。
3. A plurality of leads are formed on a film base material, an elongated slit is formed over all the leads on the outer lead side, and a reinforcing resin is applied to each lead at a position facing the elongated slit. A film carrier terminal structure characterized by the above.
JP27504694A 1994-11-09 1994-11-09 Terminal structure of film carrier Pending JPH08139136A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007103733A (en) * 2005-10-05 2007-04-19 Nec Electronics Corp Substrate and semiconductor device using the same
US7336446B2 (en) 2003-12-04 2008-02-26 Nitto Denko Corporation Suspension board having a circuit and a flying lead portion
JP2008053747A (en) * 1999-03-25 2008-03-06 Seiko Epson Corp Wiring board, connecting board, and semiconductor devices and method of manufacturing of them, together with circuit board and electronic instrument
JP2008103739A (en) * 1999-03-25 2008-05-01 Seiko Epson Corp Wiring substrate, connection substrate, semiconductor device and their production method, circuit substrate, and electronic apparatus

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