JPH08134330A - Epoxy resin composition for sealing tab and tab device - Google Patents

Epoxy resin composition for sealing tab and tab device

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JPH08134330A
JPH08134330A JP30290794A JP30290794A JPH08134330A JP H08134330 A JPH08134330 A JP H08134330A JP 30290794 A JP30290794 A JP 30290794A JP 30290794 A JP30290794 A JP 30290794A JP H08134330 A JPH08134330 A JP H08134330A
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浩二 二ッ森
Shinichi Jingu
慎一 神宮
Kenichi Totsuka
賢一 戸塚
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Abstract

PURPOSE: To obtain an epoxy resin composition for tape automated bonding(TAB) sealing, excellent in low stress properties and capable of providing a cured product excellent in filling properties in a narrow gap and suitable as a transfer moldable resin for the TAB sealing. CONSTITUTION: This epoxy resin composition for TAB sealing is obtained by using a resin component having <=14cSt viscosity at 25 deg.C of a 40wt.% solution in methyl isobutyl ketone as the resin component comprising an epoxy resin and a curing agent and blending fused silica having a particle size distribution of <=0.2wt.% particles having >=24μm particle diameter, 20-80wt.% particles having >=3μm particle diameter and 20-80wt.% particles having <3μm, and an average particle diameter of <=10μm as an inorganic filler in an amount of 65-90wt.% based on the whole composition therewith in the epoxy resin composition for the TAB sealing containing the epoxy resin, curing agent and inorganic filler.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、低応力性に優れると共
に、30〜60μmという狭い隙間への充填性が改良さ
れたトランスファーモールド可能なTAB封止用エポキ
シ樹脂組成物及びこの組成物の硬化物で封止されたTA
B装置に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a transfer moldable TAB encapsulating epoxy resin composition which is excellent in low stress property and has an improved filling property in a narrow gap of 30 to 60 μm, and a curing of the composition. TA sealed with objects
B device.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】現在、
半導体産業の中では樹脂封止型のダイオード、トランジ
スタ、IC、LSI、超LSIが主流となっている。こ
の封止樹脂としては、エポキシ樹脂が一般に他の熱硬化
性樹脂に比べて成形性、接着性、電気特性、機械特性、
耐湿性等に優れているため、エポキシ樹脂組成物で半導
体装置を封止することが多く行われている。
2. Description of the Related Art
In the semiconductor industry, resin-sealed diodes, transistors, ICs, LSIs, and VLSIs have become the mainstream. Epoxy resin is generally used as the sealing resin as compared with other thermosetting resins in terms of moldability, adhesiveness, electrical characteristics, mechanical characteristics,
Due to its excellent moisture resistance and the like, a semiconductor device is often sealed with an epoxy resin composition.

【0003】最近においては、これらの半導体装置は集
積度が益々大きくなり、これに応じてチップ寸法も大き
くなりつつある。一方、これに対してパッケージ外形寸
法は電子機器の小型化、軽量化の要求にともない、薄型
化が進んでおり、この端的なものがTAB(テープオー
トメーティドポンディング)パッケージである。しか
し、このTABをトランスファー成形する場合、従来の
封止材では応力の問題が発生したり、例えば30〜60
μm程の狭い隙間への充填性が悪いために未充填が発生
するという問題があった。
Recently, the degree of integration of these semiconductor devices has been increasing, and the chip size has been increasing accordingly. On the other hand, the outer dimensions of the package are becoming thinner in accordance with the demand for smaller and lighter electronic devices, and the TAB (Tape Automated Bonding) package is a very simple one. However, when this TAB is transfer-molded, the conventional sealing material causes a problem of stress, and for example, 30-60.
There is a problem that unfilling occurs due to poor filling property in a narrow gap of about μm.

【0004】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
低応力性に優れると共に、狭い隙間への充填性が改良さ
れたトランスファーモールド可能なTAB封止用エポキ
シ樹脂組成物及びこの組成物の硬化物で封止されたTA
B装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances.
A transfer moldable TAB encapsulating epoxy resin composition which is excellent in low stress properties and improved in filling in narrow gaps, and a TA encapsulated with a cured product of this composition
It is intended to provide a B device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、エポキシ
樹脂と硬化剤と無機質充填剤とを含有してなるTAB封
止用エポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂と硬化
剤とからなる樹脂成分として、40重量%メチルイソブ
チルケトン溶液の25℃における粘度が14センチスト
ークス以下のものを使用し、かつ、無機質充填剤とし
て、粒子径が24μm以上の粒子が0.2重量%以下、
3μm以上の粒子が20〜80重量%、3μm未満の粒
子が20〜80重量%である粒度分布を有し、平均粒径
が10μm以下の溶融シリカを組成物全体の65〜90
重量%配合することにより、低応力性である上、高温溶
融状態における粘度が低くて流動特性に優れており、ま
た粗大シリカ粒子を含まないことから30〜60μm程
の狭い隙間への充填性が極めて良好であり、トランスフ
ァーモールド可能なTAB封止用樹脂組成物が得られ、
この組成物で封止したTAB装置は信頼性が高いもので
あることを知見し、本発明をなすに至った。
Means and Actions for Solving the Problems As a result of intensive studies for achieving the above object, the present inventor has found that an epoxy resin for TAB encapsulation containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler. In the composition, as a resin component composed of an epoxy resin and a curing agent, a 40 wt% methyl isobutyl ketone solution having a viscosity at 25 ° C. of 14 centistokes or less is used, and as an inorganic filler, a particle diameter is 24 μm. 0.2% by weight or less of the above particles,
20 to 80% by weight of particles of 3 μm or more has a particle size distribution of 20 to 80% by weight of particles of less than 3 μm, and fused silica having an average particle size of 10 μm or less is 65 to 90% of the entire composition.
By blending by weight, the composition has low stress, low viscosity in a high temperature molten state, and excellent flowability. Moreover, since it does not contain coarse silica particles, it can be filled in a narrow gap of about 30 to 60 μm. A resin composition for TAB encapsulation which is extremely good and is transfer moldable is obtained,
The TAB device sealed with this composition was found to be highly reliable, and the present invention was completed.

【0006】従って、本発明は、エポキシ樹脂と硬化剤
と無機質充填剤とを含有してなるTAB封止用エポキシ
樹脂組成物において、エポキシ樹脂と硬化剤とからなる
樹脂成分として、40重量%メチルイソブチルケトン溶
液の25℃における粘度が14センチストークス以下の
ものを使用し、かつ、無機質充填剤として、粒子径が2
4μm以上の粒子が0.2重量%以下、3μm以上の粒
子が20〜80重量%、3μm未満の粒子が20〜80
重量%である粒度分布を有し、平均粒径が10μm以下
の溶融シリカを組成物全体の65〜90重量%配合した
ことを特徴とするTAB封止用エポキシ樹脂組成物、及
び、上記のエポキシ樹脂組成物の硬化物により封止され
たTAB装置を提供する。
Therefore, the present invention provides an epoxy resin composition for TAB encapsulation containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, wherein the resin component comprising the epoxy resin and the curing agent is 40% by weight methyl. Use an isobutyl ketone solution having a viscosity of 14 centistokes or less at 25 ° C., and use an inorganic filler having a particle size of 2
0.2 wt% or less of particles of 4 μm or more, 20 to 80 wt% of particles of 3 μm or more, 20 to 80 of particles of less than 3 μm
Epoxy resin composition for TAB encapsulation, characterized in that it contains 65 to 90% by weight of fused silica having a particle size distribution of 10% by weight and an average particle size of 10 μm or less, and the above epoxy. Provided is a TAB device sealed with a cured product of a resin composition.

【0007】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明のTAB封止用エポキシ樹脂組成物は、上述したよう
にエポキシ樹脂、硬化剤及び無機質充填剤を主成分とし
て含有するものである。
The present invention will be described in more detail below. The TAB encapsulating epoxy resin composition of the present invention contains the epoxy resin, the curing agent and the inorganic filler as the main components as described above.

【0008】ここで、本発明に用いられるエポキシ樹脂
としては、1分子中にエポキシ基を少なくとも2個以上
有するエポキシ樹脂であればいずれのものでもよく、具
体的にはビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型
エポキシ樹脂及びその重合物、ビフェニル型エポキシ樹
脂、ジシクロペンタジエン−フェノールノボラック樹
脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフタレン
環含有エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂、臭素
化エポキシ樹脂などを用いることができる。これらのエ
ポキシ樹脂の中では、トリフェノールアルカン型エポキ
シ樹脂及びビフェニル型エポキシ樹脂が比較的溶融粘度
が低いため、高充填性を得る点で望ましい。なお、これ
らエポキシ樹脂は、その使用に当たっては必ずしも1種
の使用に限定されるものではなく、2種又はそれ以上を
混合して配合してもよい。
Here, the epoxy resin used in the present invention may be any epoxy resin as long as it has at least two epoxy groups in one molecule, specifically, bisphenol A type epoxy resin and phenol. Novolac type epoxy resin, triphenol alkane type epoxy resin and its polymer, biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol novolac resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthalene ring-containing epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, alicyclic Epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, brominated epoxy resin and the like can be used. Among these epoxy resins, the triphenolalkane-type epoxy resin and the biphenyl-type epoxy resin have relatively low melt viscosities, and are therefore desirable from the viewpoint of obtaining high filling properties. It should be noted that these epoxy resins are not necessarily limited to one type of use in use, and may be a mixture of two or more types.

【0009】また、硬化剤は特に制限されるものではな
く、使用するエポキシ樹脂に応じて適宜選定することが
でき、例えばアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェ
ノールノボラック型硬化剤などが挙げられるが、中でも
フェノールノボラック型硬化剤が組成物の成形性、耐湿
性の面でより望ましく、好適に使用できる、なお、フェ
ノールノボラック型硬化剤としては、具体的にフェノー
ルノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノ
ールアラルキルノボラック樹脂などが例示される。
The curing agent is not particularly limited and can be appropriately selected according to the epoxy resin used, and examples thereof include amine type curing agents, acid anhydride type curing agents and phenol novolac type curing agents. Among them, among them, a phenol novolak type curing agent is more preferable in terms of moldability and moisture resistance of the composition, and can be preferably used, as the phenol novolac type curing agent, specifically, phenol novolac resin, cresol novolac resin , Phenol aralkyl novolac resin and the like.

【0010】上記硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂を硬
化させ得る範囲で通常使用される量とすることができ、
フェノールノボラック型硬化剤を用いた場合、エポキシ
樹脂中のエポキシ基と硬化剤中のOH基との比がモル比
で1:0.5〜1:1.5となるように配合することが
好ましい。
The compounding amount of the above-mentioned curing agent can be an amount usually used within a range capable of curing an epoxy resin,
When a phenol novolac type curing agent is used, it is preferable to mix it so that the molar ratio of the epoxy groups in the epoxy resin to the OH groups in the curing agent is 1: 0.5 to 1: 1.5. .

【0011】この場合、本発明では、TABへの充填性
を改良するために上記エポキシ樹脂と硬化剤とからなる
樹脂成分として、その粘度が40重量%メチルイソブチ
ルケトン溶液として25℃において14cs以下、好ま
しくは12cs以下であるような樹脂成分を選定する必
要がある。樹脂成分の粘度が14csを超えると、後述
するように、線膨張係数を小さくして低応力とするため
に溶融シリカを65重量%以上用いても、得られた組成
物の溶融粘度が高くなりすぎてTABへの充填性が悪く
なってしまう。
In this case, in the present invention, in order to improve the filling property into the TAB, as a resin component comprising the above epoxy resin and a curing agent, the viscosity thereof is 40 wt% in methyl isobutyl ketone solution at 25 ° C. and 14 cs or less, It is necessary to select a resin component that is preferably 12 cs or less. When the viscosity of the resin component exceeds 14 cs, as will be described later, the melt viscosity of the obtained composition becomes high even if 65% by weight or more of fused silica is used in order to reduce the linear expansion coefficient and reduce the stress. As a result, the filling property into the TAB becomes poor.

【0012】なお、本発明では、エポキシ樹脂と硬化剤
との反応を促進させる目的で各種硬化促進剤、例えばイ
ミダゾール類、3級アミン類、ホスフィン系化合物、シ
クロアミジン化合物などを配合することが望ましい。そ
の配合量は特に制限されないが、通常全系に対して0.
05〜1重量%とすることが好ましい。
In the present invention, it is desirable to add various curing accelerators such as imidazoles, tertiary amines, phosphine compounds, cycloamidine compounds and the like for the purpose of accelerating the reaction between the epoxy resin and the curing agent. . The blending amount is not particularly limited, but is usually 0.
It is preferably set to 05 to 1% by weight.

【0013】また更に、本発明では硬化物の応力を低下
させる目的で組成物中にシリコーン系ポリマーを配合す
ることが好ましい。シリコーン系ポリマーを配合する
と、硬化物の熱衝撃テストにおけるパッケージクラック
の発生を著しく少なくすることが可能である。このシリ
コーン系ポリマーとしては、例えばエポキシ基、アミノ
基、カルボキシル基、水酸基、ヒドロシリル基、ビニル
基などを有するシリコーンオイル、シリコーンレジン、
シリコーンゴム等やこれらシリコーンポリマーと有機重
合体、例えば置換又は非置換のフェノールノボラック樹
脂等との共重合体を挙げることができる。
Further, in the present invention, it is preferable to add a silicone polymer to the composition for the purpose of reducing the stress of the cured product. When a silicone-based polymer is blended, it is possible to significantly reduce the occurrence of package cracks in the thermal shock test of the cured product. Examples of the silicone-based polymer include a silicone oil having an epoxy group, an amino group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a hydrosilyl group, a vinyl group, a silicone resin, and the like.
Examples thereof include silicone rubber and the like, and copolymers of these silicone polymers and organic polymers such as substituted or unsubstituted phenol novolac resins.

【0014】なお、シリコーン系ポリマーの添加量は特
に限定されないが、通常エポキシ樹脂と硬化剤との合計
量100部(重量部、以下同様)に対し1〜50部とす
ることが好ましい。
The addition amount of the silicone-based polymer is not particularly limited, but it is usually preferably 1 to 50 parts per 100 parts (part by weight, the same applies hereinafter) of the total amount of the epoxy resin and the curing agent.

【0015】更に硬化物に可撓性や強靭性を付与する目
的で、各種有機合成ゴム、メタクリル酸メチル−スチレ
ン−ブタジエン共重合体、スチレン−エチレン−ブテン
−スチレン共重合体などの熱可塑性樹脂を添加すること
ができる。この場合、上述したメタクリル酸メチル−ス
チレン−ブタジエン共重合体は、エポキシ樹脂組成物の
硬化物の低応力化に効果を発揮することができる。
Further, for the purpose of imparting flexibility and toughness to the cured product, various organic synthetic rubbers, thermoplastic resins such as methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer, styrene-ethylene-butene-styrene copolymer and the like. Can be added. In this case, the above-mentioned methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer can exert the effect of reducing the stress of the cured product of the epoxy resin composition.

【0016】本発明では、無機質充填剤として粒径24
μm以上の粒子が0.2重量%以下、好ましくは0〜
0.1重量%、3μm以上の粒子が20〜80重量%、
好ましくは30〜70重量%、3μm未満の粒子が20
〜80重量%、好ましくは30〜70重量%の粒度分布
であり、平均粒径が10μm以下、好ましくは2〜8μ
mの溶融シリカを配合する。粒径24μm以上が0.2
重量%を超えると、その粗大粒子がTABの隙間を塞い
でしまうために、充填性が悪くなる。また3μm以上が
80重量%を超えたり、20重量%未満となるような粒
度分布の充填剤を用いた場合には、得られた組成物の粘
度が高くなりすぎて、充填性が悪くなるという不利があ
る。平均粒径が10μmを超える充填剤を用いた場合に
も充填性が悪くなる。
In the present invention, the particle size of the inorganic filler is 24
0.2% by weight or less of particles of μm or more, preferably 0 to
0.1% by weight, 20 to 80% by weight of particles of 3 μm or more,
Preferably 30-70% by weight and less than 3 μm particles are 20
-80% by weight, preferably 30-70% by weight, with an average particle size of 10 μm or less, preferably 2-8 μm.
m fused silica. 0.2 is more than 24μm
If the content is more than wt%, the coarse particles will block the gaps in the TAB, resulting in poor filling properties. Further, when a filler having a particle size distribution in which 3 μm or more exceeds 80% by weight or less than 20% by weight is used, the viscosity of the obtained composition becomes too high and the filling property is deteriorated. There is a disadvantage. Even when a filler having an average particle size of more than 10 μm is used, the filling property is deteriorated.

【0017】上記した無機質充填剤は、線膨張係数、純
度、価格の面から溶融シリカである必要があるが、本発
明の目的を損わない範囲で結晶性シリカ、アルミナ、窒
化ケイ素、窒化アルミなどを併用することは可能であ
る。
The above-mentioned inorganic filler needs to be fused silica in view of the coefficient of linear expansion, purity, and price, but crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride are acceptable as long as the object of the present invention is not impaired. It is possible to use the above together.

【0018】また、硬化物の低膨張化と成形性とを両立
させるためには、球状品と破砕品とのブレンド、或いは
球状品のみを用いることが推奨される。特に、粒度分布
を調整して、組成物に配合した際に高流動性を与えるよ
うなシリカを用いることが望ましい。
In order to achieve both low expansion of the cured product and moldability, it is recommended to use a blend of spherical products and crushed products, or to use only spherical products. In particular, it is desirable to use silica which has a controlled particle size distribution and gives high fluidity when blended in the composition.

【0019】上記溶融シリカは、予めシランカップリン
グ剤で処理することが好適である。ここで、シランカッ
プリング剤としては、従来公知のものが使用可能であ
り、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、メチルトリエトキシシラン等が例示され
る。
The above fused silica is preferably treated with a silane coupling agent in advance. Here, as the silane coupling agent, a conventionally known one can be used, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3
-Aminopropyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane and the like are exemplified.

【0020】シランカップリング剤の使用量は、溶融シ
リカに対して0.1〜1部、特に0.2〜0.6部の範
囲が好ましい。0.1部に満たないと樹脂及び無機質充
填剤からなる樹脂組成物に適用した場合に樹脂と無機質
充填剤の界面制御が十分にできない場合があり、1部を
超えると無機質充填剤の凝集物ができなくなってしまう
場合がある。
The amount of the silane coupling agent used is preferably 0.1 to 1 part, more preferably 0.2 to 0.6 part, based on the fused silica. If the amount is less than 0.1 part, the interface between the resin and the inorganic filler may not be sufficiently controlled when applied to a resin composition comprising the resin and the inorganic filler, and if the amount exceeds 1 part, an aggregate of the inorganic filler is obtained. May not be possible.

【0021】上記した溶融シリカの配合量は、組成物全
体の65〜90重量%、好ましくは70〜85重量%で
ある。充填量が65重量%未満では、得られた硬化物の
膨張係数が大きくなってしまうため応力特性が悪くなっ
てしまい、90重量%を超えると成形時の溶融粘度が高
くなりすぎるために未充填が発生する。
The blending amount of the above-mentioned fused silica is 65 to 90% by weight, preferably 70 to 85% by weight, based on the whole composition. If the filling amount is less than 65% by weight, the expansion coefficient of the obtained cured product will be large, resulting in poor stress characteristics. If the filling amount is more than 90% by weight, the melt viscosity at the time of molding will be too high. Occurs.

【0022】本発明の組成物には、更に必要により各種
添加剤を配合することができ、例えばカルナバワックス
等のワックス類、ステアリン酸等の脂肪酸やその金属塩
等の離型剤(中でも接着性、離型性の面からカルナバワ
ックスが好適に用いられる)、カーボンブラック、コバ
ルトブルー、ベンガラ等の顔料、酸化アンチモン、ハロ
ゲン化合物等の難燃化剤、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン等の表面処理剤、エポキシシラン、ホ
ウ素化合物、アルキルチタネート等のシランカップリン
グ剤、老化防止剤、その他の添加剤の1種又は2種以上
を配合することができる。
If desired, various additives may be further added to the composition of the present invention. For example, waxes such as carnauba wax, release agents such as fatty acids such as stearic acid and metal salts thereof (including adhesiveness). , Carnauba wax is preferably used from the viewpoint of releasing property), carbon black, cobalt blue, pigments such as red iron oxide, antimony oxide, flame retardants such as halogen compounds, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, etc. One or more of surface treatment agents, silane coupling agents such as epoxysilanes, boron compounds, alkyl titanates, antiaging agents, and other additives can be blended.

【0023】なお、本発明のエポキシ樹脂組成物は、そ
の製造に際し、上述した成分の所定量を均一に撹拌、混
合し、予め70〜95℃に加熱してあるニーダー、ロー
ル、エクストルーダー等で混練、冷却し、粉砕する等の
方法で得ることができるが、特にミキシングロール、押
出機を用いた溶融混合法が好適に採用される。ここで、
成分の配合順序に特に制限はない。
In the production of the epoxy resin composition of the present invention, a predetermined amount of the above-mentioned components are uniformly stirred and mixed, and the mixture is heated in advance at 70 to 95 ° C. with a kneader, roll, extruder or the like. It can be obtained by a method such as kneading, cooling and pulverizing, and a melt mixing method using a mixing roll and an extruder is particularly preferably used. here,
There is no particular limitation on the order of mixing the components.

【0024】かくして得られる本発明のエポキシ樹脂組
成物は、TABのトランスファーモールドに有効であ
る。なお、本発明のエポキシ樹脂組成物の成形温度は1
50〜180℃、ポストキュアーは150〜185℃で
2〜16時間行うことが好ましい。
The epoxy resin composition of the present invention thus obtained is effective for TAB transfer molding. The molding temperature of the epoxy resin composition of the present invention is 1
It is preferable to carry out at 50 to 180 ° C. and post cure at 150 to 185 ° C. for 2 to 16 hours.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明のTAB封止用エポキシ樹脂組成
物は、低応力性に優れると共に、30〜60μmという
狭い隙間への充填性が改良され、トランスファーモール
ド可能なものであり、このTAB封止用エポキシ樹脂組
成物で封止されたTAB装置は、高品質で信頼性が高
い。
EFFECT OF THE INVENTION The epoxy resin composition for TAB encapsulation of the present invention is excellent in low stress property, improved in filling property in a narrow gap of 30 to 60 μm, and is transfer moldable. The TAB device sealed with the stopping epoxy resin composition is of high quality and high reliability.

【0026】[0026]

【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、以下の例において部はいずれも重
量部、%はいずれも重量%である。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below by showing Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. In the following examples, all parts are parts by weight and% are% by weight.

【0027】〔実施例1〜7、比較例1〜7〕エポキシ
当量280の臭素化エポキシ化フェノールノボラック樹
脂7部、下記式(a)で示される化合物60部と下記式
(b)で示される化合物40部との反応生成物10部、
トリフェニルホスフィン0.65部、三酸化アンチモン
10部、カルナバワックス1.2部、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン1.0部、カーボンブラッ
ク1部、表1に示す溶融シリカ、エポキシ当量166、
軟化点54℃のエポキシ化トリフェノールメタン樹脂
(エポキシ樹脂A)、エポキシ当量190、軟化点10
6℃の4,4’−グリシジルオキシ−2,6,2’,
6’−テトラメチルビフェニル樹脂(エポキシ樹脂
B)、エポキシ当量198、軟化点80℃のエポキシ化
クレゾールノボラック樹脂(エポキシ樹脂C)、フェノ
ール当量110、軟化点90℃のフェノールノボラック
樹脂(フェノール樹脂A)を表2,3に示す組成及び量
で配合し、80℃のミキシングロールで5分間溶融混合
した後、シート状にして取り出し、これを冷却粉砕して
エポキシ樹脂組成物を得た。
Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 7 7 parts of a brominated epoxidized phenol novolac resin having an epoxy equivalent of 280, 60 parts of a compound represented by the following formula (a) and the following formula (b): 10 parts of reaction product with 40 parts of compound,
0.65 parts of triphenylphosphine, 10 parts of antimony trioxide, 1.2 parts of carnauba wax, 1.0 part of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 1 part of carbon black, fused silica shown in Table 1, epoxy equivalent 166 ,
Epoxidized triphenol methane resin having a softening point of 54 ° C. (epoxy resin A), epoxy equivalent 190, softening point 10
4,4'-glycidyloxy-2,6,2 'at 6 ° C
6'-tetramethylbiphenyl resin (epoxy resin B), epoxy equivalent 198, epoxidized cresol novolac resin having a softening point of 80 ° C (epoxy resin C), phenol equivalent 110, phenol novolac resin having a softening point of 90 ° C (phenol resin A) Were mixed in the compositions and amounts shown in Tables 2 and 3, melt-mixed for 5 minutes with a mixing roll at 80 ° C., taken out as a sheet, and cooled and pulverized to obtain an epoxy resin composition.

【0028】[0028]

【化1】 Embedded image

【0029】得られたエポキシ樹脂組成物につき、以下
に示す(イ)〜(ニ)の諸試験を行った。結果を表2,
3に示す。 (イ)溶融粘度 島津製作所製高化式フローテスターを用いて175℃、
10kg荷重における粘度を測定した。 (ロ)スパイラルフロー EMMI規格に準じた金型を使用して175℃、70k
gf/cm2の条件で測定した。 (ハ)TAB充填性 15mm角のシリコンチップを搭載した48mm巾のテ
ープを有し、最少充填隙間が40μmであるTAB装置
をトランスファーモールド試験機を用いて175℃で2
分成形した際の最少隙間への充填性を超音波探傷試験機
を用いて調べた。 OK:完全に充填しているもの NG:未充填のあったもの (ニ)熱衝撃性 上記(ハ)項で成形したTAB装置を180℃で4時間
更に硬化させた後、液体窒素中に1分、更に260℃の
半田浴中に30秒浸漬を1サイクルとして、20サイク
ル後、100サイクル後のクラック発生個数を調べた
(母数:20)。 NA:未充填があるために熱衝撃試験を実施できなかっ
たもの
The following tests (a) to (d) were conducted on the obtained epoxy resin composition. The results are shown in Table 2.
3 shows. (A) Melt viscosity 175 ° C using a Shimadzu high-performance flow tester,
The viscosity under a load of 10 kg was measured. (B) Spiral flow 175 ° C, 70k using a mold conforming to EMMI standard
It was measured under the condition of gf / cm 2 . (C) TAB filling property A TAB device having a tape of 48 mm width mounted with a 15 mm square silicon chip and a minimum filling gap of 40 μm was used at 175 ° C. for 2 hours at 175 ° C. using a transfer mold tester.
The filling property into the minimum gap at the time of minute molding was examined using an ultrasonic flaw detector. OK: Fully filled NG: Unfilled (d) Thermal shock resistance After further curing the TAB apparatus molded in the above (c) at 180 ° C. for 4 hours, 1 in liquid nitrogen Then, the number of cracks generated after 20 cycles and 100 cycles was examined with one cycle of immersion for 30 seconds in a solder bath at 260 ° C. (parameter: 20). NA: Thermal shock test could not be performed due to unfilled

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】[0031]

【表2】 [Table 2]

【0032】[0032]

【表3】 [Table 3]

【0033】表2,3の結果より、本発明のエポキシ樹
脂組成物は、充填性及び低応力性に優れた硬化物を与え
ることが確認された。
From the results shown in Tables 2 and 3, it was confirmed that the epoxy resin composition of the present invention gives a cured product excellent in filling property and low stress.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31 (72)発明者 戸塚 賢一 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical indication location H01L 23/31 (72) Inventor Kenichi Totsuka 1 Hitomi, Osamu Matsuida-cho, Usui-gun, Gunma 10 Shin-Etsu Chemical Industry Silicone Electronic Materials Technology Laboratory

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填剤と
を含有してなるTAB封止用エポキシ樹脂組成物におい
て、エポキシ樹脂と硬化剤とからなる樹脂成分として、
40重量%メチルイソブチルケトン溶液の25℃におけ
る粘度が14センチストークス以下のものを使用し、か
つ、無機質充填剤として、粒子径が24μm以上の粒子
が0.2重量%以下、3μm以上の粒子が20〜80重
量%、3μm未満の粒子が20〜80重量%である粒度
分布を有し、平均粒径が10μm以下の溶融シリカを組
成物全体の65〜90重量%配合したことを特徴とする
TAB封止用エポキシ樹脂組成物。
1. A TAB encapsulating epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, wherein the resin component comprising the epoxy resin and the curing agent is:
A 40 wt% methyl isobutyl ketone solution having a viscosity at 25 ° C. of 14 centistokes or less is used, and as the inorganic filler, 0.2 wt% or less of particles having a particle diameter of 24 μm or more and 3 μm or more of particles are used. 20 to 80% by weight, particles having a particle size of less than 3 μm are 20 to 80% by weight, and fused silica having an average particle size of 10 μm or less is blended in an amount of 65 to 90% by weight of the entire composition. Epoxy resin composition for TAB sealing.
【請求項2】 請求項1記載のエポキシ樹脂組成物の硬
化物により封止されたTAB装置。
2. A TAB device sealed with a cured product of the epoxy resin composition according to claim 1.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998028788A1 (en) * 1996-12-24 1998-07-02 Nitto Denko Corporation Manufacture of semiconductor device
JP2002047395A (en) * 2000-08-03 2002-02-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition, prepreg and copper-clad laminate using it
JP2002097343A (en) * 2000-09-27 2002-04-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for interposer, prepreg and copper-clad laminated sheet using the same
JP2002097346A (en) * 2000-09-27 2002-04-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for interposer, prepreg and copper-clad laminated sheet using the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998028788A1 (en) * 1996-12-24 1998-07-02 Nitto Denko Corporation Manufacture of semiconductor device
US6333206B1 (en) 1996-12-24 2001-12-25 Nitto Denko Corporation Process for the production of semiconductor device
KR100467897B1 (en) * 1996-12-24 2005-01-24 닛토덴코 가부시키가이샤 A semiconductor device and a process for the production thereof
EP0951064A4 (en) * 1996-12-24 2005-02-23 Nitto Denko Corp Manufacture of semiconductor device
JP2002047395A (en) * 2000-08-03 2002-02-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition, prepreg and copper-clad laminate using it
JP2002097343A (en) * 2000-09-27 2002-04-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for interposer, prepreg and copper-clad laminated sheet using the same
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