JPH08134182A - Epoxy resin composition and semiconductor sealing device - Google Patents

Epoxy resin composition and semiconductor sealing device

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JPH08134182A
JPH08134182A JP30544194A JP30544194A JPH08134182A JP H08134182 A JPH08134182 A JP H08134182A JP 30544194 A JP30544194 A JP 30544194A JP 30544194 A JP30544194 A JP 30544194A JP H08134182 A JPH08134182 A JP H08134182A
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JP
Japan
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epoxy resin
group
formula
resin composition
inorganic filler
Prior art date
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Application number
JP30544194A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Shimakura
英夫 島倉
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Chemical Corp filed Critical Toshiba Chemical Corp
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Publication of JPH08134182A publication Critical patent/JPH08134182A/en
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain the subject composition excellent in moisture resistance, soldering heat resistance, etc., useful for sealing semiconductor chips, etc., essentially comprising a specific epoxy resin, specific phenolic resin, inorganic filler and curing promoter. CONSTITUTION: This composition essentially comprises (A) an epoxy resin of formula I (R<1> is a Cm H2m+1 group; R<2> is a Cn H2n+1 group; (m) and (n) are each integer, 0 or >=1) (e.g. a compound of formula III), (B) a dicyclopentadiene- modified phenolic resin of formula II (R<3> is a Cj H2j+1 group; (j) and (n) are each integer, 0 or >=1) (e.g. a compound of formula IV), (C) 25-93wt.% of an inorganic filler (pref. silica powder <=30μm in average particle diameter with low impurity content), and (D) pref. 0.01-5wt.% of a curing promoter (e.g. phosporus-, imidazole-, DBU-based one).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、耐湿性、半田耐熱性に
優れたエポキシ樹脂組成物および半導体封止装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent moisture resistance and solder heat resistance, and a semiconductor encapsulation device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路の分野において、
高集積化、高信頼性化の技術開発と同時に半導体装置の
実装工程の自動化が推進されている。例えばフラットパ
ッケージ型の半導体装置を回路基板に取り付ける場合
に、従来、リードピン毎に半田付けを行っていたが、最
近では半田浸漬方式や半田リフロー方式が採用されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of semiconductor integrated circuits,
At the same time as technology development for high integration and high reliability, automation of the mounting process of semiconductor devices is being promoted. For example, when mounting a flat package type semiconductor device on a circuit board, conventionally, soldering is performed for each lead pin, but recently, a solder dipping method or a solder reflow method has been adopted.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来、ノボラック型エ
ポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール
樹脂およびシリカ粉末からなる樹脂組成物によって封止
した半導体装置は、装置全体の半田浴浸漬を行うと耐湿
性が低下するという欠点があった。特に吸湿した半導体
装置を浸漬すると、封止樹脂と半導体チップ、あるいは
封止樹脂とリードフレームの間の剥がれや、内部樹脂ク
ラックが生じて著しい耐湿性劣化を起こし、電極の腐蝕
による断線や水分によるリーク電流を生じ、その結果、
半導体装置は、長期間の信頼性を保証することができな
いという欠点があった。
Conventionally, a semiconductor device sealed with a resin composition consisting of an epoxy resin such as a novolac type epoxy resin, a novolac type phenolic resin and silica powder has a moisture resistance when the whole device is immersed in a solder bath. There was a drawback that the property deteriorated. Especially when a semiconductor device that has absorbed moisture is immersed, peeling between the encapsulation resin and the semiconductor chip, or the encapsulation resin and the lead frame, and internal resin cracks cause significant deterioration in moisture resistance, which may be caused by wire breakage or moisture due to electrode corrosion. Leakage current, resulting in
The semiconductor device has a drawback in that it cannot guarantee long-term reliability.

【0004】本発明は、上記の欠点を解消するためにな
されたもので、吸湿の影響が少なく、特に半田浴浸漬後
の耐湿性、半田耐熱性に優れ、封止樹脂と半導体チップ
あるいは封止樹脂とリードフレームとの剥がれや内部樹
脂クラックの発生がなく、また電極の腐蝕による断線や
水分によるリーク電流の発生もなく、長期信頼性を保証
できるエポキシ樹脂組成物および半導体封止装置を提供
しようとするものである。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks, has little influence of moisture absorption, and is particularly excellent in moisture resistance and solder heat resistance after being immersed in a solder bath. Epoxy resin composition and semiconductor encapsulation device capable of ensuring long-term reliability without peeling of resin and lead frame or generation of internal resin cracks, disconnection due to electrode corrosion or leakage current due to moisture It is what

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、特定のエポキシ
樹脂と特定のフェノール樹脂を用いることによって、耐
湿性、半田耐熱性等に優れた樹脂組成物が得られること
を見いだし、本発明を完成したものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies aimed at achieving the above-mentioned object, the present inventor has found that by using a specific epoxy resin and a specific phenol resin, moisture resistance, solder heat resistance, etc. can be improved. The inventors have found that an excellent resin composition can be obtained, and completed the present invention.

【0006】即ち、本発明は、 (A)次の一般式で示されるエポキシ樹脂、That is, the present invention provides (A) an epoxy resin represented by the following general formula:

【0007】[0007]

【化5】 (但し、式中、R1 はCm 2m+1基を、R2 はCn
2n+1基をそれぞれ表し、各基における m、n は 0又は 1
以上の整数を表す) (B)次の一般式で示されるジシクロペンタジエン変性
フェノール樹脂
Embedded image (However, in the formula, R 1 is a C m H 2m + 1 group and R 2 is a C n H group.
2n + 1 group respectively, m and n in each group are 0 or 1
Representing the above integers) (B) Dicyclopentadiene-modified phenol resin represented by the following general formula

【0008】[0008]

【化6】 (但し、式中、R3 はCj 2j+1基を、j ,n は 0又は
1以上の整数をそれぞれ表す) (C)無機質充填剤 (D)硬化促進剤 を必須成分とし、全体の樹脂組成物に対して前記(C)
の無機質充填剤を25〜93重量%の割合で含有してなるこ
とを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。また、この
エポキシ樹脂組成物の硬化物によって、半導体チップが
封止されてなることを特徴とする半導体封止装置であ
る。
[Chemical 6] (However, in the formula, R 3 is a C j H 2j + 1 group, and j and n are 0 or
Each represents an integer of 1 or more.) (C) Inorganic filler (D) Curing accelerator is an essential component, and the above (C) is used for the entire resin composition.
An epoxy resin composition containing the inorganic filler of 25 to 93% by weight. A semiconductor encapsulation device is obtained by encapsulating a semiconductor chip with a cured product of this epoxy resin composition.

【0009】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0010】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂は、前
記の一般式化5で示されるものが使用され、その分子量
等に特に制限されることなく使用することができる。具
体的な化合物としては、例えば
As the epoxy resin (A) used in the present invention, the one represented by the above general formula 5 is used, and the epoxy resin can be used without any particular limitation on its molecular weight and the like. As a specific compound, for example,

【0011】[0011]

【化7】 [Chemical 7]

【0012】[0012]

【化8】 Embedded image

【0013】[0013]

【化9】 等が挙げられ、これらは単独又は 2種以上混合して使用
することができる。また、このエポキシ樹脂には、ノボ
ラック型エポキシ樹脂やビフェニル型エポキシ樹脂、そ
の他の一般の公知のエポキシ樹脂を併用することができ
る。
[Chemical 9] And the like. These can be used alone or in combination of two or more. In addition, a novolac type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, and other generally known epoxy resins can be used in combination with this epoxy resin.

【0014】本発明に用いる(B)ジシクロペンタジエ
ン変性フェノール樹脂としては、前記の一般式化6で示
されるものが使用され、その分子量等に特に制限される
ことなく使用することができる。具体的な化合物として
は、例えば、
As the (B) dicyclopentadiene-modified phenol resin used in the present invention, the one represented by the above general formula 6 is used, and it can be used without being particularly limited in its molecular weight and the like. Specific compounds include, for example,

【0015】[0015]

【化10】 [Chemical 10]

【0016】[0016]

【化11】 が挙げられ、これらは単独又は混合して使用することが
できる。また、このジシクロペンタジエン変性フェノー
ル樹脂の他にフェノール、アルキルフェノール等のフェ
ノール類とホルムアルデヒドあるいはパラホルムアルデ
ヒドとを反応させて得られるノボラック型フェノール樹
脂およびこれらの変性樹脂を併用することができる。
[Chemical 11] And these can be used alone or in combination. In addition to the dicyclopentadiene-modified phenolic resin, a novolac type phenolic resin obtained by reacting phenols such as phenol and alkylphenol with formaldehyde or paraformaldehyde and these modified resins can be used in combination.

【0017】本発明に用いる(C)無機質充填剤として
は、一般に使用されているものが広く使用されるが、そ
れらの中でも不純物濃度が低く、平均粒径30μm 以下の
シリカ粉末が好ましく使用される。平均粒径30μm を超
えると耐湿性および成形性が劣り好ましくない。無機質
充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して25〜93
重量%含有するように配合することが好ましい。その割
合が25重量%未満では樹脂組成物の吸湿性が高く、半田
浸漬後の耐湿性に劣り、また93重量%を超えると極端に
流動性が悪くなり、成形性に劣り好ましくない。
As the inorganic filler (C) used in the present invention, those generally used are widely used. Among them, silica powder having a low impurity concentration and an average particle diameter of 30 μm or less is preferably used. . If the average particle size exceeds 30 μm, the moisture resistance and the moldability are deteriorated, which is not preferable. The blending ratio of the inorganic filler is 25 to 93 with respect to the entire resin composition.
It is preferable to mix them so as to contain them by weight. If the proportion is less than 25% by weight, the resin composition has high hygroscopicity and is inferior in moisture resistance after solder dipping, and if it exceeds 93% by weight, fluidity is extremely deteriorated and moldability is inferior, which is not preferable.

【0018】本発明に用いる(D)硬化促進剤として
は、リン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、D
BU系硬化促進剤、その他の硬化促進剤等が広く使用さ
れる。これらは単独又は 2種以上併用することができ
る。硬化促進剤の配合割合は、全体の樹脂組成物に対し
て0.01〜5 重量%含有するように配合することが望まし
い。その割合が0.01重量%未満では樹脂組成物のゲルタ
イムが長く、硬化特性も悪くなり、また 5重量%を超え
ると極端に流動性が悪くなって、成形性に劣り、さらに
電気特性も悪くなり耐湿性に劣り好ましくない。
As the curing accelerator (D) used in the present invention, a phosphorus curing accelerator, an imidazole curing accelerator, D
BU-based curing accelerators and other curing accelerators are widely used. These may be used alone or in combination of two or more. It is desirable that the curing accelerator is blended in an amount of 0.01 to 5% by weight based on the total resin composition. If the proportion is less than 0.01% by weight, the gel time of the resin composition will be long and the curing characteristics will be poor, and if it exceeds 5% by weight, the fluidity will be extremely poor, the moldability will be poor, and the electrical characteristics will be poor and the moisture resistance will be poor. It is inferior in sex and is not preferable.

【0019】本発明のエポキシ樹脂組成物は、前述した
特定のエポキシ樹脂、特定のフェノール樹脂、無機質充
填剤および硬化促進剤を必須成分とするが、本発明の目
的に反しない限度において、また必要に応じて、例え
ば、天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金
属塩、酸アミド、エステル類、パラフィン等の離型剤、
三酸化アンチモン等の難燃剤、カーボンブラック等の着
色剤、シランカップリング剤、ゴム系やシリコーン系の
低応力付与剤等を適宜添加配合することができる。
The epoxy resin composition of the present invention contains the above-mentioned specific epoxy resin, specific phenolic resin, inorganic filler and curing accelerator as essential components, but it is also necessary as long as the object of the present invention is not impaired. Depending on, for example, natural waxes, synthetic waxes, metal salts of linear fatty acids, acid amides, esters, release agents such as paraffin,
A flame retardant such as antimony trioxide, a coloring agent such as carbon black, a silane coupling agent, a rubber-based or silicone-based low stress imparting agent, and the like can be appropriately added and blended.

【0020】本発明のエポキシ樹脂組成物を成形材料と
して調製する場合の一般的方法は、前述した特定のエポ
キシ樹脂、特定のフェノール樹脂、無機質充填剤および
硬化促進剤その他の成分を配合し、ミキサー等によって
十分均一に混合し、さらに熱ロールによる溶融混合処理
またはニーダ等による混合処理を行い、次いで冷却固化
させ適当な大きさに粉砕して成形材料とすることができ
る。こうして得られた成形材料は、半導体装置をはじめ
とする電子部品あるいは電気部品の封止、被覆、絶縁等
に適用すれば優れた特性と信頼性を付与させることがで
きる。
A general method for preparing the epoxy resin composition of the present invention as a molding material is to mix the above-mentioned specific epoxy resin, specific phenolic resin, inorganic filler, curing accelerator and other components with a mixer. And the like, followed by melt-mixing treatment with a hot roll or mixing treatment with a kneader, and then cooling and solidifying to pulverize to an appropriate size to obtain a molding material. When the molding material thus obtained is applied to sealing, coating, insulation, etc. of electronic parts or electric parts such as semiconductor devices, excellent properties and reliability can be imparted.

【0021】また、本発明の半導体封止装置は、上述の
成形材料を用いて半導体チップを封止することにより容
易に製造することができる。封止を行う半導体チップと
しては、例えば集積回路、大規模集積回路、トランジス
タ、サイリスタ、ダイオード等で特に限定されるもので
はない。封止の最も一般的な方法としては、低圧トラン
スファー成形法があるが、射出成形、圧縮成形、注形等
による封止も可能である。成形材料で封止後、加熱して
硬化させ、最終的にはこの硬化物によって封止された半
導体封止装置が得られる。加熱による硬化は、150 ℃以
上に加熱して硬化させることが望ましい。
The semiconductor encapsulation device of the present invention can be easily manufactured by encapsulating a semiconductor chip using the above-mentioned molding material. The semiconductor chip to be sealed is not particularly limited to, for example, an integrated circuit, a large scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, a diode and the like. The most common method of sealing is a low-pressure transfer molding method, but sealing by injection molding, compression molding, casting or the like is also possible. After sealing with a molding material, it is heated and cured, and finally a semiconductor sealing device sealed with this cured product is obtained. For curing by heating, it is desirable to heat and cure at 150 ° C or higher.

【0022】[0022]

【作用】本発明のエポキシ樹脂組成物および半導体封止
装置は、特定のエポキシ樹脂、特定のフェノール樹脂を
用いることによって、樹脂組成物の吸水性を低減し、熱
機械的特性と低応力性が向上し、半田浸漬、半田リフロ
ー後の樹脂クラックの発生がなくなり、耐湿性劣化が少
なくなるものである。
The epoxy resin composition and the semiconductor encapsulation device of the present invention reduce the water absorption of the resin composition by using a specific epoxy resin and a specific phenol resin, and have excellent thermomechanical properties and low stress. It is improved, the occurrence of resin cracks after solder immersion and solder reflow is eliminated, and the deterioration of moisture resistance is reduced.

【0023】[0023]

【実施例】次に本発明を実施例によって説明するが、本
発明はこれらの実施例によって限定されるものではな
い。以下の実施例および比較例において「%」とは「重
量%」を意味する。
EXAMPLES Next, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples and comparative examples, “%” means “% by weight”.

【0024】実施例1 前述した化8のエポキシ樹脂 6.8%、前述した化11の
ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂 6.2%、シリ
カ粉末86%、硬化促進剤 0.3%、エステルワックス類
0.3%およびシランカップリング剤 0.4%を常温で混合
し、さらに90〜95℃で混練冷却した後、粉砕して成形材
料(A)を製造した。
Example 1 6.8% of the above-mentioned epoxy resin of Chemical formula 8, 6.2% of the above-mentioned chemical formula 11 of dicyclopentadiene-modified phenol resin, 86% of silica powder, 0.3% of curing accelerator, ester waxes
0.3% and a silane coupling agent 0.4% were mixed at room temperature, further kneaded and cooled at 90 to 95 ° C., and then pulverized to produce a molding material (A).

【0025】実施例2 実施例1で用いた化8のエポキシ樹脂 3.5%、ビフェニ
ル型エポキシ樹脂 3.5%、実施例1で用いた化11のジ
シクロペンタジエン変性フェノール樹脂 6.0%、シリカ
粉末86%、硬化促進剤 0.3%、エステルワックス類 0.3
%およびシランカップリング剤 0.4%を常温で混合し、
さらに90〜95℃で混練冷却した後、粉砕して成形材料
(B)を製造した。
Example 2 3.5% of the epoxy resin of Chemical formula 8 used in Example 1, 3.5% of the biphenyl type epoxy resin, 6.0% of the dicyclopentadiene-modified phenol resin of Chemical formula 11 used in Example 1, 86% of silica powder, 0.3% of hardening accelerator, ester waxes 0.3
% And silane coupling agent 0.4% at room temperature,
After further kneading and cooling at 90 to 95 ° C., the mixture was pulverized to produce a molding material (B).

【0026】比較例1 o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂11.2%、ノボラ
ック型フェノール樹脂5.8%、シリカ粉末82%、硬化促
進剤 0.3%、エステルワックス類 0.3%およびシランカ
ップリング剤 0.4%を常温で混合し、さらに90〜95℃で
混練冷却した後、粉砕して成形材料(C)を製造した。
Comparative Example 1 o-Cresol Novolak type epoxy resin 11.2%, novolac type phenol resin 5.8%, silica powder 82%, curing accelerator 0.3%, ester waxes 0.3% and silane coupling agent 0.4% are mixed at room temperature. After further kneading and cooling at 90 to 95 ° C., the mixture was pulverized to produce a molding material (C).

【0027】比較例2 ビフェニル型エポキシ樹脂11.3%、ノボラック型フェノ
ール樹脂 5.7%、シリカ粉末82%、硬化促進剤 0.3%、
エステルワックス類 0.3%およびシランカップリング剤
0.4%を常温で混合し、さらに90〜95℃で混練冷却した
後、粉砕して成形材料(D)を製造した。
Comparative Example 2 11.3% of biphenyl type epoxy resin, 5.7% of novolac type phenol resin, 82% of silica powder, 0.3% of curing accelerator,
0.3% of ester waxes and silane coupling agent
0.4% was mixed at room temperature, further kneaded and cooled at 90 to 95 ° C., and then pulverized to produce a molding material (D).

【0028】こうして製造した成形材料(A)〜(D)
を用いて 170℃に加熱した金型内にトランスファー注
入、半導体チップを封止し硬化させて半導体封止装置を
製造した。これらの半導体封止装置について、諸試験を
行ったのでその結果を表1に示したが、本発明のエポキ
シ樹脂組成物および半導体封止装置は、耐湿性、半田耐
熱性に優れており、本発明の顕著な効果を確認すること
ができた。
Molding materials (A) to (D) thus produced
Was used to transfer transfer into a mold heated to 170 ° C., and the semiconductor chip was sealed and cured to manufacture a semiconductor sealing device. Various tests were conducted on these semiconductor encapsulation devices, and the results are shown in Table 1. The epoxy resin composition and the semiconductor encapsulation device of the present invention are excellent in moisture resistance and solder heat resistance. The remarkable effect of the invention could be confirmed.

【0029】[0029]

【表1】 *1 :トランスファー成形によって直径50mm、厚さ3mm
の成形品を作り、これを127℃, 2.5気圧の飽和水蒸気
中に24時間放置し、増加した重量によって測定した。 *2 :吸水率の場合と同様な成形品を作り、 175℃,8
時間の後硬化を行い、適当な大きさの試験片とし、熱機
械分析装置を用いて測定した。 *3 :JIS−K−6911に準じて試験した。 *4 :成形材料を用いて、2 本以上のアルミニウム配線
を有するシリコン製チップを、通常の42アロイフレーム
に接着し、175 ℃,2 分間トランスファー成形した後、
175 ℃,8 時間の後硬化を行った。こうして得た成形品
を、予め40℃,90%RH,100 時間の吸湿処理した後、
250 ℃の半田浴に10秒間浸漬した。その後、127 ℃,
2.5気圧の飽和水蒸気中でPCTを行い、アルミニウム
の腐蝕による50%断線を不良として評価した。 *5 : 8×8mm ダミーチップをQFP(14×14×1.0 m
m)パッケージに納め、成形材料を用いて175 ℃,2 分
間トランスファー成形した後、175 ℃,8 時間の後硬化
を行った。こうして得た半導体封止装置を85℃,85%,
96時間の吸湿処理した後、240 ℃の半田浴に 1分間浸漬
した。その後、実体顕微鏡でパッケージ表面を観察し、
外部樹脂クラックの発生の有無を評価した。
[Table 1] * 1: Diameter 50 mm, thickness 3 mm by transfer molding
The molded product of No. 1 was prepared, and it was left in saturated steam at 127 ° C. and 2.5 atm for 24 hours and measured by the increased weight. * 2: Make a molded product similar to the case of water absorption, 175 ℃, 8
After post-curing for a certain time, a test piece of an appropriate size was prepared and measured using a thermomechanical analyzer. * 3: Tested according to JIS-K-6911. * 4: Using a molding material, attach a silicon chip with two or more aluminum wirings to a normal 42 alloy frame and transfer mold at 175 ° C for 2 minutes.
Post-curing was performed at 175 ° C for 8 hours. The molded product thus obtained is subjected to moisture absorption treatment at 40 ° C., 90% RH for 100 hours in advance, and then
It was immersed in a solder bath at 250 ° C for 10 seconds. After that, 127 ℃,
PCT was performed in saturated steam of 2.5 atm and 50% disconnection due to corrosion of aluminum was evaluated as defective. * 5: A dummy chip of 8 x 8 mm is used for QFP (14 x 14 x 1.0 m
m) It was placed in a package, transfer molding was performed for 2 minutes at 175 ° C using the molding material, and then post-curing was performed at 175 ° C for 8 hours. The semiconductor encapsulation device obtained in this way is 85 ℃, 85%,
After absorbing moisture for 96 hours, it was immersed in a solder bath at 240 ° C for 1 minute. After that, observe the package surface with a stereomicroscope,
The occurrence of external resin cracks was evaluated.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明のエポキシ樹脂組成物および半導体封止装置
は、耐湿性、半田耐熱性に優れ、吸湿による影響が少な
く、電極の腐蝕による断線や水分によるリーク電流の発
生等を著しく低減することができ、しかも長期間にわた
って信頼性を保証することができる。
As is clear from the above description and Table 1, the epoxy resin composition and the semiconductor encapsulation device of the present invention have excellent moisture resistance and solder heat resistance, are less affected by moisture absorption, and are not affected by electrode corrosion. It is possible to remarkably reduce the generation of leakage current due to disconnection and moisture, and it is possible to guarantee the reliability for a long period of time.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 23/31

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)次の一般式で示されるエポキシ樹
脂、 【化1】 (但し、式中、R1 はCm 2m+1基を、R2 はCn
2n+1基をそれぞれ表し、各基における m、n は 0又は 1
以上の整数を表す) (B)次の一般式で示されるジシクロペンタジエン変性
フェノール樹脂 【化2】 (但し、式中、R3 はCj 2j+1基を、j ,n は 0又は
1以上の整数をそれぞれ表す) (C)無機質充填剤 (D)硬化促進剤 を必須成分とし、前記(C)の無機質充填剤を全体の樹
脂組成物に対して25〜93重量%の割合で含有してなるこ
とを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin represented by the following general formula (A): (However, in the formula, R 1 is a C m H 2m + 1 group and R 2 is a C n H group.
2n + 1 group respectively, m and n in each group are 0 or 1
(B) represents a dicyclopentadiene-modified phenol resin represented by the following general formula: (However, in the formula, R 3 is a C j H 2j + 1 group, and j and n are 0 or
Each represents an integer of 1 or more.) (C) Inorganic filler (D) Curing accelerator is an essential component, and the inorganic filler of (C) is contained in a proportion of 25 to 93% by weight based on the entire resin composition. An epoxy resin composition comprising:
【請求項2】 (A)次の一般式で示されるエポキシ樹
脂、 【化3】 (但し、式中R1 m 2m+1基を、R2 はCn 2n+1
をそれぞれ表し、各基における m、n は 0又は 1以上の
整数を表す) (B)次の一般式で示されるジシクロペンタジエン変性
フェノール樹脂 【化4】 (但し、式中R3 はCj 2j+1基を、j ,n は 0又は 1
以上の整数をそれぞれ表す) (C)無機質充填剤 (D)硬化促進剤 を必須成分とし、前記(C)の無機質充填剤を全体の樹
脂組成物に対して25〜93重量%の割合で含有してなるこ
とを特徴とするエポキシ樹脂組成物の硬化物によって、
半導体チップが封止されてなることを特徴とする半導体
封止装置。
2. An epoxy resin represented by the following general formula (A): (However, in the formula, R 1 represents an m H 2m + 1 group, R 2 represents a C n H 2n + 1 group, and m and n in each group represent 0 or an integer of 1 or more.) (B) Next A dicyclopentadiene-modified phenolic resin represented by the general formula: (However, in the formula, R 3 is a C j H 2j + 1 group, and j and n are 0 or 1
Each of the above integers is represented.) (C) Inorganic filler (D) Curing accelerator is an essential component, and the inorganic filler of (C) is contained in a proportion of 25 to 93% by weight with respect to the entire resin composition. By the cured product of the epoxy resin composition, which is characterized by
A semiconductor encapsulation device characterized by encapsulating a semiconductor chip.
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