JPH08117675A - 基板処理液定量供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 清浄、安価、正確かつ再調整することなく基
板処理液を定量供給できる基板処理液定量供給装置を提
供する。 【構成】 途中に自動開閉弁３を備えた液送液管２から
秤量槽１に基板処理液が供給され、秤量槽１に貯留され
た基板処理液は、途中に自動開閉弁６を備えた液供給管
５を介して基板処理槽４へ供給される。秤量槽１にはオ
ーバーフロー管７が備えられ、オーバーフロー管７の流
路中にはオーバーフロー管７内を流れ落ちる基板処理液
の流量を小さくしてその流れに抵抗を与えるオリフィス
板９が取り付けられ、オリフィス板９の上流側近傍には
オーバーフロー管７内の基板処理液の有無を検出するセ
ンサ１０が設けられている。オーバーフロー管７の流路
中にはオリフィス板９の上流と下流とを連通するバイパ
ス管１１も設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板を処理する基板処
理槽に、所定量の基板処理液を秤量して供給するための
基板処理液定量供給装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板処理液定量供給装置
として、例えば、実開平３−３９１１６号公報に開示さ
れた装置などがある。この装置は、基板処理槽に対して
基板処理液を供給する液供給管を底部に有する秤量槽
と、秤量槽に基板処理液を供給する機構と、秤量槽内に
貯留された基板処理液の液面レベルを計測するためのガ
スレベルセンサ等を備えている。

【０００３】この装置によれば、秤量槽に供給され、貯
留されている基板処理液の液面レベルをガスレベルセン
サで検出し、液面レベルが、秤量槽に所定量の基板処理
腋が貯留されたときの液面レベルに達したことを検知す
ると、秤量槽への基板処理液の供給を停止し、秤量槽に
貯留された基板処理液を液供給管を介して基板処理槽に
供給するものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来装置では、ガスレベルセンサによ
る液面レベルの検出の際、基板処理液に噴射される窒素
ガスがパーティクル等で汚染されていると、基板処理液
も窒素ガス中に混入するパーティクル等で汚染されるこ
とになる。このような場合、パーティクル等で汚染され
た基板処理液が基板処理槽に供給され、その汚染された
基板処理液で基板を処理するので、基板が汚染されるこ
とになる。

【０００５】また、これとは逆に、基板処理液により発
生するベーパーが窒素ガス中に混入することにより、時
間の経過とともにガスレベルセンサを腐食させるおそれ
もある。

【０００６】さらに、装置の出荷調整時において基板処
理液ではなく水でガスレベルセンサの調整を行うと、基
板処理液と水との比重の差異により、本番処理でガスレ
ベルセンサの再調整を行う必要が生じる。

【０００７】また、ガスレベルセンサで液面レベルを高
精度に検出しようとすると、高価なガスレベルセンサが
必要になり、装置のコスト高を招くことになる。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、清浄、安価、正確かつ再調整すること
なく基板処理液を定量供給することができる基板処理液
定量供給装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板を処理する基板処理
槽に、所定量の基板処理液を秤量して供給するための基
板処理液定量供給装置であって、前記基板処理液を貯留
可能な秤量槽と、前記基板処理液を前記秤量槽に供給す
る第１の液供給手段と、前記第１の液供給手段から前記
秤量槽に供給される基板処理液の量が前記所定量に達す
ると、それ以上供給される基板処理液を前記秤量槽から
排出するオーバーフロー管と、前記オーバーフロー管の
流路中に、前記基板処理液の流量を小さくしてその流れ
に抵抗を与える抵抗付与手段と、前記抵抗付与手段の上
流側近傍において前記オーバーフロー管内の基板処理液
の有無を検出する液検出手段と、前記秤量槽から前記基
板処理槽に前記基板処理液を供給する第２の液供給手段
と、を備えたものである。

【００１０】また、請求項２に記載の発明は、上記請求
項１に記載の基板処理液定量供給装置において、前記抵
抗付与手段の上流と下流とを連通するバイパス管を前記
オーバーフロー管の流路中に設けたものである。

【００１１】また、請求項３に記載の発明は、上記請求
項１または２に記載の基板処理液定量供給装置におい
て、前記秤量槽から排出される基板処理液を、螺旋状に
流しながら前記抵抗付与手段の上流側の所定位置まで案
内するためのスパイラル管を、前記オーバーフロー管に
内設したものである。

【００１２】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。第１の液供給手段から秤量槽に供給される基板処理
液は、秤量槽に貯留されていき、所定量の基板処理液が
貯留されると、それ以上に供給される基板処理液はオー
バーフロー管から排出される。このオーバーフロー管を
流れて排出される基板処理液は、抵抗付与手段によって
抵抗が与えられ、抵抗付与手段の上流側に液溜まりが作
られる。この液溜まりが液検出手段によって検出され
る。液溜まり（液有り）が検出されると、秤量槽には所
定量の基板処理液が貯留されたことになるので、第１の
液供給手段から秤量槽への基板処理液の供給を停止し、
第２の液供給手段によって秤量槽に貯留された所定量の
基板処理液を基板処理槽に供給する。なお、第１の液供
給手段からの基板処理液の供給を停止すると、基板処理
液はオーバーフロー管へ流れ出なくなり、抵抗付与手段
の上流側に基板処理液が流れてこなくなるので、抵抗付
与手段の上流側に作られた液溜まりは、抵抗付与手段の
下流側に流れて、液溜まりは自然になくなる。

【００１３】また、例えば、液溜まりが作られないタイ
ミングにおいて、液検出手段で液溜まりが検出されてい
る場合、不必要に秤量槽に基板処理液が供給されてお
り、第１の液供給手段が故障していることを検知するこ
ともできる。

【００１４】また、請求項２に記載の発明によれば、抵
抗付与手段の上流側に一定量以上の基板処理液が溜まる
と、それ以上の基板処理腋はバイパス管を介して抵抗付
与手段の下流側に流される。

【００１５】また、請求項３に記載の発明によれば、秤
量槽からオーバーフロー管に流れ出た基板処理液は、ス
パイラル管に沿って螺旋状に流されながら、抵抗付与手
段の上流側の所定位置まで案内され、抵抗付与手段の上
流側に溜まる。

【００１６】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１は、本発明の第１実施例に係る基板処理液
定量供給装置の概略構成を示す図である。

【００１７】図中、符号１は基板処理液を貯留可能な秤
量槽である。この秤量槽１には、液送液管２から基板処
理液が供給されるように構成されている。液送液管２の
流路中には秤量槽１への基板処理液の供給と停止を切り
替える自動開閉弁３が設けられている。なお、この液送
液管２と自動開閉弁３とは、本発明における第１の液供
給手段を構成する。

【００１８】秤量槽１の底部には、秤量槽１に貯留され
た基板処理液を基板処理槽４に流下させて供給するため
の液供給管５が連通接続され、液供給管５の流路中に
は、秤量槽１から基板処理槽４への基板処理液の供給と
停止とを切り替える自動開閉弁６が設けられている。な
お、この液供給管５と自動開閉弁６とは、本発明におけ
る第２の液供給手段を構成する。

【００１９】また、秤量槽１は、底面を貫通して先端が
上方に突出したオーバーフロー管７を有している。オー
バーフロー管７は、貯留槽１の底面においてスルーフィ
ッティング８により液密に取り付けられ、オーバーフロ
ー管７の先端の高さ位置は上下方向に調整可能である。
なお、このオーバーフロー管７の先端の高さ位置によっ
て、秤量槽１に貯留される基板処理液の量が決まり、オ
ーバーフロー管７の先端の高さ位置を越えて供給され
る、すなわち、所定量以上に供給される基板処理液はオ
ーバーフロー管７に流れ出し排出される。

【００２０】オーバーフロー管７の流路中には、オリフ
ィス板９が取り付けられ、オーバーフロー管７内を流れ
落ちる基板処理液の流量を小さくしてその流れに抵抗を
与えるように構成されている。また、このオリフィス板
９の上流側近傍には、オーバーフロー管７内の基板処理
液の有無を検出するためのセンサ１０が設けられてい
る。オリフィス板９を通過した基板処理液は、図示しな
い排液処理部に供給される。なお、オリフィス板９は本
発明における抵抗付与手段に相当し、センサ１０は本発
明における液検出手段に相当する。

【００２１】また、本実施例では、オリフィス板９の上
流と下流とを連通するバイパス管１１がオーバーフロー
管７の流路中に設けられている。

【００２２】さらに、本実施例には、センサ１０からの
液検出信号を入力し、自動開閉弁３、６の開閉を制御す
るとともに、エラー出力を制御するための、図２に示す
ような制御部２０が備えられている。図２中の符号２
１、２２は、制御部２０の指示に従い自動開閉弁３、６
の開閉駆動を行う弁駆動部であり、符号２３は、制御部
２０の指示に従いエラー出力を行うエラー出力部であ
る。なお、この制御部２０は、例えば、マイクロコンピ
ュータ等で構成されている。

【００２３】次に、上述のような構成を有する第１実施
例装置の動作を説明する。まず、制御部２０は弁駆動部
２１を介して自動開閉弁３を開にし、空の秤量槽１に基
板処理液の供給を開始させる。供給される基板処理液
は、所定量に達するまで貯留槽１に貯留されていき、所
定量まで貯留されると、それ以上供給される基板処理液
はオーバーフロー管７の先端部から流れ出て排出され
る。

【００２４】このようにオーバーフロー管７から排出さ
れた基板処理液は、オリフィス板９でその流れに抵抗が
与えられ、図３に示すように、オリフィス板９の上流側
に溜まっていき液溜まり１２を作る。この液溜まり１２
がセンサ１０で検出される。

【００２５】ここで、センサ１０の具体的な構成の一例
を図４を参照して説明する。図４では、センサ１０を光
学式のセンサで構成している。この場合、オーバーフロ
ー管７は、ＰＦＡのような半透明の材質で構成され、透
明な基板処理液の液溜まり１２が作られるとその部分が
透明になる。従って、センサ１０の投光器１０ａからの
計測光は、液溜まり１２が作られていない状態では、図
４（ａ）に示すように、オーバーフロー管７の表面で反
射されて計測光は受光器１０ｂで受光されないが、液溜
まり１２が作られると、図１４（ｂ）に示すように、投
光器１０ａからの計測光は、透明なオーバーフロー管
７、液溜まり１２を透過して、受光器１０ｂで受光さ
れ、液検出信号が出力される。

【００２６】また、例えば、不透明な基板処理液の液溜
まり１２を検出する場合には、透明なオーバーフロー管
７を挟んで投光器と受光器とを配置し、液溜まり１２が
作られていない状態では、投光器からの計測光が受光器
で受光され、液溜まり１２が作られると、投光器からの
計測光が不透明な液溜まり１２で遮光され受光器で受光
されないことで、液溜まり１２の検出を行うことができ
る。

【００２７】なお、センサ１０としては、その他の構成
の光学式センサで構成することもでき、光学式センサ以
外でも、例えば、超音波センサや静電容量センサ等でセ
ンサ１０を構成することも可能である。

【００２８】上述のようにして液溜まり１２がセンサ１
０で検出される（オーバーフロー管７内の基板処理液の
有りが検出される）ことにより、オーバーフロー管７か
らの基板処理液の排出が起こったことが検知される。オ
ーバーフロー管７から基板処理液が排出されている状態
で、秤量槽１には所定量の基板処理液が貯留されてい
る。従って、制御部２０は、センサ１０からの液検出信
号が入力されると、弁駆動部２１を介して自動開閉弁３
を閉にし、秤量槽１への基板処理液の供給を停止させ
る。そして、弁駆動部２２を介して自動開閉弁６を開に
し、秤量槽１から基板処理槽４への基板処理液の供給を
開始させ、所定量の基板処理液の送液に充分な時間が経
過した後、弁駆動部２２を介して自動開閉弁６を閉にし
て、次の秤量に備える。

【００２９】なお、秤量槽１への基板処理液の供給が停
止されると、基板処理液はオーバーフロー管７へ流れ出
なくなり、オリフィス板９の上流側に基板処理液が流れ
てこなくなるので、オリフィス板９の上流側の液溜まり
１２（基板処理液）は、オリフィス板９のオリフィス９
ａから下流側に流れて、液溜まり１２は自然になくな
る。

【００３０】ところで、例えば、上記液溜まりが自然に
なくなった後など、オリフィス板９の上流側に液溜まり
１２が作られないタイミングにおいて、センサ１０が液
溜まり１２（基板処理液の有り）を検出している場合に
は、自動開閉弁３が故障して、基板処理液が秤量槽１に
供給され続けていることが予想される。従って、このよ
うな場合には、制御部２０は自動開閉弁３の故障を知ら
せるためにエラー出力部２３にエラー出力させる。エラ
ー出力部２３は、アラームを鳴動させる等して異常を作
業者に知らせる。

【００３１】また、液溜まり１２の基板処理液の液量
は、オーバーフロー管７の先端からの基板処理液の流下
量（オリフィス板９の上流からの液供給量）と、オリフ
ィス板９のオリフィス９ａの内径（オリフィス９ａから
抜けてオリフィス板９の下流側に流れる減少量）との関
係によって異なる。例えば、液供給量が少なく、オリフ
ィス９ａの内径が大きい場合には、液溜まり１２が作ら
れないことがあり、一方、液供給量が多く、オリフィス
９ａの内径が大きい場合には、液溜まり１２の基板処理
液の液量が多くなる。これらの関係についての具体的な
実験結果はについては後述するが、液溜まり１２の基板
処理液の液量が多い場合、液溜まり１２の液面は秤量槽
１方向に上昇することになる。しかし、本実施例では、
この液溜まり１２の液面が図１、図３のｅのレベル以上
になると、バイパス管１１を介して、オリフィス板９の
下流側に排出されるので、液溜まり１２の液面がｅのレ
ベルを越えることがなく、排出された基板処理液が秤量
槽１に逆流するのが防止される。

【００３２】上述したように、本実施例装置によれば、
秤量槽１に貯留された基板処理液の液面レベルを検出し
て秤量するのではなく、オーバーフロー管７から基板処
理液が排出された状態を検出して、秤量槽１に所定量の
基板処理液が貯留されたことを検知するので、正確な秤
量を行うことができる。

【００３３】また、オーバーフロー管７からの基板処理
液の排出状態は、液溜まり１２を検出することにより検
知するので、例えば、オーバーフロー管７内を流れてい
る状態の基板処理液を検出する場合に比べて、正確に、
かつ、安定して検出することができる。しかも、このよ
うに液溜まり１２を検出するのであるから、オーバーフ
ロー管７内を流れている状態の基板処理液を検出する場
合等、流動状態にある基板処理液を検出する場合に比べ
て、センサ１０は高い精度が要求されず、従って、安価
なセンサでセンサ１０を構成でき、装置のコストを低減
させることができる。

【００３４】もちろん、本実施例では、従来装置のよう
にガスを基板処理液に噴射する必要がないので、汚染さ
れたガスにより基板処理液が汚染されることがなくな
る。

【００３５】また、上述したように、本実施例によれ
ば、基板処理液の秤量に加えて、自動開閉弁３の故障を
も検知することができる。

【００３６】さらに、バイパス管１１を設けているの
で、オーバーフロー管７に排出された基板処理液が秤量
槽１に逆流することがない。

【００３７】ここで、この第１実施例装置で、オリフィ
ス板９の上流側への基板処理液の液溜まり状態（液溜ま
り１２の形成状態）と、秤量槽１への液供給停止後のオ
リフィス板９の上流側の基板処理液の液残り状態とにつ
いて実験した結果を示す。

【００３８】実験条件は次の通りである。 ＜実験条件＞ オーバーフロー管７は、外径１２mm、内径１０mmの
ものを用いた。 オリフィス９ａの内径が４mm、２mm、１mmのオリフ
ィス板９各々について実験した。 基板処理液として水を用いた。 オーバーフロー管７の先端から供給する水の流量
を、少量（１００cc/min）と大量（１０００cc/min）の
各々の場合について実験した。

【００３９】＜実験１＞ 少量（１００cc/min）の水を
供給した場合の実験結果 オリフィス内径が４mmでは、オリフィス板９の上流
に水は溜まらなかった（液溜まり１２は作られなかっ
た）。 オリフィス内径が２mmでは、水は図１、図３のｅの
レベル近くまで溜まった。また、水の供給を停止する
と、溜まった水はオリフィス９ａを抜け、下流側に流下
されて、水残りは無かった。なお、溜まった水に少量の
気泡が確認できた。 オリフィス内径が１mmでは、水は図１、図３のｅの
レベルを越え、バイパス管１１に流れた。また、水の供
給を停止すると、溜まった水はオリフィス９ａを抜け、
下流側に流下されて、水残りは無かった。なお、溜まっ
た水に気泡を確認したが、オリフィス内径が２mmの場合
よりも少なかった。

【００４０】＜実験２＞ 大量（１０００cc/min）の水
を供給した場合の実験結果 オリフィス内径が４mmでは、水はオリフィス板９の
上流約４０mm（図１、図３のｅのレベルよりも下方）ま
で溜まった。また、水の供給を停止すると、溜まった水
はオリフィス９ａを抜け、下流側に流下されて、水残り
は無かった。なお、溜まった水に多くの気泡が確認でき
た。 オリフィス内径が２mmでは、水は図１、図３のｅの
レベルを越え、バイパス管１１に流れた。また、水の供
給を停止すると、溜まった水はオリフィス９ａを抜け、
下流側に流下されて、水残りは無かった。なお、溜まっ
た水に少量の気泡が確認できた。 オリフィス内径が１mmでは、水は図１、図３のｅの
レベルを越え、バイパス管１１に流れた。また、水の供
給を停止すると、溜まった水はオリフィス９ａを抜け、
下流側に流下されて、水残りは無かった。なお、溜まっ
た水に気泡を確認したが、オリフィス内径が２mmの場合
よりも少なかった。

【００４１】ところで、上述した実験結果において、溜
まった水に気泡が発生すると、センサ１０の種類によっ
ては、液溜まり１２の検出に誤検出が生じることがあり
好ましくない。従って、気泡の発生は少ない方が好まし
い。この気泡の発生は、上記実験結果より、オリフィス
内径が小さい程少ないことがわかった。これは、オリフ
ィス内径が小さい程、オリフィス９ａから下流に流れる
水量が少ないので、気泡が上方に抜けることや、オリフ
ィス内径が小さい程、水が溜まる際の水位の上昇が速
く、上方より落下する水との落差が速く小さくなるの
で、溜まった水の液面に落下水が衝突する際の衝撃が小
さくなることなどが原因であると推定される。

【００４２】従って、本実施例の場合、液供給量の大小
にかかわらず、液の溜まり状態、液残り状態が良好なオ
リフィス内径２mm、１mmの場合が好適であるが、気泡の
発生状態を考慮すると、オリフィス内径が１mmの場合が
より好適である。なお、上述の実験結果から推定する
と、オリフィス内径を１mm以下にすることにより、気泡
の発生がより一層抑えられ、より好適であると考えられ
る。なお、本実施例装置では、バイパス管１１を設けて
いるので、水は図１、図３のｅのレベル以上には上昇せ
ず、オリフィス内径を小さくしても、液の溜まり状態に
影響はなく、水が秤量槽１に逆流することもない。しか
し、オリフィス内径をあまり小さくし過ぎると、水の供
給を停止した後、溜まった水がオリフィス９ａから完全
に抜けるのに長時間を要したり、また、溜まった水がオ
リフィス９ａから完全に抜け切らず、水残りが生じるこ
とも考えられるので、オリフィス内径をあまり小さくし
過ぎるのは好ましくないものと考えられる。

【００４３】さて、上述した結論より本実施例で好適で
あるオリフィス内径１mmのオリフィス板９を用いた場合
について、次に、薬液を供給した実験を行った。薬液と
しては、燐酸、塩酸、硫酸を用いた。

【００４４】実験の結果、液の溜まり状態、液残り状態
については、いずれの薬液の場合も水の場合と同様の結
果が得られた。従って、基板処理液としては、純水を用
いても薬液を用いても、装置の調整を変える必要がない
ことが確認できた。

【００４５】また、気泡の発生は、いずれの薬液の場合
も水の場合より少ないことが確認された。これは、薬液
は水よりも比重が高く気泡が上方に抜けやすいことや、
薬液は水よりも粘度が高いので、薬液が流れるスピード
が水よりも遅く、溜まった薬液の液面に、流下してくる
薬液が衝突する際の衝撃が小さくなること等が原因であ
ると推測される。

【００４６】なお、上述の実施例および以下の変形例や
実施例では、抵抗付与手段をオリフィス板９で構成して
いるが、抵抗付与手段としては、例えば、図５（ａ）に
示すように、オーバーフロー管７の流路の一部の内径を
細くして液の流れに抵抗を与えるように構成してもよい
し、図５（ｂ）に示すように、オーバーフロー管７の流
路中に液溜まり部１５を設け、この液溜まり部１５の側
部の小孔１６より溜まった液を下流側に流下させるよう
構成してもよい。さらに、例えば、オーバーフロー管７
の流路中にニードルバルブを設けて、そのニードルバル
ブで基板処理液の流量を小さくし、液の流れに抵抗を与
えるように構成してもよい。なお、これら変形例におい
ても、好適な液溜まり１２が作られるとともに、液残り
が無くなるように、抵抗付与手段の上流側から供給され
る液供給量に応じて、細くした部分の管内径（図５
（ａ）の場合）や小孔１６の径（図５（ｂ）の場合）、
ニードルバルブの通過流量などを決めることになる。

【００４７】また、上述した第１実施例ではバイパス管
１１を設けたが、オーバーフロー管７内の基板処理液の
有無をセンサ１０で安定して検出でき、かつ、基板処理
液が秤量槽１に逆流しないような液溜まり１２が作られ
る場合には、図６に示すように、バイパス管１１を設け
ないで基板処理液定量供給装置を構成してもよい。な
お、図６は、バイパス管を設けない場合の変形例の要部
の概略構成を示す図であり、図１と同一符号で示す部分
や図示を省略している部分は、上記第１実施例装置と同
じである。

【００４８】次に、本発明の第２実施例装置の構成を図
７を参照して説明する。図７は、第２実施例装置の要部
の概略構成を示す図である。

【００４９】この第２実施例装置は、第１実施例または
図６の変形例において、オーバーフロー管７の先端から
落下する基板処理液を、螺旋状に流しながらオリフィス
板９の上流側の所定位置まで案内するためのスパイラル
管３０をオーバーフロー管７に内設したことを特徴と
し、その他の構成は第１実施例、図６の変形例と同様で
あるので、重複する説明は省略する。なお、図７では、
第１実施例に適用した場合を図示しているが、図６の変
形例にも同様に適用できる。

【００５０】この第２実施例装置によれば、オーバーフ
ロー管７の先端から落下する基板処理液は、スパイラル
管３０によって螺旋状に流されながらオリフィス板９の
上流側の所定位置まで案内されるので、スパイラル管３
０の先端からオリフィス板９方向に落下される基板処理
液の落差が小さくなるとともに、落下速度が小さくなり
液面への衝突の衝撃が小さくなるので、第１実施例や図
６の変形例に比べて、液溜まり１２内に発生する気泡を
少なくすることができる。

【００５１】なお、スパイラル管３０で案内する所定位
置は、オーバーフロー管７の先端から供給される基板処
理液の液量やオリフィス内径等の諸条件に応じて、実験
的に最適となる位置を見つければよい。

【００５２】また、液溜まり１２内に発生する気泡を少
なくするためには、図７のようにスパイラル管３０を用
いる以外にも、例えば、図８（ａ）に示すように、オー
バーフロー管７を２重管構造にし、これら管の配管抵抗
によって基板処理液の落下速度を下げるように構成して
もよいし、また、図８（ｂ）に示すように、ラビリンス
状の部材４０をオーバーフロー管７内に設け、基板処理
液の落下を防ぐように構成してもよい。これらによって
も、液溜まり１２内に発生する気泡を少なくすることが
できる。なお、図８では、第１実施例に適用した場合を
図示しているが、図６の変形例にも同様に適用できる。

【００５３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、オーバーフロー管から排出さ
れた基板処理液を検出して、基板処理液を秤量するの
で、秤量槽に貯留された基板処理液の液面レベルをガス
レベルセンサを用いて検出して秤量するのに比べて正確
な秤量が行え、所定量の基板処理液を基板処理槽に正確
に供給することができるし、ガスを基板処理液に噴出す
ることがないので、基板処理液をガスで汚染するなどの
不都合も回避できる。

【００５４】また、オーバーフロー管の経路中に抵抗付
与手段を設けて、オーバーフロー管に流れ出た基板処理
液の液溜まりを作って、この液溜まりでオーバーフロー
管に流れ出た基板処理液の有無を検出するように構成し
たので、オーバーフロー管から基板処理液が排出された
ことを正確に、かつ、安定して検出することができ、ま
た、安定して液を検出することができるので、液検出手
段は、高い精度が要求されず、安価なセンサで構成する
ことができ、装置のコストを低減することができる。

【００５５】さらに、請求項１の発明による液検出の構
成では、液検出手段の調整などは、装置の製作時に行え
ばよく、それ以降に再調整を行う必要がないし、また、
水であっても薬液であっても同様に動作するので、水と
薬液とで液検出手段等の調整を変える必要もない。

【００５６】さらに、請求項１に記載の発明によれば、
秤量の際の液検知のみならず、第１の液供給手段の故障
の検出をも自動でかつ正確に行うことができる。

【００５７】また、請求項２に記載の発明によれば、抵
抗付与手段の上流と下流とを連通するバイパス管を設け
たので、例えば、大容量の基板処理液がオーバーフロー
管から排出される場合等においても、抵抗付与手段の上
流側に一定量以上の基板処理液が溜まると、それ以上の
基板処理液はバイパス管を介して抵抗付与手段の下流側
に逃がされ、基板処理液がオーバーフロー管から秤量槽
に逆流するのが防止でき、正確な秤量を行うことができ
る。

【００５８】また、請求項３に記載の発明によれば、オ
ーバーフロー管内にスパイラル管を設け、基板処理液を
螺旋状に流しながら抵抗付与手段の上流側の所定位置ま
で案内するように構成したので、基板処理液の抵抗付与
手段までの落差が小さくなるとともに、落下速度が小さ
くなり液面への衝突の衝撃が小さくなり、基板処理液が
抵抗付与手段に流れる際に液溜まりに気泡が発生し難く
なる。従って、液の検出を一層正確に行えるようになっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る基板処理液定量供給
装置の概略構成を示す図である。

【図２】実施例装置の制御部の構成を示すブロック図で
ある。

【図３】実施例装置の動作を説明するための図である。

【図４】センサの一例の構成を説明するための図であ
る。

【図５】抵抗付与手段の変形例の構成を示す図である。

【図６】第１実施例装置の変形例の要部の概略構成を示
す図である。

【図７】第２実施例装置の要部の概略構成を示す図であ
る。

【図８】第２実施例装置の変形例の要部の概略構成を示
す図である。

【符号の説明】

１ … 秤量槽 ２ … 液送液管 ３、６ … 自動開閉弁 ４ … 基板処理槽 ５ … 液供給管 ７ … オーバーフロー管 ９ … オリフィス板（抵抗付与手段） １０ … センサ（液検出手段） １１ … バイパス管 ３０ … スパイラル管

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を処理する基板処理槽に、所定量の
   基板処理液を秤量して供給するための基板処理液定量供
   給装置であって、 前記基板処理液を貯留可能な秤量槽と、 前記基板処理液を前記秤量槽に供給する第１の液供給手
   段と、 前記第１の液供給手段から前記秤量槽に供給される基板
   処理液の量が前記所定量に達すると、それ以上供給され
   る基板処理液を前記秤量槽から排出するオーバーフロー
   管と、 前記オーバーフロー管の流路中に、前記基板処理液の流
   量を小さくしてその流れに抵抗を与える抵抗付与手段
   と、 前記抵抗付与手段の上流側近傍において前記オーバーフ
   ロー管内の基板処理液の有無を検出する液検出手段と、 前記秤量槽から前記基板処理槽に前記基板処理液を供給
   する第２の液供給手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理液定量供給装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理液定量供給装
   置において、 前記抵抗付与手段の上流と下流とを連通するバイパス管
   を前記オーバーフロー管の流路中に設けたことを特徴と
   する基板処理液定量供給装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の基板処理液定
   量供給装置において、 前記秤量槽から排出される基板処理液を、螺旋状に流し
   ながら前記抵抗付与手段の上流側の所定位置まで案内す
   るためのスパイラル管を、前記オーバーフロー管に内設
   したことを特徴とする基板処理液定量供給装置。