JPH08107936A - 毛髪発毛育毛方法及び装置 - Google Patents
毛髪発毛育毛方法及び装置Info
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- JPH08107936A JPH08107936A JP24637694A JP24637694A JPH08107936A JP H08107936 A JPH08107936 A JP H08107936A JP 24637694 A JP24637694 A JP 24637694A JP 24637694 A JP24637694 A JP 24637694A JP H08107936 A JPH08107936 A JP H08107936A
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- Japan
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- low
- frequency
- growth
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 効率的な発生育毛方法及び装置の提供
【構成】 中央に行く程短くした横一連の櫛歯を設けた
発生部を持つ高周波コームを有した高周波によるオゾン
発生装置と中央に行く程短くした横一連の櫛歯を設けた
低周波コームを有した低周波による刺激装置及びアース
棒を設けたこと及び頭皮に漢方生薬配合の育毛剤を塗布
し、請求項１記載の低周波刺激装置による刺激を与え、
毛根部にまで育毛剤を浸透させたのち高周波を当てるこ
とによって表皮から真皮に到る各組織及び細胞を活性化
するとともに、オゾン（Ｏ3 ）の照射によって、男性型
脱毛症の原因である５αデヒドロテストステロンの抑制
をすること。
発生部を持つ高周波コームを有した高周波によるオゾン
発生装置と中央に行く程短くした横一連の櫛歯を設けた
低周波コームを有した低周波による刺激装置及びアース
棒を設けたこと及び頭皮に漢方生薬配合の育毛剤を塗布
し、請求項１記載の低周波刺激装置による刺激を与え、
毛根部にまで育毛剤を浸透させたのち高周波を当てるこ
とによって表皮から真皮に到る各組織及び細胞を活性化
するとともに、オゾン（Ｏ3 ）の照射によって、男性型
脱毛症の原因である５αデヒドロテストステロンの抑制
をすること。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、装置を用いた毛髪の発
毛育毛法に関するものである。
毛育毛法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の育毛法は、育毛剤を塗布した場
合、その育毛剤の頭皮への浸透については自然な皮膚浸
透に頼るのみであった。一般に皮膚に育毛剤を塗布した
場合、育毛剤は皮膚のもつバリアゾーンに阻害されて浸
透するのはごくわずかであり、このわずかな育毛剤だけ
で、毛母細胞、毛乳頭、毛細血管、神経繊維等の細胞を
活性化するには至らず、一時的な刺激によって生毛や毳
毛等の発生をみるにとどまり、それは毛髪の育生とはい
えない水準である。
合、その育毛剤の頭皮への浸透については自然な皮膚浸
透に頼るのみであった。一般に皮膚に育毛剤を塗布した
場合、育毛剤は皮膚のもつバリアゾーンに阻害されて浸
透するのはごくわずかであり、このわずかな育毛剤だけ
で、毛母細胞、毛乳頭、毛細血管、神経繊維等の細胞を
活性化するには至らず、一時的な刺激によって生毛や毳
毛等の発生をみるにとどまり、それは毛髪の育生とはい
えない水準である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明者は育
毛剤の頭皮深部への浸透をいかにして図るかを研究実験
した結果、低周波及び高周波による細胞の活性化、血行
促進及びイオン化された液体の浸透促進機能、さらには
高周波によりオゾンを発生させ、その殺菌作用及び酸化
力を利用して発毛育毛に役立てることを目的として、本
発明の装置と方法を完成した。従って、本発明は低周波
・高周波による効果に着目し、それらを１台の機械で施
術可能とした毛髪発毛装置を開発し、その装置を使用し
た毛髪の発毛育毛法を開発したものである。
毛剤の頭皮深部への浸透をいかにして図るかを研究実験
した結果、低周波及び高周波による細胞の活性化、血行
促進及びイオン化された液体の浸透促進機能、さらには
高周波によりオゾンを発生させ、その殺菌作用及び酸化
力を利用して発毛育毛に役立てることを目的として、本
発明の装置と方法を完成した。従って、本発明は低周波
・高周波による効果に着目し、それらを１台の機械で施
術可能とした毛髪発毛装置を開発し、その装置を使用し
た毛髪の発毛育毛法を開発したものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の毛髪発毛装置
は、上記課題を解決するために中央に行く程短くした横
一連の櫛歯を設けた発生部を持つ高周波コームを有した
高周波によるオゾン発生装置と中央に行く程短くした横
一連の櫛歯を設けた低周波コームを有した低周波による
刺激装置及びアース棒を設けたことを要旨とし、本発明
の毛髪の発毛育毛法は、頭皮に漢方生薬配合の育毛剤を
塗布し、請求項１記載の低周波刺激装置による刺激を与
え、毛根部にまで育毛剤を浸透させたのち高周波を当て
ることによって表皮から真皮に到る各組織及び細胞を活
性化するとともに、オゾン（Ｏ3 ）の照射によって、男
性型脱毛症の原因である５αデヒドロテストステロンの
抑制をすることを要旨とする。ここで高周波に用いる最
小電流は０．０９ｍＡ、最大電流は１．７５ｍＡ程度が
最適である。また低周波の周波数は、たとえば最小が
０．６Ｈｚ、最大が１３．３Ｈｚ、パルス幅０．２ｍｓ
程度が最適である。ここで漢方生薬配合の育毛剤とは、
本件出願人の製造販売にかかる、モトニトログアヤコー
ルナトリウム・センブリエキス他１８種類の成分配合の
「リーブ１（商品名、医薬部外品）」、エンメイソウ・
ニンジン・クジン他３４種類の成分配合の「リーブＡ・
Ｂ（商品名、ヘアトニック）」、あるいはサンショウ、
トウキ、サンザシ、ショウキョウ、トウガラシ、塩化カ
ルプロニウム、カシュウ、チクセツニンジン、ホコツ
シ、ソウハクヨウ、ボウフウその他発毛育に効果のある
成分を含んだ育毛剤が考えられる。
は、上記課題を解決するために中央に行く程短くした横
一連の櫛歯を設けた発生部を持つ高周波コームを有した
高周波によるオゾン発生装置と中央に行く程短くした横
一連の櫛歯を設けた低周波コームを有した低周波による
刺激装置及びアース棒を設けたことを要旨とし、本発明
の毛髪の発毛育毛法は、頭皮に漢方生薬配合の育毛剤を
塗布し、請求項１記載の低周波刺激装置による刺激を与
え、毛根部にまで育毛剤を浸透させたのち高周波を当て
ることによって表皮から真皮に到る各組織及び細胞を活
性化するとともに、オゾン（Ｏ3 ）の照射によって、男
性型脱毛症の原因である５αデヒドロテストステロンの
抑制をすることを要旨とする。ここで高周波に用いる最
小電流は０．０９ｍＡ、最大電流は１．７５ｍＡ程度が
最適である。また低周波の周波数は、たとえば最小が
０．６Ｈｚ、最大が１３．３Ｈｚ、パルス幅０．２ｍｓ
程度が最適である。ここで漢方生薬配合の育毛剤とは、
本件出願人の製造販売にかかる、モトニトログアヤコー
ルナトリウム・センブリエキス他１８種類の成分配合の
「リーブ１（商品名、医薬部外品）」、エンメイソウ・
ニンジン・クジン他３４種類の成分配合の「リーブＡ・
Ｂ（商品名、ヘアトニック）」、あるいはサンショウ、
トウキ、サンザシ、ショウキョウ、トウガラシ、塩化カ
ルプロニウム、カシュウ、チクセツニンジン、ホコツ
シ、ソウハクヨウ、ボウフウその他発毛育に効果のある
成分を含んだ育毛剤が考えられる。
【０００５】
【作用】本発明は、上記課題を解決するために高周波コ
ームの高周波によるオゾン発生部位及び低周波コームの
櫛の形状を中央に行く程短くした横一連にしたため、コ
ームで施術する場合、頭の形状に合致させることができ
る。また低周波による刺激装置及びアース棒を設けたた
め、低周波により頭皮に塗布した育毛剤にマイナスある
いはプラスのイオンを持たせ、身体にマイナスあるいは
プラスの電極をアース棒によりアースして微弱電流を流
すことができる。そして微弱電流を流すと、イオン化さ
れた液体が穏やか且つ速やかに毛根部にまで浸透し薬効
を高める。低周波電流は、マッサージ効果がある為、末
梢神経を刺激し、毛細血管を拡張して血液の循環を促
し、リンパの流れを良くし、新陳代謝を促進する。
ームの高周波によるオゾン発生部位及び低周波コームの
櫛の形状を中央に行く程短くした横一連にしたため、コ
ームで施術する場合、頭の形状に合致させることができ
る。また低周波による刺激装置及びアース棒を設けたた
め、低周波により頭皮に塗布した育毛剤にマイナスある
いはプラスのイオンを持たせ、身体にマイナスあるいは
プラスの電極をアース棒によりアースして微弱電流を流
すことができる。そして微弱電流を流すと、イオン化さ
れた液体が穏やか且つ速やかに毛根部にまで浸透し薬効
を高める。低周波電流は、マッサージ効果がある為、末
梢神経を刺激し、毛細血管を拡張して血液の循環を促
し、リンパの流れを良くし、新陳代謝を促進する。
【０００６】また高周波によりオゾンが発生し、オゾン
の頭皮照射が可能となる。オゾンは殺菌作用をもち、頭
皮を清浄にしながら新陳代謝を促進するとともに、男性
型脱毛症の原因であるとされる、５αリダクターゼとい
う酵素により還元された５αデヒドロテストストロンを
オゾンの酸化力によって解消する。一般に図４に示すよ
うに５αデヒドロテストステロンは、毛包周囲の血管系
を通って、下部毛包の毛乳頭に運ばれ、そこから毛母に
作用し、脱毛の原因になっていると考えられているた
め、この５αデヒドロテストステロンをオゾンの酸化力
によって解消することにより、脱毛の原因物質を減少さ
せることが可能となる。又、高周波は毛母細胞内のミト
コンドリアに働きかけて、ミトコンドリアの電子伝達系
を活性化し、発毛エネルギーとしてのＡＴＰ（アデノシ
ン三リン酸）の合成を促進する。
の頭皮照射が可能となる。オゾンは殺菌作用をもち、頭
皮を清浄にしながら新陳代謝を促進するとともに、男性
型脱毛症の原因であるとされる、５αリダクターゼとい
う酵素により還元された５αデヒドロテストストロンを
オゾンの酸化力によって解消する。一般に図４に示すよ
うに５αデヒドロテストステロンは、毛包周囲の血管系
を通って、下部毛包の毛乳頭に運ばれ、そこから毛母に
作用し、脱毛の原因になっていると考えられているた
め、この５αデヒドロテストステロンをオゾンの酸化力
によって解消することにより、脱毛の原因物質を減少さ
せることが可能となる。又、高周波は毛母細胞内のミト
コンドリアに働きかけて、ミトコンドリアの電子伝達系
を活性化し、発毛エネルギーとしてのＡＴＰ（アデノシ
ン三リン酸）の合成を促進する。
【０００７】これら高周波及び低周波の心地よい適度な
刺激は、末梢神経から自律神経に作用し、これら神経系
統の働きをも高め、毛母細胞の活性化を著しく促進す
る。
刺激は、末梢神経から自律神経に作用し、これら神経系
統の働きをも高め、毛母細胞の活性化を著しく促進す
る。
【０００８】
【実施例】 実施例１ 本発明の、毛髪発毛育毛装置のブロックダイヤグラムを
図５に示した。交流電流を電源とし、タイマー部の制御
を設け、高圧パルス発生部と低周波駆動部が設けられて
いる。以下に本発明の、毛髪発毛育毛装置の規格表を記
載する。
図５に示した。交流電流を電源とし、タイマー部の制御
を設け、高圧パルス発生部と低周波駆動部が設けられて
いる。以下に本発明の、毛髪発毛育毛装置の規格表を記
載する。
【０００９】
【表１】
【００１０】実施例２ 実施例１の毛髪発毛育毛装置１（図１）に図２に示す低
周波コーム３とアース４のコードを低周波端子７に挿入
し、一方高周波コーム２のコードを高周波端子６に挿入
する。アース棒４にはぬれたガーゼ５を巻きつけて、図
３に示すように被施術者８の手に握ってもらう。このよ
うな準備を行った後、毛髪及び頭皮を洗浄した後、モト
ニトログアヤコールナトリウム・パントテン酸カルシウ
ム・イノシット・塩酸ピリドキシン・シスチン・トウキ
・センブリ・クロラミンＴ・コレステロール・サリチル
酸・感光素３０１・レゾルシン・ショウチョウチンキ・
トウガラシチンキの成分配合の本件出願人の製造販売に
かかる「リーブ１（商品名、医薬部外品）」あるいはセ
ンブリ・ニンジン・エンメイソウ・クジン・ニンニク・
オランダカラシ・ゴボウ・オドリコソウ・常春ツタ・ア
ルニカ・カミツレ・マツ・マンネンロウ（ローズマリ
ー）・メリッサ・サンショウ・ヒバマタ・ホップ・オウ
ゴン・ムクロジ・アロエ・トウキ・チョウジ・甘草成分
（β−グリチルリチン酸、グリチルリチン酸ジカリウ
ム）・天然ビタミンＥ・ビタミンＢ6 ・ビタミンＢ複合
体・ニコチン酸・パントテン酸・アミノ酸・ヒノキチオ
ール・乳酸・ローヤルゼリー・メントール・エタノール
・ＮＭＦ成分（Ｌ−グルタミン酸）配合の「リーブＡ・
Ｂ（商品名）」を塗布する。すぐに低周波のスイッチを
オンにし、施術者９が低周波コーム３の櫛歯３ａを頭皮
に接触させて絶えず頭皮上を移動させ、約５Ｈｚの低周
波を照射するイオン導入を２０分間行う。この時、同時
に低周波電流による毛根部を含めた皮下組織の活性化が
行われている。
周波コーム３とアース４のコードを低周波端子７に挿入
し、一方高周波コーム２のコードを高周波端子６に挿入
する。アース棒４にはぬれたガーゼ５を巻きつけて、図
３に示すように被施術者８の手に握ってもらう。このよ
うな準備を行った後、毛髪及び頭皮を洗浄した後、モト
ニトログアヤコールナトリウム・パントテン酸カルシウ
ム・イノシット・塩酸ピリドキシン・シスチン・トウキ
・センブリ・クロラミンＴ・コレステロール・サリチル
酸・感光素３０１・レゾルシン・ショウチョウチンキ・
トウガラシチンキの成分配合の本件出願人の製造販売に
かかる「リーブ１（商品名、医薬部外品）」あるいはセ
ンブリ・ニンジン・エンメイソウ・クジン・ニンニク・
オランダカラシ・ゴボウ・オドリコソウ・常春ツタ・ア
ルニカ・カミツレ・マツ・マンネンロウ（ローズマリ
ー）・メリッサ・サンショウ・ヒバマタ・ホップ・オウ
ゴン・ムクロジ・アロエ・トウキ・チョウジ・甘草成分
（β−グリチルリチン酸、グリチルリチン酸ジカリウ
ム）・天然ビタミンＥ・ビタミンＢ6 ・ビタミンＢ複合
体・ニコチン酸・パントテン酸・アミノ酸・ヒノキチオ
ール・乳酸・ローヤルゼリー・メントール・エタノール
・ＮＭＦ成分（Ｌ−グルタミン酸）配合の「リーブＡ・
Ｂ（商品名）」を塗布する。すぐに低周波のスイッチを
オンにし、施術者９が低周波コーム３の櫛歯３ａを頭皮
に接触させて絶えず頭皮上を移動させ、約５Ｈｚの低周
波を照射するイオン導入を２０分間行う。この時、同時
に低周波電流による毛根部を含めた皮下組織の活性化が
行われている。
【００１１】次に高周波コーム２を用いてオゾンを発生
させ、頭部全体に照射する。この時、高周波は、たとえ
ば測定時周温度２５℃、湿度７２％の場合入力抵抗１０
０ＭΩの高圧プローブ接触させた時の出力電圧は１６Ｋ
ＶＰ（時定数設定はｍａｘ≒５０ｎｓ）であった。この
高周波の照射により、高周波の適度な刺激が皮下組織に
作用する。これを２０分間施療する。以上の方法を１週
間に２〜３回繰り返すとともに、毎日上記育毛剤を患部
に塗布し、マッサージを行った。以下は、この方法を３
５名に対して３カ月〜１年間繰り返し、実施した記録で
ある。それらの人々の症状と効果を以下の表２〜４に記
載する。なお表２〜４は連続している。
させ、頭部全体に照射する。この時、高周波は、たとえ
ば測定時周温度２５℃、湿度７２％の場合入力抵抗１０
０ＭΩの高圧プローブ接触させた時の出力電圧は１６Ｋ
ＶＰ（時定数設定はｍａｘ≒５０ｎｓ）であった。この
高周波の照射により、高周波の適度な刺激が皮下組織に
作用する。これを２０分間施療する。以上の方法を１週
間に２〜３回繰り返すとともに、毎日上記育毛剤を患部
に塗布し、マッサージを行った。以下は、この方法を３
５名に対して３カ月〜１年間繰り返し、実施した記録で
ある。それらの人々の症状と効果を以下の表２〜４に記
載する。なお表２〜４は連続している。
【００１２】
【表２】
【００１３】
【表３】
【００１４】
【表４】
【００１５】先ず図６の患者にあっては２５年前に発病
した円形脱毛症により図６（ａ）に示すような全頭脱毛
の状態であったが、本発明方法を実施したところ２６日
目から前頭部毛の発毛が認められ、６２日目には硬い毛
が多量に発毛し出し２２０日目には図６（ｂ）に示すよ
うに密集して毛が認められるまでになった。全頭脱毛の
状態からの発毛としては、驚くべき効果である。同様
に、図７の患者では治療１００日目あたりから発毛が認
められ、図７（ａ）に示すような状態から治療１８５日
目には直径９cmのうす毛範囲がほとんど目立たなくなっ
た。
した円形脱毛症により図６（ａ）に示すような全頭脱毛
の状態であったが、本発明方法を実施したところ２６日
目から前頭部毛の発毛が認められ、６２日目には硬い毛
が多量に発毛し出し２２０日目には図６（ｂ）に示すよ
うに密集して毛が認められるまでになった。全頭脱毛の
状態からの発毛としては、驚くべき効果である。同様
に、図７の患者では治療１００日目あたりから発毛が認
められ、図７（ａ）に示すような状態から治療１８５日
目には直径９cmのうす毛範囲がほとんど目立たなくなっ
た。
【００１６】また、図８の患者では、図８（ａ）に示す
ような頭頂部脱毛及び前頭部化膿状態（図には色彩が表
れていないが、前頭部一帯が赤く化膿している）であっ
たものが、７３日目あたりから化膿がおさまり、その後
毛髪が順調に生育し、図８（ｂ）に示すように完全に回
復した。さらに、図９の患者では図９（ａ）に示すよう
な後頭部一部手掌大脱毛であったものが、６か月後には
図９（ｂ）に示すように、脱毛箇所の片鱗も残さず完全
に回復した。
ような頭頂部脱毛及び前頭部化膿状態（図には色彩が表
れていないが、前頭部一帯が赤く化膿している）であっ
たものが、７３日目あたりから化膿がおさまり、その後
毛髪が順調に生育し、図８（ｂ）に示すように完全に回
復した。さらに、図９の患者では図９（ａ）に示すよう
な後頭部一部手掌大脱毛であったものが、６か月後には
図９（ｂ）に示すように、脱毛箇所の片鱗も残さず完全
に回復した。
【００１７】以上の多数の症例に明らかなように、本発
明の装置を用いた毛髪発毛育毛方法は、すばらしい効果
をあげている。施療者全員につき、目を見張る発毛育毛
が認められる。これは、低周波及び高周波の交互の刺激
が、漢方配合の育毛剤の吸収を促し、高周波オゾンによ
る男性型脱毛症の原因物質である５αデヒドロテストス
トロンの酸化の効果と相まって、育毛効果を促したもの
と考えられる。なお、実施例では育毛剤として「リーブ
１」あるいは「リーブＡ」「リーブＢ」を用いたが、本
発明方法の実施にあたっては、これに限らず、育毛効果
のある漢方生薬配合の育毛剤を用いても良いことは勿論
である。
明の装置を用いた毛髪発毛育毛方法は、すばらしい効果
をあげている。施療者全員につき、目を見張る発毛育毛
が認められる。これは、低周波及び高周波の交互の刺激
が、漢方配合の育毛剤の吸収を促し、高周波オゾンによ
る男性型脱毛症の原因物質である５αデヒドロテストス
トロンの酸化の効果と相まって、育毛効果を促したもの
と考えられる。なお、実施例では育毛剤として「リーブ
１」あるいは「リーブＡ」「リーブＢ」を用いたが、本
発明方法の実施にあたっては、これに限らず、育毛効果
のある漢方生薬配合の育毛剤を用いても良いことは勿論
である。
【００１８】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の毛髪の発毛
育毛方法及び装置は、１つの機械で高周波及び低周波の
心地よい適度な刺激が可能である。また高周波には発生
部にオゾンが発生するためそのオゾンが殺菌作用をも
ち、頭皮を清浄にしながら新陳代謝を促進する上、高周
波は神経繊維を活性し、血液やリンパの流れを良くする
効果もある。又、毛母細胞内のミトコンドリアに働きか
けて、ミトコンドリアの電子伝達系を活性化し、ＡＴＰ
（アデノシン三リン酸）の合成を促進し、それが発毛エ
ネルギーとなる。さらに低周波による刺激装置及びアー
ス棒を設けたため、低周波により頭皮に塗布した前記リ
ーブ１あるいはリーブＡ・Ｂまたはそれ以外の漢方配合
の育毛剤にマイナスあるいはプラスのイオンを持たせ、
身体にマイナスあるいはプラスの電極をアース棒により
アースして微弱電流を流すことができる。そして微弱電
流を流すと、イオン化された液体が穏やか且つ速やかに
毛根部にまで浸透し薬効を高める。低周波電流は、マッ
サージ効果がある為、末梢神経を刺激し、毛細血管を拡
張して血液の循環を促し、リンパの流れを良くし、新陳
代謝を促進する。そして、これら高周波、低周波に使用
されるコームは、頭皮にマッチする形状にされているの
で、無駄なく効率的に施術でき、また使用感も良い。本
発明の毛髪の発毛育毛方法によれば、高い確率で発毛が
認められる。
育毛方法及び装置は、１つの機械で高周波及び低周波の
心地よい適度な刺激が可能である。また高周波には発生
部にオゾンが発生するためそのオゾンが殺菌作用をも
ち、頭皮を清浄にしながら新陳代謝を促進する上、高周
波は神経繊維を活性し、血液やリンパの流れを良くする
効果もある。又、毛母細胞内のミトコンドリアに働きか
けて、ミトコンドリアの電子伝達系を活性化し、ＡＴＰ
（アデノシン三リン酸）の合成を促進し、それが発毛エ
ネルギーとなる。さらに低周波による刺激装置及びアー
ス棒を設けたため、低周波により頭皮に塗布した前記リ
ーブ１あるいはリーブＡ・Ｂまたはそれ以外の漢方配合
の育毛剤にマイナスあるいはプラスのイオンを持たせ、
身体にマイナスあるいはプラスの電極をアース棒により
アースして微弱電流を流すことができる。そして微弱電
流を流すと、イオン化された液体が穏やか且つ速やかに
毛根部にまで浸透し薬効を高める。低周波電流は、マッ
サージ効果がある為、末梢神経を刺激し、毛細血管を拡
張して血液の循環を促し、リンパの流れを良くし、新陳
代謝を促進する。そして、これら高周波、低周波に使用
されるコームは、頭皮にマッチする形状にされているの
で、無駄なく効率的に施術でき、また使用感も良い。本
発明の毛髪の発毛育毛方法によれば、高い確率で発毛が
認められる。
【図１】本発明の一実施例の毛髪発毛装置を示す概略斜
視図である。
視図である。
【図２】本発明の一実施例の毛髪発毛装置に使用する櫛
を示す概略斜視図であり、（ａ）は高周波用（ｂ）は低
周波用（ｃ）はアース棒を示す。
を示す概略斜視図であり、（ａ）は高周波用（ｂ）は低
周波用（ｃ）はアース棒を示す。
【図３】本発明の一実施例の毛髪発毛装置の使用例であ
る。
る。
【図４】（ａ）は毛包のしくみの説明図、（ｂ）は毛乳
頭細胞における脱毛のメカニズムの概略図である。
頭細胞における脱毛のメカニズムの概略図である。
【図５】本発明の一実施例にかかる毛髪発毛装置のブロ
ックダイヤグラムである。
ックダイヤグラムである。
【図６】本発明方法を患者に施療した場合の頭部の経時
変化を示す図で（ａ）は施療前（ｂ）は７カ月施療後の
状態を示す。
変化を示す図で（ａ）は施療前（ｂ）は７カ月施療後の
状態を示す。
【図７】本発明方法を他の患者に施療した場合の頭部の
経時変化を示す図で（ａ）は施療１００日経過後（ｂ）
は施療１８５日経過後の状態を示す。
経時変化を示す図で（ａ）は施療１００日経過後（ｂ）
は施療１８５日経過後の状態を示す。
【図８】本発明方法を他の患者に施療した場合の頭部の
経時変化を示す図で（ａ）は施療前（ｂ）は１１カ月施
療後の状態を示す。
経時変化を示す図で（ａ）は施療前（ｂ）は１１カ月施
療後の状態を示す。
【図９】本発明方法を他の患者に施療した場合の頭部の
経時変化を示す図で（ａ）は施療前（ｂ）は６カ月施療
後の状態を示す。
経時変化を示す図で（ａ）は施療前（ｂ）は６カ月施療
後の状態を示す。
１ 毛髪発毛育毛装置 ２ 高周波コーム ３ 低周波コーム ４ アース棒 ５ ガーゼ ６ 高周波端子 ７ 低周波端子
Claims (2)
- 【請求項１】 中央に行く程短くした横一連の櫛歯を設
けた発生部を持つ高周波コームを有した高周波によるオ
ゾン発生装置と中央に行く程短くした横一連の櫛歯を設
けた低周波コームを有した低周波による刺激装置及びア
ース棒を設けたことを特徴とする毛髪発毛育毛装置。 - 【請求項２】 頭皮に漢方生薬配合の育毛剤を塗布し、
請求項１記載の低周波刺激装置による刺激を与え、毛根
部にまで育毛剤を浸透させたのち高周波を当てることに
よって表皮から真皮に到る各組織及び細胞を活性化する
とともに、オゾン（Ｏ3 ）の照射によって、男性型脱毛
症の原因である５αデヒドロテストステロンの抑制をす
ることを特徴とする毛髪発毛育毛方法。
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