JPH0810576A - Removing method of harmful gas and device therefor - Google Patents

Removing method of harmful gas and device therefor

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JPH0810576A
JPH0810576A JP6174898A JP17489894A JPH0810576A JP H0810576 A JPH0810576 A JP H0810576A JP 6174898 A JP6174898 A JP 6174898A JP 17489894 A JP17489894 A JP 17489894A JP H0810576 A JPH0810576 A JP H0810576A
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JP
Japan
Prior art keywords
photocatalyst
light
harmful gas
nox
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP6174898A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiaki Fujii
敏昭 藤井
Kazuhiko Sakamoto
和彦 坂本
Hiroaki Tada
弘明 多田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Research Co Ltd
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Ebara Research Co Ltd
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Research Co Ltd, Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Ebara Research Co Ltd
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Publication of JPH0810576A publication Critical patent/JPH0810576A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a removing method of harmful gas containing NOX and the device easy to handle, compact and inexpensive and effective even in the atmosphere. CONSTITUTION:In the method for removing a harmful gas 3 containing NOX in a gas, the gas 12 is brought into contact with a photocatalyst carrier 8 carrying a photocatalyst on the surface of a light transmissive supporting body having a rugged surface under light irradiation 9, which may be performed from the rear of the light transmissive supporting body or may be performed in electric field.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、気体中の有害ガスの除
去方法及び装置に係り、特に、大気中や各種の気体中の
NOxを含む有害ガスを除去する方法及び装置に関す
る。次に、本発明の利用分野と用途を示す。 (1)家庭、事務所、病院におけるNOx、タバコ、カ
ビ臭、トイレ臭、各種薬品臭の処理。 (2)各種燃焼設備からのNOx、SOx等の排ガス処
理。 (3)トンネルや高速道路における自動車の排ガス処
理。 (4)半導体工業、薬品工業、食品工業、農林産業、医
療、精密機械工業におけるクリーンルーム及びその周辺
における各種有害ガス(例、NOx,炭化水素)の処
理。 (5)大気中のNOx(NO,NO2 ,N2 O)、SO
xの処理。 (6)水処理場におけるストリッピングによるNOxを
含む放出ガス(NOx、有機Cl化合物)。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and a device for removing harmful gas in a gas, and more particularly to a method and a device for removing harmful gas containing NOx in the atmosphere and various gases. Next, the fields of application and uses of the present invention are shown. (1) Treatment of NOx, tobacco, musty odor, toilet odor, and various chemical odors at home, office, and hospital. (2) Treatment of exhaust gas such as NOx and SOx from various combustion equipment. (3) Exhaust gas treatment for automobiles in tunnels and highways. (4) Treatment of various harmful gases (eg, NOx, hydrocarbons) in and around clean rooms in the semiconductor industry, pharmaceutical industry, food industry, agriculture and forestry industry, medical care, precision machinery industry. (5) NOx (NO, NO 2 , N 2 O), SO in the atmosphere
Processing of x. (6) Emission gas (NOx, organic Cl compound) containing NOx due to stripping in a water treatment plant.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術を各種の工業や産業における
NOx、SOx及びタバコ臭等の有害ガスを例に説明す
る。先ず、各種の工業及び産業における排ガス及び自動
車の排ガスの大気中への放出については、公害防止の観
点から法的その他の規制措置がとられており、特に窒素
酸化物及び硫黄酸化物については、酸性雨や光化学スモ
ッグの原因物質としてその排出は厳しく制限されてい
る。排出規制の対象とされている排ガス中の窒素酸化物
(NOx)や硫黄酸化物(SOx)の処理技術は、従来
多くの方式が提案されているが、実用的には種々の課題
がある。たとえば、従来の排ガスの脱硝技術としては、
アンモニア添加による還元法、触媒を使用する還元法、
放射線照射法等が提案されている。
2. Description of the Related Art The prior art will be explained by taking harmful gases such as NOx, SOx and tobacco odor in various industries and industries as an example. First of all, regarding the release of exhaust gas from various industries and industries and exhaust gas of automobiles into the atmosphere, legal and other regulatory measures have been taken from the viewpoint of pollution prevention, especially regarding nitrogen oxides and sulfur oxides, Its emission is severely restricted as a causative agent of acid rain and photochemical smog. Many methods have hitherto been proposed for treating nitrogen oxides (NOx) and sulfur oxides (SOx) in exhaust gas, which are subject to emission regulations, but there are various practical problems. For example, as a conventional exhaust gas denitration technology,
Reduction method by adding ammonia, reduction method using catalyst,
Radiation irradiation method and the like have been proposed.

【0003】従来のこれらの方法は、夫々次のような問
題点がある。アンモニア添加による還元法:脱硝効果
が低い。触媒を使用する還元法:連続的に使用した場
合触媒性能が低下する。触媒として金属、貴金属を用い
ているので、省資源の観点から見直す必要がある。ダス
トの酸性物質の影響を受けやすい。放射線照射法:硝
安や硫安のような二次生成物を大量に生ずるので、別途
副生成物の処理が必要である。また、これらのいずれの
方法もアンモニアの添加を行うので、脱硝反応で消費さ
れないアンモニアはリークアンモニアとして排出され、
二次公害となる。また、アンモニアの使用、省資源の観
点から見直す必要がある。
Each of these conventional methods has the following problems. Reduction method by addition of ammonia: Denitration effect is low. Reduction method using a catalyst: When used continuously, the catalyst performance decreases. Since metals and precious metals are used as catalysts, it is necessary to review them from the viewpoint of resource saving. Susceptible to acidic substances in dust. Irradiation method: A large amount of secondary products such as ammonium nitrate and ammonium sulfate are produced, so it is necessary to treat the by-products separately. Moreover, since ammonia is added in any of these methods, ammonia that is not consumed in the denitration reaction is discharged as leak ammonia,
It causes secondary pollution. In addition, it is necessary to review it from the viewpoint of using ammonia and saving resources.

【0004】また、これらの有害ガスは一度大気中へ放
出されると、除去困難であり、大気中においても除去で
きる新規方法及び装置の出現が期待されている。次に、
家庭や事務所において喫煙により発生したNOxを含む
有害ガス(臭気性ガスを含む)について説明する。これ
らの物質は、一般にいわゆるタバコ臭として問題にされ
ており、臭気はもちろんその有害性(例、発ガン性)の
ため捕集・除去の要求が近年特に高まっている。これら
の捕集・除去には、活性炭や植物精油を使用したもの等
種々の除去材を使用する方法や装置の提案があるが、こ
れらの除去材はいずれも性能が不十分であり、新規方法
・装置の出現が期待されている。
Further, once these harmful gases are released into the atmosphere, it is difficult to remove them, and a new method and apparatus capable of removing them even in the atmosphere are expected to appear. next,
The harmful gas containing NOx (including odorous gas) generated by smoking at home or office will be described. These substances are generally regarded as a so-called cigarette odor, and in recent years, the demand for collection and removal is particularly high because of their harmfulness (eg, carcinogenicity) as well as odor. For the collection and removal of these, there are proposals for methods and devices that use various types of removal materials such as those that use activated carbon and plant essential oils, but these removal materials all have insufficient performance and new methods.・ The appearance of devices is expected.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した従
来技術の問題点を解決し、取扱い易く、コンパクトで安
価で、しかも大気中においても効果的なNOxを含む有
害ガスの除去方法とその装置を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, is easy to handle, is compact and inexpensive, and is effective even in the atmosphere, and a method for removing harmful gases containing NOx and its method. The purpose is to provide a device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、気体中のNOxを含む有害ガスを除去
する方法において、該気体を、表面が凹凸状をなす光透
過性支持体の表面に光触媒を担持させた光触媒担持体
と、光照射下に接触させることとしたものである。前記
除去方法において、光照射は、光透過性支持体の裏面か
ら行い、また、電場下で行うのがよい。また、本発明で
は、気体中のNOxを含む有害ガスを除去する装置にお
いて、表面が凹凸状をなす光透過性支持体の表面に光触
媒を担持させた光触媒担持体と、該光触媒担持体に光を
照射する光源とを有することとしたものである。前記装
置において、光源は、装置の中心部に設置され、光透過
性支持体の裏面から光が照射できるように設けることと
したものである。
In order to solve the above-mentioned problems, in the present invention, in a method of removing harmful gas containing NOx in a gas, the gas is provided with a light-transmissive support whose surface is uneven. The photocatalyst carrier having the photocatalyst carried on its surface is brought into contact with the photocatalyst carrier under light irradiation. In the removal method, the light irradiation is preferably performed from the back surface of the light transmissive support, and is also performed under an electric field. Further, in the present invention, in a device for removing harmful gas containing NOx in a gas, a photocatalyst carrier having a photocatalyst supported on the surface of a light-transmissive support having an uneven surface, and a photocatalyst carrier carrying light And a light source for irradiating. In the above device, the light source is installed in the central part of the device and is provided so that light can be emitted from the back surface of the light transmissive support.

【0007】次に、本発明の各構成を詳細に説明する。
本発明において、照射する光は紫外光及び/又は可視光
が使用でき、太陽光でも人工光でもよい。本発明で用い
る光触媒は、表面を凹凸状(粗面化)とした光透過性支
持体の表面に担持させて用いる。こうすることで、触媒
担持体に光を照射することにより光触媒による反応速度
が著しく向上する。ここで光の照射は、前記支持体の表
面に被覆した光触媒に、該支持体内部に導入した光、す
なわち、被覆した触媒に対して裏面から光を照射するの
がよい。上記の光触媒による作用が効果的になる理由は
次の2つの効果に起因するものである。1つは、平滑表
面状支持体を用いる場合に比べて、本発明では表面の凹
凸状支持体によって光反応面積が一層増大することであ
る。他の1つは、光が該表面の凹凸で散乱されるため
に、有効に光触媒としての半導体によって吸収されるこ
とである。
Next, each structure of the present invention will be described in detail.
In the present invention, the irradiation light may be ultraviolet light and / or visible light, and may be sunlight or artificial light. The photocatalyst used in the present invention is used by supporting it on the surface of a light-transmissive support having an uneven (roughened) surface. By doing so, the reaction rate by the photocatalyst is significantly improved by irradiating the catalyst carrier with light. Here, the light irradiation is preferably performed by irradiating the photocatalyst coated on the surface of the support with the light introduced into the support, that is, the back surface of the coated catalyst. The reason why the action of the photocatalyst is effective is due to the following two effects. One is that in the present invention, the photoreactive area is further increased by the uneven support on the surface, as compared with the case of using the smooth surface support. The other is that the light is effectively absorbed by the semiconductor as a photocatalyst because it is scattered by the unevenness of the surface.

【0008】光透過性支持体の材料としては、紫外光及
び/又は可視光透過率が大きなもので有れば何でも用い
ることができるが、特に耐光性に優れた石英ガラス、パ
イレックスガラス、ソーダライムガラスなどのガラス材
を好適に用いることができる。形状は、板状、シート
状、曲面状、柱状、棒状、線状、網状、格子状、ファイ
バー状等が使用できる。光透過性支持体の厚さや太さ
は、薄いほどあるいは細ければ細い程良いが、強度的に
は0.1mm以上の厚さ、あるいはφ0.1mm以上で
あることが望ましい。また、上限は無いが、厚いほど、
また太くなるほどファイバーの体積当りの光反応効率は
低下することになるが、用途によっては10mm程度で
も使用することができる。
As the material of the light-transmissive support, any material having a large ultraviolet and / or visible light transmittance can be used, but particularly quartz glass, Pyrex glass, soda lime having excellent light resistance. A glass material such as glass can be preferably used. As the shape, a plate shape, a sheet shape, a curved surface shape, a column shape, a rod shape, a linear shape, a net shape, a lattice shape, a fiber shape, or the like can be used. The thickness or thickness of the light transmissive support is better as it is thinner or thinner, but in terms of strength, it is preferably 0.1 mm or more or φ0.1 mm or more. Also, there is no upper limit, but the thicker the
Further, the thicker the fiber, the lower the photoreaction efficiency per volume of fiber, but depending on the application, it can be used even at about 10 mm.

【0009】なお、光透過性支持体表面の粗面化法とし
ては、特に限定されず、HF水溶液による化学的エッチ
ング及び研磨材による物理的なスリ加工などを用いれば
良い。凹凸のディメンジョンとしては、紫外及び/又は
可視光を散乱するために、約200nm以上が必要にな
る。しかし、凹凸サイズが大きすぎると、反応表面積が
小さくなることから、効率は低下することになる、その
結果、上限は0.1mmであることが望ましい。凹凸状
の光透過性支持体上に担持する光触媒の種類は、対象と
なる有害ガス及び光源の種類などを考慮の上、選定する
ことができる。光触媒活性の高さと化学的な安定性か
ら、現在最も広範に用いられている光触媒はTiO2
あり、本発明に好適に使用することができる。しかしな
がら、本発明に使用される光触媒はこれに限定されるこ
となく、従来光触媒として知られているものは如何なる
ものでも使用することができる。
The method of roughening the surface of the light-transmitting support is not particularly limited, and chemical etching with an HF aqueous solution and physical shaving with an abrasive may be used. The dimension of the unevenness needs to be about 200 nm or more in order to scatter ultraviolet and / or visible light. However, if the irregularity size is too large, the reaction surface area becomes small, so the efficiency decreases, and as a result, the upper limit is preferably 0.1 mm. The type of photocatalyst supported on the uneven light-transmitting support can be selected in consideration of the types of target harmful gas and light source. Due to its high photocatalytic activity and chemical stability, the most widely used photocatalyst at present is TiO 2 , which can be suitably used in the present invention. However, the photocatalyst used in the present invention is not limited to this, and any photocatalyst conventionally known as a photocatalyst can be used.

【0010】通常半導体材料が効果的であり容易に入手
出来、加工性も良いことから好ましい。効果や経済性の
面から、Se,Ge,Si,Ti,Zn,Cu,Al,
Sn,Ga,In,P,As,Sb,C,Cd,S,T
e,Ni,Fe,Co,Ag,Mo,Sr,W,Cr,
Ba,Pbのいずれか、又はこれらの化合物、又は合
金、又は酸化物が好ましく、これらは単独で、又は二種
類以上を複合して用いる。例えば、元素としてはSi,
Ge,Se、化合物としてはAlP,AlAs,Ga
P,AlSb,GaAs,InP,GaSb,InA
s,InSb,CdS,CdSe,ZnS,MoS2
WTe2 ,Cr2 Te3 ,MoTe,Cu2 S,W
2 、酸化物としてはTiO2 ,Bi2 3 ,CuO,
Cu2 O,ZnO,MoO3 ,InO3 ,Ag2 O,P
bO,SrTiO3 ,BaTiO3 ,Co34 ,Fe
2 3 ,NiO等がある。
Usually, a semiconductor material is preferable because it is effective, easily available, and has good workability. From the viewpoint of effect and economy, Se, Ge, Si, Ti, Zn, Cu, Al,
Sn, Ga, In, P, As, Sb, C, Cd, S, T
e, Ni, Fe, Co, Ag, Mo, Sr, W, Cr,
One of Ba and Pb, or a compound, alloy or oxide of these is preferable, and these are used alone or in combination of two or more kinds. For example, the element is Si,
Ge, Se, as compounds AlP, AlAs, Ga
P, AlSb, GaAs, InP, GaSb, InA
s, InSb, CdS, CdSe, ZnS, MoS 2 ,
WTe 2 , Cr 2 Te 3 , MoTe, Cu 2 S, W
S 2 , oxides such as TiO 2 , Bi 2 O 3 , CuO,
Cu 2 O, ZnO, MoO 3 , InO 3 , Ag 2 O, P
bO, SrTiO 3 , BaTiO 3 , Co 3 O 4 , Fe
2 O 3 , NiO and the like.

【0011】光触媒膜の厚みは、薄すぎると、光を十分
に吸収できない。一方、厚すぎると、膜中で生じた光キ
ャリヤーが表面まで拡散できないために、触媒活性が低
下する。従って、最適値が存在することになる。その値
は、用いる光触媒の種類によって異なるが、数nm〜数
μmの範囲になる。上記の光触媒の使用においては、電
場下で行うと効果的である。電場の強さは、1V/cm
〜10kV/cm、通常10V/cm〜1kV/cmで
ある。電場は、光触媒の近傍に線状、網状、棒状、格子
状など、適宜の電極材を設置し、該光触媒との間に電圧
を印加することにより設定でき、光触媒や電極材の形状
などにより、適宜予備試験を行い、適正条件を選び行う
ことができる。光触媒の種類や厚み、電場の有無やその
強さは、利用分野、処理対象物質の種類や濃度、光源の
種類、光触媒の支持体の種類や形状、要求性能等により
適宜予備試験を行い決めることができる。
If the photocatalyst film is too thin, it cannot absorb light sufficiently. On the other hand, if it is too thick, the photocarriers generated in the film cannot diffuse to the surface, and the catalytic activity decreases. Therefore, the optimum value exists. The value varies depending on the type of photocatalyst used, but is in the range of several nm to several μm. It is effective to use the above-mentioned photocatalyst under an electric field. Electric field strength is 1V / cm
-10 kV / cm, usually 10 V / cm-1 kV / cm. The electric field can be set in the vicinity of the photocatalyst by setting an appropriate electrode material such as a linear shape, a net shape, a rod shape, or a lattice shape, and applying a voltage between the photocatalyst and the shape of the photocatalyst or electrode material. Preliminary tests can be conducted as appropriate to select appropriate conditions. The type and thickness of the photocatalyst, the presence or absence of an electric field, and their strength should be determined by conducting preliminary tests depending on the field of use, the type and concentration of the substance to be treated, the type of light source, the type and shape of the photocatalyst support, and the required performance. You can

【0012】次に、光源について説明する。光源は、光
触媒を励起する波長を有するものであれば、何れでも良
く、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノン灯
等が使用でき、また利用先によっては、太陽光が適宜利
用できる。光源の位置は、適用分野、光源の種類、装置
形状により適宜に選択することができる。通常、反応器
の中心部に光源を設置すると、光源から放射状に放出さ
れる光が全て有効利用されるので好ましい。また、利用
先によっては、適宜周知の有害ガス除去手段と組合せて
用いることができる。周知の有害ガス除去手段として
は、活性炭、活性炭素繊維、ゼオライト、イオン交換フ
ィルター(繊維)、有機高分子ポリマー(有機高分子ビ
ーズ)などがある。
Next, the light source will be described. The light source may be any one as long as it has a wavelength that excites the photocatalyst, and a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or the like can be used, and sunlight can be appropriately used depending on the destination. The position of the light source can be appropriately selected depending on the application field, the type of light source, and the shape of the device. Usually, it is preferable to install a light source in the center of the reactor because all the light emitted radially from the light source can be effectively used. In addition, depending on the place of use, it can be used in combination with well-known harmful gas removing means as appropriate. Known means for removing harmful gases include activated carbon, activated carbon fiber, zeolite, ion exchange filters (fibers), organic polymer (organic polymer beads), and the like.

【0013】また、本発明者らがすでに提案した複合酸
化物系触媒を用いる手段(特願平4−332167号、
特願平4−357780号、特願平5−216859
号)も、利用分野によっては適宜に用いることができ
る。これらの用い方として、通常処理有害ガスが比較的
高い場合、あるいは処理ガスの種類が多い場合、予めこ
れらの手段である程度有害ガスの除去を行い、次に本発
明の手段により除去を行う。これにより、濃度の高い被
処理気体や、多成分系の複雑な有害ガスも高効率に処理
でき、超清浄な気体や空間を効果的に得ることができ
る。本発明はNOxの処理に効果的である。NOxは他
の有害ガスの中で最も安定で、通常法では処理困難であ
る。本発明でNOxが容易に処理できることからNOx
に共存する他の有害ガス、例えばNH3 、有機Cl化合
物、炭化水素、タバコ臭、カビ臭成分などは容易に処理
される。
Means for using the complex oxide catalyst already proposed by the present inventors (Japanese Patent Application No. 4-332167,
Japanese Patent Application No. 4-357780, Japanese Patent Application No. 5-216859
No.) can be appropriately used depending on the field of use. As a method of using these, when the treated harmful gas is usually relatively high or the number of kinds of treated gas is large, the harmful gas is removed to some extent by these means in advance, and then removed by the means of the present invention. This makes it possible to highly efficiently treat a high-concentration gas to be treated and a complex harmful gas of a multi-component system, and effectively obtain a super-clean gas or space. The present invention is effective in treating NOx. NOx is the most stable of other harmful gases and is difficult to process by conventional methods. Since NOx can be easily treated by the present invention, NOx
Other harmful gases coexisting with, such as NH 3 , organic Cl compounds, hydrocarbons, tobacco odors, musty odor components, etc. are easily treated.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。 実施例1 本発明の有害ガス除去装置の基本構成図を図1に示し、
これを用いて病院における空気清浄について説明する。
図1において、喫煙2等に起因した微粒子(粒子状物
質)及び有害ガス(臭気性ガスを含み、例えば、アルデ
ヒド類、ケトン類、ピリジン類、ピロール類、ニトリル
類、窒素酸化物、アンモニア等)3が発生している。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 A basic configuration diagram of the harmful gas removing apparatus of the present invention is shown in FIG.
Air purification in a hospital will be described using this.
In FIG. 1, fine particles (particulate matter) and harmful gas (including odorous gas, such as aldehydes, ketones, pyridines, pyrroles, nitriles, nitrogen oxides, ammonia, etc.) resulting from smoking 2 etc. 3 has occurred.

【0015】空気清浄は、室の側面の中央部に設置され
た前処理フィルタ4、静電フィルタ5、活性炭6、イオ
ン交換フィルタ7、及び本発明の光触媒を担持させた光
触媒担持体8、紫外線ランプ9、ファン10よりなる空
気清浄器11にて実施される。上記光触媒担持体8は、
表面が凹凸状の多数の棒状(ロッド)石英ガラスに、T
iO2 を被覆したもので、紫外線ランプ9からの紫外線
は棒状石英ガラスの中を通して、該石英ガラス表面のT
iO2 を励起し、光触媒として活性化する。図1(b)
に図1(a)のA−A′断面図を示す。12は汚染空気
の流れ、13は空気清浄器11により清浄化された清浄
空気を示す。
The air cleaning is performed by a pretreatment filter 4, an electrostatic filter 5, an activated carbon 6, an ion exchange filter 7, and a photocatalyst carrier 8 carrying the photocatalyst of the present invention, ultraviolet rays, which are installed in the center of the side surface of the chamber. It is carried out by an air purifier 11 including a lamp 9 and a fan 10. The photocatalyst carrier 8 is
A large number of rod-shaped quartz glass with uneven surface
iO 2 obtained by coating, ultraviolet rays from the ultraviolet lamp 9 through in the rod-like silica glass, the quartz glass surface T
It excites iO 2 and activates it as a photocatalyst. Figure 1 (b)
FIG. 1A shows a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. Reference numeral 12 represents a flow of contaminated air, and 13 represents clean air cleaned by the air cleaner 11.

【0016】この空気清浄器11においては、喫煙等に
起因した微粒子は、前処理フィルタ4で先ず粗い粒子状
物質が除去され、次いで静電フィルタ5で残った微粒子
が除去される。一方、喫煙に起因する有害ガスは先ず活
性炭6でアルデヒド類やケトン類のような主として中性
物質及び酸性物質が除去される。次に、イオン交換フィ
ルタ(カチオン型)7でアンモニアのような主としてア
ルカリ性物質が除去される。イオン交換フィルタは、本
発明者らがすでに提案したものを適宜用いることができ
る。(例、特開昭63−12315号、特開昭63−7
7557号、特開昭63−97246号、特開平2−5
9018号各公報) 次に、これらのフィルタでは除去できないNOx及びリ
ークした前記の有害ガスが光触媒にて除去される。光触
媒では主にNOxが硝酸に変換され固定化されることに
より除去される。
In the air purifier 11, fine particles caused by smoking or the like are first removed by the pretreatment filter 4 to remove coarse particulate matter and then by the electrostatic filter 5 to remove remaining fine particles. On the other hand, harmful gas caused by smoking is firstly removed by the activated carbon 6 mainly neutral substances and acidic substances such as aldehydes and ketones. Next, an ion exchange filter (cation type) 7 removes mainly alkaline substances such as ammonia. As the ion exchange filter, those already proposed by the present inventors can be appropriately used. (For example, JP-A-63-12315 and JP-A-63-7.
7557, JP-A-63-97246, JP-A-2-5
Next, NOx that cannot be removed by these filters and the leaked harmful gas are removed by the photocatalyst. In the photocatalyst, NOx is mainly converted to nitric acid and fixed to be removed.

【0017】光触媒担持体8の光触媒上でNOxから変
換された硝酸は、長時間運転した場合、光触媒の性能を
劣化させ、かつ長時間運転により、後方に飛散する場合
があるので、光触媒の近傍及び/又はその後方に生成物
である硝酸の捕集フィルタ(捕集材)、例えばイオン交
換繊維(アニオン型)、活性炭、活性炭素繊維、ガラス
繊維を適宜設置すると、光触媒の効果が持続し、かつ、
万一後方へ流出した場合でも捕集できるので、装置の種
類、処理有害ガスの濃度、用いる他の有害成分の除去材
の種類、要求性能などによっては好ましい。上記捕集フ
ィルタの設置は、適宜予備試験を行い決めることができ
る。光触媒は、低濃度の有害ガスを極低濃度あるいは検
出限界濃度以下まで、処理するのに好適である。そのた
めに、本例のように周知の方法で予め低濃度まで処理
し、最終処理を光触媒で行うと実用上効果的に処理でき
る。空気清浄器11により、臭気濃度(官能試験の値)
50〜1,000のタバコ臭を含む空気12は、臭気濃
度10以下、及び有害ガスとしてのNOxは5ppb以
下、NH3 は10ppb以下となり、清浄空気13が得
られる。
The nitric acid converted from NOx on the photocatalyst of the photocatalyst carrier 8 deteriorates the performance of the photocatalyst when it is operated for a long time, and may scatter rearward due to long-time operation. And / or a nitric acid collection filter (collection material), which is a product behind it, for example, if ion-exchange fibers (anion type), activated carbon, activated carbon fibers, or glass fibers are appropriately installed, the photocatalytic effect continues, And,
Since it can be collected even if it flows backward, it is preferable depending on the type of equipment, the concentration of treated harmful gas, the type of other harmful component removing material used, required performance, and the like. The above-mentioned collection filter can be installed by appropriately performing a preliminary test. The photocatalyst is suitable for treating a low concentration of harmful gas to an extremely low concentration or below the detection limit concentration. For this reason, it is possible to practically effectively perform the treatment by a well-known method such as this example in advance to a low concentration and the final treatment with a photocatalyst. Odor concentration (value of sensory test)
The air 12 containing a tobacco odor of 50 to 1,000 has an odor concentration of 10 or less, NOx as a harmful gas is 5 ppb or less, and NH 3 is 10 ppb or less, and clean air 13 is obtained.

【0018】実施例2 図2に、半導体工場におけるクリーンルーム内の微量有
害ガスを除去する、本発明の除去装置を用いた空気清浄
の概略構成図を示す。図2において、クラス1,000
(0.1μm以上の粒子数)のクリーンルーム20に
は、作業21により有害ガスとしてNOx、NH3 及び
微粒子22が発生しており、また、クリーンルーム空気
には炭化水素(非メタン炭化水素)が0.8〜1.0p
pm存在する。これらの汚染物(これらのガス状汚染物
質・微粒子)は、半導体工場の原料や製品、半製品を汚
染するので、空気清浄装置11が設置され、該有害ガス
と微粒子の捕集・除去が行われている。
Embodiment 2 FIG. 2 shows a schematic configuration diagram of air cleaning using a removing apparatus of the present invention for removing a trace amount of harmful gas in a clean room in a semiconductor factory. In FIG. 2, class 1,000
NOx, NH 3 and fine particles 22 are generated as harmful gases in the clean room 20 (having a particle number of 0.1 μm or more) by the work 21, and hydrocarbons (non-methane hydrocarbons) are 0 in the clean room air. .8-1.0p
pm exists. Since these pollutants (these gaseous pollutants and fine particles) pollute the raw materials, products and semi-finished products of the semiconductor factory, the air cleaning device 11 is installed to collect and remove the harmful gas and fine particles. It is being appreciated.

【0019】該装置11は、主に前処理フィルタ4、フ
ァン10、イオン交換フィルタ(カチオン型)7、UL
PAフィルタ5-1、5-2、光触媒担持体8及び紫外線ラ
ンプ9より構成されている。図2(a)のB−B′断面
図を図2(b)に示す。有害ガスを含む被処理空気12
はファン10により、吸引され、処理された清浄空気は
矢印13の方向に吐出される。それぞれの構成について
説明する。前処理フィルタ4は、空気抵抗の少ないガラ
ス繊維を主体としたフィルタであり、ここで、先ず吸引
空気12中の粗い粒子(比較的粒径の大きい粒子)が除
去される。
The apparatus 11 is mainly composed of a pretreatment filter 4, a fan 10, an ion exchange filter (cation type) 7 and a UL.
It is composed of PA filters 5-1 and 5-2 , a photocatalyst carrier 8 and an ultraviolet lamp 9. A cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 2A is shown in FIG. Air to be treated 12 containing harmful gas
The clean air that has been sucked and processed by the fan 10 is discharged in the direction of arrow 13. Each configuration will be described. The pretreatment filter 4 is a filter mainly made of glass fiber having a low air resistance, and first, coarse particles (particles having a relatively large particle size) in the suction air 12 are removed.

【0020】イオン交換フィルタ7は、作業21により
発生したNH3 などクリーンルーム中のNH3 の除去用
フィルタであり、本発明者らがすでに提案したもの(前
記)を適宜に用いることができ、これによりNH3 は1
0ppb以下にまで除去される。ULPAフィルタ5-1
は、作業21により発生した微粒子などクリーンルーム
中の微粒子の除去フィルタである。これにより、クラス
1,000のクリーンルーム中の微粒子、作業21によ
り発生した微粒子及びファン10の作動により発生した
微粒子がクラス10以下まで除去される。
The ion exchange filter 7 is a filter for removing NH 3 in a clean room such as NH 3 generated by the operation 21, and the one already proposed by the present inventors (the above) can be appropriately used. NH 3 is 1
It is removed to 0 ppb or less. ULPA filter 5 -1
Is a filter for removing particles such as particles generated in operation 21 in a clean room. As a result, the fine particles in the clean room of class 1,000, the fine particles generated by the operation 21 and the fine particles generated by the operation of the fan 10 are removed to the class 10 or lower.

【0021】光触媒担持体8は、主に、作業21により
発生したNOxの除去及び接触角の増加をもたらす炭化
水素の分解を行うもので、表面が凹凸状の多数のファイ
バー状石英ガラスにTiO2 を被覆したものである。紫
外線ランプ9は、TiO2 を被覆した石英ガラスの内部
を通り石英ガラス表面に被覆したTiO2 を照射し、光
触媒として作用させるものである。これにより、クリー
ンルーム中のNOx及び作業21により発生したNOx
が、5ppb以下まで除去される。また、炭化水素は、
接触角の増加に影響しない安定な形に変換される。UL
PAフィルタ5-2は、光触媒及びその近傍からの発生微
粒子の除去フィルタであり、通常不用であるが、緊急時
を規定して設置されている。
The photocatalyst carrier 8 mainly removes NOx generated in the work 21 and decomposes hydrocarbons which causes an increase in contact angle. TiO 2 is formed on a large number of fibrous quartz glass having an uneven surface. Is coated. Ultraviolet lamp 9 illuminates the TiO 2 coated the inside of quartz glass coated with TiO 2 as quartz glass surface, but to act as a photocatalyst. As a result, NOx in the clean room and NOx generated by the work 21
Are removed to 5 ppb or less. Also, the hydrocarbon is
It is converted to a stable shape that does not affect the increase in contact angle. UL
The PA filter 5-2 is a filter for removing fine particles generated from the photocatalyst and the vicinity thereof, and although it is usually unnecessary, it is installed to define an emergency.

【0022】これらにより、NOx濃度は5ppb以
下、非メタン炭化水素は0.2ppm以下、NH3 濃度
は10ppb以下、微粒子濃度クラス10以下の清浄空
気13が得られる。クリーンルーム内で有害ガスが発生
すると、製品や半製品に付着し、接触角の増加をもたら
し歩留まりの低下をひき起こす(生産性が下がる。)従
って、該有害ガスを一定濃度以下にすることはクリーン
ルームの管理上重要である。なお、実施例における光触
媒、周知の有害ガス除去手段の組合せ順序は、何ら限定
されるものでなく予備試験を行い適宜に決めることがで
きる。なお、接触角とは、固体表面の汚染の程度を示す
指標であり、固体表面が汚染されると、水の接触角がそ
の汚染状態をよく反映し、汚染の程度が大きいと接触角
が大きく、逆に汚染の程度が小さいと接触角が小さい。
As a result, clean air 13 having a NOx concentration of 5 ppb or less, a non-methane hydrocarbon of 0.2 ppm or less, an NH 3 concentration of 10 ppb or less, and a fine particle concentration class of 10 or less can be obtained. When harmful gas is generated in the clean room, it adheres to the product or semi-finished product and increases the contact angle, resulting in a decrease in yield (reducing productivity). Therefore, it is necessary to keep the harmful gas below a certain concentration. Is important in the management of. The order of combining the photocatalyst and the known harmful gas removing means in the examples is not limited in any way and can be appropriately determined by conducting a preliminary test. The contact angle is an index showing the degree of contamination of the solid surface. When the solid surface is contaminated, the contact angle of water well reflects the state of contamination, and when the degree of contamination is large, the contact angle becomes large. Conversely, if the degree of contamination is small, the contact angle is small.

【0023】実施例3 ホテルのロビーの照明との組合せで、NOx除去を行う
概略図を図3に示す。本例はアメニティとしての利用の
例である。図3において、ホテルのロビー30には、2
つの照明器具11があり、近傍を明るくしている。照明
器具11の主たる構成は、内側の光源9、外側のガラス
より成り、該ガラスの表面は凹凸状となしTiO2 が被
覆された光触媒担持体8となっている。光触媒担持体の
近傍のNOx、SOxは、光源9により活性化された光
触媒表面で除去される。14は、電源コードである。
Example 3 FIG. 3 shows a schematic diagram of NOx removal in combination with lighting in a hotel lobby. This example is an example of use as an amenity. As shown in FIG.
There are two lighting fixtures 11 to brighten the vicinity. The main structure of the luminaire 11 is composed of an inner light source 9 and an outer glass, and the surface of the glass is an uneven surface and is a photocatalyst carrier 8 coated with TiO 2 . NOx and SOx in the vicinity of the photocatalyst carrier are removed on the photocatalyst surface activated by the light source 9. 14 is a power cord.

【0024】実施例4 高速道路の壁面に光触媒を組込み有害ガスを除去する概
略図を図4に示す。図4において、高速道路40では、
高速で走行する車15からNOxが排出されている。該
道路40には壁面16があり、壁面の一部はガラスで成
り、該ガラス表面は凹凸状となしTiO2 が被覆された
光触媒担持体8となっている。
Example 4 FIG. 4 shows a schematic view of removing a harmful gas by incorporating a photocatalyst on the wall surface of an expressway. In FIG. 4, on the highway 40,
NOx is emitted from the car 15 traveling at high speed. There is a wall surface 16 on the road 40, and a part of the wall surface is made of glass, and the surface of the glass is uneven and the photocatalyst carrier 8 is coated with TiO 2 .

【0025】該光触媒担持体8には、その裏面及び/又
は表面から太陽光17が照射され、NOxが除去され
る。NOxは、光触媒により硝酸に変換し、光触媒表面
に付着するが、時々の降雨により該硝酸は光触媒上より
洗い流され、ピット18より回収され、別途水処理装置
により、周知の方法でN2 にまで還元される。19は、
高速道路を支える架台である。太陽光による光触媒への
照射17の位置は、時間経過により変化するが、本触媒
は表面照射、裏面照射いずれでも効果があるので、太陽
光が有効利用できる。
The photocatalyst carrier 8 is irradiated with sunlight 17 from its back surface and / or front surface to remove NOx. NOx is converted to nitric acid by a photocatalyst and adheres to the surface of the photocatalyst. However, due to occasional rainfall, the nitric acid is washed off from the photocatalyst and collected from the pit 18, and is separated into N 2 by a well-known method by a water treatment device. Be reduced. 19 is
It is a pedestal that supports highways. The position of irradiation 17 of the photocatalyst by sunlight changes with the passage of time, but since the present catalyst is effective for both front irradiation and back irradiation, sunlight can be effectively used.

【0026】実施例5 図1の空気清浄器を用いた脱臭効果及びNOx除去性能
を以下に示す。空気清浄器を設置した待合室1の体積は
約30m3 であり、該清浄器内の空気流量は100リッ
トル/minとした。前処理フィルタ4の直下約1mの
位置で10本タバコを喫煙したとき、該フィルタ直前の
位置12で採取したサンプル空気は、目視でタバコ煙が
認められ、臭気濃度は官能試験(3点比較法)で500
であった。また、NOx、NH3 を測定したところ夫々
2ppm、2ppmであった。測定法は、化学発光方式
である。
Example 5 The deodorizing effect and NOx removing performance using the air purifier of FIG. 1 are shown below. The volume of the waiting room 1 in which the air purifier was installed was about 30 m 3 , and the air flow rate inside the purifier was 100 liters / min. When 10 cigarettes were smoked at a position of about 1 m immediately below the pretreatment filter 4, cigarette smoke was visually recognized in the sample air collected at the position 12 immediately before the filter, and the odor concentration was evaluated by a sensory test (3-point comparison method). ) In 500
Met. Further, when NOx and NH 3 were measured, they were 2 ppm and 2 ppm, respectively. The measuring method is a chemiluminescence method.

【0027】光透過性支持体としては、表面を研磨した
平滑表面石英製ロッド(直径5.0mm)を用意し、表
面を研磨砂によるスリ加工を行い、粗面化した。チタン
(IV)プロポキシド28.39gを18.43gの無
水エタノールに添加し、室温で約3分間攪拌した後に、
氷冷した(溶液A)。また、別にエタノール(18.4
3g)、水(1.8g)、塩酸(0.29g)の混合水
溶液を調製した(溶液B)。溶液Aを攪拌しながら、溶
液Bをビュレットを用いてゆっくりと滴下することによ
り、均一混合溶液とした(溶液C)。前記石英製ロッド
を溶液C中に浸漬した後に、ディッピング装置を用い
て、1.8cm/分の一定速度で引き上げた。空気中で
十分に乾燥させた後に、500℃で10分間焼成して、
本発明の光触媒担持体を得た。得られた光触媒担持体で
あるTiO2 被覆石英製ロッドの模式図を、図5に示し
た。
As the light-transmissive support, a smooth surface quartz rod (diameter 5.0 mm) having a polished surface was prepared, and the surface was roughened by polishing with sand. After adding 28.39 g of titanium (IV) propoxide to 18.43 g of absolute ethanol and stirring at room temperature for about 3 minutes,
It was ice-cooled (solution A). In addition, ethanol (18.4
A mixed aqueous solution of 3 g), water (1.8 g) and hydrochloric acid (0.29 g) was prepared (solution B). While stirring Solution A, Solution B was slowly added dropwise using a buret to obtain a homogeneous mixed solution (Solution C). After the quartz rod was immersed in the solution C, it was pulled up at a constant rate of 1.8 cm / min using a dipping device. After thoroughly drying in air, bake at 500 ° C for 10 minutes,
The photocatalyst carrier of the present invention was obtained. A schematic view of the obtained TiO 2 -coated quartz rod, which is a photocatalyst carrier, is shown in FIG.

【0028】図5は、本発明の光触媒39の作用を示す
説明図である。光透過性支持体Aの表面には、光触媒膜
32が担持されている。光透過性支持体Aから導入され
た光33は、凹凸化された支持体Aの表面の作用で効果
的に光触媒膜32に吸収される。光触媒膜32が、禁制
帯の幅以上のエネルギーを持つ光を吸収すると電子は伝
導帯34に励起され、価電子帯35に正孔37ができ
る。このようにして、価電子帯35の正孔37は酸化力
を、伝導帯34の励起電子36は還元力を持つ。38は
被処理物であり、被処理物は上記作用の力により分解さ
れる。被覆TiO2 の厚みは30mmである。光源は、
高圧水銀灯である。 用いた性能試験用空気清浄器の大きさ: 50×50×
60cm
FIG. 5 is an explanatory view showing the action of the photocatalyst 39 of the present invention. A photocatalytic film 32 is carried on the surface of the light transmissive support A. The light 33 introduced from the light-transmissive support A is effectively absorbed by the photocatalyst film 32 by the action of the surface of the support A having irregularities. When the photocatalytic film 32 absorbs light having an energy larger than the width of the forbidden band, electrons are excited in the conduction band 34 and holes 37 are formed in the valence band 35. In this way, the holes 37 in the valence band 35 have an oxidizing power and the excited electrons 36 in the conduction band 34 have a reducing power. Reference numeral 38 denotes an object to be processed, which is decomposed by the force of the above action. The thickness of the coated TiO 2 is 30 mm. The light source is
It is a high-pressure mercury lamp. Size of the performance test air purifier used: 50 x 50 x
60 cm

【0029】結 果 この空気を空気清浄器11を運転して清浄化すると該清
浄器11出口直線の位置13における空気の臭気濃度は
官能試験で最大でも10以下であった。また、ここで吐
出空気には目視ではタバコ煙は認められなかった。ま
た、NOxとNH3 濃度は、夫々5ppb以下であっ
た。
As a result, when this air was cleaned by operating the air purifier 11, the odor concentration of the air at the position 13 on the straight line of the outlet of the purifier 11 was 10 or less at the maximum in the sensory test. Further, here, no cigarette smoke was visually observed in the discharged air. The NOx and NH 3 concentrations were 5 ppb or less, respectively.

【0030】実施例6 図1に示した空気清浄器11から、活性炭6及びイオン
交換フィルタ7を取り外し、該清浄器にNOxを含むト
ンネル換気排ガスを50リットル/minで導入し、N
Oxの除去性能を化学発光方式のNOx計で調べた。 NOx濃度: 1〜3ppm 空気清浄器大きさ: 50×50×60cm 光触媒及び光源: 実施例5と同じもの。 結 果 清浄器出口のNOx濃度は、10〜30ppbであっ
た。なお、比較例として、石英ロッドを粗面化しない
で、同様にTiO2 を被覆して試験したところ、清浄器
出口のNOx濃度は、0.3〜0.5ppmであった。
Example 6 The activated carbon 6 and the ion exchange filter 7 were removed from the air purifier 11 shown in FIG. 1, and a tunnel ventilation exhaust gas containing NOx was introduced into the purifier at 50 liter / min.
The removal performance of Ox was examined with a chemiluminescence type NOx meter. NOx concentration: 1-3 ppm Air purifier size: 50 × 50 × 60 cm Photocatalyst and light source: the same as in Example 5. Result The NOx concentration at the outlet of the purifier was 10 to 30 ppb. As a comparative example, when the quartz rod was not roughened and was similarly coated with TiO 2 , the NOx concentration at the outlet of the purifier was 0.3 to 0.5 ppm.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明によれば、光触媒の支持体とし
て、凹凸状の表面を有する光透過性のガラス材を用いた
ことにより、次のような効果を奏した。 凹凸状の支持体であるので、光反応(照射)の面積
が増大した。また、光が該凹凸表面で散乱されるので、
有効に光触媒に吸収された。これにより、有害ガスの処
理効率が向上し、効果的に処理された。 支持体がガラス材であるので、光触媒への紫外光及
び/又は可視光の光照射を処理物を介さずに、光触媒の
裏面より直接できるので、処理装置の構造を利用分野に
よってより効果的に自由度大に選択することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, the following effects are obtained by using the light-transmissive glass material having the uneven surface as the support of the photocatalyst. Since the support was uneven, the area of photoreaction (irradiation) was increased. Also, since light is scattered on the uneven surface,
It was effectively absorbed by the photocatalyst. As a result, the treatment efficiency of the harmful gas was improved, and the harmful gas was effectively treated. Since the support is a glass material, it is possible to directly irradiate the photocatalyst with ultraviolet light and / or visible light from the back surface of the photocatalyst without passing through the object to be treated, so that the structure of the treatment device can be more effectively used depending on the field of application. You can choose with great freedom.

【0032】例えば、利用分野によって、光触媒を外
部、光源を内部、あるいは、光触媒を内部、光源を外
部、また両方を同時に組合せて実施例することもでき
る。また、これより太陽光も適宜に利用できる。すなわ
ち、従来の表面のみからの照射だと、時間経過により光
触媒表面に固体状物質などが付着した場合、その部分は
全くデッドスペースとなり性能劣化した。また、従来法
は処理物を介して照射されるので、処理物により性能が
影響を受け、また処理物によっては処理物が光を吸収し
てしまい光が有効に利用できなかった。 通常、NOxは処理困難な物質であるので、NOx
を指標に処理を行えば、他の共存有害ズカも同時に処理
できるので、実用上制御、管理が容易である。本発明で
は、前記したように、性能が処理物によらず、長時間安
定に維持できた。
For example, depending on the field of application, the photocatalyst may be external, the light source may be internal, or the photocatalyst may be internal, the light source may be external, or both may be combined at the same time. In addition, sunlight can also be appropriately used. That is, when irradiation is performed only from the conventional surface, when a solid substance or the like adheres to the photocatalyst surface over time, that portion becomes a dead space and the performance deteriorates. Further, in the conventional method, since the irradiation is performed through the treated product, the performance is affected by the treated product, and depending on the treated product, the treated product absorbs light, so that the light cannot be effectively used. Normally, NOx is a difficult substance to process, so NOx
If the treatment is performed by using as an index, other coexisting harmful deer can be treated at the same time, so that it is practically easy to control and manage. In the present invention, as described above, the performance can be stably maintained for a long time regardless of the processed material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は病院における空気清浄に用いた本発明
の有害ガス除去装置の基本構成図で、(b)は(a)の
A−A′断面図。
1A is a basic configuration diagram of a harmful gas removing apparatus of the present invention used for air cleaning in a hospital, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【図2】(a)は半導体工場のクリーンルームに用いた
本発明の除去装置の概略構成図で、(b)は(a)のB
−B′断面図。
FIG. 2 (a) is a schematic configuration diagram of a removing apparatus of the present invention used in a clean room of a semiconductor factory, and FIG. 2 (b) is B of (a).
-B 'sectional view.

【図3】ホテルのロビーの照明に本発明を適用した概略
図。
FIG. 3 is a schematic diagram in which the present invention is applied to lighting in a hotel lobby.

【図4】高速道路の壁面に本発明を適用した概略図。FIG. 4 is a schematic diagram in which the present invention is applied to a wall surface of a highway.

【図5】本発明の光触媒の作用を示す説明図。FIG. 5 is an explanatory view showing the action of the photocatalyst of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:病院の待合室、2:タバコ、3:有害ガス、4:前
処理フィルタ、5:静置フィルタ、5-1、5-2:ULP
Aフィルタ、6:活性炭、7:イオン交換フィルタ、
8:光触媒担持体、9:紫外線ランプ、10:ファン、
11:空気清浄器、12:汚染空気、13:清浄空気、
14:電源コード、15:自動車、16:道路壁面、1
7:太陽光、18:ピット、19:架台、20:クリー
ンルーム、21:作業台、22:汚染ガス、30:ホテ
ルのロビー、31:支持体凹凸面、32:光触媒膜、3
3:光、34:伝導帯、35:価電子帯、36:励起電
子、37:正孔、38:有害ガス、39:光触媒担持
体、40:道路、A:光透過性支持体
1: Hospital waiting room, 2: Tobacco, 3: Harmful gas, 4: Pretreatment filter, 5: Static filter, 5 -1 , 5 -2 : ULP
A filter, 6: activated carbon, 7: ion exchange filter,
8: photocatalyst carrier, 9: ultraviolet lamp, 10: fan,
11: Air purifier, 12: Contaminated air, 13: Clean air,
14: power cord, 15: automobile, 16: road wall surface, 1
7: sunlight, 18: pit, 19: stand, 20: clean room, 21: workbench, 22: contaminated gas, 30: hotel lobby, 31: uneven surface of support, 32: photocatalyst film, 3
3: Light, 34: Conduction band, 35: Valence band, 36: Excited electron, 37: Hole, 38: Harmful gas, 39: Photocatalyst carrier, 40: Road, A: Light transmissive support

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 多田 弘明 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本板硝子株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiroaki Tada 3-5-11 Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Nippon Sheet Glass Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 気体中のNOxを含む有害ガスを除去す
る方法において、該気体を、表面が凹凸状をなす光透過
性支持体の表面に光触媒を担持させた光触媒担持体と、
光照射下に接触させることを特徴とする有害ガスの除去
方法。
1. A method for removing harmful gas containing NOx in a gas, comprising: a photocatalyst carrier having the surface of a light-transmitting support having an uneven surface, the photocatalyst being carried by the gas.
A method for removing harmful gas, which comprises contacting under light irradiation.
【請求項2】 前記光照射は、光透過性支持体の裏面か
ら行うことを特徴とする請求項1記載の有害ガスの除去
方法。
2. The method for removing harmful gas according to claim 1, wherein the light irradiation is performed from the back surface of the light transmissive support.
【請求項3】 前記光照射は、電場下で行うことを特徴
とする請求項1又は2記載の有害ガスの除去方法。
3. The method for removing harmful gas according to claim 1, wherein the light irradiation is performed under an electric field.
【請求項4】 気体中のNOxを含む有害ガスを除去す
る装置において、表面が凹凸状をなす光透過性支持体の
表面に光触媒を担持させた光触媒担持体と、該光触媒担
持体に光を照射する光源とを有することを特徴とする有
害ガスの除去装置。
4. A photocatalyst carrier in which a photocatalyst is carried on the surface of a light-transmitting support having an uneven surface in a device for removing harmful gas containing NOx in a gas, and light is applied to the photocatalyst carrier. A device for removing harmful gas, comprising: a light source for irradiating.
【請求項5】 前記光源は、装置の中心部に設置され、
光透過性支持体の裏面から光が照射できるように設ける
ことを特徴とする請求項4記載の有害ガスの除去装置。
5. The light source is installed in the center of the device,
The harmful gas removing device according to claim 4, wherein the device is provided so that light can be irradiated from the back surface of the light transmissive support.
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