JP2004358469A - Method and apparatus for removing harmful gas - Google Patents

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敏昭 藤井
Kazuhiko Sakamoto
和彦 坂本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method which is easy of handling, compact, and inexpensive and can effectively remove a harmful gas containing NOx even in the atmosphere and an apparatus for the method. <P>SOLUTION: In the method for removing the harmful gas 3 containing NOx in the atmosphere, the gas 12, after being contacted with a photocatalyst support 8 in which a photocatalyst is supported on the uneven surface of a light-transmitible support while the inside of the light-transmitible support is irradiated with light 9, is passed through a nitric acid catching filter. The irradiation can be carried out in an electric field. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、気体中の有害ガスの除去方法及び装置に係り、特に、大気中や各種の気体中のNOxを含む有害ガスを除去する方法及び装置に関する。   The present invention relates to a method and an apparatus for removing harmful gases in a gas, and more particularly to a method and an apparatus for removing harmful gases including NOx in the atmosphere and various gases.

従来の技術を、各種の工業や産業におけるNOx、SOx及びタバコ臭等の有害ガスを例に説明する。
先ず、各種の工業及び産業における排ガス及び自動車の排ガスの大気中への放出については、公害防止の観点から法的その他の規制措置がとられており、特に窒素酸化物及び硫黄酸化物については、酸性雨や光化学スモッグの原因物質としてその排出は厳しく制限されている。排出規制の対象とされている排ガス中の窒素酸化物(NOx)や硫黄酸化物(SOx)の処理技術は、従来多くの方式が提案されているが、実用的には種々の課題がある。たとえば、従来の排ガスの脱硝技術としては、アンモニア添加による還元法、触媒を使用する還元法、放射線照射法等が提案されている。
The prior art will be described by taking toxic gases such as NOx, SOx, and tobacco odor in various industries and industries.
First, regarding the emission of exhaust gas from various industries and industries and the exhaust gas from automobiles to the atmosphere, legal and other regulatory measures have been taken from the viewpoint of pollution prevention. In particular, for nitrogen oxides and sulfur oxides, Its emission as a causative agent of acid rain and photochemical smog is severely restricted. Many techniques have been proposed for treating nitrogen oxides (NOx) and sulfur oxides (SOx) in exhaust gas, which are subject to emission regulations, but there are various problems in practice. For example, as a conventional exhaust gas denitration technique, a reduction method by adding ammonia, a reduction method using a catalyst, a radiation irradiation method, and the like have been proposed.

従来のこれらの方法は、夫々次のような問題点がある。(a)アンモニア添加による還元法:脱硝効果が低い。(b)触媒を使用する還元法:連続的に使用した場合触媒性能が低下する。触媒として金属、貴金属を用いているので、省資源の観点から見直す必要がある。ダストの酸性物質の影響を受けやすい。(c)放射線照射法:硝安や硫安のような二次生成物を大量に生ずるので、別途副生成物の処理が必要である。また、これらのいずれの方法もアンモニアの添加を行うので、脱硝反応で消費されないアンモニアはリークアンモニアとして排出され、二次公害となる。また、アンモニアの使用、省資源の観点から見直す必要がある。   Each of these conventional methods has the following problems. (A) Reduction method by adding ammonia: the denitration effect is low. (B) Reduction method using a catalyst: When used continuously, catalyst performance is reduced. Since metals and precious metals are used as catalysts, they need to be reviewed from the viewpoint of resource saving. Susceptible to dust acidic substances. (C) Irradiation method: Since secondary products such as ammonium nitrate and ammonium sulfate are generated in large quantities, it is necessary to separately treat by-products. In addition, since ammonia is added in any of these methods, ammonia that is not consumed in the denitration reaction is discharged as leaked ammonia, resulting in secondary pollution. In addition, it is necessary to review the use of ammonia and resource saving.

また、これらの有害ガスは、一度大気中へ放出されると除去困難であり、大気中においても除去できる新規方法及び装置の出現が期待されている。
次に、家庭や事務所において、喫煙により発生したNOxを含む有害ガス(臭気性ガスを含む)について説明する。これらの物質は、一般にいわゆるタバコ臭として問題にされており、臭気はもちろんその有害性(例、発ガン性)のため、捕集・除去の要求が近年特に高まっている。これらの捕集・除去には、活性炭や植物精油を使用したもの等種々の除去材を使用する方法や装置の提案があるが、これらの除去材はいずれも性能が不十分であり、新規方法・装置の出現が期待されている。
Also, once these harmful gases are released into the atmosphere, it is difficult to remove them, and a new method and apparatus capable of removing them in the atmosphere are expected.
Next, harmful gases (including odorous gases) containing NOx generated by smoking in homes and offices will be described. These substances are generally regarded as a so-called tobacco odor, and their harmfulness (eg, carcinogenicity) as well as the odor has increased the demand for collection and removal in recent years. For the collection and removal of these, there are proposed methods and apparatuses using various removal materials such as those using activated carbon or vegetable essential oil, but all of these removal materials have insufficient performance, and new methods have been proposed. -Appearance of devices is expected.

本発明は、上記した従来技術の問題点を解決し、取扱い易く、コンパクトで安価で、しかも大気中においても効果的なNOxを含む有害ガスの除去方法とその装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to provide a method and an apparatus for removing harmful gases containing NOx which are easy to handle, compact and inexpensive, and are effective even in the atmosphere. .

上記課題を解決するために、本発明では、気体中のNOxを含む有害ガスを除去する方法において、該気体を、表面が凹凸状をなす光透過性支持体の表面に光触媒を担持させた光触媒担持体と、該光透過性支持体内部への光照射下に接触させた後、硝酸の捕集フィルタに通すこととしたものである。
前記除去方法において、光照射は、電場下で行うのがよい。
また、本発明では、気体中のNOxを含む有害ガスを除去する装置において、該気体と接触させる表面が凹凸状をなす光透過性支持体の表面に光触媒を担持させた光触媒担持体と、該光透過性支持体内部に光を照射する光源と、該光触媒担持体との接触の後に設けた前記気体を通す硝酸の捕集フィルタとを有することとしたものである。
前記装置において、光源は、装置の中心部に設置され、光透過性支持体の内部に光が照射できるように設ける。
In order to solve the above problems, the present invention provides a method for removing a harmful gas containing NOx in a gas, wherein the gas is a photocatalyst in which a photocatalyst is supported on a surface of a light-transmitting support having an uneven surface. After contacting the support with the light-transmissive support under light irradiation, the support is passed through a filter for collecting nitric acid.
In the removal method, light irradiation is preferably performed in an electric field.
Further, according to the present invention, in a device for removing a harmful gas containing NOx in a gas, a photocatalyst carrier in which a photocatalyst is carried on a surface of a light-transmissive support having an uneven surface in contact with the gas; A light source for irradiating light to the inside of the light-transmitting support, and a filter for collecting nitric acid through which the gas is provided after contact with the photocatalyst support are provided.
In the above device, the light source is provided at the center of the device and provided so that light can be applied to the inside of the light-transmitting support.

本発明によれば、光触媒の支持体として、凹凸状の表面を有する光透過性のガラス材を用いたことにより、次のような効果を奏した。
(ア) 凹凸状の支持体であるので、光反応(照射)の面積が増大した。また、光が該凹凸表面で散乱されるので、有効に光触媒に吸収された。
これにより、有害ガスの処理効率が向上し、効果的に処理された。
(イ) 支持体がガラス材であるので、光触媒への紫外光及び/又は可視光の光照射を処理物を介さずに、光触媒の裏面より直接できるので、処理装置の構造を利用分野によってより効果的に自由度大に選択することができる。
また、太陽光も適宜に利用できる。
すなわち、従来の表面のみからの照射だと、時間経過により光触媒表面に固体状物質などが付着した場合、その部分は全くデッドスペースとなり性能劣化した。また、従来法は処理物を介して照射されるので、処理物により性能が影響を受け、また処理物によっては、処理物が光を吸収してしまい、光が有効に利用できなかった。
(ウ) 通常、NOxは処理困難な物質であるので、NOxを指標に処理を行えば、他の共存有害ガスも同時に処理できるので、実用上制御、管理が容易である。
本発明では、前記したように、性能が処理物によらず、長時間安定に維持できた。
According to the present invention, the following effects are achieved by using a light-transmissive glass material having an uneven surface as a support for a photocatalyst.
(A) The area of the photoreaction (irradiation) is increased due to the uneven support. In addition, since light was scattered on the uneven surface, it was effectively absorbed by the photocatalyst.
Thereby, the processing efficiency of the harmful gas was improved, and the processing was effective.
(A) Since the support is made of a glass material, the photocatalyst can be irradiated with ultraviolet light and / or visible light directly from the back surface of the photocatalyst without passing through a processed material. It is possible to effectively select a large degree of freedom.
In addition, sunlight can be appropriately used.
That is, in the case of irradiation only from the conventional surface, when a solid substance or the like adheres to the surface of the photocatalyst with the passage of time, the portion becomes a dead space and the performance is deteriorated. Further, in the conventional method, since the irradiation is performed through the processing object, the performance is affected by the processing object, and depending on the processing object, the processing object absorbs light, and the light cannot be used effectively.
(C) Normally, NOx is a substance that is difficult to treat, and if it is treated using NOx as an index, other coexisting harmful gases can be treated at the same time, so that control and management are practically easy.
In the present invention, as described above, the performance can be stably maintained for a long time regardless of the processed material.

次に、本発明の各構成を詳細に説明する。
本発明において、照射する光は紫外光及び/又は可視光が使用でき、太陽光でも人工光でもよい。
本発明で用いる光触媒は、表面を凹凸状(粗面化)とした光透過性支持体の表面に担持させて用いる。こうすることで、触媒担持体に光を照射することにより光触媒による反応速度が著しく向上する。ここで光の照射は、前記支持体の表面に被覆した光触媒に、該支持体内部に導入した光、すなわち、被覆した触媒に対して裏面から光を照射するのがよい。
上記の光触媒による作用が効果的になる理由は、次の2つの効果に起因するものである。
1つは、平滑表面状支持体を用いる場合に比べて、本発明では表面の凹凸状支持体によって光反応面積が一層増大することである。他の1つは、光が該表面の凹凸で散乱されるために、有効に光触媒としての半導体によって吸収されることである。
Next, each configuration of the present invention will be described in detail.
In the present invention, ultraviolet light and / or visible light can be used as irradiation light, and sunlight or artificial light may be used.
The photocatalyst used in the present invention is used by being supported on the surface of a light-transmitting support whose surface is uneven (roughened). By doing so, the reaction speed by the photocatalyst is significantly improved by irradiating the catalyst carrier with light. Here, the light irradiation is preferably performed by irradiating the photocatalyst coated on the surface of the support with light introduced into the support, that is, the coated catalyst from the back.
The reason why the action by the photocatalyst is effective is due to the following two effects.
One is that, in the present invention, the photoreactive area is further increased by the uneven surface support, as compared with the case of using a smooth surface support. Another is that light is effectively absorbed by the semiconductor as a photocatalyst because the light is scattered by the irregularities of the surface.

光透過性支持体の材料としては、紫外光及び/又は可視光透過率が大きなもので有れば何でも用いることができるが、特に耐光性に優れた石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、ソーダライムガラスなどのガラス材を好適に用いることができる。形状は、板状、シート状、曲面状、柱状、棒状、線状、網状、格子状、ファイバー状等が使用できる。光透過性支持体の厚さや太さは、薄いほどあるいは細ければ細い程良いが、強度的には0.1mm以上の厚さ、あるいはφ0.1mm以上であることが望ましい。また、上限は無いが、厚いほど、また太くなるほどファイバーの体積当りの光反応効率は低下することになるが、用途によっては10mm程度でも使用することができる。   As the material of the light-transmitting support, any material can be used as long as it has a high transmittance of ultraviolet light and / or visible light. Particularly, quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, and soda having excellent light resistance are used. A glass material such as lime glass can be suitably used. The shape may be a plate, a sheet, a curved surface, a column, a bar, a line, a net, a lattice, a fiber, or the like. The thickness or thickness of the light-transmitting support is preferably as thin or thin as possible, but is desirably 0.1 mm or more in thickness or 0.1 mm or more in terms of strength. Although there is no upper limit, the photoreaction efficiency per volume of the fiber decreases as the thickness and the thickness of the fiber increase.

なお、光透過性支持体表面の粗面化法としては、特に限定されず、HF水溶液による化学的エッチング及び研磨材による物理的なスリ加工などを用いれば良い。凹凸のディメンジョンとしては、紫外光及び/又は可視光を散乱するために、約200nm以上が必要になる。しかし、凹凸サイズが大きすぎると、反応表面積が小さくなることから、効率は低下することになる。その結果、上限は0.1mmであることが望ましい。
凹凸状の光透過性支持体上に担持する光触媒の種類は、対象となる有害ガス及び光源の種類などを考慮の上、選定することができる。光触媒活性の高さと化学的な安定性から、現在最も広範に用いられている光触媒はTiOであり、本発明に好適に使用することができる。しかしながら、本発明に使用される光触媒はこれに限定されることなく、従来光触媒として知られているものは如何なるものでも使用することができる。
The method for roughening the surface of the light-transmitting support is not particularly limited, and chemical etching with an HF aqueous solution, physical polishing with an abrasive, or the like may be used. The dimension of the unevenness needs to be about 200 nm or more in order to scatter ultraviolet light and / or visible light. However, if the size of the concavities and convexities is too large, the reaction surface area is reduced, and the efficiency is reduced. As a result, the upper limit is desirably 0.1 mm.
The type of the photocatalyst to be supported on the uneven light-transmitting support can be selected in consideration of the type of the target harmful gas and the light source. From height and chemical stability of the photocatalytic activity, photocatalyst currently most widely used is TiO 2, it can be suitably used in the present invention. However, the photocatalyst used in the present invention is not limited to this, and any of those conventionally known as photocatalysts can be used.

通常半導体材料が効果的であり容易に入手出来、加工性も良いことから好ましい。
効果や経済性の面から、Se,Ge,Si,Ti,Zn,Cu,Al,Sn,Ga,In,P,As,Sb,C,Cd,S,Te,Ni,Fe,Co,Ag,Mo,Sr,W,Cr,Ba,Pbのいずれか、又はこれらの化合物、又は合金、又は酸化物が好ましく、これらは単独で、又は二種類以上を複合して用いる。 例えば、元素としてはSi,Ge,Se、化合物としてはAlP,AlAs,GaP,AlSb,GaAs,InP,GaSb,InAs,InSb,CdS,CdSe,ZnS,MoS,WTe,CrTe,MoTe,CuS,WS 、酸化物としてはTiO,Bi,CuO,CuO,ZnO,MoO,InO,AgO,PbO,SrTiO,BaTiO,Co,Fe,NiO等がある。
Generally, semiconductor materials are preferable because they are effective, easily available, and have good workability.
From the viewpoint of effect and economy, Se, Ge, Si, Ti, Zn, Cu, Al, Sn, Ga, In, P, As, Sb, C, Cd, S, Te, Ni, Fe, Co, Ag, Any of Mo, Sr, W, Cr, Ba, and Pb, or a compound, alloy, or oxide thereof is preferable, and these are used alone or in combination of two or more. For example, the elements Si, Ge, Se, AlP as compounds, AlAs, GaP, AlSb, GaAs , InP, GaSb, InAs, InSb, CdS, CdSe, ZnS, MoS 2, WTe 2, Cr 2 Te 3, MoTe , Cu 2 S, WS 2 , and oxides such as TiO 2 , Bi 2 O 3 , CuO, Cu 2 O, ZnO, MoO 3 , InO 3 , Ag 2 O, PbO, SrTiO 3 , BaTiO 3 , and Co 3 O 4 , Fe 2 O 3 , NiO and the like.

光触媒膜の厚みは、薄すぎると、光を十分に吸収できない。一方、厚すぎると、膜中で生じた光キャリヤーが表面まで拡散できないために、触媒活性が低下する。従って、最適値が存在することになる。その値は、用いる光触媒の種類によって異なるが、数nm〜数μmの範囲になる。
上記の光触媒の使用においては、電場下で行うと効果的である。電場の強さは、1V/cm〜10kV/cm、通常10V/cm〜1kV/cmである。
電場は、光触媒の近傍に線状、網状、棒状、格子状など、適宜の電極材を設置し、該光触媒との間に電圧を印加することにより設定でき、光触媒や電極材の形状などにより、適宜予備試験を行い、適正条件を選び行うことができる。
光触媒の種類や厚み、電場の有無やその強さは、利用分野、処理対象物質の種類や濃度、光源の種類、光触媒の支持体の種類や形状、要求性能等により適宜予備試験を行い決めることができる。
If the thickness of the photocatalyst film is too small, light cannot be sufficiently absorbed. On the other hand, if it is too thick, the photocarriers generated in the film cannot diffuse to the surface, and the catalytic activity decreases. Therefore, there is an optimum value. The value varies depending on the type of photocatalyst used, but is in the range of several nm to several μm.
In the use of the above-mentioned photocatalyst, it is effective to carry out under an electric field. The strength of the electric field is 1 V / cm to 10 kV / cm, usually 10 V / cm to 1 kV / cm.
The electric field can be set by installing an appropriate electrode material such as a wire, a net, a rod, or a lattice in the vicinity of the photocatalyst and applying a voltage between the photocatalyst and the shape of the photocatalyst or the electrode material. Preliminary tests can be conducted as appropriate to select appropriate conditions.
The type and thickness of the photocatalyst, the presence or absence of an electric field, and the strength of the photocatalyst should be determined by conducting appropriate preliminary tests according to the application field, the type and concentration of the substance to be treated, the type of light source, the type and shape of the photocatalyst support, the required performance, etc. Can be.

次に、光源について説明する。
光源は、光触媒を励起する波長を有するものであれば、何れでも良く、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノン灯等が使用でき、また利用先によっては、太陽光が適宜利用できる。
光源の位置は、適用分野、光源の種類、装置形状により適宜に選択することができる。通常、反応器の中心部に光源を設置すると、光源から放射状に放出される光が全て有効利用されるので好ましい。
また、利用先によっては、適宜周知の有害ガス除去手段と組合せて用いることができる。周知の有害ガス除去手段としては、活性炭、活性炭素繊維、ゼオライト、イオン交換フィルター(繊維)、有機高分子ポリマー(有機高分子ビーズ)などがある。
Next, the light source will be described.
Any light source may be used as long as it has a wavelength that excites the photocatalyst. A low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
The position of the light source can be appropriately selected depending on the application field, the type of the light source, and the shape of the device. Usually, it is preferable to install a light source at the center of the reactor because all the light radially emitted from the light source is effectively used.
Further, depending on the place of use, it can be used in combination with a well-known harmful gas removing means. Well-known harmful gas removing means include activated carbon, activated carbon fiber, zeolite, ion exchange filters (fibers), and organic polymer polymers (organic polymer beads).

また、本発明者らがすでに提案した複合酸化物系触媒を用いる手段(特開平6−205930号公報、特開平6−194895号公報)も、利用分野によっては適宜に用いることができる。これらの用い方として、通常処理有害ガスが比較的高い場合、あるいは処理ガスの種類が多い場合、予めこれらの手段である程度有害ガスの除去を行い、次に本発明の手段により除去を行う。これにより、濃度の高い被処理気体や、多成分系の複雑な有害ガスも高効率に処理でき、超清浄な気体や空間を効果的に得ることができる。
本発明は、NOxの処理に効果的である。NOxは、他の有害ガスの中で最も安定で、通常法では処理困難である。本発明でNOxが容易に処理できることから、NOxに共存する他の有害ガス、例えば、NH、有機Cl化合物、炭化水素、タバコ臭、カビ臭成分などは容易に処理される。
In addition, the means (JP-A-6-205930 and JP-A-6-194895) using the composite oxide catalyst already proposed by the present inventors can be appropriately used depending on the application field. As a method of using them, when the harmful gas to be treated is relatively high or when there are many kinds of treatment gases, the harmful gas is removed to some extent by these means in advance and then removed by the means of the present invention. As a result, the gas to be treated having a high concentration or a complex harmful gas of a multi-component system can be treated with high efficiency, and an ultra-clean gas or space can be effectively obtained.
The present invention is effective for treating NOx. NOx is the most stable of other harmful gases and is difficult to treat by conventional methods. Since NOx can be easily treated in the present invention, other harmful gases coexisting with NOx, for example, NH 3 , organic Cl compounds, hydrocarbons, tobacco odor, musty odor components, etc. can be easily treated.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1
本発明の有害ガス除去装置の基本構成図を図1に示し、これを用いて病院における空気清浄について説明する。
図1において、喫煙2等に起因した微粒子(粒子状物質)及び有害ガス(臭気性ガスを含み、例えば、アルデヒド類、ケトン類、ピリジン類、ピロール類、ニトリル類、窒素酸化物、アンモニア等)3が発生している。
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
Example 1
FIG. 1 shows a basic configuration diagram of the harmful gas removing device of the present invention, and air purification in a hospital will be described with reference to FIG.
In FIG. 1, fine particles (particulate matter) and harmful gases (including odorous gases, for example, aldehydes, ketones, pyridines, pyrroles, nitriles, nitrogen oxides, ammonia, etc.) resulting from smoking 2 and the like. 3 has occurred.

空気清浄は、室の側面の中央部に設置された前処理フィルタ4、静電フィルタ5、活性炭6、イオン交換フィルタ7、及び本発明の光触媒を担持させた光触媒担持体8、紫外線ランプ9、ファン10よりなる空気清浄器11にて実施される。
上記光触媒担持体8は、表面が凹凸状の多数の棒状(ロッド)石英ガラスに、TiOを被覆したもので、紫外線ランプ9からの紫外線は棒状石英ガラスの中を通して、該石英ガラス表面のTiOを励起し、光触媒として活性化する。図1(b)に、図1(a)のA−A′断面図を示す。12は汚染空気の流れ、13は空気清浄器11により清浄化された清浄空気を示す。
The air purification is performed by a pretreatment filter 4, an electrostatic filter 5, an activated carbon 6, an ion exchange filter 7, and a photocatalyst carrier 8 carrying a photocatalyst of the present invention, an ultraviolet lamp 9, The operation is performed by the air purifier 11 including the fan 10.
The photocatalyst carrier 8 is formed by coating a large number of rod-shaped (rod) quartz glass having irregularities on the surface with TiO 2 , and the ultraviolet light from the ultraviolet lamp 9 passes through the rod-shaped quartz glass to pass through the TiO 2 on the quartz glass surface. 2 is excited and activated as a photocatalyst. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. Reference numeral 12 denotes a flow of contaminated air, and reference numeral 13 denotes clean air purified by the air purifier 11.

この空気清浄器11においては、喫煙等に起因した微粒子は、前処理フィルタ4で先ず粗い粒子状物質が除去され、次いで静電フィルタ5で残った微粒子が除去される。一方、喫煙に起因する有害ガスは、先ず活性炭6でアルデヒド類やケトン類のような主として中性物質及び酸性物質が除去される。次に、イオン交換フィルタ(カチオン型)7で、アンモニアのような主としてアルカリ性物質が除去される。
イオン交換フィルタは、本発明者らがすでに提案したものを適宜用いることができる。(例、特開昭63−12315号、特開昭63−77557号、特開昭63−97246号、特開平2−59018号各公報)
次に、これらのフィルタでは除去できないNOx及びリークした前記の有害ガスが、光触媒にて除去される。光触媒では、主にNOxが硝酸に変換され、固定化されることにより除去される。
In the air purifier 11, coarse particles that are caused by smoking or the like are first removed by the pretreatment filter 4, and then the remaining particles are removed by the electrostatic filter 5. On the other hand, as for the harmful gas caused by smoking, first, activated carbon 6 mainly removes neutral substances and acidic substances such as aldehydes and ketones. Next, an alkaline substance such as ammonia is mainly removed by an ion exchange filter (cation type) 7.
As the ion exchange filter, those already proposed by the present inventors can be appropriately used. (Examples: JP-A-63-12315, JP-A-63-77557, JP-A-63-97246, JP-A-2-59018)
Next, NOx that cannot be removed by these filters and the leaked harmful gas are removed by a photocatalyst. In the photocatalyst, NOx is mainly converted to nitric acid and removed by being fixed.

光触媒担持体8の光触媒上でNOxから変換された硝酸は、長時間運転した場合、光触媒の性能を劣化させ、かつ長時間運転により、後方に飛散する場合があるので、光触媒の近傍及び/又はその後方に生成物である硝酸の捕集フィルタ(捕集材)、例えばイオン交換繊維(アニオン型)、活性炭、活性炭素繊維、ガラス繊維を適宜設置すると、光触媒の効果が持続し、かつ、万一後方へ流出した場合でも捕集できるので、装置の種類、処理有害ガスの濃度、用いる他の有害成分の除去材の種類、要求性能などによっては好ましい。上記捕集フィルタの設置は、適宜予備試験を行い決めることができる。
光触媒は、低濃度の有害ガスを極低濃度あるいは検出限界濃度以下まで、処理するのに好適である。そのために、本例のように周知の方法で予め低濃度まで処理し、最終処理を光触媒で行うと実用上効果的に処理できる。
空気清浄器11により、臭気濃度(官能試験の値)50〜1,000のタバコ臭を含む空気12は、臭気濃度10以下、及び有害ガスとしてのNOxは5ppb以下、NHは10ppb以下となり、清浄空気13が得られる。
The nitric acid converted from NOx on the photocatalyst of the photocatalyst carrier 8 deteriorates the performance of the photocatalyst when operated for a long time, and may be scattered backward by the long-time operation. If a filter (collection material) for collecting nitric acid, which is a product, for example, an ion-exchange fiber (anion type), activated carbon, activated carbon fiber, or glass fiber is appropriately provided in the rear, the effect of the photocatalyst is maintained, and Since it can be collected even when it flows backward, it is preferable depending on the type of equipment, the concentration of the harmful gas to be treated, the type of material for removing other harmful components used, the required performance, and the like. The installation of the collection filter can be determined by conducting a preliminary test as appropriate.
The photocatalyst is suitable for treating a low-concentration harmful gas to an extremely low concentration or below the detection limit concentration. For this reason, if the treatment is carried out to a low concentration in advance by a known method as in this example and the final treatment is carried out with a photocatalyst, the treatment can be practically and effectively performed.
The air purifier 11, air 12 containing cigarette smell odor concentration (value of sensory test) 50 to 1,000, the odor concentration 10 or less, and NOx as a harmful gas 5ppb or less, NH 3 becomes less 10 ppb, Clean air 13 is obtained.

実施例2
図2に、半導体工場におけるクリーンルーム内の微量有害ガスを除去する、本発明の除去装置を用いた空気清浄の概略構成図を示す。
図2において、クラス1,000(0.1μm以上の粒子数)のクリーンルーム20には、作業21により有害ガスとしてNOx、NH及び微粒子22が発生しており、また、クリーンルーム空気には炭化水素(非メタン炭化水素)が0.8〜1.0ppm存在する。これらの汚染物(これらのガス状汚染物質・微粒子)は、半導体工場の原料や製品、半製品を汚染するので、空気清浄装置11が設置され、該有害ガスと微粒子の捕集・除去が行われている。
Example 2
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of air cleaning using the removal apparatus of the present invention for removing trace harmful gases in a clean room in a semiconductor factory.
In FIG. 2, NOx, NH 3, and fine particles 22 are generated as harmful gases by a work 21 in a clean room 20 of class 1,000 (the number of particles having a particle size of 0.1 μm or more). (Non-methane hydrocarbon) is present at 0.8-1.0 ppm. Since these contaminants (the gaseous pollutants and fine particles) contaminate raw materials, products and semi-finished products of the semiconductor factory, an air purifier 11 is installed to collect and remove the harmful gases and fine particles. Has been done.

該装置11は、主に前処理フィルタ4、ファン10、イオン交換フィルタ(カチオン型)7、ULPAフィルタ5−1、5−2、光触媒担持体8及び紫外線ランプ9より構成されている。図2(a)のB−B’断面図を図2(b)に示す。有害ガスを含む被処理空気12は、ファン10により吸引され、処理された清浄空気は、矢印13の方向に吐出される。
それぞれの構成について説明する。
前処理フィルタ4は、空気抵抗の少ないガラス繊維を主体としたフィルタであり、ここで、先ず吸引空気12中の粗い粒子(比較的粒径の大きい粒子)が除去される。
The apparatus 11 is mainly pre-processing filter 4, the fan 10, the ion exchange filter (cationic form) 7, ULPA filter 5 -1, 5 -2, and is composed of a photocatalyst carrying member 8 and the ultraviolet lamp 9. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. The air to be treated 12 containing harmful gas is sucked by the fan 10, and the treated clean air is discharged in the direction of arrow 13.
Each configuration will be described.
The pretreatment filter 4 is a filter mainly composed of glass fibers having a low air resistance, and first, coarse particles (particles having a relatively large particle diameter) in the suction air 12 are removed.

イオン交換フィルタ7は、作業21により発生したNHなどクリーンルーム中のNHの除去用フィルタであり、本発明者らがすでに提案したもの(前記)を適宜に用いることができ、これによりNHは10ppb以下にまで除去される。
ULPAフィルタ5−1は、作業21により発生した微粒子などクリーンルーム中の微粒子の除去フィルタである。これにより、クラス1,000のクリーンルーム中の微粒子、作業21により発生した微粒子及びファン10の作動により発生した微粒子が、クラス10以下まで除去される。
Ion exchange filter 7 is a filter for removing the NH 3 in the clean room, such as NH 3 generated by the work 21, which the present inventors have already proposed (above) can be appropriately used, thereby NH 3 Is removed to 10 ppb or less.
ULPA filter 5 -1 is a particulate removal filter in a clean room, such as particles generated by the work 21. Thereby, the fine particles in the clean room of class 1,000, the fine particles generated by the operation 21 and the fine particles generated by the operation of the fan 10 are removed to class 10 or less.

光触媒担持体8は、主に、作業21により発生したNOxの除去及び接触角の増加をもたらす炭化水素の分解を行うもので、表面が凹凸状の多数のファイバー状石英ガラスにTiOを被覆したものである。
紫外線ランプ9は、TiOを被覆した石英ガラスの内部を通り、石英ガラス表面に被覆したTiOを照射し、光触媒として作用させるものである。これにより、クリーンルーム中のNOx及び作業21により発生したNOxが、5ppb以下まで除去される。また、炭化水素は、接触角の増加に影響しない安定な形に変換される。
ULPAフィルタ5−2は、光触媒及びその近傍からの発生微粒子の除去フィルタであり、通常不用であるが、緊急時を規定して設置されている。
The photocatalyst carrier 8 mainly removes NOx generated by the operation 21 and decomposes hydrocarbons that increase the contact angle. The TiO 2 is coated on a large number of fibrous quartz glass having an uneven surface. Things.
Ultraviolet lamp 9 passes through the inside of the quartz glass coated with TiO 2, the TiO 2 coated on the surface of the quartz glass irradiated, is intended to act as a photocatalyst. Thereby, NOx in the clean room and NOx generated by the operation 21 are removed to 5 ppb or less. Also, hydrocarbons are converted to a stable form that does not affect the increase in contact angle.
ULPA filters 5-2 is a filter for removing generated particles from the photocatalyst and its vicinity, is usually unnecessary, are installed to define emergency.

これらにより、NOx濃度は5ppb以下、非メタン炭化水素は0.2ppm以下、NH濃度は10ppb以下、微粒子濃度クラス10以下の清浄空気13が得られる。
クリーンルーム内で有害ガスが発生すると、製品や半製品に付着し、接触角の増加をもたらし歩留まりの低下をひき起こす(生産性が下がる。)従って、該有害ガスを一定濃度以下にすることはクリーンルームの管理上重要である。
なお、実施例における光触媒、周知の有害ガス除去手段の組合せ順序は、何ら限定されるものでなく予備試験を行い適宜に決めることができる。
なお、接触角とは、固体表面の汚染の程度を示す指標であり、固体表面が汚染されると、水の接触角がその汚染状態をよく反映し、汚染の程度が大きいと接触角が大きく、逆に汚染の程度が小さいと接触角が小さい。
As a result, clean air 13 having a NOx concentration of 5 ppb or less, a non-methane hydrocarbon of 0.2 ppm or less, an NH 3 concentration of 10 ppb or less, and a fine particle concentration class of 10 or less can be obtained.
When harmful gas is generated in the clean room, it adheres to products and semi-finished products, increases the contact angle, and lowers the yield (decreases productivity). Is important in management.
The order of combination of the photocatalyst and the known harmful gas removing means in the embodiment is not limited at all, and can be appropriately determined by performing a preliminary test.
The contact angle is an index indicating the degree of contamination of the solid surface.If the solid surface is contaminated, the contact angle of water reflects the state of contamination well, and if the degree of contamination is large, the contact angle increases. Conversely, if the degree of contamination is small, the contact angle is small.

実施例3
図1の空気清浄器を用いた脱臭効果及びNOx除去性能を以下に示す。
空気清浄器を設置した待合室1の体積は約30mであり、該清浄器内の空気流量は100リットル/minとした。前処理フィルタ4の直下約1mの位置で10本タバコを喫煙したとき、該フィルタ直前の位置12で採取したサンプル空気は、目視でタバコ煙が認められ、臭気濃度は官能試験(3点比較法)で500であった。
また、NOx、NHを測定したところ、夫々2ppm、2ppmであった。測定法は、化学発光方式である。
Example 3
The deodorizing effect and NOx removal performance using the air purifier of FIG. 1 are shown below.
The volume of the waiting room 1 in which the air purifier was installed was about 30 m 3 , and the air flow rate in the purifier was 100 liter / min. When 10 cigarettes are smoked at a position about 1 m immediately below the pretreatment filter 4, tobacco smoke is visually observed in the sample air collected at the position 12 immediately before the filter, and the odor concentration is determined by a sensory test (three-point comparison method). ) Was 500.
When NOx and NH 3 were measured, they were 2 ppm and 2 ppm, respectively. The measuring method is a chemiluminescence method.

光透過性支持体としては、表面を研磨した平滑表面石英製ロッド(直径5.0mm)を用意し、表面を研磨砂によるスリ加工を行い、粗面化した。
チタン(IV)プロポキシド28.39gを18.43gの無水エタノールに添加し、室温で約3分間攪拌した後に、氷冷した(溶液A)。また、別にエタノール(18.43g)、水(1.8g)、塩酸(0.29g)の混合水溶液を調製した(溶液B)。溶液Aを攪拌しながら、溶液Bをビュレットを用いてゆっくりと滴下することにより、均一混合溶液とした(溶液C)。
前記石英製ロッドを溶液C中に浸漬した後に、ディッピング装置を用いて、1.8cm/分の一定速度で引き上げた。空気中で十分に乾燥させた後に、500℃で10分間焼成して、本発明の光触媒担持体を得た。得られた光触媒担持体であるTiO被覆石英製ロッドの模式図を、図3に示した。
As a light-transmitting support, a surface-polished quartz rod (diameter: 5.0 mm) having a polished surface was prepared, and the surface was sanded with polished sand to roughen the surface.
28.39 g of titanium (IV) propoxide was added to 18.43 g of absolute ethanol, and the mixture was stirred at room temperature for about 3 minutes, and then cooled with ice (solution A). Separately, a mixed aqueous solution of ethanol (18.43 g), water (1.8 g), and hydrochloric acid (0.29 g) was prepared (solution B). While stirring the solution A, the solution B was slowly added dropwise using a burette to obtain a uniform mixed solution (solution C).
After the quartz rod was immersed in the solution C, it was pulled up at a constant speed of 1.8 cm / min using a dipping device. After sufficiently drying in air, it was baked at 500 ° C. for 10 minutes to obtain a photocatalyst carrier of the present invention. FIG. 3 shows a schematic view of the obtained TiO 2 -coated quartz rod as the photocatalyst carrier.

図3は、本発明の光触媒39の作用を示す説明図である。
光透過性支持体Aの表面には、光触媒膜32が担持されている。光透過性支持体Aから導入された光33は、凹凸化された支持体Aの表面の作用で効果的に光触媒膜32に吸収される。
光触媒膜32が、禁制帯の幅以上のエネルギーを持つ光を吸収すると電子は伝導帯34に励起され、価電子帯35に正孔37ができる。このようにして、価電子帯35の正孔37は酸化力を、伝導帯34の励起電子36は還元力を持つ。38は被処理物であり、被処理物は上記作用の力により分解される。
被覆TiOの厚みは30mmである。
光源は、高圧水銀灯である。
用いた性能試験用空気清浄器の大きさ: 50×50×60cm
FIG. 3 is an explanatory diagram showing the operation of the photocatalyst 39 of the present invention.
On the surface of the light-transmitting support A, a photocatalyst film 32 is supported. The light 33 introduced from the light-transmitting support A is effectively absorbed by the photocatalytic film 32 by the action of the uneven surface of the support A.
When the photocatalytic film 32 absorbs light having energy equal to or greater than the width of the forbidden band, electrons are excited by the conduction band 34, and holes 37 are formed in the valence band 35. Thus, the holes 37 in the valence band 35 have oxidizing power, and the excited electrons 36 in the conduction band 34 have reducing power. Reference numeral 38 denotes an object to be processed, and the object to be processed is decomposed by the force of the above action.
The thickness of the coated TiO 2 is 30 mm.
The light source is a high-pressure mercury lamp.
Size of the performance test air purifier used: 50 × 50 × 60 cm

結 果
この空気を空気清浄器11を運転して清浄化すると、該清浄器11出口直線の位置13における空気の臭気濃度は、官能試験で最大でも10以下であった。また、ここで吐出空気には、目視ではタバコ煙は認められなかった。また、NOxとNH濃度は、夫々5ppb以下であった。
Results When this air was cleaned by operating the air purifier 11, the odor concentration of the air at the position 13 of the straight line at the outlet of the purifier 11 was 10 or less at the maximum in the sensory test. Here, no tobacco smoke was visually observed in the discharged air. Further, NOx and NH 3 concentrations were respectively 5ppb or less.

実施例4
図1に示した空気清浄器11から、活性炭6及びイオン交換フィルタ7を取り外し、該清浄器にNOxを含むトンネル換気排ガスを50リットル/minで導入し、NOxの除去性能を化学発光方式のNOx計で調べた。
NOx濃度: 1〜3ppm
空気清浄器大きさ: 50×50×60cm
光触媒及び光源: 実施例3と同じもの。
結 果
清浄器出口のNOx濃度は、10〜30ppbであった。
なお、比較例として、石英ロッドを粗面化しないで、同様にTiOを被覆して試験したところ、清浄器出口のNOx濃度は、0.3〜0.5ppmであった。
Example 4
The activated carbon 6 and the ion-exchange filter 7 are removed from the air purifier 11 shown in FIG. 1, and tunnel ventilation exhaust gas containing NOx is introduced into the purifier at a rate of 50 liter / min. The total was checked.
NOx concentration: 1-3 ppm
Air purifier size: 50 × 50 × 60cm
Photocatalyst and light source: Same as in Example 3.
Results The NOx concentration at the outlet of the purifier was 10 to 30 ppb.
As a comparative example, when the quartz rod was similarly coated with TiO 2 without roughening and tested, the NOx concentration at the outlet of the purifier was 0.3 to 0.5 ppm.

次に、本発明を適用する利用分野を示す。
(1)家庭、事務所、病院におけるNOx、タバコ、カビ臭、トイレ臭、各種薬品臭の処理。
(2)各種燃焼設備からのNOx、SOx等の排ガス処理。
(3)トンネルや高速道路における自動車の排ガス処理。
(4)半導体工業、薬品工業、食品工業、農林産業、医療、精密機械工業におけるクリーンルーム及びその周辺における各種有害ガス(例、NOx,炭化水素)の処理。
(5)大気中のNOx(NO,NO,NO)、SOxの処理。
(6)水処理場におけるストリッピングによるNOxを含む放出ガス(NOx、有機Cl化合物)の処理。
Next, application fields to which the present invention is applied will be described.
(1) Treatment of NOx, tobacco, musty odor, toilet odor, and various chemical odors in homes, offices, and hospitals.
(2) Treatment of exhaust gas such as NOx and SOx from various combustion facilities.
(3) Exhaust gas treatment of automobiles in tunnels and highways.
(4) Treatment of various harmful gases (eg, NOx, hydrocarbons) in and around clean rooms in the semiconductor industry, the pharmaceutical industry, the food industry, the agriculture and forestry industry, the medical industry, and the precision machinery industry.
(5) NOx in the atmosphere (NO, NO 2, N 2 O), the processing of the SOx.
(6) Treatment of released gas (NOx, organic Cl compound) containing NOx by stripping in a water treatment plant.

(a)は病院における空気清浄に用いた本発明の有害ガス除去装置の基本構成図で、(b)は(a)のA−A’断面図。(A) is a basic block diagram of the harmful gas removal apparatus of the present invention used for air purification in a hospital, and (b) is a cross-sectional view taken along line A-A 'of (a). (a)は半導体工場のクリーンルームに用いた本発明の除去装置の概略構成図で、(b)は(a)のB−B’断面図。(A) is a schematic block diagram of the removal apparatus of this invention used for the clean room of a semiconductor factory, (b) is B-B 'sectional drawing of (a). 本発明の光触媒の作用を示す説明図。Explanatory drawing which shows the effect | action of the photocatalyst of this invention.

符号の説明Explanation of reference numerals

1:病院の待合室、2:タバコ、3:有害ガス、4:前処理フィルタ、5:静置フィルタ、5−1、5−2:ULPAフィルタ、6:活性炭、7:イオン交換フィルタ、8:光触媒担持体、9:紫外線ランプ、10:ファン、11:空気清浄器、12:汚染空気、13:清浄空気、20:クリーンルーム、21:作業台、22:汚染ガス、31:支持体凹凸面、32:光触媒膜、33:光、34:伝導帯、35:価電子帯、36:励起電子、37:正孔、38:有害ガス、39:光触媒担持体、A:光透過性支持体 1: hospital waiting rooms, 2: Tobacco, 3: harmful gas, 4: pre-processing filter, 5: left filter, 5 -1, 5 -2: ULPA filter, 6: activated carbon, 7: ion exchange filter, 8: Photocatalyst carrier, 9: ultraviolet lamp, 10: fan, 11: air cleaner, 12: contaminated air, 13: clean air, 20: clean room, 21: work table, 22: contaminated gas, 31: uneven surface of support, 32: photocatalyst film, 33: light, 34: conduction band, 35: valence band, 36: excited electron, 37: hole, 38: harmful gas, 39: photocatalyst carrier, A: light transmissive support

Claims (4)

気体中のNOxを含む有害ガスを除去する方法において、該気体を、表面が凹凸状をなす光透過性支持体の表面に光触媒を担持させた光触媒担持体と、該光透過性支持体内部への光照射下に接触させた後、硝酸の捕集フィルタに通すことを特徴とする有害ガスの除去方法。   In the method for removing a harmful gas containing NOx in a gas, the gas is introduced into a photocatalyst carrier in which a photocatalyst is carried on a surface of a light transmissive support having an uneven surface, and into the light transmissive support. A method for removing harmful gases, comprising contacting the sample under light irradiation and passing through a filter for collecting nitric acid. 前記光照射は、電場下で行うことを特徴とする請求項1記載の有害ガスの除去方法。   The method according to claim 1, wherein the light irradiation is performed in an electric field. 気体中のNOxを含む有害ガスを除去する装置において、該気体と接触させる表面が凹凸状をなす光透過性支持体の表面に光触媒を担持させた光触媒担持体と、該光透過性支持体内部に光を照射する光源と、該光触媒担持体との接触の後に設けた前記気体を通す硝酸の捕集フィルタとを有することを特徴とする有害ガスの除去装置。   An apparatus for removing harmful gas containing NOx in a gas, comprising: a photocatalyst carrier in which a photocatalyst is carried on a surface of a light transmissive support having an uneven surface in contact with the gas; and an interior of the light transmissive support. A light source for irradiating the gas, and a filter for collecting nitric acid, which is provided after the contact with the photocatalyst carrier, and passes the gas. 前記光源は、装置の中心部に設置され、光透過性支持体の内部に光が照射できるように設けることを特徴とする請求項3記載の有害ガスの除去装置。   The harmful gas removing apparatus according to claim 3, wherein the light source is provided at a central portion of the apparatus, and is provided so that light can be applied to the inside of the light-transmitting support.
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