JPH08101250A - Icの高温検査方法 - Google Patents
Icの高温検査方法Info
- Publication number
- JPH08101250A JPH08101250A JP6261872A JP26187294A JPH08101250A JP H08101250 A JPH08101250 A JP H08101250A JP 6261872 A JP6261872 A JP 6261872A JP 26187294 A JP26187294 A JP 26187294A JP H08101250 A JPH08101250 A JP H08101250A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- high temperature
- inspection
- current
- parasitic diode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、簡単な構成により、コストが低減さ
れ得ると共に、検査全体に要する時間が短縮され得るよ
うにした、ICの高温検査方法を提供することを目的と
する。 【構成】出力がオープンコレクタであってGND・Vo
ut間の寄生ダイオードを備えた出力トランジスタ11
を有する、IC10において、上記寄生ダイオードに電
流Iを印加することにより、該寄生ダイオードに発生す
る熱により、IC全体を高温である所定温度に保持し
て、ICテスタにより該ICの高温検査を行なうよう
に、IC10の高温検査方法を構成する。
れ得ると共に、検査全体に要する時間が短縮され得るよ
うにした、ICの高温検査方法を提供することを目的と
する。 【構成】出力がオープンコレクタであってGND・Vo
ut間の寄生ダイオードを備えた出力トランジスタ11
を有する、IC10において、上記寄生ダイオードに電
流Iを印加することにより、該寄生ダイオードに発生す
る熱により、IC全体を高温である所定温度に保持し
て、ICテスタにより該ICの高温検査を行なうよう
に、IC10の高温検査方法を構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ICの高温検査方法に
関するものである。
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ICの検査を行なう場合、先づ常
温にて、ICの常温検査を行ない、続いてICの高温検
査を行なうようになっている。この場合、ICの高温検
査においては、例えば高温ハンドラ等を使用することに
より、ICを恒温槽内に入れて、周囲温度を高温である
所定温度に上げることにより、IC全体をこの所定温度
に保持し、この状態にて、所定の各種検査を行なうよう
にしている。
温にて、ICの常温検査を行ない、続いてICの高温検
査を行なうようになっている。この場合、ICの高温検
査においては、例えば高温ハンドラ等を使用することに
より、ICを恒温槽内に入れて、周囲温度を高温である
所定温度に上げることにより、IC全体をこの所定温度
に保持し、この状態にて、所定の各種検査を行なうよう
にしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな高温ハンドラあるいは恒温槽を使用して、IC全体
を所定温度に上げるためには、高温ハンドラまたは恒温
槽の設備が必要であると共に、ICと共に周囲の大気も
所定温度に上げる必要がある。従って、設備に要するコ
ストが高くなってしまうと共に、常温検査の終了後、I
Cの温度が所定温度まで上がるのに時間がかかるので、
検査時間が長くなってしまうという問題があった。
うな高温ハンドラあるいは恒温槽を使用して、IC全体
を所定温度に上げるためには、高温ハンドラまたは恒温
槽の設備が必要であると共に、ICと共に周囲の大気も
所定温度に上げる必要がある。従って、設備に要するコ
ストが高くなってしまうと共に、常温検査の終了後、I
Cの温度が所定温度まで上がるのに時間がかかるので、
検査時間が長くなってしまうという問題があった。
【0004】本発明は、以上の点に鑑み、簡単な構成に
より、コストが低減され得ると共に、検査全体に要する
時間が短縮され得るようにした、ICの高温検査方法を
提供することを目的としている。
より、コストが低減され得ると共に、検査全体に要する
時間が短縮され得るようにした、ICの高温検査方法を
提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、出力がオープンコレクタであってGND・Vou
t間の寄生ダイオードを備えた出力トランジスタを有す
る、ICにおいて、上記寄生ダイオードに電流を印加す
ることにより、該寄生ダイオードに発生する熱により、
IC全体を高温である所定温度に保持して、ICテスタ
により該ICの高温検査を行なうようにした、ICの高
温検査方法により、達成される。
れば、出力がオープンコレクタであってGND・Vou
t間の寄生ダイオードを備えた出力トランジスタを有す
る、ICにおいて、上記寄生ダイオードに電流を印加す
ることにより、該寄生ダイオードに発生する熱により、
IC全体を高温である所定温度に保持して、ICテスタ
により該ICの高温検査を行なうようにした、ICの高
温検査方法により、達成される。
【0006】本発明によるICの高温検査方法は、好ま
しくは、電流印加の前後にて、出力トランジスタのVF
を測定して、VFの差により、温度差を判定するように
なっている。
しくは、電流印加の前後にて、出力トランジスタのVF
を測定して、VFの差により、温度差を判定するように
なっている。
【0007】本発明によるICの高温検査方法は、好ま
しくは、先づ所定温度より僅かに高い温度まで上げた
後、所定温度に設定するようになっている。
しくは、先づ所定温度より僅かに高い温度まで上げた
後、所定温度に設定するようになっている。
【0008】
【作用】上記構成によれば、IC内の出力トランジスタ
の寄生トランジスタに電流を印加することによって、該
ICを直接に加熱するようにしたので、簡単な構成によ
り容易にICが高温に保持され得る。これにより、IC
の高温検査は、高温ハンドラや恒温槽を使用することな
く、常温検査で使用するICテスタを使用して、行なわ
れ得ることになる。
の寄生トランジスタに電流を印加することによって、該
ICを直接に加熱するようにしたので、簡単な構成によ
り容易にICが高温に保持され得る。これにより、IC
の高温検査は、高温ハンドラや恒温槽を使用することな
く、常温検査で使用するICテスタを使用して、行なわ
れ得ることになる。
【0009】電流印加の前後にて、出力トランジスタの
VFを測定して、VFの差により、温度差を判定する場
合には、出力トランジスタのVFの温度依存性を利用し
て、ICテスタを使用したVF測定により、ICの温度
が正確に検出され得るので、印加電流の電流値,及び印
加時間を適宜に選択することにより、ICが所定温度に
設定され得ることになる。
VFを測定して、VFの差により、温度差を判定する場
合には、出力トランジスタのVFの温度依存性を利用し
て、ICテスタを使用したVF測定により、ICの温度
が正確に検出され得るので、印加電流の電流値,及び印
加時間を適宜に選択することにより、ICが所定温度に
設定され得ることになる。
【0010】先づ所定温度より僅かに高い温度まで上げ
た後、所定温度に設定する場合には、高温検査時におけ
る所定温度の安定性が向上するので、正確な高温検査が
行なわれ得ることになる。
た後、所定温度に設定する場合には、高温検査時におけ
る所定温度の安定性が向上するので、正確な高温検査が
行なわれ得ることになる。
【0011】
【実施例】以下、図面に示した実施例に基づいて、本発
明を詳細に説明する。図1は、本発明による方法の一実
施例を適用したICを示している。即ち、図1におい
て、IC10は、全体が公知の構成であって、出力トラ
ンジスタ11が、コレクタが出力端子Voutに接続さ
れていると共に、エミッタがGNDに接続されている。
これにより、出力がオープンコレクタであって、GND
・Vout間に寄生ダイオードを備えるように構成され
ている。
明を詳細に説明する。図1は、本発明による方法の一実
施例を適用したICを示している。即ち、図1におい
て、IC10は、全体が公知の構成であって、出力トラ
ンジスタ11が、コレクタが出力端子Voutに接続さ
れていると共に、エミッタがGNDに接続されている。
これにより、出力がオープンコレクタであって、GND
・Vout間に寄生ダイオードを備えるように構成され
ている。
【0012】ここで、上記出力トランジスタ11は、具
体的には、半導体基板上にて、図2に示すように構成さ
れている。即ち、図2において、出力トランジスタ11
は、p型基板12上に形成されたn+型埋込み層13
と、その上から基板12上に形成され且つ周囲のp型層
14により分離されたn型層15と、該n型層15の表
面に形成されたp型拡散層16と、そして該p型拡散層
16及びn型層15の表面に形成されたn+型拡散層1
7,18とから構成されている。これにより、n+型層
18がVoutとして作用し、またp型層14がGND
として作用するようになっている。
体的には、半導体基板上にて、図2に示すように構成さ
れている。即ち、図2において、出力トランジスタ11
は、p型基板12上に形成されたn+型埋込み層13
と、その上から基板12上に形成され且つ周囲のp型層
14により分離されたn型層15と、該n型層15の表
面に形成されたp型拡散層16と、そして該p型拡散層
16及びn型層15の表面に形成されたn+型拡散層1
7,18とから構成されている。これにより、n+型層
18がVoutとして作用し、またp型層14がGND
として作用するようになっている。
【0013】このように構成されたIC10において、
図1の出力端子Vout・アースGND間に、電流Iを
印加する。即ち、図2におけるn+型層18及びp型層
14間に、電流Iを印加すると、出力トランジスタ11
の寄生ダイオードに電流Iが流れることになり、これに
よって該寄生ダイオードが発熱することになる。
図1の出力端子Vout・アースGND間に、電流Iを
印加する。即ち、図2におけるn+型層18及びp型層
14間に、電流Iを印加すると、出力トランジスタ11
の寄生ダイオードに電流Iが流れることになり、これに
よって該寄生ダイオードが発熱することになる。
【0014】この場合、発熱によるIC10の温度上昇
によって、出力トランジスタのVFは、例えば−2mV
/℃の温度依存性を有している。従って、電流印加前後
の出力トランジスタのVFを測定することにより、この
VFの差に基づいて、上昇温度が検出され得ることにな
る。
によって、出力トランジスタのVFは、例えば−2mV
/℃の温度依存性を有している。従って、電流印加前後
の出力トランジスタのVFを測定することにより、この
VFの差に基づいて、上昇温度が検出され得ることにな
る。
【0015】かくして、IC10の検査,即ち常温検査
及び高温検査を行なう場合には、例えば以下のようにし
て検査が行なわれる。
及び高温検査を行なう場合には、例えば以下のようにし
て検査が行なわれる。
【0016】即ち、先づ常温にて、ICテスタを使用し
て、IC10の耐圧テスト,オフ時消費電流,オン時消
費電流等を行なった後、供給電圧を徐々に(例えば1m
s/50mV)降下させて、オフ検出電圧を測定し、さ
らに供給電圧を徐々に(例えば2ms/20mV)上昇
させて、オン検出電圧を測定する。以上で、常温検査が
終了する。
て、IC10の耐圧テスト,オフ時消費電流,オン時消
費電流等を行なった後、供給電圧を徐々に(例えば1m
s/50mV)降下させて、オフ検出電圧を測定し、さ
らに供給電圧を徐々に(例えば2ms/20mV)上昇
させて、オン検出電圧を測定する。以上で、常温検査が
終了する。
【0017】その後、出力トランジスタ11のVF測定
を行ない、該出力トランジスタ11の寄生トランジスタ
に対して、例えば1500msの間、550mAの電流
を流す。これにより、例えば室温が20℃の場合、75
℃程度までIC10が加熱されることになる。
を行ない、該出力トランジスタ11の寄生トランジスタ
に対して、例えば1500msの間、550mAの電流
を流す。これにより、例えば室温が20℃の場合、75
℃程度までIC10が加熱されることになる。
【0018】ここで、再度上記VF測定を行なう。これ
により、75℃の温度上昇の場合には、−150mVが
測定されることになる。その後、高温検査の温度である
60℃、即ちVFが−120mVになるまで、IC10
が冷めるのを待つ。
により、75℃の温度上昇の場合には、−150mVが
測定されることになる。その後、高温検査の温度である
60℃、即ちVFが−120mVになるまで、IC10
が冷めるのを待つ。
【0019】IC10が60℃まで冷めたら、ICテス
タを使用して、高温検査、例えばリーク電流,出力電流
の検査を行なう。その後、再度VF測定を行なって、高
温測定中にIC10の温度がどの程度下がったかを確認
する。
タを使用して、高温検査、例えばリーク電流,出力電流
の検査を行なう。その後、再度VF測定を行なって、高
温測定中にIC10の温度がどの程度下がったかを確認
する。
【0020】かくして、常温検査及び高温検査が、連続
的に、ICテスタを使用して、容易に且つ短時間で行な
われ得ることになる。
的に、ICテスタを使用して、容易に且つ短時間で行な
われ得ることになる。
【0021】上述した実施例においては、IC10は、
高温検査において、先づ75℃まで加熱された後、高温
検査の温度である60℃まで冷却されるようになってい
るが、これは、高温検査時の温度安定性を確保するため
であり、最初からIC10は60℃まで加熱されるよう
にしてもよいことは明らかである。
高温検査において、先づ75℃まで加熱された後、高温
検査の温度である60℃まで冷却されるようになってい
るが、これは、高温検査時の温度安定性を確保するため
であり、最初からIC10は60℃まで加熱されるよう
にしてもよいことは明らかである。
【0022】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、I
C内の出力トランジスタの寄生トランジスタに電流を印
加することによって、該ICを直接に加熱するようにし
たので、簡単な構成により容易にICが高温に保持され
得る。これにより、ICの高温検査は、高温ハンドラや
恒温槽を使用することなく、常温検査で使用するICテ
スタを使用して、行なわれ得ることになる。従って、I
Cの常温検査に続いて、連続的にICの高温検査が行な
われ得ることから、ICの検査時間が短縮され得ると共
に、コストが低減され得ることになる。
C内の出力トランジスタの寄生トランジスタに電流を印
加することによって、該ICを直接に加熱するようにし
たので、簡単な構成により容易にICが高温に保持され
得る。これにより、ICの高温検査は、高温ハンドラや
恒温槽を使用することなく、常温検査で使用するICテ
スタを使用して、行なわれ得ることになる。従って、I
Cの常温検査に続いて、連続的にICの高温検査が行な
われ得ることから、ICの検査時間が短縮され得ると共
に、コストが低減され得ることになる。
【0023】電流印加の前後にて、出力トランジスタの
VFを測定して、VFの差により、上昇温度差を判定す
る場合には、出力トランジスタのVFの温度依存性を利
用して、ICテスタを使用したVF測定により、ICの
温度上昇が正確に検出され得るので、印加電流の電流
値,及び印加時間を適宜に選択することにより、ICが
所定温度に設定され得ることになる。
VFを測定して、VFの差により、上昇温度差を判定す
る場合には、出力トランジスタのVFの温度依存性を利
用して、ICテスタを使用したVF測定により、ICの
温度上昇が正確に検出され得るので、印加電流の電流
値,及び印加時間を適宜に選択することにより、ICが
所定温度に設定され得ることになる。
【0024】先づ所定温度より僅かに高い温度まで上げ
た後、所定温度に設定する場合には、高温検査時におけ
る所定温度の安定性が向上するので、正確な高温検査が
行なわれ得ることになる。
た後、所定温度に設定する場合には、高温検査時におけ
る所定温度の安定性が向上するので、正確な高温検査が
行なわれ得ることになる。
【0025】かくして、本発明によれば、簡単な構成に
より、コストが低減され得ると共に、検査全体に要する
時間が短縮され得るようにした、極めて優れたICの高
温検査方法が提供され得ることになる。
より、コストが低減され得ると共に、検査全体に要する
時間が短縮され得るようにした、極めて優れたICの高
温検査方法が提供され得ることになる。
【図1】本発明によるICの高温検査方法の一実施例を
適用したICの等価回路図である。
適用したICの等価回路図である。
【図2】図1のICの出力トランジスタの具体的構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
10 IC 11 出力トランジスタ 12 p型基板 13 n+型埋込み層 14 p型層 15 n型層 16 p型拡散層 17 n+型拡散層 18 n+型拡散層 Vout 出力端子 GND アース
Claims (3)
- 【請求項1】 出力がオープンコレクタであってGND
・Vout間の寄生ダイオードを備えた出力トランジス
タを有する、ICにおいて、 上記寄生ダイオードに電流を印加することにより、該寄
生ダイオードに発生する熱により、IC全体を高温であ
る所定温度に保持して、ICテスタにより該ICの高温
検査を行なうようにした、ICの高温検査方法。 - 【請求項2】 電流印加の前後にて、出力トランジスタ
のVFを測定して、VFの差により、温度差を判定する
ことを特徴とする、請求項1に記載のICの高温検査方
法。 - 【請求項3】 先づ所定温度より僅かに高い温度まで上
げた後、所定温度に設定するようにしたことを特徴とす
る、請求項1または2に記載のICの高温検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6261872A JPH08101250A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Icの高温検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6261872A JPH08101250A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Icの高温検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08101250A true JPH08101250A (ja) | 1996-04-16 |
Family
ID=17367936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6261872A Pending JPH08101250A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Icの高温検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08101250A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021128065A (ja) * | 2020-02-13 | 2021-09-02 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の試験方法 |
-
1994
- 1994-09-30 JP JP6261872A patent/JPH08101250A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021128065A (ja) * | 2020-02-13 | 2021-09-02 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の試験方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6456104B1 (en) | Method and structure for in-line monitoring of negative bias temperature instability in field effect transistors | |
Schroder | Contactless surface charge semiconductor characterization | |
US7052179B2 (en) | Temperature detector | |
TW201248171A (en) | A circuit used for indicating process corner and extreme temperature | |
US6726361B2 (en) | Arrangement for measuring the temperature of an electronic circuit | |
Yang et al. | A novel on-line IGBT junction temperature measurement method based on on-state voltage drop | |
US6188234B1 (en) | Method of determining dielectric time-to-breakdown | |
Polonsky et al. | Photon emission microscopy of inter/intra chip device performance variations | |
Shih et al. | High sensitive and wide detecting range MOS tunneling temperature sensors for on-chip temperature detection | |
JPH08101250A (ja) | Icの高温検査方法 | |
JP2009109314A (ja) | 半導体装置および半導体装置の検査方法 | |
Boit et al. | Thermal Laser Stimulation of active devices in silicon-a quantitative FET parameter investigation | |
JP2006214976A (ja) | 半導体装置の検査方法および検査装置並びに半導体装置 | |
EP1610373A2 (en) | Method and apparatus for determining generation lifetime of product semiconductor wafers | |
JP2589876B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH05283620A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の試験方法 | |
Pogany et al. | Single-shot nanosecond thermal imaging of semiconductor devices using absorption measurements | |
Conti et al. | Noise sources identification in integrated circuits through correlation analysis | |
Klootwijk et al. | Photo carrier generation in bipolar transistors | |
JP2005055231A (ja) | Mosトランジスタのオン抵抗検査方法 | |
JP2001141782A (ja) | 半導体試験装置およびその試験方法 | |
Abe et al. | A Test Circuit for Statistical Evaluation of $ pn $ Junction Leakage Current and its Noise | |
JP2003133382A (ja) | 半導体故障解析方法及び半導体製造方法 | |
JP2001083017A (ja) | シリコン半導体の低温度測定方法、その低温度測定装置およびシリコン半導体 | |
Brahma et al. | Seebeck effect detection on biased device without OBIRCH distortion using FET readout |