JPH0798358A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
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- JPH0798358A JPH0798358A JP5243190A JP24319093A JPH0798358A JP H0798358 A JPH0798358 A JP H0798358A JP 5243190 A JP5243190 A JP 5243190A JP 24319093 A JP24319093 A JP 24319093A JP H0798358 A JPH0798358 A JP H0798358A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、バーンインテストを
効率良く行うことができる半導体装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device capable of efficiently performing a burn-in test.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に半導体製品の故障率は、図7に示
すように、バスタブ曲線と呼ばれる特性にしたがって推
移することが知られており、半導体製品の故障は初期故
障期、偶発故障期、摩耗故障期の3つの期間に分けるこ
とができる。このような故障特性を有する半導体装置に
おいて、バーンインテストは、半導体装置を高温、高電
圧下で動作させて初期故障期に事前に故障を発生させる
ことによって、市場での故障の発生率を低減させるもの
である。2. Description of the Related Art Generally, it is known that the failure rate of a semiconductor product changes according to a characteristic called a bathtub curve as shown in FIG. 7, and the failure of the semiconductor product is caused by an initial failure period, a random failure period and wear. It can be divided into three periods of failure. In the semiconductor device having such a failure characteristic, the burn-in test reduces the occurrence rate of the failure in the market by operating the semiconductor device at a high temperature and a high voltage to cause the failure in advance in the initial failure period. It is a thing.
【0003】このようなバーンインテストは、例えば図
8に示すようなシステムのバーンイン装置によって行わ
れる。Such a burn-in test is carried out, for example, by a burn-in device of a system as shown in FIG.
【0004】図8において、バーンインテスト装置は、
大きく分けて半導体装置を加熱する恒温槽及び主制御部
とからなる本体と、バーンイン(DUT)ボードから構
成されている。In FIG. 8, the burn-in test apparatus is
It is composed of a burn-in (DUT) board and a main body that is roughly divided into a thermostatic chamber for heating a semiconductor device and a main control unit.
【0005】このような装置において、バーンインテス
トを行う半導体装置をバーンイン(DUT)ボードに載
置して、半導体装置が載置されたバーンインボードを本
体の恒温槽に入れて内部を高温状態にすることにより半
導体装置を加熱した状態で、半導体装置を動作させるた
めの入力データとなるバーンインパターンを半導体装置
に印加して半導体装置に負荷をかけることによりバーン
インテストが行われる。このようにして、半導体装置の
バーンインテスを行い、初期故障期における不良な半導
体装置を除去するようにしている。In such an apparatus, a semiconductor device to be subjected to a burn-in test is placed on a burn-in (DUT) board, and the burn-in board on which the semiconductor device is placed is placed in a thermostatic chamber of the main body to bring the inside to a high temperature state. Thus, a burn-in test is performed by applying a burn-in pattern, which is input data for operating the semiconductor device, to the semiconductor device and applying a load to the semiconductor device while the semiconductor device is heated. In this way, the burn-in test of the semiconductor device is performed to remove the defective semiconductor device in the initial failure period.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来のバーンインテスト装置にあっては、半導体装置を
加熱するためのオーブン装置や恒温槽及び半導体装置を
制御するパルスジェネレータ等の構成が必要となり、装
置の大型化を招いていた。As described above,
In the conventional burn-in test apparatus, an oven apparatus for heating the semiconductor device, a thermostatic chamber, a pulse generator for controlling the semiconductor apparatus, and the like are required, which leads to an increase in size of the apparatus.
【0007】また、バーンインテスト装置の大きさか
ら、一度にバーンインテストできる半導体装置の数も制
限され、テストの効率が悪かった。Further, the size of the burn-in test device limits the number of semiconductor devices that can be burn-in tested at one time, resulting in poor test efficiency.
【0008】そこで、この発明は、上記に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、バーンインテ
ストを行う装置の小型化及び一度に多くの半導体装置の
バーンインテストを可能とする半導体装置を提供するこ
とにある。Therefore, the present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to reduce the size of a device for performing a burn-in test and to enable a burn-in test of many semiconductor devices at one time. To provide.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明は、バーンインテスト時に自己
発振して被テスト回路に活性化信号を連続的に自己供給
する活性化信号供給回路から構成される。In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 supplies an activation signal for self-oscillating during a burn-in test and continuously supplying an activation signal to a circuit under test. Composed of circuits.
【0010】請求項3記載の発明は、半導体チップをベ
ッド部に固定し、バーンインテスト時に電流が供給され
て発熱し半導体チップを加熱する抵抗性のペースト材か
らなる内部加熱手段を有してなる。According to a third aspect of the present invention, the semiconductor chip is fixed to the bed portion, and an internal heating means made of a resistive paste material is provided which heats the semiconductor chip by supplying heat during the burn-in test to heat the semiconductor chip. .
【0011】請求項4記載の発明は、直列又は並列に接
続されて、バーンインテスト時に電流が供給されて発熱
し半導体チップを加熱する複数のダイオードからなる内
部加熱手段を有してなる。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an internal heating means which is connected in series or in parallel and which is supplied with a current during the burn-in test to generate heat and heat the semiconductor chip.
【0012】請求項5記載の発明は、請求項1又は2記
載の半導体装置において、請求項3又は4記載の内部加
熱手段を有してなる。According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first or second aspect, the internal heating means according to the third or fourth aspect is provided.
【0013】[0013]
【作用】上記構成において、請求項1記載の発明は、バ
ーンインテスト時の入力データを半導体装置の内部で生
成して自己供給するようにしている。In the above structure, the invention according to the first aspect is arranged such that input data at the time of burn-in test is generated inside the semiconductor device and self-supplied.
【0014】請求項3記載の発明は、半導体チップをベ
ッド部に固定する抵抗性のペースト材に電流を流すこと
によって抵抗性のペースト材を発熱させて半導体装置を
加熱するようにしている。According to the third aspect of the present invention, a current is passed through the resistive paste material for fixing the semiconductor chip to the bed to heat the resistive paste material to heat the semiconductor device.
【0015】請求項4記載の発明は、半導体チップに形
成された複数のダイオードに電流を流すことによってダ
イオードを発熱させて半導体装置を加熱するようにして
いる。According to a fourth aspect of the present invention, the semiconductor device is heated by causing the diodes to generate heat by passing a current through the plurality of diodes formed on the semiconductor chip.
【0016】[0016]
【実施例】以下、図面を用いてこの発明の実施例を説明
する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0017】図1は請求項1記載の発明の一実施例に係
わる半導体装置の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the structure of a semiconductor device according to an embodiment of the invention described in claim 1. In FIG.
【0018】図1において、半導体装置は、4つのスキ
ャンフリップフロップ(F/F)1〜4からなるスキャ
ンテスト回路に帰還ループが設けられてバーンインテス
時にテストデータを生成する回路を備えて構成されてい
る。それぞれのスキャンF/F1〜4はお互いのスキャ
ン入力(SI)とスキャン出力(SO)が接続されて直
列接続されている。In FIG. 1, the semiconductor device comprises a scan test circuit composed of four scan flip-flops (F / F) 1 to 4 and a feedback loop provided in the scan test circuit to generate test data during burn-in test. ing. The respective scan F / Fs 1 to 4 are connected in series by connecting their scan inputs (SI) and scan outputs (SO).
【0019】このように直列接続されたスキャンF/F
1〜4は、入力CPが“1”、入力Aが“0”、入力B
が“1”のスキャンモードでスキャン入力(SI)に与
えられたデータがスキャン出力(SO)と出力Qにその
まま出力される。このようなスキャンモード状態で、入
力TESTを“0”にすると、最終段のスキャンF/F
4のスキャン出力は帰還ループを介して反転され初段の
スキャンF/F1のスキャン入力に与えられる。すなわ
ち、スキャンモード状態で入力TESTを“0”にする
と、4つのスキャンF/F1〜4の閉ループ内で“0”
と“1”が交互に出力されることになる。Scan F / Fs connected in series in this way
1 to 4, the input CP is "1", the input A is "0", the input B
In the scan mode of "1", the data given to the scan input (SI) is directly output to the scan output (SO) and the output Q. When the input TEST is set to "0" in such a scan mode state, the scan F / F of the final stage is
The scan output of No. 4 is inverted via the feedback loop and applied to the scan input of the first-stage scan F / F1. That is, when the input TEST is set to “0” in the scan mode state, “0” is set in the closed loop of the four scan F / Fs 1 to 4.
And "1" are output alternately.
【0020】このようにして自己生成された“0”と
“1”の値は、バーンインテストの活性化信号としてそ
れぞれのスキャンF/F1〜4に接続されて被テスト回
路となる内部組み合わせ回路5,6,7に与えられ、そ
れぞれの内部組み合わせ回路5,6,7が活性化され
る。これにより、外部からクロック信号を供給すること
なく被テストを活性化してバーンインテストを行うこと
が可能となり、バーンインテスト装置の構成を小型にす
ることができる。The self-generated values of "0" and "1" are connected to the respective scan F / Fs 1 to 4 as activation signals for the burn-in test, and the internal combinational circuit 5 becomes a circuit to be tested. , 6, 7, and each internal combination circuit 5, 6, 7 is activated. As a result, the burn-in test can be performed by activating the device under test without supplying a clock signal from the outside, and the burn-in test device can be downsized.
【0021】なお、スキャンF/F1〜4が直列接続さ
れて帰還ループが設けられたスキャンチェーンが図2に
示すように例えば3種ある場合であっても、入力TES
Tを“0”にすることによってそれぞれのスキャンチェ
ーンにおいて“0”と“1”の値が自己生成され、バー
ンインテストの活性化信号として被テスト回路に与えら
れ、上述した実施例と同様な効果を得ることができる。Even if there are, for example, three scan chains in which the scan F / Fs 1 to 4 are connected in series and a feedback loop is provided as shown in FIG.
By setting T to "0", the values of "0" and "1" are self-generated in each scan chain and given to the circuit under test as an activation signal of the burn-in test, and the same effect as the above-mentioned embodiment is obtained. Can be obtained.
【0022】図3は請求項3記載の発明の一実施例に係
わる半導体装置の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the structure of a semiconductor device according to an embodiment of the invention described in claim 3.
【0023】図3において、半導体チップ8が抵抗性の
ペースト材9によりベッド部10に載置固定され、端子
12を介して半導体チップ8に電源電位を印化し端子1
1及び可変抵抗Rvを介してベッド部10に接地電位を
印化することにより抵抗性のペースト材9に電流を流し
て発熱させ、半導体チップ8が加熱されてバーンインテ
ストが行われる。抵抗性のペースト材9の発熱量は、可
変抵抗Rvにより抵抗性のペースト材9に供給される電
流量を調節することにより制御される。なお、通常動作
時には、端子4を電源電位とすることによりベッド部1
0に電流を流さないようにしている。In FIG. 3, the semiconductor chip 8 is mounted and fixed on the bed portion 10 by the resistive paste material 9, and the power supply potential is printed on the semiconductor chip 8 via the terminal 12 and the terminal 1
By impressing the ground potential to the bed portion 10 via 1 and the variable resistor Rv, a current is passed through the resistive paste material 9 to generate heat, and the semiconductor chip 8 is heated to perform the burn-in test. The heat generation amount of the resistive paste material 9 is controlled by adjusting the amount of current supplied to the resistive paste material 9 by the variable resistor Rv. In the normal operation, the terminal 4 is set to the power supply potential so that the bed 1
The current is not passed to 0.
【0024】このような実施例では、半導体チップ8の
温度を上げるオーブン等の加熱装置は不要となり、バー
ンインテスト装置を小型化することができる。In such an embodiment, a heating device such as an oven for raising the temperature of the semiconductor chip 8 is unnecessary, and the burn-in test device can be downsized.
【0025】図4及び図5は請求項4記載の発明の一実
施例に係わる半導体装置の構成を示す図である。FIG. 4 and FIG. 5 are views showing the structure of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【0026】図4において、すべての出力バッファに隣
接して半導体チップを加熱するダイオード13をそれぞ
れ形成し、このようなダイオード13を図5に示すよう
に半導体チップ上で並列に接続し、ダイオード13の共
通接続されたアノード端子に内部端子14及び可変抵抗
Rvを介して電源電位を印化し、ダイオード13の共通
接続されたカソード端子に内部端子15を介して接地電
位を印化することによりすべてのダイオード13に電流
を流して発熱させ、半導体チップ8が加熱されてバーン
インテストが行われる。ダイオード13の発熱量は、可
変抵抗Rvによりダイオード13に供給される電流量を
調節することにより制御される。なお、通常動作時に
は、端子14に接地電位、端子15に電源電位がそれぞ
れ印化されるようにして、それぞれのダイオード13に
電流を流さないようにしている。In FIG. 4, diodes 13 for heating the semiconductor chips are respectively formed adjacent to all the output buffers, and such diodes 13 are connected in parallel on the semiconductor chips as shown in FIG. Of the power supply potential is applied to the commonly connected anode terminal of the diode 13 via the internal terminal 14 and the variable resistor Rv, and the ground potential is applied to the commonly connected cathode terminal of the diode 13 via the internal terminal 15. A current is passed through the diode 13 to generate heat, the semiconductor chip 8 is heated, and a burn-in test is performed. The heat generation amount of the diode 13 is controlled by adjusting the amount of current supplied to the diode 13 by the variable resistor Rv. In the normal operation, the terminal 14 is imprinted with the ground potential and the terminal 15 is imprinted with the power supply potential so that no current flows through each diode 13.
【0027】このような実施例にあっても、半導体チッ
プの温度を上げるオーブン等の加熱装置は不要となり、
バーンインテスト装置を小型化することができる。Even in such an embodiment, a heating device such as an oven for raising the temperature of the semiconductor chip becomes unnecessary,
The burn-in test device can be downsized.
【0028】図6は請求項4記載の発明の他の実施例に
係わる半導体装置の構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing the structure of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
【0029】図6に示す実施例の特徴とするところは、
図4に示すダイオード13を直列接続し、一方の終端の
ダイオード13のカソード端子に内部端子14を介して
接地電位を与え、他方の終端のダイオード13のアノー
ド端子に内部端子15及び可変抵抗Rvを介して電源電
位を与えて、それぞれのダイオード13を発熱させるよ
うにしたことにある。なお、通常動作時には、端子14
に電源電位、端子15に接地電位がそれぞれ印化される
ようにして、それぞれのダイオード13に電流を流さな
いようにしている。The feature of the embodiment shown in FIG. 6 is that
The diodes 13 shown in FIG. 4 are connected in series, the ground potential is applied to the cathode terminal of the diode 13 at one end through the internal terminal 14, and the internal terminal 15 and the variable resistor Rv are connected to the anode terminal of the diode 13 at the other end. The power supply potential is applied via the above to cause each diode 13 to generate heat. Note that during normal operation, the terminal 14
The power supply potential and the ground potential are printed on the terminal 15 so that no current flows through each diode 13.
【0030】このような実施例にあっても、半導体チッ
プの温度を上げるオーブン等の加熱装置は不要となり、
バーンインテスト装置を小型化することができる。Even in such an embodiment, a heating device such as an oven for raising the temperature of the semiconductor chip becomes unnecessary,
The burn-in test device can be downsized.
【0031】なお、図1又は図2に示す実施例と図3,
図5又は図6に示す実施例を組み合わせるようにしても
良く、バーンインテスト装置をより一層小型化して従来
に比べて一度により一層多くの半導体装置をバーンイン
テストすることが可能となる。The embodiment shown in FIG. 1 or 2 and FIG.
The embodiment shown in FIG. 5 or FIG. 6 may be combined, and the burn-in test apparatus can be further downsized, and more semiconductor devices can be burned-in test at a time as compared with the conventional one.
【0032】[0032]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によれば、バーンインテスト時の活性化信号を半導体
装置の内部で生成して自己供給するようにしているの
で。外部から活性化信号を供給することなく被テスト回
路が活性化され、バーンインテスト装置を小型化して従
来に比べて一度に多くの半導体装置をバーンインテスト
することが可能となる。As described above, according to the first aspect of the invention, the activation signal for the burn-in test is generated inside the semiconductor device and self-supplied. The circuit under test is activated without supplying an activation signal from the outside, so that the burn-in test apparatus can be downsized and a larger number of semiconductor devices can be burn-in tested at a time as compared with the conventional case.
【0033】請求項3記載の発明によれば、半導体チッ
プをベッド部に固定する抵抗性のペースト材に電流を流
すことによって抵抗性のペースト材を発熱させて半導体
装置を加熱し、請求項4記載の発明によれば、半導体チ
ップに形成された複数のダイオードに電流を流すことに
よってダイオードを発熱させて半導体装置を加熱するよ
うにしたので、バーンインテスト装置における加熱装置
が不要となり、バーンインテスト装置を小型化して従来
に比べて一度に多くの半導体装置をバーンインテストす
ることが可能となる。According to the third aspect of the present invention, by applying a current to the resistive paste material for fixing the semiconductor chip to the bed portion, the resistive paste material is heated to heat the semiconductor device. According to the invention described above, since the diodes are heated to heat the semiconductor device by supplying a current to the plurality of diodes formed on the semiconductor chip, the heating device in the burn-in test device is not required, and the burn-in test device is not required. It becomes possible to miniaturize the device and burn-in test a larger number of semiconductor devices at a time as compared with the conventional one.
【0034】請求項5記載の発明によれば、請求項3記
載の発明と請求項4記載の発明とを組み合わせるように
したので、バーンインテスト装置をより一層小型化して
従来に比べて一度により一層多くの半導体装置をバーン
インテストすることが可能となる。According to the invention of claim 5, the invention of claim 3 and the invention of claim 4 are combined, so that the burn-in test apparatus is further miniaturized, and the burn-in test apparatus is more compact than the conventional one. It becomes possible to perform a burn-in test on many semiconductor devices.
【図1】請求項1記載の発明の一実施例に係わる半導体
装置の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the invention as set forth in claim 1;
【図2】請求項1記載の発明の他の実施例に係わる半導
体装置の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device according to another embodiment of the invention as set forth in claim 1;
【図3】請求項3記載の発明の一実施例に係わる半導体
装置の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図4】請求項4記載の発明の一実施例に係わる半導体
装置の構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the invention as set forth in claim 4;
【図5】請求項4記載の発明の一実施例に係わる半導体
装置の構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the invention as set forth in claim 4;
【図6】請求項4記載の発明の他の実施例に係わる半導
体装置の構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device according to another embodiment of the invention as set forth in claim 4;
【図7】半導体装置の故障率の時間的経過を示す図であ
る。FIG. 7 is a diagram showing a time course of a failure rate of a semiconductor device.
【図8】従来のバーンインテスト装置の構成を示す図で
ある。FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a conventional burn-in test apparatus.
1〜4 スキャンF/F 5〜7 内部組み合わせ回路 8 半導体チップ 9 抵抗性のペースト材 10 ベッド部 11,12,14,15 端子 13 ダイオード 1 to 4 scan F / F 5 to 7 internal combination circuit 8 semiconductor chip 9 resistive paste material 10 bed portion 11, 12, 14, 15 terminal 13 diode
Claims (5)
スト回路に活性化信号を連続的に自己供給する活性化信
号供給回路を有することを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device comprising an activation signal supply circuit that self-oscillates during a burn-in test and continuously supplies an activation signal to a circuit under test.
テスト以外のテスト時に、被テスト回路に供給されるテ
ストデータがスキャン入出力されるフリップフロップ回
路群からなることを特徴とする請求項1記載の半導体装
置。2. The activation signal supply circuit comprises a flip-flop circuit group for scanning and inputting test data supplied to a circuit under test during a test other than a burn-in test. Semiconductor device.
ンインテスト時に電流が供給されて発熱し半導体チップ
を加熱する抵抗性のペースト材からなる内部加熱手段を
有することを特徴とする半導体装置。3. A semiconductor device, comprising a semiconductor chip fixed to a bed portion, and having an internal heating means made of a resistive paste material for heating the semiconductor chip by supplying heat during a burn-in test to heat the semiconductor chip.
テスト時に電流が供給されて発熱し半導体チップを加熱
する複数のダイオードからなる内部加熱手段を有するこ
とを特徴とする半導体装置。4. A semiconductor device comprising an internal heating means which is connected in series or in parallel and which is supplied with a current during a burn-in test to generate heat and heat a semiconductor chip.
することを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装
置。5. The semiconductor device according to claim 1, further comprising an internal heating unit according to claim 3 or 4.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5243190A JPH0798358A (en) | 1993-09-29 | 1993-09-29 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5243190A JPH0798358A (en) | 1993-09-29 | 1993-09-29 | Semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0798358A true JPH0798358A (en) | 1995-04-11 |
Family
ID=17100174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5243190A Pending JPH0798358A (en) | 1993-09-29 | 1993-09-29 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0798358A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1993
- 1993-09-29 JP JP5243190A patent/JPH0798358A/en active Pending
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