JPH0794677B2 - 洗浄剤 - Google Patents
洗浄剤Info
- Publication number
- JPH0794677B2 JPH0794677B2 JP18442392A JP18442392A JPH0794677B2 JP H0794677 B2 JPH0794677 B2 JP H0794677B2 JP 18442392 A JP18442392 A JP 18442392A JP 18442392 A JP18442392 A JP 18442392A JP H0794677 B2 JPH0794677 B2 JP H0794677B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- butyl ether
- cfc
- mtbe
- cleaning agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/43—Solvents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄剤、殊にプリント回
路基板、電子部品ならびに精密機械部品などの洗浄剤に
関するものである。
路基板、電子部品ならびに精密機械部品などの洗浄剤に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント回路基板、電子部品なら
びに精密機械部品などの洗浄剤としてクロロフルオロカ
ーボン（以下、「フロン」という）が用いられており、
特に、適度の洗浄力を有するとともに、不燃性、低毒
性、安定性ならびに電気絶縁性に優れ、沸点、表面張力
ならびに蒸発潜熱が低いエタン系のトリクロロトリフル
オロエタン（以下、「ＣＦＣ−１１３」という）が多用
されてきた。
びに精密機械部品などの洗浄剤としてクロロフルオロカ
ーボン（以下、「フロン」という）が用いられており、
特に、適度の洗浄力を有するとともに、不燃性、低毒
性、安定性ならびに電気絶縁性に優れ、沸点、表面張力
ならびに蒸発潜熱が低いエタン系のトリクロロトリフル
オロエタン（以下、「ＣＦＣ−１１３」という）が多用
されてきた。
【０００３】ところが、ＣＦＣ−１１３は安定性がきわ
めて高く地表で放出されたものの殆どが分解されること
なくそのままの状態で対流圏に滞留し、これが次第に成
層圏に達すると、太陽からの強い紫外線によって光分解
して塩素原子（Ｃｌ）を放出する。
めて高く地表で放出されたものの殆どが分解されること
なくそのままの状態で対流圏に滞留し、これが次第に成
層圏に達すると、太陽からの強い紫外線によって光分解
して塩素原子（Ｃｌ）を放出する。
【０００４】放出された塩素原子（Ｃｌ）が成層圏内の
オゾン分子と反応してオゾン分子を分解して酸素分子に
変換させる。
オゾン分子と反応してオゾン分子を分解して酸素分子に
変換させる。
【０００５】従って、成層圏内のオゾン層にオゾンホー
ルが形成されて太陽から過度の紫外線が地表に照射さ
れ、その結果、皮膚ガンの増加や生体系の変化などが心
配され、フロンの使用禁止が各国で採択されている。
ルが形成されて太陽から過度の紫外線が地表に照射さ
れ、その結果、皮膚ガンの増加や生体系の変化などが心
配され、フロンの使用禁止が各国で採択されている。
【０００６】そこで、例えばテルペンなどを主剤とした
成層圏内のオゾン層を破壊する心配のない代替品が市販
されているが、引火性が強く防災面で不備であったり、
ＣＦＣ−１１３と同様な充分な洗浄効果を得ることが困
難である、という問題があった。
成層圏内のオゾン層を破壊する心配のない代替品が市販
されているが、引火性が強く防災面で不備であったり、
ＣＦＣ−１１３と同様な充分な洗浄効果を得ることが困
難である、という問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来のＣＦＣ−１１３からなる洗浄剤の代
替品は防災面で不備であったり、充分な洗浄効果を有し
ていない、という点である。
する課題は、従来のＣＦＣ−１１３からなる洗浄剤の代
替品は防災面で不備であったり、充分な洗浄効果を有し
ていない、という点である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明である洗浄剤は、
メチル第三ブチルエーテルの油水中型乳濁液（エマルジ
ョン）を含む構成、更に、前記構成において界面活性剤
を含む構成を有し、ＣＦＣ−１１３の代替品としてきわ
めて有効な洗浄剤を提供する、という目的を達成する。
メチル第三ブチルエーテルの油水中型乳濁液（エマルジ
ョン）を含む構成、更に、前記構成において界面活性剤
を含む構成を有し、ＣＦＣ−１１３の代替品としてきわ
めて有効な洗浄剤を提供する、という目的を達成する。
【０００９】本発明である洗浄剤中のメチル第三ブチル
エーテル（ＭＴＢＥ）の含有量は１０〜４０％程度（好
ましくは１０〜２５％）である。含有量が１０％以下で
はメチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）が少ないため
に洗浄効果が充分でなく、４０％を越えると粘度が高く
なって流動性が低下するため充分な洗浄効果が得られな
いためである。
エーテル（ＭＴＢＥ）の含有量は１０〜４０％程度（好
ましくは１０〜２５％）である。含有量が１０％以下で
はメチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）が少ないため
に洗浄効果が充分でなく、４０％を越えると粘度が高く
なって流動性が低下するため充分な洗浄効果が得られな
いためである。
【００１０】本発明に用いられる界面活性剤としては、
例えば多価アルコール型、ポリエチレングリコール型の
非イオン界面活性剤が好ましく、親水性−疎水性バラン
ス（ＨＬＢ値）を９．０前後に調整するとよい。
例えば多価アルコール型、ポリエチレングリコール型の
非イオン界面活性剤が好ましく、親水性−疎水性バラン
ス（ＨＬＢ値）を９．０前後に調整するとよい。
【００１１】また、本発明である洗浄剤は例えば通常の
乳濁液を製造する際に用いられる可溶化反転法を用いて
製造することができる。
乳濁液を製造する際に用いられる可溶化反転法を用いて
製造することができる。
【００１２】そして、本発明である洗浄剤は溶解速度な
らびに溶解量が大きいメチル第三ブチルエーテル（ＭＴ
ＢＥ）が溶剤として作用することにより充分な洗浄効果
を発揮することができるばかりか、殊に油水中型の乳濁
液であるため引火性が低いとともに毒性もきわめて低く
安全性の面でも優れている。
らびに溶解量が大きいメチル第三ブチルエーテル（ＭＴ
ＢＥ）が溶剤として作用することにより充分な洗浄効果
を発揮することができるばかりか、殊に油水中型の乳濁
液であるため引火性が低いとともに毒性もきわめて低く
安全性の面でも優れている。
【００１３】また、可溶化剤とし界面活性剤を用いた場
合には、その界面活性剤の界面エネルギ減少作用によっ
て水溶性の汚れも簡単に溶解するため、水溶性の汚れに
対する洗浄効果も発揮することができるものである。
合には、その界面活性剤の界面エネルギ減少作用によっ
て水溶性の汚れも簡単に溶解するため、水溶性の汚れに
対する洗浄効果も発揮することができるものである。
【００１４】更に、メチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢ
Ｅ）は揮発性ではあるが、大気中で速やかに分解するた
めＣＦＣ−１１３のように成層圏内のオゾン層に作用す
るということもなく環境破壊の心配もない。
Ｅ）は揮発性ではあるが、大気中で速やかに分解するた
めＣＦＣ−１１３のように成層圏内のオゾン層に作用す
るということもなく環境破壊の心配もない。
【００１５】次に本発明である洗浄剤による洗浄評価の
結果を図１に示す。
結果を図１に示す。
【００１６】尚、評価は基板に塗ったハンダフラックス
表面における洗浄前と洗浄後の接触角を液滴法によって
測定しその差（Δθ）を以て行なった。
表面における洗浄前と洗浄後の接触角を液滴法によって
測定しその差（Δθ）を以て行なった。
【００１７】また、測定方法は以下の通りである。
【００１８】即ち、図２に示したように、上端に回転円
板１が固着されているとともに下端をモータ２の回転軸
に連結した回転軸３を上面を開放した容器体４の底部中
心にシリコンシール５を介して水密状態で貫通支持させ
た洗浄装置の前記回転円板１に、例えば２×５ｃｍ２程
度の平面矩形状であるベークライト製の基板表面に銅を
エッチングした配線基板６（住友ベークライト社製）を
載置して回転させ、基板６の上方に配置したシリンジ７
によりイソプロピルアルコールを溶媒としたフラックス
（商品名「ＳＯＬＤＥＲＩＴＥ Ｆ−２３０Ｖ」田村製
作所社製）０．５ｍｌを滴下して均一に添付し、この基
板６を真空デシケータを用いて乾燥し、そのフラックス
添付表面の接触角を液滴法により測定した。
板１が固着されているとともに下端をモータ２の回転軸
に連結した回転軸３を上面を開放した容器体４の底部中
心にシリコンシール５を介して水密状態で貫通支持させ
た洗浄装置の前記回転円板１に、例えば２×５ｃｍ２程
度の平面矩形状であるベークライト製の基板表面に銅を
エッチングした配線基板６（住友ベークライト社製）を
載置して回転させ、基板６の上方に配置したシリンジ７
によりイソプロピルアルコールを溶媒としたフラックス
（商品名「ＳＯＬＤＥＲＩＴＥ Ｆ−２３０Ｖ」田村製
作所社製）０．５ｍｌを滴下して均一に添付し、この基
板６を真空デシケータを用いて乾燥し、そのフラックス
添付表面の接触角を液滴法により測定した。
【００１９】次に、図３の三相状態図に示したように、
１０重量％の界面活性剤［モノオレイン酸酸化エチレン
縮合物（２０）ソルビタン（商品名「ＴＯ−１０」日光
ケミカルズ社製）、およびモノオレイン酸ソルビタン
（商品名「ＳＯ−１０」日光ケミカルズ社製）］のもの
でメチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）［東京化成工
業株式会社製］を０〜４０重量％の範囲で調整した各種
の油水中型乳濁液からなる本発明の洗浄液に基板６を浸
して１０分間超音波振動を与え、これを３０ｍｌの純水
でリンスした後に真空デシケータを用いて乾燥し、表面
の接触角を液滴法により測定した。
１０重量％の界面活性剤［モノオレイン酸酸化エチレン
縮合物（２０）ソルビタン（商品名「ＴＯ−１０」日光
ケミカルズ社製）、およびモノオレイン酸ソルビタン
（商品名「ＳＯ−１０」日光ケミカルズ社製）］のもの
でメチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）［東京化成工
業株式会社製］を０〜４０重量％の範囲で調整した各種
の油水中型乳濁液からなる本発明の洗浄液に基板６を浸
して１０分間超音波振動を与え、これを３０ｍｌの純水
でリンスした後に真空デシケータを用いて乾燥し、表面
の接触角を液滴法により測定した。
【００２０】尚、前記液滴法による接触角の測定は基板
６表面上にマイクロシリンジを用いて６μｌの液滴を１
０滴置いたものを測定し、その平均値を接触角値とし
た。
６表面上にマイクロシリンジを用いて６μｌの液滴を１
０滴置いたものを測定し、その平均値を接触角値とし
た。
【００２１】また、使用した洗浄剤はエマルジョン調整
装置、超音波破砕機（キネマティカ社製）、ホモジナイ
ザを用い反転乳化法により調整した。
装置、超音波破砕機（キネマティカ社製）、ホモジナイ
ザを用い反転乳化法により調整した。
【００２２】図１によれば、メチル第三ブチルエーテル
（ＭＴＢＥ）の含有量が６％（モル分率）を越えると
（好ましくは１０〜２５％（モル分率））洗浄前と洗浄
後の接触角の差（Δθ）が１０°以上となり大きな洗浄
効果を有していることが確認でき、殊にメチル第三ブチ
ルエーテル（ＭＴＢＥ）の含有量が２０％（モル分率）
ではＣＦＣ−１１３について前記測定方法によって測定
して求めた洗浄前と洗浄後の接触角の差（Δθ）１３．
３５°とほぼ同等以上の値を示し、充分に代替可能であ
ることが立証された。
（ＭＴＢＥ）の含有量が６％（モル分率）を越えると
（好ましくは１０〜２５％（モル分率））洗浄前と洗浄
後の接触角の差（Δθ）が１０°以上となり大きな洗浄
効果を有していることが確認でき、殊にメチル第三ブチ
ルエーテル（ＭＴＢＥ）の含有量が２０％（モル分率）
ではＣＦＣ−１１３について前記測定方法によって測定
して求めた洗浄前と洗浄後の接触角の差（Δθ）１３．
３５°とほぼ同等以上の値を示し、充分に代替可能であ
ることが立証された。
【００２３】尚、図１においてメチル第三ブチルエーテ
ル（ＭＴＢＥ）の含有量が２０％（モル分率）を越える
と洗浄前と洗浄後の接触角の差（Δθ）の値が低下する
傾向が確認されるが、これはメチル第三ブチルエーテル
（ＭＴＢＥ）の含有量の増加に伴ってエマルジョンの粘
度が徐々に高くなるために洗浄剤の基板６表面上での流
動性が悪くなるためであると考えられる。
ル（ＭＴＢＥ）の含有量が２０％（モル分率）を越える
と洗浄前と洗浄後の接触角の差（Δθ）の値が低下する
傾向が確認されるが、これはメチル第三ブチルエーテル
（ＭＴＢＥ）の含有量の増加に伴ってエマルジョンの粘
度が徐々に高くなるために洗浄剤の基板６表面上での流
動性が悪くなるためであると考えられる。
【００２４】また、ＣＦＣ−１１３の代替品として市販
されているリン酸イオンやアニオン系の界面活性剤を含
む洗浄剤［商品名「プラクリーンＨＮ」および「プラク
リーンＮＣＳ」日化精工株式会社製］について洗浄前と
洗浄後の接触角の差（Δθ）を前記測定方法を用いて求
めたが接触角の差（Δθ）を求めることができず、洗浄
後の基板表面に殆ど洗浄されていないフラックスが不均
一に付着している様子が肉眼で確認された。従って、こ
れらの洗浄剤はＣＦＣ−１１３の代替品としての機能を
有しているとは言いがたい。
されているリン酸イオンやアニオン系の界面活性剤を含
む洗浄剤［商品名「プラクリーンＨＮ」および「プラク
リーンＮＣＳ」日化精工株式会社製］について洗浄前と
洗浄後の接触角の差（Δθ）を前記測定方法を用いて求
めたが接触角の差（Δθ）を求めることができず、洗浄
後の基板表面に殆ど洗浄されていないフラックスが不均
一に付着している様子が肉眼で確認された。従って、こ
れらの洗浄剤はＣＦＣ−１１３の代替品としての機能を
有しているとは言いがたい。
【００２５】
【実施例】メチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）２０
重量％、界面活性剤（モノオレイン酸酸化エチレン縮合
物（２０）ソルビタン、モノオレイン酸ソルビタン）１
０重量％、水７０重量％を混合し、これを超音波破砕機
により処理した後ホモジナイザを用いて１３００ｒｐｍ
で１０分間回転させ乳化させて製品を得た。
重量％、界面活性剤（モノオレイン酸酸化エチレン縮合
物（２０）ソルビタン、モノオレイン酸ソルビタン）１
０重量％、水７０重量％を混合し、これを超音波破砕機
により処理した後ホモジナイザを用いて１３００ｒｐｍ
で１０分間回転させ乳化させて製品を得た。
【００２６】
【発明の効果】前記構成を有する本発明の洗浄剤はＣＦ
Ｃ−１１３と同等以上の充分な洗浄力を有し、主剤とな
るメチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）は大気中で速
やかに分解するためＣＦＣ−１１３のように成層圏内の
オゾン層に作用するということがなく環境破壊の心配も
なく、ＣＦＣ−１１３などの「フロン」からなる洗浄剤
の代替品として使用することが可能である。
Ｃ−１１３と同等以上の充分な洗浄力を有し、主剤とな
るメチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）は大気中で速
やかに分解するためＣＦＣ−１１３のように成層圏内の
オゾン層に作用するということがなく環境破壊の心配も
なく、ＣＦＣ−１１３などの「フロン」からなる洗浄剤
の代替品として使用することが可能である。
【００２７】また、油水中型の乳濁液であるため引火性
が低いとともに毒性もきわめて低く安全性の面でも優れ
ている。
が低いとともに毒性もきわめて低く安全性の面でも優れ
ている。
【００２８】更に、可溶化剤として界面活性剤を用いた
場合にはその界面活性剤の界面エネルギ減少作用によっ
て水溶性の汚れも簡単に溶解するため水溶性の汚れに対
する洗浄効果も発揮することができるものである。
場合にはその界面活性剤の界面エネルギ減少作用によっ
て水溶性の汚れも簡単に溶解するため水溶性の汚れに対
する洗浄効果も発揮することができるものである。
【図１】本発明の洗浄剤の実施例におけるメチル第三ブ
チルエーテル（ＭＴＢＥ）の含有量（モル分率）とハン
ダフラックス表面における洗浄前と洗浄後の接触角との
の差（Δθ）との関係図。
チルエーテル（ＭＴＢＥ）の含有量（モル分率）とハン
ダフラックス表面における洗浄前と洗浄後の接触角との
の差（Δθ）との関係図。
【図２】ハンダフラックス表面における接触角を測定す
るための測定装置の概略図。
るための測定装置の概略図。
【図３】メチル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）と界面
活性剤と水との三相状態図。
活性剤と水との三相状態図。
１ 回転円板 ２ モータ ３ 回転軸 ４ 容器体 ５ シリコンシール ６ 基板 ７ シリンジ
Claims (2)
- 【請求項１】 メチル第三ブチルエーテルの油水中型乳
濁液を含むことを特徴とする洗浄剤。 - 【請求項２】 界面活性剤を含むことを特徴とする請求
項１記載の洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18442392A JPH0794677B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18442392A JPH0794677B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 洗浄剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0649495A JPH0649495A (ja) | 1994-02-22 |
| JPH0794677B2 true JPH0794677B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=16152900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18442392A Expired - Lifetime JPH0794677B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0794677B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003002500A1 (fr) | 2001-06-28 | 2003-01-09 | Zeon Corporation | Solvants contenant des cycloalkyl alkyl ethers et procede de production de ces ethers |
-
1992
- 1992-06-18 JP JP18442392A patent/JPH0794677B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0649495A (ja) | 1994-02-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960326 |