JPH0788319A - 排気除害システム - Google Patents
排気除害システムInfo
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- JPH0788319A JPH0788319A JP5232743A JP23274393A JPH0788319A JP H0788319 A JPH0788319 A JP H0788319A JP 5232743 A JP5232743 A JP 5232743A JP 23274393 A JP23274393 A JP 23274393A JP H0788319 A JPH0788319 A JP H0788319A
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Abstract
気の除害を行う排気除害システムに関し、排気漏れのな
い、ダクトを効率的に配管できるコンパクトな直後排気
除害装置の提供、並びに、直後排気除害装置の各機能部
分毎に分割、且つ機能部分を標準化、コンポーネント化
することを目的とする。 【構成】 静止型混合器3、或いは多孔板4とその上流
に並流シャワー5とを有する複数孔ベンチュリスクラバ
6にて構成されてなる横型の並流湿式除害器1を排気ダ
クト2の途中に有するように、或いは、要処理排気導入
部30と有害成分除去部40とミスト除去部50とを構成部品
として有し、各構成部品の各々の入口と出口を丸型ダク
トで接続出来るよう標準部品化して、その中間に標準接
続で配管等をフレキシブルに挿入できるように構成す
る。
Description
出される排気の除害を行う排気除害システムに関する。
薬品による湿式プロセスにより処理を行う半導体製造装
置、及び、洗浄装置を多数用いており、その排気には有
害なものが少なくない。
される排気は、大気中に放出する前に有害成分を除去す
る除害を行う必要がある。半導体工場では、1ないし複
数の半導体製造設備等に対して、その直後で薬品別の高
濃度排気の除害を行い、その製造装置等の排気ダクトに
フレキシブルに組み込み、処理後の安全な排気を流すこ
とで、工場内の安全性を高めることが望まれている。
合、メンテナンス上の安全性を確保するために、連続操
業中は排気の通過する部分のメンテナンスフリー化を要
望されている。また、将来的には、処理後排気の循環再
利用も望まれている。
排気の風量及び、濃度が変化しても、除害機能の劣化を
できるだけ低減させることが望まれている。
て、60は排気除害システム、61は洗浄塔、62は排気ファ
ン、63は排気ダクト、64は廃液配管、65は廃液受槽、66
は廃液ポンプ、67は屋内洗浄塔である。
集中除害システムが一般的である。すなわち、図7
(a)に示すように、排気除害システム60では、洗浄塔
61を屋外に設置して、その直前に排気ファン62を設け、
半導体製造設備からの排気ダクト63を系統別に排気ファ
ン62まで配管して、負圧で引いていた。
から排出される廃液や排気の処理は、一般に1台、或い
は複数の半導体製造設備等に対して、有害排気は半導体
工場の屋外の排気ファン62で、排気ダクト63内を常に負
圧に保ちながら、屋外、或いは屋上の洗浄塔61まで導き
除害処理を行い、廃液は半導体工場地下の廃液受槽65よ
り工場敷地内の廃液処理装置に送って処理を行ってい
た。
濃度の排気を一緒にして集中除害すると、薬品の化学反
応による性状変化、希釈による処理濃度の低下を招く。
特に、半導体製造装置等では、汚染防止のための陰圧排
気、漏洩時のための非常排気等、常時はほとんど有害成
分を含まない排気が少なくない。
製造設備の場合には、その直後に、図7(b)に示すよ
うに、半導体工場内に小型の屋内洗浄塔67を設けて洗浄
処理を行った後、他の半導体製造装置等から屋外に排気
する排気ダクト63の一部に、挿入的に設置されている場
合が多かった。
の廃液受槽65からも排気をとって、室内に有害排気が漏
れないようにしていた。上記のように、これらの方法で
は、排気ダクト63内に常に有害排気が流れており、排気
ダクト63内が負圧でも、排気ダクト63の曲がり部で発生
する渦流で漏れが無いように点検する必要があった。
するため、排気ダクト63の本数が多くなり、メンテナン
ススペースも大きくなり、改善が望まれていた。半導体
工場において、このような排気除害システムをコンパク
トに効率的に配置するためには、小型の並流湿式除害器
を屋内に設置して、処理後の排気を集約してコンパクト
な排気ダクトで排出することが必要となる。
ンスを含めて、1.8m以下にすれば、設置場所の確保が
容易になる。そこで、排気ダクト断面積の2倍以内の断
面積で、排気ダクトの途中にコンパクトに設置でき、且
つ、空間速度2m/秒以上で処理できる小型の横型並流
湿式除害システムが要求されている。
で廃液配管64を削減することも、工場内のスペース有効
活用に貢献することから、地下ピット、若しくは、地下
ピット内にチャンバ兼用液槽を設けることが望まれてい
る。
処理排気の濃度が10ppm以下になると低下する。そこ
で、直後処理洗浄塔と、排気集約型の集中簡易除害装置
を組み合わせた除害システムも提案されている。
設置する半導体製造工場では、ダクトワークのコンパク
ト化を要求されるため、個々に複数の直後処理洗浄塔を
設置することを望まないこと、クリーンルーム内にメン
テナンス部を置くと、メンテナンスによる雰囲気汚染の
可能性があり問題があること、製造装置等の排気位置、
排水位置、メンテナンス位置が異なるため、装置近傍に
設置するためには、一品一様となり、設計・製作コスト
がかさみ、採用されにくい等の問題がある。
中するため、メンテナンスの方向、位置の制約が多く、
他の諸配管との取り合いにより決定することになる。そ
のため、最終仕様の決定が遅れたり、現場での変更が必
要になる。
は、他の諸配管を無理に曲げたり、メンテナンススペー
ス確保のため、工場スペースを増加させる結果を招き、
コストアップにつながり、直後除害装置の採用を拒む結
果となっている。
ます高まり、高度除害が必要なことから、排気種類別の
直後除害装置の設置は必要不可欠のものとなるため、半
導体等の製造装置の直後に設置可能な排気除害装置の出
現が切望されている。
では、製造装置からスクラバにつながる排気ダクトには
処理後の安全な排気を流すことで、工場内の安全性をよ
り高めることが必要であり、工場内の排気ダクトの曲が
り部分で発生する排気の渦流で、排気が排気ダクトから
漏れが無いかどうか点検する必要があった。
るため、ダクト本数が多くなり、メンテナンススペース
も大きくなり、改善も必要となる。更に、環境対策上、
大気放出排気の有害排気の除去率向上が必要であり、排
気量は一般工場と比べて半導体工場では数倍も多いの
で、低コストの湿式除害方式で高度処理が出来る高濃度
排気の直後排気除害システムが望まれる。
を設置する場合には、1台の対象製造設備には1ないし
数本の異なる排気ダクトが接続されており、その内、1
ないし数本の高濃度排気の排気ダクトに直後排気除害装
置を設置することになるため、対象製造設備の近傍に設
置すると、製造設備のメンテナンススペースと重なるこ
と、メンテナンスの必要なミスト除去部品はクリーンル
ーム内に置きたくないこと、ポンプ、ファン等の振動源
は装置から離したいこと、直後排気除害装置を製作して
持ち込むためには、装置との現場合わせが必要となるこ
と、直後排気除害装置を別の場所に置く場合、配管長が
長くなり、トータル圧損が増加して、ランニングコスト
が増加すること等の多くの問題を抱えており、直後排気
除害装置導入の障害となっている。
い排気ダクト内に収まるような小型の、横型並流湿式除
害器を開発して、排気漏れのない、排気ダクトを効率的
に配管できるコンパクトな直後排気除害装置の提供を目
指すとともに、第二に直後排気除害装置の各構成機能は
一体であるという概念を捨てて、直後排気除害装置の各
機能部分毎に分割、且つ機能部分を標準化して、JIS
フランジ等で標準接続できるようにし、コンポーネント
化して、その中間に標準接続で配管等をフレキシブルに
挿入できること、及び、各々の機能部分の軸方向の設置
角度を接続穴ピッチ間隔で自由に取り付けできるような
排気除害装置を提供する。
種類の排気除害システムの構成図である。図において、
1は並流湿式除害器、2は排気ダクト、3は静止型混合
器、4は多孔板、5は並流シャワー、6は複数孔ベンチ
ュリスクラバ、7は出口配管、8はチャンバ兼用液槽、
9はチャンバ部、10は液槽部、11はシーブトレイ、12は
排気ファン、13はポンプ、14は右捻りエレメント、15は
左捻りエレメント、16は補給液注入管、21は要処理排
気、22は製造装置、23は接続配管、24はサポート付き接
続管、25は充填筒配管、26はダクト、27はファン、28は
洗浄液、29は洗浄塔、30は要処理排気導入部、31は要処
理排気導入口、32は要処理排気出口、33は洗浄液ドレン
排出口、34は要処理排気測定口、35は洗浄液逆流防止
壁、40は有害成分除去部、41は洗浄液スプレーノズル、
42は点検窓、50はミスト除去部、51はミスト除去部品、
52は点検口、53は上流側圧損測定口、54は下流側圧損測
定口、55は処理済排気測定口、56はミストドレン口であ
る。
気除害システムは、図1(a)に示すように排気ダクト
2の2倍程度以内の断面積で処理可能な横型の並流湿式
除害器1を排気ダクト2の途中に取り付けることで、高
さを1.2m程度にコンパクト化でき、且つ、排気ファ
ン12を床置きにする場合は、横型の並流湿式除害器1を
排気ファン12と同じレベルに設置して、点検を容易にす
る。
0、有害成分除去部40、ミスト除去部50を各々独立の構
成部品としてコンパクトに標準化し他の諸配管との取り
合い条件、メンテナンス方向性を考慮して、各々の構成
部品の軸方向の設置角度を選択し、接続穴ピッチの間隔
で自由に現場施工できる排気除害装置を設置する。
ように、排気に含まれる有害成分を除去する排気除害シ
ステムであって、排気ダクト2の断面積の2倍以下の断
面積を有し、且つ、排気速度を2m/秒以上で処理で
き、排気に含まれる有害成分を洗浄水が並流して除害す
るため圧損効率が良く、小型化に適した横型の並流湿式
除害器1を, 該排気ダクト2の途中に有することによ
り、また、前記並流湿式除害器1は、図1(b)に示す
ように、静止型混合器3、或いは、図2(d)に示すよ
うに、多孔板4とその上流に並流シャワー5とを有する
複数孔ベンチュリスクラバ6にて構成されてなることに
より、また、図3(f)に示すように、前記排気ダクト
2を少なくとも2か所以上に分割し、前記並流湿式除害
器1をそれぞれの排気ダクト2に有し、且つ、前記並流
湿式除害器1の軸が一直線上に並ぶように配置されてな
ることにより、また、図1(b)に示すように、前記並
流湿式除害器1の出口配管7を通過風速0.2m/秒以下
に減速するチャンバ兼用液槽8に接続してなることによ
り、更に、図3(g)、或いは図3(h)に示すよう
に、前記チャンバ兼用液槽8のチャンバ部9と液槽部10
との間に、シーブトレイ11を有することにより達成され
る。
(j)に斜視図で示すように、排気に含まれる有害成分
を除去する排気除害システムであって、要処理排気導入
部30と、該要処理排気導入部30に連なる有害成分除去部
40と、該有害成分除去部40に連なるミスト除去部50とを
構成部品として有し、図4(k)にシステム例A、B、
Cで示すように、該要処理排気導入部30、該有害成分除
去部40、該ミスト除去部50各々の構成部品の入口と出口
を丸型ダクトで接続出来るよう標準部品化して、その中
間に標準接続で配管等をフレキシブルに挿入できる構
造、及び該要処理排気導入部30、該有害成分除去部40、
該ミスト除去部50各々の軸方向の設置角度を、該丸型ダ
クトの各々の接続フランジの接続穴ピッチの間隔で自由
に設置できる構造を有することにより、また、図5
(l)で示すように、前記排気除害システムの要処理排
気導入部30において、横から入る要処理排気導入口31と
横方向の要処理排気出口32とが直交しており、且つ、洗
浄液ドレン排水口33が要処理排気出口32と反対の下側に
設けられていること、洗浄液逆流防止壁35を要処理排気
導入口31と要処理排気出口32の間に備え、要処理排気導
入口31と要処理排気出口32の間で要処理排気21が洗浄液
28と接触しない部分に、要処理排気測定口34を備えてい
ることにより、また、図5(m)で示すように、前記排
気除外システムの要処理排気導入部30において、横から
入る要処理排気導入口31と横方向の要処理排気出口32と
が直行しており、且つ、洗浄液ドレン排水口33が下側に
設けられていること、洗浄液逆流防止壁35を要処理排気
導入口31と要処理排気出口32の間に備えていること、要
処理排気導入口31と要処理排気出口32との間で要処理排
気21が洗浄液28と接触しない部分に、要処理排気測定口
34を備えていることにより、また、図6(n)で示すよ
うに、前記排気除害システムの有害成分除去部40におい
て、下、または横方向から入る要処理排気21に向けた少
なくとも1個以上の洗浄液スプレーノズル41を備え、そ
の洗浄液スプレーノズル41のスプレー状態を点検するた
めの点検窓42を備えていることにより、また、図6
(o)で示すように、前記排気除外システムのミスト除
去部50において、ミスト除去部品51と、該ミスト除去部
品51を交換するための点検口52を備え、且つ、ミスト除
去部品51の上流側に上流側圧損測定口53、下流側に下流
側圧損測定口54と、処理済排気測定口55とを備えている
ことにより、また、図6(p)で示すように、前記排気
除害システムのミスト除去部50において、ミスト除去部
品51と、該ミスト除去部品51を交換するための点検口52
を備え、且つ、ミスト除去部品51の上流側に上流側圧損
測定口53、下流側に下流側圧損測定口54と、処理済排気
測定口55とを備え、且つ、下側にミストドレン口56を備
えた横型ミスト除去部50からなることにより達成され
る。
以内の断面積で、且つ排気速度が2m/秒以上の処理が
可能な横型の並流湿式除害器を排気ダクトの途中に取り
付けることで高さをコンパクト化することができる。
或いは、複数孔ベンチュリスクラバで構成すると、並流
する洗浄液によって排気が常に洗浄され、専用の目詰ま
り防止スプレーを設けなくても、スクラバ等の目詰まり
が生じなくなり、排気除害システムの連続稼働が可能と
なる。
チュリスクラバは空間速度を2m/秒以上で稼働するこ
とが可能であり、駆動部分がないため連続稼働に有効で
ある。
気はコンパクトに排出でき、チャンバ兼用液槽を設ける
ことで、ミスト除去と排気ダクト集約を一度に行え、回
収ミストをそのまま循環液として利用できる利点があ
る。
処理排気導入部、有害成分除去部、ミスト除去部の各々
を処理風量を10m3 /分、20m3 /分、30m3 /分、そ
して設置形態を縦型、横型に標準化してコンポーネント
化したシステムを供給して、施工業者が製造装置から大
気放出までのトータル排気システムをフレキシブルに構
築可能なようにする。
後段処理方式の簡易処理化により圧損を低減すること
で、直後除害システム部分の圧損約20mmAqを含め
て、トータル排気圧損を同一、若しくは低減可能とな
り、中間に直後除害システム専用のブースタファンを設
置せずに排気除害システムを構築出来る。
ク、循環ポンプを一体化して、単体で機能を満足できる
ように設計・提供していたため、個々に補給水、及びド
レーン排水配管を必要としていたが、本発明のシステム
では、循環液タンク、及びポンプを共通化する、または
補給水を供給して掛け流しする等、対象排気成分に見合
った方法で洗浄液を供給するシステムを構築できる。
することで、ポンプを製造装置から離して設置すること
ができる。且つ、要処理排気導入部、有害成分除去部、
ミスト除去部が各々分離されているため、他の諸配管と
の取り合い条件、メンテナンス方向性を考慮して、各々
の軸方向の設置角度を、接続穴ピッチの間隔で自由に現
場施工出来る。
項で挙げた各種類の要処理排気導入部、有害成分除去
部、ミスト除去部を必要に応じて使い分けて、組み合わ
せることで、システムアップ出来るため、施工業者がフ
レキシブルに組立て可能となる。また、各々のコンポー
ネントには、請求項記載の機能を少なくとも備えてお
り、原動部分を別途選定し、その組み合わせでシステム
としての機能を満足することができる。
成図である。本発明による排気除害システムは、図1
(a)に示すように、ダクトの2倍程度以内の断面積で
処理可能な横型の並流湿式除害器1を備えており、排気
ダクト2の途中に取り付けることで、高さを1.2m程度
にコンパクト化でき、且つ、排気ファン12を室内に設け
る場合には、排気ファン12を横型の並流湿式除害器1と
同じレベルに設置して、点検を容易にするようにした。
合器3は、上流側入口以外の中間部にも洗浄液噴射口を
設けた方が、効率が良くなる。図2(c)に静止型混合
器3の内部構造を示す。
バ6は上流に並流シャワー5を有する多孔板4から構成
される。図2(e)に複数孔ベンチュリスクラバ6の多
孔板4の内部構造を示す。
スクラバ6は横型で使用する場合、重力により並流シャ
ワー5の流れが不均一となるのを防ぐために、500mm □
程度以下のサイズで使用するのが望ましい。
ト2を複数に分割して、各々の排気ダクト1の途中に複
数の横型の並流湿式除害器1を設ける場合、メンテナン
スし易いように並流湿式除害器1の軸を一直線上に配置
することで、コンパクト性を維持することが可能とな
る。
気は、排気ダクト2を集約することでコンパクトに排出
できる。また、ミストを除去する場合は、通過風速を
0.2m/秒以下に落して、方向を変更すると効果があ
る。しかし、排気ダクト2の途中に設けることは、設置
スペースの確保が困難である。
すように、一般的な地下ピットを利用して、チャンバ兼
用液槽8を設けて、ミストの除去と排気ダクト2の集約
を一度に行うこと、及び、回収ミストをそのままポンプ
13を用いて循環液として使用できるメリットを提供でき
る。
せると、蒸気圧のバランスで再蒸発する恐れがあるが、
この場合は、図3(g)に示すように、多孔板のシーブ
トレイ11を用いて、処理済排気と高濃度循環液を仕切
り、補給液を補給液注入管16からシーブトレイ11上に供
給することで改善した。
8が低濃度廃液受槽とも兼用可能となるので、工場全体
のシステムをコンパクト化することができる。更に、処
理済排気を補給液で二次処理すると、更に除去効率を向
上できる。その場合は、液体/気体の比率が小さい多孔
板洗浄方式が適当である。
のシーブトレイ11と液槽部10の液面の間に、横型の並流
湿式除害器1で処理後の排気出口を接続して、二次処理
を行うとミスト除去が可能となる。ミスト除去の方法と
しては、衝突式ミスト除去部、及びサイクロンを加える
と、更に除去効果が上がる。
してコンポーネント化した実施例について述べる。図4
(i)に断面図で、図4(j)に斜視図で示した例は、
直後排気除害システムに適用する構成ユニットである。
ム例A、B、Cを構成図で示すように、請求項7〜11
の各ユニットを順番に組み合わせ、その中間や前後に機
能部品を接続することで、各用途に応じた多数のシステ
ムを構築出来る。
請求項7、8記載の要処理排気導入部30と、サポート付
き接続配管24、請求項9記載の有害成分除去部40、接続
配管23、請求項10、11記載のミスト除去部50、図示しな
いダンパー等を含めたダクト26で構成した直後排気除害
システム例A、B、Cである。
口高さが一定していない。また、メンテナンスを伴うミ
スト除去部50をクリーンルームに設置すると、メンテナ
ンス時にクリーンルーム内の空気を汚染する可能性があ
り、クリーンルーム外に設置したい。そこで、ダクト長
さ、曲がり部を出来るだけ押さえた装置直後除害装置を
製作すると図4(k)に示したシステム例Aとなる。
去部40とミスト除去部50の間の寸法を固定すると、一品
一様生産となるのに対して、要処理排気導入部30、有害
成分除去部40、ミスト除去部50をユニット化すれば、共
通部品で対応できるのである。
q程度に抑えれば、ブースターファンを設けなくても、
屋外のファン27の能力増強をカバー出来、図示しないポ
ンプまたは、加圧供給系から洗浄液28を供給すれば、振
動源となる駆動部を製造装置22の近傍に置く必要がなく
なる。
き接続配管24を充填筒配管25に置き換えた例である。シ
ステム例Cは製造装置22から出る要処理排気21を請求項
8記載の要処理排気導入部30と請求項9記載の有害成分
除去部40、サポート付き接続管24、請求項11記載のミス
ト除去部50、ファン27、図示しないダンパ等を含めたダ
クト26で構成した横型直後除害システムの例である。
例として示す。また、同様に、横型直後除害システムを
クリーンルームの天井内に構築することも可能である。
クリーンルーム内に設置する場合には、純水洗浄するの
で、一体型設備も一度分解する必要があるが、このよう
に構成部品をコンポーネント化すれば、洗浄済の状態で
搬入でき、施工時間も大幅に短縮が出来る。
いて説明する。図5(l)は請求項7記載の縦型要処理
排気導入部30の構成例を示す。請求項7記載の排気除害
システムに適用する要処理排気導入部30において、横か
ら入る要処理排気導入口31と、上方向の要処理排気出口
32が直交しており、且つ、洗浄液ドレン排水口33が要処
理排気出口32と反対の下側に設けられていること、洗浄
液逆流防止壁35を要処理排気導入口31と要処理排気出口
32の間に備え、要処理排気導入口31と要処理排気出口32
の間で要処理排気21が洗浄液28と接触しない部分に、要
処理排気測定口34を備えている。
処理排気導入部30の構成例を示す。請求項8記載の排気
除害システムに適用する要処理排気導入部30において、
横から入る要処理排気導入口31と横方向の要処理排気出
口32が直行しており、且つ、洗浄液ドレン排水口33が下
側に設けられていること、洗浄液逆流防止壁35を要処理
排気導入口31と要処理排気出口32の間に備えているこ
と、要処理排気導入口31と要処理排気出口32の間で要処
理排気21が洗浄液28と接触しない部分に、要処理排気測
定口34を備えている。
部40の構成例を示す。請求項9記載の排気除害システム
に適用する有害成分除去部40において、下、または横方
向から入る要処理排気21に向けた少なくとも1個以上の
洗浄液スプレーノズル41を備え、その洗浄液スプレーノ
ズル41のスプレー状態を点検するための点検窓42を備え
ている。
けて、横型使用も可能である。図6(o)は請求項10記
載の縦型ミスト除去部50の構成例を示す。請求項10記載
の排気除害システムに適用するミスト除去部50におい
て、ミスト除去部品51とそのミスト除去部品51を交換す
るための点検口52を備え、且つ、ミスト除去部品51の上
流側に上流側圧損測定口53、下流側に下流側圧損測定口
54と、処理済排気測定口55を備えた縦型ミスト除去部50
である。
去部50の構成例を示す。請求項11記載の排気除害システ
ムに適用するミスト除去部50において、ミスト除去部品
51とそのミスト除去部品51を交換するための点検口52を
備え、且つ、ミスト除去部品51の上流側に上流側圧損測
定口53、下流側に下流側圧損測定口54と、処理済排気測
定口55を備え、且つ、下側にミストドレン口56を備えた
横型ミスト除去部50である。
横型のコンパクトな並流湿式除害器を、排気ダクトの途
中にに取り付けることで、高さをコンパクト化でき、並
流湿式除害器を、静止型混合器、或いは、複数孔ベンチ
ュリスクラバで構成することにより、排気が並流する洗
浄液によって常に洗浄され、目詰まりが生じなくなる。
ント化すれば、排気除害装置メーカーの工場内作業をな
くせるため、現場の取り合いを少なくでき、作業効率が
向上する。また、製造装置との取り合いが簡略化され、
原動部分をフレキシブルにシステム化できるため、自動
化が容易となり、製造装置のメンテナンスエリアの確保
に柔軟に対応できる。従って、環境対策や省エネルギ化
を図ることができる。
は、一体型設備も一度分解して純水等で洗浄を必要とす
るが、上記のようにコンポーネント化されていれば、洗
浄済の状態で搬入でき、施工時間の短縮につながる。
コンパクト化、並びに高効率化に寄与するところが大き
い。
1)
2)
3)
4)
5)
6)
Claims (11)
- 【請求項1】 排気に含まれる有害成分を除去する排気
除害システムであって、排気ダクト(2) の断面積の2倍
以下の断面積を有し、且つ、排気速度を2m/秒以上で
処理でき、排気に含まれる有害成分を洗浄水が並流して
除害するため圧損効率が良く、小型化に適した横型の並
流湿式除害器(1) を、該排気ダクト(2) の途中に有する
ことを特徴とする排気除害システム。 - 【請求項2】 前記並流湿式除害器(1) は、静止型混合
器(3) 、或いは多孔板(4) と、その上流に並流シャワー
(5) とを有する複数孔ベンチュリスクラバ(6) にて構成
されてなることを特徴とする請求項1記載の排気除害シ
ステム。 - 【請求項3】 前記排気ダクト(2) を少なくとも2か所
以上に並列に分割し、前記並流湿式除害器(1) をそれぞ
れの前記排気ダクト(2) に有し、且つ、前記並流湿式除
害器(1) の軸が一直線上に並ぶように配置されてなるこ
とを特徴とする請求項1、又は2記載の排気除害システ
ム。 - 【請求項4】 前記並流湿式除害器(1) の出口配管(7)
を通過風速0.2m/秒以下に減速するチャンバ兼用液
槽(8) に接続してなることを特徴とする請求項1、2、
又は3記載の排気除害システム。 - 【請求項5】 前記チャンバ兼用液槽(8) のチャンバ部
(9) と液槽部(10)との間に、シーブトレイ(11)を有する
ことを特徴とする請求項1、2、3、又は4記載の排気
除害システム。 - 【請求項6】 排気に含まれる有害成分を除去する排気
除害システムであって、要処理排気導入部(30)と、該要
処理排気導入部(30)に連なる有害成分除去部(40)と、該
有害成分除去部(40)に連なるミスト除去部(50)とを構成
部品として有し、該要処理排気導入部(30)、該有害成分
除去部(40)、該ミスト除去部(50)各々の構成部品の入口
と出口を丸型ダクトで接続出来るよう標準部品化して、
その中間に標準接続で配管等をフレキシブルに挿入でき
る構造、及び該要処理排気導入部(30)、該有害成分除去
部(40)、該ミスト除去部(50)各々の軸方向の設置角度
を、該丸型ダクトの接続フランジの接続穴ピッチの間隔
で自由に設置できる構造を有することを特徴とする排気
除害システム。 - 【請求項7】 前記排気除害システムの要処理排気導入
部(30)において、横から入る要処理排気導入口(31)と横
方向の要処理排気出口(32)とが直交しており、且つ、洗
浄液ドレン排水口(33)が要処理排気出口(32)と反対の下
側に設けられていること、洗浄液逆流防止壁(35)を要処
理排気導入口(31)と要処理排気出口(32)の間に備え、要
処理排気導入口(31)と要処理排気出口(32)の間で要処理
排気(21)が洗浄液(28)と接触しない部分に、要処理排気
測定口(34)を備えていることを特徴とする請求項6記載
の排気除害システム。 - 【請求項8】 前記排気除害システムの要処理排気導入
部(30)において、横から入る要処理排気導入口(31)と横
方向の要処理排気出口(32)とが直行しており、且つ、洗
浄液ドレン排水口(33)が下側に設けられていること、洗
浄液逆流防止壁(35)を要処理排気導入口(31)と要処理排
気出口(32)の間に備えていること、要処理排気導入口(3
1)と要処理排気出口(32)との間で要処理排気(21)が洗浄
液(28)と接触しない部分に、要処理排気測定口(34)を備
えていることを特徴とする請求項6記載の排気除害シス
テム。 - 【請求項9】 前記排気除害システムの有害成分除去部
(40)において、下、または横方向から入る要処理排気(2
1)に向けた少なくとも1個以上の洗浄液スプレーノズル
(41)を備え、その洗浄液スプレーノズル(41)のスプレー
状態を点検するための点検窓(42)を備えていることを特
徴とする請求項6記載の排気除害システム。 - 【請求項10】 前記排気除害システムのミスト除去部
(50)において、ミスト除去部品(51)と、該ミスト除去部
品(51)を交換するための点検口(52)を備え、且つ、ミス
ト除去部品(51)の上流側に上流側圧損測定口(53)、下流
側に下流側圧損測定口(54)と、処理済排気測定口(55)と
を備えていることを特徴とする請求項6記載の排気除害
システム。 - 【請求項11】 前記排気除害システムのミスト除去部
(50)において、ミスト除去部品(51)と、該ミスト除去部
品(51)を交換するための点検口(52)を備え、且つ、ミス
ト除去部品(51)の上流側に上流側圧損測定口(53)、下流
側に下流側圧損測定口(54)と、処理済排気測定口(55)と
を備え、且つ、下側にミストドレン口(56)を備えた横型
ミスト除去部(50)からなることを特徴とする請求項6記
載の排気除害システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23274393A JP3507103B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 排気除害システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23274393A JP3507103B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 排気除害システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0788319A true JPH0788319A (ja) | 1995-04-04 |
JP3507103B2 JP3507103B2 (ja) | 2004-03-15 |
Family
ID=16944073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23274393A Expired - Lifetime JP3507103B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 排気除害システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3507103B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11104428A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-20 | Sanki Eng Co Ltd | エアワッシャ |
JP2002052076A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-19 | Smc Corp | オゾン除去方法及びその装置 |
JP2008181968A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Toshiba Corp | 半導体製造システムおよび半導体装置の製造方法 |
US7510172B2 (en) | 2004-02-16 | 2009-03-31 | Anemos Company Ltd. | Mixing element and static fluid mixer using same |
KR100967773B1 (ko) * | 2006-10-31 | 2010-07-05 | 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 | 반응성 기체에 대한 누출 봉쇄 장치 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP23274393A patent/JP3507103B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11104428A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-20 | Sanki Eng Co Ltd | エアワッシャ |
JP2002052076A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-19 | Smc Corp | オゾン除去方法及びその装置 |
US7510172B2 (en) | 2004-02-16 | 2009-03-31 | Anemos Company Ltd. | Mixing element and static fluid mixer using same |
KR100967773B1 (ko) * | 2006-10-31 | 2010-07-05 | 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 | 반응성 기체에 대한 누출 봉쇄 장치 |
JP2008181968A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Toshiba Corp | 半導体製造システムおよび半導体装置の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3507103B2 (ja) | 2004-03-15 |
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