JPH0786128A - 電気的特性膜の形成方法及び形成時に使用するスピンコート装置 - Google Patents

電気的特性膜の形成方法及び形成時に使用するスピンコート装置

Info

Publication number
JPH0786128A
JPH0786128A JP22625993A JP22625993A JPH0786128A JP H0786128 A JPH0786128 A JP H0786128A JP 22625993 A JP22625993 A JP 22625993A JP 22625993 A JP22625993 A JP 22625993A JP H0786128 A JPH0786128 A JP H0786128A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
chamber
substance
paste
electrical characteristic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP22625993A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Sasaki
真 佐々木
Hiroyasu Kawano
浩康 川野
Tomohisa Yagi
友久 八木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP22625993A priority Critical patent/JPH0786128A/ja
Publication of JPH0786128A publication Critical patent/JPH0786128A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の表面に誘電体膜又は導電体膜等の電気
的特性膜を形成する方法及びその形成時に使用するスピ
ンコート装置に関し、気泡のない電気的特性膜の形成方
法及び安価で気泡のない電気的特性膜を被着形成し得る
スピンコート装置を提供すること目的とする。 【構成】 低粘度のペースト状物質15A を基板10上に滴
下する工程と、基板10をチャンバー6に収容しチャンバ
ー6内を減圧してペースト状物質15A 中の気泡19を除去
する工程と、基板10を水平面内で回転してペースト状物
質15A を拡散し、基板10の上面の全面に厚さが一様な電
気的特性膜15を被着形成する工程とを含むものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板の表面に誘電体膜
又は導電体膜等の電気的特性膜を形成する方法及びその
形成時に使用するスピンコート装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は従来のスピンコート装置の断面
図、図4は従来方法の工程を示す図、図5はペースト状
物質の脱泡処理工程を示す図、図6の(A),(B) は気泡の
発生を説明する図である。
【0003】図3において、10は、上面に誘電体膜又は
導電体膜等の電気的特性膜を一様な厚さで形成する基板
である。基板10は、シリコンウエハー, セラミックス等
の円板状で、その板厚は0.5mm乃至1.0mm である。
【0004】2は、回転軸2Aが筐体天井板4を垂直に貫
通するよう、筐体1内に設置されたモータである。6
は、円筒形又は角筒形の周壁と底板(底板は筐体天井板
4と共用)とで構成され上方が開口した、筐体1の筐体
天井板4上に設けたチャンバーであって、チャンバー6
の開口に蓋7を着脱自在に冠着するようになっている。
【0005】また、回転軸2Aが貫通する筐体天井板4の
孔にOリングを装着している。このことにより、回転軸
2Aが筐体天井板4を気密に貫通することになり、チャン
バー6内で筐体天井板4上に溜まったペースト状物質が
筐体1内に洩れ込むのが阻止される。
【0006】5は、回転軸2Aの頭部に搭載された円板状
のヘッドである。このヘッド5に、上端面側が開口する
複数の吸入孔を配設し、これらの吸入孔を回転軸2Aを貫
通する孔に連通させている。
【0007】この回転軸2Aの孔をモータ2を経て、筐体
1内に設置した吸着用真空ポンプ3の吸入口に接続して
いる。したがって、ヘッド5の上端面に基板10を載置し
た後に、吸着用真空ポンプ3を駆動すると基板10がヘッ
ド5に吸着される。
【0008】よってモータ2を駆動しヘッド5を回転さ
せても、基板10がヘッド5から振り落とされることがな
い。図4において、15は、基板10の上面の全面に一様な
厚さで形成する、誘電体膜又は導電体膜等の電気的特性
膜である。
【0009】15A は、低粘度のペースト状物質であっ
て、形成しようとする電気的特性膜15の素材である。従
来の電気的特性膜の形成方法について、図4を参照しな
がら説明する。
【0010】まず、図4(A) に図示したように、スピン
コート装置のヘッド5の上端面に基板10を吸着させる。
次に、容器16からペースト状物質15A を基板10のほぼ中
央部に必要量滴下する。
【0011】そして、図4(B) に図示したようにチャン
バー6の開口に蓋7を冠着し、ヘッド5即ち基板10を所
定の回転数で回転する。このことにより、遠心力により
ペースト状物質15A が基板10の全表面に拡散して、膜厚
が均一な電気的特性膜15が基板10に被着し形成される。
【0012】この際、余分のペースト状物質15A が基板
10の周辺から飛散するが、チャンバー6の周壁で遮られ
るのでチャンバー6の外に飛び出すことがない。次に図
4(C) のように、モータ2を停止してヘッド5の回転を
停止させ、また吸着用真空ポンプ3の駆動を停止する。
【0013】そして、蓋7を外し、基板10をヘッド5か
ら取り外してチャンバー6から取り出し、基板10を乾燥
して電気的特性膜15を固体化させる。ところでこの電気
的特性膜15に気泡が発生していることがある。
【0014】電気的特性膜15が導体膜の場合は、導体膜
をエッチング等して微細な導体パターンすると、気泡の
部分で導体パターンが断線することになる。また、電気
的特性膜15が導体パターン間に設ける誘電体膜の場合
は、気泡の部分で上下の導体パターンが短絡する恐れが
ある。
【0015】したがって、従来は図5に図示したように
して、ペースト状物質15A を基板10上に滴下する前に、
気泡を除去する脱泡処理を行なっている。図5におい
て、20はガラス等からなる蓋付きの密封ケースである。
【0016】密封ケース20の周壁に排出口を設け、この
排出口を真空ポンプ21の吸入口に接続している。このよ
うな装置を使用してペースト状物質15A 中の気泡を除去
するには、まずペースト状物質15A を容器16に入れ、そ
の容器16を密封ケース20に収容し、密封ケース20に蓋を
する。
【0017】そして真空ポンプ21を駆動して密封ケース
20内を減圧し、ペースト状物質15A中の気泡を膨張させ
破裂させ、ペースト状物質15A 中の気泡を除去する。こ
のようにペースト状物質を事前に脱泡処理して、基板10
上に被着形成する電気的特性膜中に発生する気泡数を、
大幅に減少させていた。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図6に図示
したように、基板10の表面に導体パターン11が形成され
ていることがある。或いは電気的特性膜の被着性向上の
ために基板の表面に微細の凹凸を設けたものがある。
【0019】このような基板10の表面に、脱泡処理した
ペースト状物質15A を滴下して、基板を回転しペースト
状物質15A を拡散させて、基板10の表面に電気的特性膜
を被着形成させると、滴下時にペースト状物質中に巻き
込まれた空気が、図6(B) に図示したように、導体パタ
ーン11の端部或いは微細凹凸の凹部に溜まり気泡19とな
って、電気的特性膜15中に発生するという問題点があっ
た。
【0020】本発明はこのような点に鑑みて創作された
もので、気泡のない電気的特性膜の形成方法を提供する
ことを目的としている。また他の目的は、安価で気泡の
ない電気的特性膜を被着形成し得るスピンコート装置を
提供することにある。
【0021】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、図1に例示したように、低粘度のペース
ト状物質15A を基板10上に滴下する工程と、基板10をチ
ャンバー6に収容しチャンバー6内を減圧してペースト
状物質15A 中の気泡19を除去する工程と、基板10を水平
面内で回転してペースト状物質15A を拡散させ、基板10
の上面の全面に厚さが一様な電気的特性膜15を被着形成
する工程と、を含むものとする。
【0022】またそのスピンコート装置は、図2に例示
したように、回転軸2Aが筐体天井板4を垂直に気密に貫
通するよう筐体1内に設置されたモータ2と、筐体天井
板4上に設置され上方が開口するチャンバー6と、チャ
ンバー6内を気密に封止するよう着脱自在にチャンバー
6の開口に冠着する蓋7と、回転軸2Aの頭部に搭載され
基板10が上端面に着脱自在に密着する円板状のヘッド5
と、チャンバー6内を減圧する脱泡用真空ポンプ30と
を、備えた構成とする。
【0023】また、チャンバー6の蓋7の材料を透明体
とする。或いは、蓋7に窓8を設け、この窓8を透明板
で封止するものとする。
【0024】
【作用】本発明方法は、ペースト状物質を基板上に滴下
し、ペースト状物質を拡散し基板の表面に被着する前
に、基板を収容したチャンバー内を減圧して、滴下時に
ペースト状物質中に巻き込まれた気泡を除去している。
【0025】したがって、基板上に被着形成された電気
的特性膜中に気泡が発生することが殆どない。また、本
発明のスピンコート装置は、従来から使用しているスピ
ンコート装置に、チャンバー内を減圧する脱泡用真空ポ
ンプを追加しただけである。
【0026】したがって、本発明のスピンコート装置は
低コストである。
【0027】
【実施例】以下図を参照しながら、本発明を具体的に説
明する。なお、全図を通じて同一符号は同一対象物を示
す。
【0028】図1は本発明方法の工程を示す図、図2は
本発明のスピンコート装置の実施例の断面図である。図
において、10は、シリコンウエハー, セラミックス等の
円板状の基板であって、板厚は0.5mm 乃至1.0mm であ
る。
【0029】15は、基板10の上面の全面に一様な厚さで
形成する誘電体膜又は導電体膜等の電気的特性膜であ
る。15A は、低粘度のペースト状物質であって、形成し
ようとする電気的特性膜15の素材である。
【0030】先ず図2を参照しながら、本発明の本発明
のスピンコート装置について説明する。筐体天井板4を
有する箱形の筐体1の底板上に、モータ2,吸着用真空
ポンプ3及び脱泡用真空ポンプ30を設置してある。
【0031】6は、円筒形又は角筒形の周壁と底板(底
板は筐体天井板4と共用)とで構成され上方が開口し
た、筐体天井板4上に設けたチャンバーであって、その
開口部の縁枠上にゴムパッキン25を貼着してある。
【0032】また、チャンバー6の周壁に通風管を取付
けこの通風管にバルブ27を取付け、通風管を開閉自在と
している。モータ2の回転軸2Aを、筐体天井板4を垂直
にOリング等の手段により気密に貫通させ、回転軸2Aの
頭部に円板状のヘッド5を搭載している。
【0033】このヘッド5に、上端面側が開口する複数
の吸入孔を配設し、これらの吸入孔を回転軸2Aを貫通す
る孔に連通させ、さらにこの孔をモータ2を経て、筐体
1内に設置した吸着用真空ポンプ3の吸入口に接続して
いる。
【0034】したがって、ヘッド5の上端面に基板10を
載置した後に、吸着用真空ポンプ3を駆動すると基板10
がヘッド5に吸着される。一方、脱泡用真空ポンプ30の
吸入管31は、筐体天井板4を気密に貫通してチャンバー
6内で開口している。
【0035】7は、チャンバー6の開口に嵌着する金属
板等からなる蓋である。この蓋7をチャンバー6の開口
部に載せると、蓋7の下側面がゴムパッキン25に密接す
る。
【0036】バルブ27を閉じ、蓋7をチャンバー6に冠
着した後に、脱泡用真空ポンプ30を駆動してチャンバー
6内の空気を排出してチャンバー6を減圧すると、蓋7
がより強くゴムパッキン25に密着するので、チャンバー
6の気密度がさらに高まる。
【0037】蓋7の中央部に、基板10よりも大きい窓8
を設け、この窓8に、ガラス,透明樹脂板等からなる透
明板を気密に嵌め込んでいる。したがって、窓8を通し
て基板10上に形成する電気的特性膜の状態を観察するこ
とができる。
【0038】なお、窓等を設けず蓋7の全体を透明板と
しても良い。脱泡用真空ポンプ30の駆動を停止し、バル
ブ27を開くと外気がチャンバー6に吸い込まれ、チャン
バーの内外の圧力差がなくなる。よって蓋7をチャンバ
ー6から取り外すことができる。
【0039】次にこのようなスピンコート装置を用いて
電気的特性膜を形成する方法を、図1を参照しながら説
明する。まず、図1(A) に図示したように、スピンコー
ト装置のヘッド5の上端面に基板10を吸着させ、容器16
からペースト状物質15A を基板10のほぼ中央部に必要量
滴下する。
【0040】そして、図1(B) に図示したようにチャン
バー6の開口に蓋7を冠着し、図示省略したバルブを閉
じた後に、脱泡用真空ポンプを駆動して吸入管31からチ
ャンバー6内の空気を排出して、チャンバー6内を減圧
する。
【0041】チャンバー6内を減圧することにより、ペ
ースト状物質15A 中の気泡19が膨張し破裂して、ペース
ト状物質15A 中の空気がチャンバー6内に放出する。窓
8から基板10を観察して、気泡の放出が終了したことを
確認したら、脱泡用真空ポンプ30を停止する。
【0042】次に図1(C) に図示したように、モータ2
を駆動してヘッド5即ち基板10を回転する。このことに
より、遠心力によりペースト状物質15A が基板10の全表
面に拡散して、膜厚が均一な電気的特性膜15が基板10に
被着し形成される。
【0043】そして、窓8から観察して電気的特性膜15
の表面が一様に平坦になった時点でモータ2を停止す
る。なお、ヘッド5の回転数は、基板10の大きさ及び電
気的特性膜15の膜厚により異なるが毎分数百回転から数
千回転の範囲である。
【0044】バルブを開き、吸着用真空ポンプ3の駆動
を停止した後に、図1(D) に図示したように、蓋7を外
して、基板10をヘッド5から取り外してチャンバー6か
ら取り出す。
【0045】そして、基板10を乾燥して電気的特性膜15
を固体化させる。滴下前に脱泡処理した従来方法では、
電気的特性膜の1平方吋あたりの気泡数が約3個であっ
たが、基板にペースト状物質を滴下した後に脱泡処理す
る本発明方法によれば、電気的特性膜中に気泡が殆ど存
在しないことが確認された。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、基板にペ
ースト状物質を滴下した後に、脱泡処理を実施し、その
後基板を回転してペースト状物質を基板上に拡散し電気
的特性膜を基板に被着形成するスピンコート方法であっ
て、形成された電気的特性膜中に気泡が殆ど存在しない
という、優れた効果を有する。
【0047】また、本発明のスピンコート装置は、従来
使用されているスピンコート装置にチャンバー内を減圧
する脱泡用真空ポンプを追加しただけであるので、低コ
ストである。また得られるスピンコートして得られる電
気的特性膜中に、気泡が殆どない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明方法の工程を示す図
【図2】 本発明のスピンコート装置の実施例の断面図
【図3】 従来のスピンコート装置の断面図
【図4】 従来方法の工程を示す図
【図5】 ペースト状物質の脱泡処理工程を示す図
【図6】 (A),(B) は気泡の発生を説明する図
【符号の説明】
1 筐体 2 モータ 2A 回転軸 3 吸着用真空
ポンプ 4 筐体天井板 5 ヘッド 6 チャンバー 7 蓋 8 窓 10 基板 11 導体パターン 15 電気的特性
膜 15A ペースト状物質 16 容器 19 気泡 20 密封ケース 21 真空ポンプ 25 ゴムパッキ
ン 30 脱泡用真空ポンプ 31 吸入管

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 低粘度のペースト状物質(15A) を基板(1
    0)上に滴下する工程と、 該基板(10)をチャンバーに収容し、該チャンバー(6) 内
    を減圧して該ペースト状物質(15A) 中の気泡(19)を除去
    する工程と、 該基板(10)を水平面内で回転して該ペースト状物質(15
    A) を拡散し、該基板(10)の上面の全面に厚さが一様な
    電気的特性膜(15)を被着形成する工程と、 を含むことを特徴とする電気的特性膜の形成方法。
  2. 【請求項2】 基板(10)の表面に電気的特性膜(15)を形
    成する際に使用するスピンコート装置であって、 回転軸(2A)が筐体天井板(4) を垂直に気密に貫通するよ
    う、筐体(1) 内に設置されたモータ(2) と、 該筐体天井板(4) 上に設置され上方が開口するチャンバ
    ー(6) と、 該チャンバー(6) 内を気密に封止するよう、着脱自在に
    該チャンバー(6) の開口に冠着する蓋(7) と、 該回転軸(2A)の頭部に搭載され、該基板(10)が上端面に
    着脱自在に密着する円板状のヘッド(5) と、 該チャンバー(6) 内を減圧する脱泡用真空ポンプ(30)と
    を、 備えたことを特徴とするスピンコート装置。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の蓋が、透明体であること
    を特徴とするスピンコート装置。
  4. 【請求項4】 請求項2記載の蓋に窓(8) を有し、該窓
    (8) が透明板で封止されていることを特徴とするスピン
    コート装置。
JP22625993A 1993-09-13 1993-09-13 電気的特性膜の形成方法及び形成時に使用するスピンコート装置 Withdrawn JPH0786128A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22625993A JPH0786128A (ja) 1993-09-13 1993-09-13 電気的特性膜の形成方法及び形成時に使用するスピンコート装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22625993A JPH0786128A (ja) 1993-09-13 1993-09-13 電気的特性膜の形成方法及び形成時に使用するスピンコート装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0786128A true JPH0786128A (ja) 1995-03-31

Family

ID=16842401

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22625993A Withdrawn JPH0786128A (ja) 1993-09-13 1993-09-13 電気的特性膜の形成方法及び形成時に使用するスピンコート装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0786128A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000123634A (ja) * 1998-08-10 2000-04-28 Vacuum Metallurgical Co Ltd Cu超微粒子独立分散液
JP2001035255A (ja) * 1999-07-22 2001-02-09 Vacuum Metallurgical Co Ltd 銀超微粒子独立分散液
KR101540188B1 (ko) * 2012-03-28 2015-07-28 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000123634A (ja) * 1998-08-10 2000-04-28 Vacuum Metallurgical Co Ltd Cu超微粒子独立分散液
JP2001035255A (ja) * 1999-07-22 2001-02-09 Vacuum Metallurgical Co Ltd 銀超微粒子独立分散液
KR101540188B1 (ko) * 2012-03-28 2015-07-28 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US9640382B2 (en) 2012-03-28 2017-05-02 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus and substrate processing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0187425B1 (en) Electro-optic display cell and method of making same
JPH1070071A (ja) 半導体処理用の制御可能な加圧処理チャンバを有するコーター
JP3586741B2 (ja) 混練脱泡方法及び混練脱泡装置
JP2005528789A (ja) 液体封入式光起電力素子用の中間製品に充填するための方法及び装置
JPH0786128A (ja) 電気的特性膜の形成方法及び形成時に使用するスピンコート装置
JP2002080005A (ja) 粘性材料の充填方法およびそのための装置
KR100446808B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
JPH1197515A (ja) ウエハ支持用回転テーブル
JP2756639B2 (ja) 回転カップ式処理装置
JPH097918A (ja) 基板塗布用チャック
JPH05200203A (ja) 液状樹脂の脱泡方法およびその装置
JPH05146736A (ja) スピン式コーテイング装置
JPH07136572A (ja) 回転カップ式液体供給装置
JPS63503046A (ja) 遠心作用により樹脂を塗布するための方法と装置
JP2002237482A (ja) 真空スピンドライヤー方法及び装置
JPS60152029A (ja) 塗布装置
JPS6235825B2 (ja)
JPH0817700A (ja) レジスト塗布方法およびレジスト塗布装置
JP3821468B2 (ja) 回転塗布装置及びその塗布方法
JPH0529272A (ja) プラズマエツチング装置
JPH09150106A (ja) ペーストの塗布方法
JP2003031476A (ja) レジスト膜形成方法、レジスト膜形成装置及びレジスト膜
JPS621229Y2 (ja)
JPH06190326A (ja) 塗布装置
GB2196179A (en) Cylindrical capacitor

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20001128