JPH0781954B2 - Semiconductor wafer visual inspection system - Google Patents
Semiconductor wafer visual inspection systemInfo
- Publication number
- JPH0781954B2 JPH0781954B2 JP7539089A JP7539089A JPH0781954B2 JP H0781954 B2 JPH0781954 B2 JP H0781954B2 JP 7539089 A JP7539089 A JP 7539089A JP 7539089 A JP7539089 A JP 7539089A JP H0781954 B2 JPH0781954 B2 JP H0781954B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- visual inspection
- blade
- storage box
- semiconductor wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェーハ(以下ウェーハと言う)の表面
を目視で検査する半導体ウェーハ外観検査装置に関す
る。The present invention relates to a semiconductor wafer visual inspection apparatus for visually inspecting the surface of a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer).
通常、この種の外観検査は、ウェーハの表面に不純物を
拡散したり、あるいは、酸化膜を形成したりした後に、
その表面状態を検査するために行なわれるものである。Usually, this type of visual inspection is performed after diffusing impurities on the surface of the wafer or forming an oxide film.
This is done to inspect the surface condition.
従来、この種の検査には、特に専用の検査装置がなく、
ピンセットでウェーハを掴みウェーハ収納箱より取り出
し、ピンセットで保持しながら目視で検査していた。Conventionally, there is no special inspection device for this kind of inspection,
The wafer was grasped with tweezers, taken out from the wafer storage box, and visually inspected while holding it with tweezers.
しかしながら、上述した手作業による外観検査は、ウェ
ーハの表面に傷を付けたり、ごみを付着させたりする欠
点がある。また、最近は、ウェーハの大きさがますます
大きくなり、その直径が250mmという大きさになり、ピ
ンセットで取り扱うのには重すぎるという問題がある。
無理に取り扱うと、ウェーハを落し割れたり、欠けたり
する恐れがある。However, the above-described manual visual inspection has a defect that the surface of the wafer is scratched or dust is attached. In addition, recently, the size of the wafer has become larger and larger, and the diameter thereof has become as large as 250 mm, which is a problem that it is too heavy for tweezers to handle.
If handled by force, the wafer may be dropped and cracked or chipped.
本発明の目的は、ウェーハに傷、割れ及びごみの付着す
ることのないウェーハ外観検査装置を提供するこにあ
る。An object of the present invention is to provide a wafer visual inspection apparatus that does not cause scratches, cracks, or dust on the wafer.
本発明のウェーハ外観検査装置は、一方向に半導体ウェ
ーハが出入りし収納する多数の棚を有するウェーハ収納
箱と、このウェーハ収納箱を乗せる面に穴をもつととも
に前記半導体ウェーハ面に直交する方向に移動し得るテ
ーブルと、このテーブルの前記穴を通り前記一方向に伸
縮することにより前記半導体ウェーハを前記ウェーハ収
納箱より出し入れするブレードと、このブレードを回転
もしくは首振り運動及び前記一方向に伸縮させる駆動機
構部とを備え構成される。The wafer visual inspection apparatus of the present invention is a wafer storage box having a large number of shelves for storing and storing semiconductor wafers in one direction, and having a hole in the surface on which the wafer storage box is placed and in a direction orthogonal to the semiconductor wafer surface. A movable table, a blade that moves in and out of the wafer storage box by expanding and contracting in one direction through the hole of the table, and rotating or swinging the blade and expanding and contracting in one direction. And a drive mechanism section.
次に、本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例を示すウェーハ外観検査装置
の斜視図、第2図は第1図のブレード駆動部の側面図で
ある。このウェーハ外観検査装置は、一方向にウェーハ
1が出入りし収納する多数の棚を有するウェーハ収納箱
4と、このウェーハ収納箱4を乗せる面に穴15をもつと
ともに矢印9に移動し得るテーブル14と、このテーブル
14の穴15を通り矢印10の方向に伸縮することによりウェ
ーハ1をウェーハ収納箱4より出し入れするブレード2
と、このブレード2を矢印3の方向に回転もしくは首振
り運動及び矢印10の方向に伸縮させるモータ7及び8か
らなる駆動機構部とで構成されている。FIG. 1 is a perspective view of a wafer appearance inspection apparatus showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the blade drive unit of FIG. This wafer visual inspection apparatus has a wafer storage box 4 having a large number of shelves for storing and storing wafers 1 in one direction, and a table 14 having a hole 15 on the surface on which the wafer storage box 4 is placed and which can be moved to an arrow 9. And this table
A blade 2 for inserting and removing the wafer 1 from the wafer storage box 4 by expanding and contracting in the direction of the arrow 10 through the holes 15 of 14
And a drive mechanism section including motors 7 and 8 for rotating or swinging the blade 2 in the direction of arrow 3 and expanding and contracting in the direction of arrow 10.
次に、このウェーハ外観検査装置の動作を説明する。ま
ず、ウェーハ1を多数枚収納したウェーハ収納箱4をテ
ーブル14に乗せる。このとき、ウェーハ収納箱4の位置
とテーブル14の穴15の位置を合せる。次に、モータ11が
回転し、送りねじ6によりテーブル14が矢印9の方向に
移動し、所定の位置(ブレード2がテーブル14の穴15の
下に位置する)に停止する。次に、モータ8により矢印
10の方向に、ラム16の上昇に伴いブレード2が原位置よ
り上昇し、ウェーハ1の一枚をブレード2の先端で挟む
ことによって拾いウェーハ収納箱4の上に突き上げる。Next, the operation of the wafer visual inspection device will be described. First, the wafer storage box 4 containing a large number of wafers 1 is placed on the table 14. At this time, the position of the wafer storage box 4 and the position of the hole 15 of the table 14 are aligned. Next, the motor 11 is rotated, the feed screw 6 moves the table 14 in the direction of the arrow 9, and stops at a predetermined position (the blade 2 is located below the hole 15 of the table 14). Next, the motor 8
In the direction of 10, the blade 2 rises from its original position as the ram 16 rises, and one wafer 1 is picked up by the tip of the blade 2 and pushed up onto the wafer storage box 4.
ウェーハ1が突き上げられた後、モータ7を回転し、ブ
レード2をゆっくりと矢印3の方向に回転もしくは首振
りをさせ、ウェーハ1が常に目5で直視出来るようにし
て検査する。ここで、センサ12はブレード2の回転ある
いは首振り運動を制御するもので、ベルト13はモータ7
の回転をブレード2に伝達する伝達機構である。After the wafer 1 is pushed up, the motor 7 is rotated, and the blade 2 is slowly rotated or swung in the direction of the arrow 3 so that the wafer 1 can be directly seen by the eyes 5 for inspection. Here, the sensor 12 controls the rotation or swinging motion of the blade 2, and the belt 13 controls the motor 7.
Is a transmission mechanism that transmits the rotation of the blade to the blade 2.
次に、目視検査が終ったら、ウェーハ1の回転もしくは
首振り運動を停止し、ウェーハ1の両面がウェーハ収納
箱4の棚に平行になるようにしてラム16を下降すること
により、ブレード2を下降し、ウェーハ1をウェーハ収
納箱4の棚に収納する。このことによりブレード2は前
述の原位置に戻る。Next, when the visual inspection is completed, the rotation or swinging motion of the wafer 1 is stopped, and the ram 16 is lowered so that both surfaces of the wafer 1 are parallel to the shelves of the wafer storage box 4, so that the blade 2 is moved. The wafer 1 is lowered and stored in the shelf of the wafer storage box 4. As a result, the blade 2 returns to the above-mentioned original position.
このように、順次、ウェーハ収納箱4に収納されたウェ
ーハを手に触れることなく、自動的に外観検査を終了す
ることが出来る。従って、このウェーハ外観検査装置
は、他の自動化ラインと結合して所謂カセット・ツー・
カセットのオンラインに適用出来るという利点がある。In this way, the visual inspection can be automatically completed without sequentially touching the wafers stored in the wafer storage box 4. Therefore, this wafer visual inspection system is combined with other automated lines and is a so-called cassette-to-
It has the advantage that it can be applied to cassettes online.
以上説明したように本発明は、直接ウェーハをピンセッ
トで掴んで外観検査を行なうことがなくなったため、ウ
ェーハに傷、割れ及びごみの付着することのないウェー
ハ外観検査装置が得られるという効果がある。As described above, the present invention eliminates the need to directly grab a wafer with tweezers for visual inspection, and thus has an effect of providing a wafer visual inspection apparatus that does not cause scratches, cracks, or dust on the wafer.
第1図は本発明の一実施例を示すウェーハ外観検査装置
の斜視図、第2図は第1図のブレード駆動部の側面図で
ある。 1……ウェーハ、2……ブレード、3、9、10……矢
印、4……ウェーハ収納箱、5……目、6……送りね
じ、7、8、11……モータ、12……センサ、13……ベル
ト、14……テーブル、15……穴、16……ラム。FIG. 1 is a perspective view of a wafer appearance inspection apparatus showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the blade drive unit of FIG. 1 ... Wafer, 2 ... Blade, 3, 9, 10 ... Arrow, 4 ... Wafer storage box, 5 ... Eye, 6 ... Feed screw, 7, 8, 11 ... Motor, 12 ... Sensor , 13 …… belt, 14 …… table, 15 …… hole, 16 …… ram.
Claims (1)
る多数の棚を有するウェーハ収納箱と、このウェーハ収
納箱を乗せる面に穴をもつとともに前記半導体ウェーハ
面に直交する方向に移動し得るテーブルと、このテーブ
ルの前記穴を通り前記一方向に伸縮することにより前記
半導体ウェーハを前記ウェーハ収納箱より出し入れする
ブレードと、このブレードを回転もしくは首振り運動及
び前記一方向に伸縮させる駆動機構部とを備えることを
特徴とする半導体ウェーハ外観検査装置。1. A wafer storage box having a plurality of shelves for storing and storing semiconductor wafers in one direction, and a table having a hole on a surface on which the wafer storage box is placed and movable in a direction orthogonal to the semiconductor wafer surface. A blade for inserting and removing the semiconductor wafer from the wafer storage box by expanding and contracting in one direction through the hole of the table; and a drive mechanism section for rotating or swinging the blade and expanding and contracting in one direction. A semiconductor wafer visual inspection apparatus comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7539089A JPH0781954B2 (en) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Semiconductor wafer visual inspection system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7539089A JPH0781954B2 (en) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Semiconductor wafer visual inspection system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02253140A JPH02253140A (en) | 1990-10-11 |
JPH0781954B2 true JPH0781954B2 (en) | 1995-09-06 |
Family
ID=13574815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7539089A Expired - Fee Related JPH0781954B2 (en) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Semiconductor wafer visual inspection system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0781954B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4769105B2 (en) * | 2006-03-24 | 2011-09-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Disc surface defect inspection method and inspection apparatus |
-
1989
- 1989-03-27 JP JP7539089A patent/JPH0781954B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02253140A (en) | 1990-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1075422C (en) | Automated wafer lapping system | |
JPS5928269B2 (en) | Integrated circuit high-speed processing equipment | |
JP2683933B2 (en) | Inspection device for front and back and orientation of semiconductor wafer | |
JP6464115B2 (en) | Wire electrical discharge machining system | |
US3757927A (en) | Bar stock storage dispensing and feeding apparatus and method | |
JPH04121334A (en) | Device for classifying thickness of wafer and method for taking out wafer held being piled together | |
JP2003051532A (en) | Method and device for automatically loading wafer crystal to double-sided polishing machine | |
JPH0781954B2 (en) | Semiconductor wafer visual inspection system | |
JP2899192B2 (en) | Semiconductor wafer thickness classification system | |
JP2000114329A (en) | Method and device for inspecting ground edge section of substrate | |
JPH11121577A (en) | Inspection system for semiconductor wafer | |
JP2564303B2 (en) | Wafer carrier jig | |
JPH0811388B2 (en) | Sheet stack processing method and processing apparatus | |
JP3531044B2 (en) | Method for transferring glass substrate for liquid crystal display device and apparatus used for the method | |
DE102020211723A1 (en) | METHOD OF PROCESSING A WAFER AND A CHIP MEASURING DEVICE | |
JPH1179391A (en) | Thin workpiece standing-up device | |
JPH0426983B2 (en) | ||
JP5308218B2 (en) | Processing equipment | |
JP3331361B2 (en) | Inspection device | |
JPH0254153A (en) | Device for inspecting exterior of wafer | |
JPH0834119B2 (en) | Coated wire processing device | |
JPH02260107A (en) | Work turning-over device | |
JPS5832267Y2 (en) | Push-up tool for substrate holder | |
JPH0333062Y2 (en) | ||
JPH0357417Y2 (en) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |