JPH02253140A - Semiconductor wafer appearance checking device - Google Patents
Semiconductor wafer appearance checking deviceInfo
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- JPH02253140A JPH02253140A JP7539089A JP7539089A JPH02253140A JP H02253140 A JPH02253140 A JP H02253140A JP 7539089 A JP7539089 A JP 7539089A JP 7539089 A JP7539089 A JP 7539089A JP H02253140 A JPH02253140 A JP H02253140A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 63
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 6
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 11
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ウェーハ(以下ウェーハと言う〉の表面
を目視で検査する半導体ウェーハ外観検査装置に関する
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor wafer appearance inspection apparatus for visually inspecting the surface of a semiconductor wafer (hereinafter referred to as wafer).
通常、この種の外観検査は、ウェーハの表面に不純物を
拡散したり、あるいは、酸化膜を形成したりした後に、
その表面状態を検査するために行なわれるものである。Typically, this type of visual inspection is performed after diffusing impurities or forming an oxide film on the wafer surface.
This is done to inspect the surface condition.
従来、この種の検査には、特に専用の検査装置がなく、
ピンセットでウェーハを掴みウェーハ収納箱より取り出
し、ピンセットで保持しながら目視で検査していた。Conventionally, this type of inspection did not have any special inspection equipment;
The wafer was grabbed with tweezers, removed from the wafer storage box, and visually inspected while being held with the tweezers.
しかしながら、上述した手作業による外観検査は、ウェ
ーハの表面に傷を付けたり、ごみを付着させたりする欠
点がある。また、最近は、ウェーハの大きさがますます
大きくなり、その直径か250mmという大きさになり
、ピンセットで取り扱うのには重すぎるという問題があ
る。無理に取り扱うと、ウェーハを落し割れたり、欠け
たりする恐れがある。However, the above-mentioned manual visual inspection has the disadvantage that it may damage the surface of the wafer or cause dust to adhere thereto. Furthermore, recently, the size of wafers has become larger and larger, reaching a diameter of 250 mm, which poses the problem of being too heavy to handle with tweezers. If you handle it with force, there is a risk of dropping the wafer and causing it to crack or chip.
本発明の目的は、ウェーハに傷、割れ及びごみの付着す
ることのないウェーハ外観検査装置を提供するこにある
。An object of the present invention is to provide a wafer appearance inspection apparatus that does not cause scratches, cracks, or dust to adhere to the wafer.
本発明のウェーハ外観検査装置は、一方向に半導体ウェ
ーハが出入りし収納する多数の棚を有するウェーハ収納
箱と、このウェーハ収納箱を乗せる面に穴をもつととも
に前記半導体ウェーへ面に直交する方向に移動し得るテ
ーブルと、このテーブルの前記穴を通り前記一方向に伸
縮することにより前記半導体ウェーハを前記ウェーハ収
納箱より出し入れするブレードと、このブレードを回転
もしくは首振り運動及び前記一方向に伸縮させる駆動機
構部とを備え構成される。The wafer visual inspection apparatus of the present invention includes a wafer storage box having a large number of shelves for storing semiconductor wafers in one direction, and a hole in the surface on which the wafer storage box is placed, and a direction perpendicular to the surface to which the semiconductor wafers are placed. a table that can be moved in the same direction; a blade that moves the semiconductor wafer in and out of the wafer storage box by extending and contracting in the one direction through the hole in the table; and a drive mechanism section for controlling the drive mechanism.
次に、本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例を示すウェーハ外観検査装置
の斜視図、第2図は第1図のブレード駆動部の側面図で
ある。このウェーハ外観検査装置は、一方向にウェーハ
1が出入りし収納する多数の棚を有するウェーハ収納箱
4と、このウェーハ収納箱4を乗せる面に穴15をもつ
とともに矢印9に移動し得るテーブル14と、このチー
フル14の穴15を通り矢印10の方向に伸縮すること
によりウェーハ1をウェーハ収納箱4より出し入れする
ブレード2と、このプレート2を矢印3の方向に回転も
しくは首振り運動及び矢印10の方向に伸縮させるモー
タ7及び8からなる駆動機構部とで構成されている。FIG. 1 is a perspective view of a wafer visual inspection apparatus showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the blade drive section of FIG. 1. This wafer visual inspection apparatus includes a wafer storage box 4 having a large number of shelves into which wafers 1 are stored in one direction, and a table 14 which has a hole 15 on the surface on which the wafer storage box 4 is placed and can move in the direction of an arrow 9. , a blade 2 that passes through the hole 15 of the chiffle 14 and expands and contracts in the direction of arrow 10 to take in and take out the wafer 1 from the wafer storage box 4; and a blade 2 that rotates or oscillates the plate 2 in the direction of arrow 3 and The drive mechanism consists of motors 7 and 8 that extend and retract in the directions shown in FIG.
次に、このウェーハ外観検査装置の動作を説明する。ま
ず、ウェーハ1を多数枚収納したウェーハ収納箱4をテ
ーブル14に乗せる。このとき、ウェーハ収納箱4の位
置とテーブル14の穴15の位置を合せる。次に、モー
タ11が回転し、送りねじ6によりテーブル14か矢印
9の方向に移動し、所定の位置(ブレード2がテーブル
14の穴15の下に位置する)に停止する。次に、モー
タ8により矢印10の方向に、ラム16の上昇に伴いブ
レード2が原位置より上昇し、ウェーハ1の一枚をブレ
ード2の先端で挟むことによって拾いウェーハ収納箱4
の上に突き上げる。Next, the operation of this wafer visual inspection apparatus will be explained. First, the wafer storage box 4 containing a large number of wafers 1 is placed on the table 14. At this time, the position of the wafer storage box 4 and the position of the hole 15 of the table 14 are aligned. Next, the motor 11 is rotated, the table 14 is moved in the direction of the arrow 9 by the feed screw 6, and stopped at a predetermined position (the blade 2 is located below the hole 15 of the table 14). Next, the blade 2 is raised from its original position as the ram 16 is raised in the direction of the arrow 10 by the motor 8, and the wafer storage box 4 picks up one of the wafers 1 by pinching it with the tip of the blade 2.
Push up above.
ウェーハ1が突き上げられた後、モータ7を回転し、ブ
レード2をゆっくりと矢印3の方向に回転もしくは首振
りをさせ、ウェーハ1が常に目5で直視出来るようにし
て検査する。ここで、センサ12はブレード2の回転あ
るいは首振り運動を制御するもので、ベルト13はモー
タ7の回転をブレード2に伝達する伝達機構である。After the wafer 1 is pushed up, the motor 7 is rotated, and the blade 2 is slowly rotated or swung in the direction of the arrow 3, so that the wafer 1 can always be inspected directly with the eye 5. Here, the sensor 12 controls the rotation or swinging motion of the blade 2, and the belt 13 is a transmission mechanism that transmits the rotation of the motor 7 to the blade 2.
次に、目視検査が終ったら、ウェーハ1の回転もしくは
首振り運動を停止し、ウェーハ1の両面がウェーハ収納
箱4の棚に平行になるようにしてラム16を下降するこ
とにより、ブレード2を下降し、ウェーハ1をウェーハ
収納箱4の棚に収納する。このことによりブレード2は
前述の原位置に戻る。Next, after the visual inspection is completed, the rotation or swinging motion of the wafer 1 is stopped, and the blade 2 is lowered by lowering the ram 16 so that both sides of the wafer 1 are parallel to the shelves of the wafer storage box 4. It descends and stores the wafer 1 on the shelf of the wafer storage box 4. This causes the blade 2 to return to its original position.
このように、順次、ウェーハ収納箱4に収納されたウェ
ーハを手に触れることなく、自動的に外観検査を終了す
ることが出来る。従って、このウェーハ外観検査装置は
、他の自動化ラインと結合して所謂カセット・ツー・カ
セットのオンラインに適用出来るという利点がある。In this way, the appearance inspection can be automatically completed without touching the wafers stored in the wafer storage box 4 one after another. Therefore, this wafer visual inspection apparatus has the advantage that it can be applied to a so-called cassette-to-cassette online system by combining with other automated lines.
以上説明したように本発明は、直接ウェーハをピンセッ
トで掴んで外観検査を行なうことがなくなったため、ウ
ェーハに傷、割れ及びごみの付着することのないウェー
ハ外観検査装置が得られるという効果がある。As explained above, the present invention eliminates the need to directly grasp the wafer with tweezers for visual inspection, and thus has the effect of providing a wafer visual inspection apparatus that does not cause scratches, cracks, or dust to adhere to the wafer.
第1図は本発明の一実施例を示すウェーハ外観検査装置
の斜視図、第2図は第1図のブレード駆動部の側面図で
ある。
1・・・ウェーハ、2・・・ブレード、3.9.10・
・・矢印、4・・・ウェーハ収納箱、5・・目、6・・
・送りねじ、7.8.11・・・モータ、12・・・セ
ンサ、13・・・ベルト、14・・・テーブル、15・
・・穴、16・・ラム。
代理人 ブf理士 内 原 買FIG. 1 is a perspective view of a wafer visual inspection apparatus showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the blade drive section of FIG. 1. 1... Wafer, 2... Blade, 3.9.10.
...Arrow, 4...Wafer storage box, 5...Eye, 6...
・Feed screw, 7.8.11...Motor, 12...Sensor, 13...Belt, 14...Table, 15.
...hole, 16...ram. Agent BuF Physician Uchihara Buyer
Claims (1)
有するウェーハ収納箱と、このウェーハ収納箱を乗せる
面に穴をもつとともに前記半導体ウェーハ面に直交する
方向に移動し得るテーブルと、このテーブルの前記穴を
通り前記一方向に伸縮することにより前記半導体ウェー
ハを前記ウェーハ収納箱より出し入れするブレードと、
このブレードを回転もしくは首振り運動及び前記一方向
に伸縮させる駆動機構部とを備えることを特徴とする半
導体ウェーハ外観検査装置。a wafer storage box having a large number of shelves for storing semiconductor wafers in one direction; a table having a hole in the surface on which the wafer storage box is placed; a blade that moves the semiconductor wafer in and out of the wafer storage box by expanding and contracting in the one direction through the hole;
A semiconductor wafer appearance inspection apparatus comprising a drive mechanism that rotates or oscillates the blade and expands and contracts the blade in the one direction.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7539089A JPH0781954B2 (en) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Semiconductor wafer visual inspection system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7539089A JPH0781954B2 (en) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Semiconductor wafer visual inspection system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02253140A true JPH02253140A (en) | 1990-10-11 |
JPH0781954B2 JPH0781954B2 (en) | 1995-09-06 |
Family
ID=13574815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7539089A Expired - Fee Related JPH0781954B2 (en) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Semiconductor wafer visual inspection system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0781954B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007256133A (en) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | Method and device for inspecting surface defect of disc |
CN110562740A (en) * | 2019-10-10 | 2019-12-13 | 苏州铁近机电科技股份有限公司 | Bearing shield loading attachment |
-
1989
- 1989-03-27 JP JP7539089A patent/JPH0781954B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007256133A (en) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | Method and device for inspecting surface defect of disc |
CN110562740A (en) * | 2019-10-10 | 2019-12-13 | 苏州铁近机电科技股份有限公司 | Bearing shield loading attachment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0781954B2 (en) | 1995-09-06 |
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