JPH0780956A - Production of light scattering material - Google Patents

Production of light scattering material

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JPH0780956A
JPH0780956A JP5254925A JP25492593A JPH0780956A JP H0780956 A JPH0780956 A JP H0780956A JP 5254925 A JP5254925 A JP 5254925A JP 25492593 A JP25492593 A JP 25492593A JP H0780956 A JPH0780956 A JP H0780956A
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resin
good solvent
solvent
resin film
light scattering
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JP5254925A
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Tatsuo Ishibashi
Shuzo Okumura
Kazuhiko Takahata
秀三 奥村
達男 石橋
和彦 高畑
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Nissha Printing Co Ltd
日本写真印刷株式会社
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Abstract

PURPOSE:To obtain a light scattering material enhanced in light scattering rate by forming a resin film and exposing the film to a poor solvent having a b.p. higher than that of a good solvent to dry the same to vaporize the solvent and forming the resin film having fine voids on a substrate. CONSTITUTION:Polyethylene dissolved in a good solvent 3, for example, benzene, toluene or ethyl acetate and an acrylic resin soln. are applied or printed on a substrate to form a resin film l. The resin film 1 is exposed to a poor solvent 4 having a b.p. higher than that of the good solvent, for example, methanol, n-butanol or diacetone alcohol before the good solvent 3 in the resin film 1 is perfectly dried. The good solvent 3 and the poor solvent 4 are successively vaporized by drying the resin film to form the resin film having a large number of non-spherical continuous fine voids on the substrate to obtain a light scattering material. Herein, when the substrate is a light guide plate, as the material quality thereof, an acrylic resin, polycarbonate or a polyvinyl chloride resin is used.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光散乱率が高い光散乱材の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a light scattering rate is a method of manufacturing high light scattering material.

【0002】液晶ディスプレイのバックライトは、薄型で、高輝度かつ均一な発光を行なうことが必要である。 [0002] a backlight of a liquid crystal display, a thin, it is necessary to perform the high brightness and uniform light emission.
このような液晶ディスプレイのバックライトとして、透明な導光板の側方に線光源が配置され、線光源からの距離に応じて形成密度の変化したグラデーションパターンを有する光散乱反射部が導光板裏面に設けられたエッジライト方式の面光源装置が多く用いられている。 As the backlight of the liquid crystal display, transparent line source on a side of the light guide plate is disposed on the back light scattering reflection portion light guide plate having an altered gradient pattern formation density according to the distance from the linear light source surface light source device provided with an edge light type is widely used.

【0003】光散乱反射部は、線光源から導光板内に入射した光を上方に散乱反射させ導光板の上面より出射させる。 [0003] Light scattering reflecting portion causes the light incident from the line light source into the light guide plate is scattered reflected upward emit from the upper surface of the light guide plate. よって、光散乱反射部の光散乱率を高めることが面光源装置の高輝度化の重要なポイントとなる。 Therefore, increasing the light scattering of the light scattering reflection portion is an important point of the high brightness of the surface light source device.

【0004】また、面光源装置には、導光板の表側に拡散板を配置したものがある。 Further, the surface light source device, there is arranged a diffusion plate on the front side of the light guide plate. 拡散板は、導光板より出射した光を散乱させることにより光散乱反射部の形成部分と非形成部分との輝度差を解消して均一な発光面を得るものである。 Diffuser is to obtain a uniform light-emitting surface to eliminate the luminance difference between the forming section and the non-formation portion of the light scattering reflection portion by scattering the light emitted from the light guide plate.

【0005】 [0005]

【従来の技術】従来より、導光板裏面に光散乱反射部を形成する方法としては、白色顔料やガラスビーズなどの光散乱性微粒子が混入されたインキを用いてグラデーションパターンの光散乱層を導光板裏面に直接印刷する方法や、ガス発生物質が混入されたインキを用いてグラデーションパターンの光散乱層を導光板裏面に直接印刷した後、光照射または加熱により発泡させ内部に多数の気泡が封入された樹脂層を形成する方法があった。 BACKGROUND ART Conventionally, as a method of forming a light scattering reflection portion in the light guide plate back surface, guide the light scattering layer of the gradation pattern using the ink of light scattering fine particles such as white pigment, glass beads are mixed and how to print directly to the optical plate back surface, after printing directly to the light guide plate back surface of the light scattering layer of the gradation pattern using the ink gas generating material is mixed, a number of bubbles are encapsulated inside foamed by light irradiation or heating there is a method of forming a resin layer which is.

【0006】また、導光板裏面に光散乱反射部を形成する別の方法として、線光源からの距離に応じて形成密度の変化したグラデーションパターンを有する光透過性層を導光板裏面に設けた後、白色顔料やガラスビーズなどの光散乱性微粒子が混入されたインキを全面塗布したフィルムを導光板裏面に積層する方法や、線光源からの距離に応じて形成密度の変化したグラデーションパターンを有する光透過性層を導光板裏面に設けた後、ガス発生物質が混入されたインキを全面塗布し光照射または加熱により塗布膜が発泡されたフィルムを導光板裏面に積層する方法がある。 [0006] Another method of forming a light scattering reflecting portion on the light guide plate back surface, after forming the light guide plate back surface of the light transmitting layer having altered gradient pattern formation density according to the distance from the linear light source light having a method of laminating a light-scattering fine particles such as white pigment, glass beads were entirely coated with the ink are mixed film to the light guide plate back surface, an altered gradient pattern formation density according to the distance from the linear light source after providing a transparent layer on the light guide plate back surface, there is a method of laminating a coating film by light irradiation or heating the entire surface coated with ink gas generating material is mixed is foamed film on the light guide plate back surface.

【0007】また、拡散板の場合には、上記の光散乱性微粒子が混入されたインキを全面塗布したフィルムや、 [0007] In the case of diffuser films and was entirely coated with ink above light-scattering fine particles are mixed,
ガス発生物質が混入されたインキを全面塗布し光照射または加熱により塗布膜が発泡されたフィルムを用いたものがあった。 Coating film by light irradiation or heating the entire surface coated with ink gas generating material is mixed there was a one using a foamed film.

【0008】 [0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来技術には、以下のような問題があった。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, the above prior art has the following problems.

【0009】つまり、白色顔料やガラスビーズなどの光散乱性微粒子が混入されたインキを用いる方法では、インキとしての印刷適性を出すためには光散乱性微粒子の含有率に限界があり、高い光散乱率は得られなかった。 [0009] That is, in the method of using an ink of light scattering fine particles such as white pigment, glass beads are mixed, in order to give printability as ink is limited to the content of the light-scattering particles, high light scattering rate could not be obtained.
また、光散乱微粒子の粒径が大きいため、光散乱微粒子の混入によって得られる塗布膜の凹凸が粗くなり、やはり高い光散乱率は得られなかった。 Further, since the particle diameter of the light scattering fine particles is large, unevenness of the coating film obtained by the incorporation of light-scattering fine particles is roughened, it is still high light scattering ratio were not obtained.

【0010】また、ガス発生物質が混入されたインキを用い光照射や加熱により塗布膜を発泡させる方法では、 Further, in a method of foaming a coating film by light irradiation or heating using an ink in which the gas generating material is mixed in,
発生した気泡がほぼ球形に近く形成される。 Bubbles generated is formed near the substantially spherical. 換言すれば、気泡の表面積が非常に小さくなるため、気泡と樹脂の界面、すなわち光散乱界面の表面積が大きくならない。 In other words, the surface area of ​​the bubble is very small, the interface between the bubbles and the resin, that is, the surface area of ​​the light scattering surface does not increase. よって、高い光散乱率は得られなかった。 Therefore, the high light scattering rate could not be obtained.

【0011】加えて、気泡を高密度に発生させようとすると、気泡の発生によって塗布層が膨れ上がるのでパターンの精度が極端に悪くなり、たとえばドットグラデーションを印刷しても忠実なパターンを再現できず、輝度の不均一性の原因となる。 [0011] In addition, when an attempt to generate bubbles at a high density, since the occurrence of bubbles swell the coating layer pattern accuracy becomes extremely poor, for example, can be reproduced faithfully patterns be printed dot gradation not, causing non-uniformity of brightness. また、発泡により膜質が極端に脆くなる。 Further, the film quality is extremely brittle by foaming. よって、発泡密度に限界があり、高い光散乱率は得られなかった。 Therefore, there is a limit to the foaming density, the high light scattering ratio were not obtained.

【0012】したがって、本発明は、以上のような問題点を解決し、光散乱率の高い光散乱材を提供することを目的とする Accordingly, the present invention is to solve the above problems, and an object thereof is to provide a a light scattering index high light scattering material

【0013】 [0013]

【課題を解決するための手段および作用】上記の目的を達成するために、本発明の光散乱材の製造方法は、良溶媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒が完全乾燥する前に樹脂被膜を良溶媒より高沸点の貧溶媒中にさらし、その後樹脂被膜を乾燥させることによって良溶媒、貧溶媒の順で気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得るように構成した。 To achieve SUMMARY and effects of the Invention The above object, the manufacturing method of the light scattering material of the present invention, a resin solution obtained by dissolving in a good solvent is coated or printed on a substrate resin film formed, exposed to high-boiling poor solvent to the resin film from the good solvent before good solvent in the resin coating is completely dried, then the good solvent by the resin film is dried to vaporize in the order of a poor solvent- resin coating having a spherical shape and a number of consecutive microvoids is configured to obtain a light scattering material formed on the substrate.

【0014】また、本発明の光散乱材の製造方法は、良溶媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒が完全乾燥する前に樹脂被膜を良溶媒と同等または良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な貧溶媒中にさらし、その後樹脂被膜を乾燥させることによって貧溶媒を気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得るように構成した。 [0014] The manufacturing method of light-scattering material of the present invention, a resin solution obtained by dissolving in a good solvent is coated or printed onto a substrate to form a resin coating, before the good solvent in the resin coating is completely dried exposing the resin coating to an excess of a poor solvent with respect to the good solvent and the equivalent or a good low boiling at and good solvent than solvent, many of antisolvent was the allowed to and nonspherical continuous vaporized by thereafter drying the resin film resin film having fine pores is configured to obtain a light scattering material formed on the substrate.

【0015】また、本発明の光散乱材の製造方法は、良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる混合溶液中に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂被膜を形成し、この樹脂被膜を乾燥させることによって良溶媒、貧溶媒の順で気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得るように構成した。 [0015] The manufacturing method of light-scattering material of the present invention, the good solvent and the good from the resin solution were dissolved in a mixed solution consisting of a high-boiling poor solvent is coated or printed on a substrate resin film solvent formed, good solvent by drying the resin film, so that the resin film having vaporizes in the order of the poor solvent nonspherical a and continuous large number of fine pores obtain light scattering material formed on a substrate It was constructed in.

【0016】以下、本発明を図を用いてさらに詳しく説明する。 [0016] Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIG.

【0017】図1〜図11は本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図、図12〜14は本発明に係る光散乱材を用いた面光源装置を示す断面図である。 [0017] FIGS. 1-11 are schematic diagrams showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention, cross-sectional view 12-14 showing a surface light source device using a light scattering material in accordance with the present invention it is. 1は樹脂被膜、2は樹脂、3は良溶媒、4は貧溶媒、5は凝集樹脂相、6は貧溶媒相、7は空隙、8は微細空孔を有する樹脂被膜、9は導光板、10は線光源、 1 resin coating, the second resin, the good solvent 3, the poor solvent 4, 5 aggregated resin phase, 6 of the poor solvent phase, 7 voids, 8 resin film having fine pores, 9 indicates a light guide plate, 10 the line light source,
11は光散乱層、121,122,123は光散乱材、 11 light scattering layer, 121, 122, 123 light scattering material,
13は光透過性層、14は支持体をそれぞれ示す。 13 light-transmitting layer, 14 denotes a support, respectively.

【0018】本発明は、次のようにして、非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜8が基体上に形成された光散乱材121,122,123を得る。 The present invention, as follows, to obtain a light-scattering material 121, 122 and 123 resin film 8 is formed on a substrate having a non-spherical shape and a number of consecutive micro pores.

【0019】<方法1>基体は、導光板9である場合(図12参照)と導光板9に積層する支持体14である場合(図13および図14参照)とがある。 [0019] <Method 1> substrate may be a light guide plate 9 when a support 14 to be stacked (see FIG. 12) a light guide plate 9 (see FIG. 13 and FIG. 14).

【0020】線光源10からの距離に応じて面積率の変化するグラデーションパターンの光散乱層11を導光板9裏面に直接形成して光散乱材121とした場合には、 [0020] When the light-scattering material 121 is directly formed on the light guide plate 9 back surface of the light scattering layer 11 of the gradation pattern change of area ratio in accordance with the distance from the line light source 10,
導光板9が基体となる(図12参照)。 The light guide plate 9 is the substrate (see FIG. 12). 導光板9の材質としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルなどの樹脂、あるいはガラスなどを使用する。 The material of the light guide plate 9, used acrylic, polycarbonate, resins such as polyvinyl chloride, or glass and the like.

【0021】また、線光源10からの距離に応じて面積率の変化するグラデーションパターンの光透過性層13 Further, the light transmitting layer of the gradient pattern of change in the area ratio in accordance with the distance from the linear light source 10 13
を導光板9裏面に形成し、光散乱層11を全面塗布形成した支持体14を導光板9を光散乱材122として透過性層13を有する面に積層した場合(図13参照)、あるいは光散乱層11を全面塗布形成した支持体14を光散乱材123として導光板9の表側に積層した場合(図14参照)には、支持体14が基体となる。 Was formed on the light guide plate 9 back surface, when the light scattering layer 11 by laminating a support 14 which is spread over the entire surface formed on a surface having a permeable layer 13 of the light guide plate 9 as a light scattering material 122 (see FIG. 13), or light in the case where the scattering layer 11 by laminating a support 14 which is spread over the entire surface formed on the front side of the light guide plate 9 as a light scattering material 123 (see FIG. 14), the support 14 becomes the substrate. 支持体14 Support 14
は、フィルムや樹脂薄板からなり、これらの材質としては、アクリル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂を使用する。 Consists film or resin sheet, as these materials are used acrylic, resin such as polyethylene terephthalate.

【0022】まず、これらの基体上に、樹脂2を良溶媒3に溶解した樹脂液を塗布または印刷する(図1参照)。 [0022] First, on these substrates, coated or printed resin solution obtained by dissolving the resin 2 in a good solvent 3 (see FIG. 1). 良溶媒3とは溶質を溶かす能力の大きい溶媒のことをいう。 The good solvent 3 refers to the high solvent capacity for dissolving the solute. これに反し溶質を溶かす能力の小さい溶媒を貧溶媒4という。 A small solvent capable of dissolving the solute that poor solvent 4 contrary. 良溶媒3としては、たとえばポリスチレン樹脂に対しては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素のほか、テトラヒドロフラン、シクロヘキサンなどが使用される。 As the good solvent 3, for example, for a polystyrene resin, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, ethyl acetate, esters such as butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, ketones such as cyclohexanone, carbon tetrachloride, dichloroethane, etc. in addition to the halogenated hydrocarbons, tetrahydrofuran, cyclohexane and the like are used. また、アクリル樹脂に対しては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素のほか、クロロホルムなどが使用される。 Further, for the acrylic resin, benzene, toluene, aromatic hydrocarbon, ethyl acetate and xylene, esters such as butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, ketones such as cyclohexanone, carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane in addition, chloroform, and the like are used for. もちろん、上記ポリスチレン樹脂やアクリル樹脂以外の樹脂2 Of course, resins other than the polystyrene resin or an acrylic resin 2
に対しても良溶媒3が適宜選択される。 Good solvent 3 is appropriately selected against. 塗布および印刷の方法は、必要膜厚やパターン精度の度合いによって適当な方法を選べばよく、たとえば、バーコート、ロールコート、ディップコートなどの塗布法、スクリーン、グラビア、オフセットなどの印刷法が使用できる。 The method of coating and printing may be selected an appropriate method depending on the degree of required thickness and pattern accuracy, for example, bar coating, roll coating, a coating method such as dip coating, screen, gravure, printing method such as offset using it can.

【0023】次に、樹脂被膜1中の良溶媒3が完全乾燥する前に、樹脂被膜1を良溶媒3より高沸点の貧溶媒4 Next, before the good solvent 3 of the resin coating in 1 is completely dry, the poor solvent of boiling point higher than the resin film 1 good solvent 3 4
中にさらす。 Exposed to in. 貧溶媒4としては、たとえばポリスチレン樹脂に対しては、メタノール、n-ブタノール、n-オクタノール、エチレングリコール、ジアセトンアルコール、 As the poor solvent 4, for example a polystyrene resin, methanol, n- butanol, n- octanol, ethylene glycol, diacetone alcohol,
メトキシエタノールなどのアルコールなどが使用される。 Such as an alcohol such as methoxy ethanol is used. また、アクリル樹脂に対しては、ジアセトンアルコール、メトキシエタノールなどを一部除くアルコールなどが使用される。 Further, with respect to acrylic resins, such as alcohol, excluding diacetone alcohol, methoxyethanol part is used. また、ポリスチレン樹脂やアクリル樹脂以外の樹脂2に対しても貧溶媒4が適宜選択される。 Further, the poor solvent 4 is appropriately selected with respect to the resin 2 except polystyrene resin or an acrylic resin.
なお、良溶媒3と貧溶媒4の沸点の高低は相対的なものであり、たとえばアクリル樹脂に対する良溶媒3と貧溶媒4は、ジエチルベンゼンとそれより高沸点のn-オクタノールの組み合わせなどが使用される。 Incidentally, the height of the boiling point of the good solvent 3 and the poor solvent 4 is relative, for example, good solvent 3 and a poor solvent 4 to acrylic resin, and a combination of diethylbenzene and higher-boiling it n- octanol is used that. また、ポリスチレン樹脂に対する良溶媒3と貧溶媒4は、キシレンとそれより高沸点のn-ヘキサノールの組み合わせ、あるいはテトラヒドロフランとそれより高沸点のn-ブタノールの組み合わせなどが使用される。 Also, a poor solvent 4 good solvent 3 relative to polystyrene resins, such as xylene and combinations of it from high boiling n- hexanol or a combination of tetrahydrofuran and it higher-boiling n- butanol, is used. 樹脂被膜1を良溶媒3より高沸点の貧溶媒4中にさらす方法は、たとえば、貧溶媒4を入れた液槽に樹脂被膜1の形成された基体を浸けたり、樹脂被膜1表面にシャワーやスプレーなどで貧溶媒4を浴びせる方法を使用する。 How exposing the resin film 1 than good solvent 3 in a high-boiling poor solvent 4, for example, or immerse the formed substrate of the resin film 1 in a liquid bath containing a poor solvent 4, shower Ya the resin film 1 surface using methods pour poor solvent 4 in a spray. このとき、樹脂被膜1 In this case, the resin film 1
中より良溶媒3が徐々に溶け出し、逆に樹脂被膜1中に良溶媒3に比べて高沸点の貧溶媒4が徐々に浸透して(図2参照)、樹脂被膜1は樹脂2と良溶媒3と良溶媒3より高沸点の貧溶媒4とからなる層へと変化する(図3参照)。 It melts gradually good solvent 3 than in a poor solvent 4 of the high-boiling compared to the good solvent 3 in the resin film in one reversed gradually permeated (see FIG. 2), the resin film 1 resin 2 and the good changes to a layer consisting of the solvent 3 and the good high-boiling poor solvent 4 which from the solvent 3 (see FIG. 3).

【0024】次に、樹脂被膜1を乾燥させることによって、まず良溶媒3を気化させる(図4参照)。 Next, by drying the resin film 1, to vaporize the first good solvent 3 (see FIG. 4). 良溶媒3 Good solvent 3
を気化させると、樹脂被膜1中の樹脂2が良溶媒3より高沸点の貧溶媒4に溶解しきれなくなって凝集して析出し、凝集樹脂相5と貧溶媒相6とに二相分離を起こす(図5参照)。 When vaporizing the aggregated precipitates longer completely dissolved from the resin 2 is a good solvent third resin film in 1 in a high-boiling poor solvent 4, the two-phase separation in the aggregated resin phase 5 and a poor solvent phase 6 cause (see Figure 5).

【0025】さらに乾燥して良溶媒3より高沸点の貧溶媒4を気化させると(図6参照)、良溶媒3より高沸点の貧溶媒4が飛び去った後に空隙7が残り、非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜8となる(図7参照)。 Furthermore dried when vaporizing the poor solvent 4 of the high-boiling than good solvent 3 (see FIG. 6), the remaining voids 7 after flew high boiling poor solvent 4 than the good solvent 3, with non-spherical and the resin film 8 having a continuous number of fine pores (see FIG. 7).

【0026】また、光散乱材を得る別の方法として、次の方法2、方法3がある。 Further, as another method for obtaining a light scattering material, there are the following methods 2, Method 3.

【0027】<方法2>まず、方法1と同様に基体上に良溶媒3に樹脂2を溶解した樹脂液を塗布または印刷する(図8参照)。 [0027] <Method 2> First, coating or printing a resin solution obtained by dissolving the resin 2 in a good solvent 3 on a substrate in the same manner as Method 1 (see FIG. 8).

【0028】次に、樹脂被膜1中の良溶媒3が完全乾燥する前に、樹脂被膜1を良溶媒3と同等または良溶媒3 Next, before the good solvent 3 of the resin coating in 1 is completely dry, a good solvent of the resin film 1 3 equal or good solvent 3
より低沸点でかつ良溶媒3に対して過剰な貧溶媒4中にさらす。 Exposure to excess poor solvent 4 against lower boiling at and good solvent 3. なお、良溶媒3に対して過剰な量の貧溶媒4を必要とする理由は、貧溶媒4の沸点が良溶媒3に比べて同等か低い場合、樹脂被膜1中の良溶媒3を貧溶媒4と十分に置換しておかないと、乾燥時に貧溶媒4が良溶媒3より先に気化してしまい、良溶媒3のみが樹脂被膜1 The reason for requiring antisolvent 4 excessive amounts relative good solvent 3, if the boiling point of the poor solvent 4 is equal to or lower than the good solvent 3, a good solvent 3 of the resin coating in a 1 antisolvent 4 and Failure to sufficiently replacing, would be a poor solvent 4 is vaporized earlier than the good solvent 3 during drying, good solvent 3 only the resin film 1
中に残って微細空孔を有する樹脂層8が形成できないからである。 It can not be formed resin layer 8 having fine pores remaining in the. 良溶媒3と同等または良溶媒3より低沸点でかつ良溶媒3に対して過剰な貧溶媒4中にさらす方法は、たとえば、過剰量の貧溶媒4を入れた液槽に樹脂被膜1の形成された基体を浸けたり、樹脂被膜1表面にシャワーやスプレーなどで過剰量の貧溶媒4を浴びせる方法を使用する。 The method of exposing than good solvent 3 equal or good solvent 3 in excess poor solvent 4 for the low-boiling a and good solvent 3, for example, formation of the resin coating 1 in a liquid bath containing a poor solvent 4 of excess or immerse are substrates, using methods pour antisolvent 4, such as in excess of shower or spraying a resin film 1 surface. このとき、樹脂被膜1中より良溶媒3が徐々に溶け出し、逆に良溶媒3と同等かまたは良溶媒3 In this case, a good solvent 3 from the resin film in 1 melts gradually, or equal to a good solvent 3 in the opposite or good solvent 3
より低沸点の貧溶媒4が徐々に樹脂被膜1中に浸透して(図9参照)、最終的に樹脂被膜1は樹脂2と貧溶媒4 Lower boiling poor solvent 4 is gradually penetrate into the resin film in 1 (see FIG. 9), and finally the resin film 1 resin 2 and a poor solvent 4
とからなる層へと変化する。 Changes to consist of a layer. その結果、樹脂被膜1中の樹脂2は貧溶媒4に溶解しきれなくなって凝集して析出し、凝集樹脂相5と貧溶媒相6とに二相分離を起こす(図10参照)。 As a result, the resin 2 of the resin film in one precipitates agglomerate longer completely dissolved in the poor solvent 4, causing phase separation in the aggregated resin phase 5 and a poor solvent phase 6 (see FIG. 10).

【0029】最後に、樹脂被膜1を乾燥して貧溶媒4を気化させると(図11参照)、貧溶媒4が飛び去った後に空隙7が残り、非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜8となる(図7参照)。 [0029] Finally, (see FIG. 11) when the resin film 1 and dried to vaporize the antisolvent 4, the remaining air gap 7 after poor solvent 4 flew away, non-spherical shape and a number of consecutive microscopic voids the resin film 8 having (see Figure 7).

【0030】<方法3>まず、良溶媒3と良溶媒3より高沸点の貧溶媒4とからなる混合溶液中に樹脂2を溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷する(図3参照)。 [0030] <Method 3> First, a resin solution obtained by dissolving the resin 2 is coated or printed on a substrate in a mixed solution consisting of good solvent 3 and the good high-boiling poor solvent 4 which from the solvent 3 (see FIG. 3) . 良溶媒3および良溶媒3より高沸点の貧溶媒4としては、方法1と同様のものを用いることができる。 The high-boiling poor solvent 4 than the good solvent 3 and good solvent 3 can be the same as the method 1.

【0031】次に、方法1と同様に樹脂被膜1を乾燥させることによって、まず良溶媒3を気化させ(図4参照)、樹脂被膜1に凝集樹脂相5と貧溶媒相6の二相分離を起こさせる(図5参照)。 Next, by drying the resin film 1 in the same manner as method 1, first (see FIG. 4) good solvent 3 is vaporized two-phase separation of the aggregated resin phase 5 in the resin film 1 poor solvent phase 6 the cause (see Figure 5).

【0032】さらに乾燥して貧溶媒4を気化させる(図6参照)と、貧溶媒4が飛び去った後に空隙7が残り、 Furthermore dried to vaporize the antisolvent 4 (see FIG. 6), the remaining voids 7 after poor solvent 4 flew away,
非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜8となる(図7参照)。 The resin film 8 having a non-spherical shape and a number of consecutive fine pores (see FIG. 7).

【0033】なお、方法1〜3によって製造された光散乱材は、樹脂2、良溶媒3、貧溶媒4の組み合わせや混合比率、塗布膜厚、乾燥温度などの条件設定によって微細空孔の平均径、形状および密度を調節し、光散乱や光透過の条件設定を行なうことができる。 [0033] The light scattering material produced by the process 1-3, the resin 2, good solvent 3, the poor solvent 4 combinations and mixing ratios, the average fine pore by setting conditions such as coating thickness, drying temperature diameter, to adjust the shape and density, it is possible to perform condition setting of the light scattering and light transmission.

【0034】 [0034]

【実施例】以下、本発明の光散乱材の製造方法について実施例を示す。 EXAMPLES Hereinafter, an embodiment method for producing the light scattering material of the present invention.

【0035】実施例1 厚さ1mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーターで塗布した。 [0035] on a substrate made of a transparent acrylic resin plate of Example 1 thickness of 1 mm, it was applied a resin solution having the following composition comprising a resin and a good solvent to a bar coater. アクリル樹脂(三菱レイヨン株式会社製、BR−85) 20重量部 シクロヘキサノン(良溶媒) 80重量部 Acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co. Ltd., BR-85) 20 parts by weight Cyclohexanone (good solvent) 80 parts by weight

【0036】コーティング後直ちに樹脂被膜の形成された基体を良溶媒より高沸点のn-オクタノール(貧溶媒) [0036] After coating immediately formed of the resin coating the substrate with good solvent from the high boiling n- octanol (poor solvent)
中に浸漬してシクロヘキサノン(良溶媒)とn-オクタノール(貧溶媒)とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。 Immersed interchanged part and cyclohexanone (good solvent) and n- octanol (poor solvent) in, and a layer made of a resin film and a resin and a good solvent and a good high-boiling poor solvent than the solvent.
その後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによって、シクロヘキサノン(良溶媒)、n-オクタノール(貧溶媒)の順で気化させて光散乱材を得た。 Thereafter, 50 ° C., followed by drying for 30 minutes in an oven, cyclohexanone (good solvent) to yield a light scattering material is vaporized in the order of n- octanol (poor solvent).

【0037】乾燥により基体上に形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は25μmであった。 The resin film having fine pores formed on the substrate by drying was white opaque, the film thickness was 25 [mu] m. 顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0. Observation of the resin film with a microscope, the average diameter of 0.
4μmの微細空孔が密に存在していた。 4μm of fine pores were present densely.

【0038】このようにして得られた光散乱材を、導光板裏面に設けられたグラデーションパターンを有する光透過性層上に積層して光散乱反射部を形成したところ、 [0038] When this manner the light scattering material obtained was laminated on a light transmitting layer having a gradation pattern provided on the light guide plate back surface to form a light scattering reflection portion,
光散乱率が高いので導光板の出射面での輝度が向上した。 Brightness at the exit surface of the light guide plate is improved because the light scattering ratio is high.

【0039】実施例2 厚さ1mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液を200線のスクリーン印刷により、ピッチが1.5mmの円形のドットグラデーションパターンに印刷した。 [0039] on a substrate made of a transparent acrylic resin plate of Example 2 thickness of 1 mm, by screen printing of the resin solution of the following composition comprising a resin and a good solvent of 200 lines, the pitch is 1.5mm circular dot gradation It was printed on the pattern. ポリスチレン樹脂(重合度約1400) 25重量部 酢酸ブチル(良溶媒) 75重量部 Polystyrene resin (polymerization degree: about 1400) 25 parts by weight of butyl acetate (good solvent) 75 parts by weight

【0040】印刷後2分間室温でレベリングした後、樹脂被膜の形成された基体を良溶媒より高沸点のエチレングリコールモノアセテート(貧溶媒)中に浸漬して酢酸ブチル(良溶媒)とエチレングリコールモノアセテート(貧溶媒)とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。 [0040] After leveling at room temperature for 2 minutes after printing, high-boiling ethylene glycol monoacetate (poor solvent) immersed in butyl acetate in a (good solvent) than the good solvent the formed substrate of the resin film and ethylene glycol monomethyl replaced part and acetate (poor solvent), was a layer made of a resin film and a resin and a good solvent and a good high-boiling poor solvent than the solvent. その後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによって酢酸ブチル(良溶媒)、エチレングリコールモノアセテート(貧溶媒)の順で気化させて光散乱材を得た。 Thereafter, 50 ° C., butyl acetate by drying for 30 minutes in an oven (good solvent), was vaporized in the order of ethylene glycol monoacetate (poor solvent) to give a light scattering material.

【0041】乾燥により基体上にグラデーションパターンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は20μmであった。 The resin film having fine pores formed by gradation pattern on the substrate by drying was white opaque, the film thickness was 20 [mu] m. 顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0.7μmの微細空孔が密に存在していた。 Observation of the resin film with a microscope, the average diameter is 0.7μm fine pores were present densely.

【0042】このようにして得られた光散乱材を、導光板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出射面での輝度が向上した。 [0042] The thus light scattering material obtained, was used as a light guide plate, the light scattering rate is high brightness at the exit surface of the light guide plate was improved.

【0043】実施例3 厚さ1mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーターで塗布した。 [0043] on a substrate made of a transparent acrylic resin plate of Example 3 thickness 1 mm, it was applied a resin solution having the following composition comprising a resin and a good solvent to a bar coater. アクリル樹脂(三菱レイヨン株式会社製、BR−85) 9重量部 酢酸エチル(良溶媒) 91重量部 Acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co. Ltd., BR-85) 9 parts by weight of ethyl acetate (good solvent) 91 parts by weight

【0044】コーティング後直ちに樹脂被膜の形成された基体を良溶媒より高沸点のn-ペンタノール(貧溶媒) [0044] After coating immediately formed of the resin coating the substrate with good solvent from the high boiling n- pentanol (poor solvent)
中に浸漬して 酢酸エチル(良溶媒)とn-ペンタノール(貧溶媒)とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。 Immersed in during replaced part of ethyl acetate and (good solvent) n- pentanol (poor solvent), was a layer made of a resin film and a resin and a good solvent and a good high-boiling poor solvent than the solvent. その後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによって酢酸エチル(良溶媒)、n-ペンタノール(貧溶媒)の順で気化させて光散乱材を得た。 Thereafter, 50 ° C., ethyl acetate followed by drying for 30 minutes in an oven (good solvent) to yield a light scattering material is vaporized in the order of n- pentanol (poor solvent).

【0045】乾燥により基体上に形成された微細空孔を有する樹脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は1.8μmであった。 The resin film having fine pores formed on the substrate by drying was milky white translucent, the film thickness was 1.8 .mu.m. 顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が Observation of the resin film with a microscope, the average diameter
1.5μmの微細空孔が密に存在していた。 1.5μm of fine pores were present densely.

【0046】このようにして得られた光散乱材を、拡散板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出射面での輝度が均一になった。 [0046] The thus light scattering material obtained, was used as the diffusion plate, the light scattering rate is high brightness at the exit surface of the diffusion plate became homogeneous.

【0047】実施例4 厚さ1mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーターで塗布した。 [0047] on a substrate made of a transparent acrylic resin plate of Example 4 thickness 1 mm, it was applied a resin solution having the following composition comprising a resin and a good solvent to a bar coater. ポリスチレン樹脂(重合度約1400) 30重量部 トルエン(良溶媒) 70重量部 Polystyrene resin (polymerization degree: about 1400) 30 parts by weight of toluene (good solvent) 70 parts by weight

【0048】コーティング後直ちに樹脂被膜の形成された基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な [0048] Excessive immediately formed substrate resin film after coating with respect to the good low boiling at and good solvent from the solvent
n-プロパノール(貧溶媒)中に5分間浸漬してトルエンとn-プロパノール(貧溶媒)とを十分に入れ換え、その後50℃、30分間オーブン中で乾燥してn-プロパノール(貧溶媒)を気化させて光散乱材を得た。 Replaced sufficiently with toluene and n- propanol (anti-solvent) n- propanol immersed in 5 minutes (poor solvent) in, then 50 ° C., vaporized and dried to n- propanol (anti-solvent) for 30 minutes in an oven obtain a light scattering material by.

【0049】乾燥により基体上に形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は30μmであった。 The resin film having fine pores formed on the substrate by drying was white opaque, the film thickness was 30 [mu] m. 顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0. Observation of the resin film with a microscope, the average diameter of 0.
5μmの微細空孔が密に存在していた。 5μm of fine pores were present densely.

【0050】このようにして得られた光散乱材を、導光板裏面に設けられたグラデーションパターンを有する光透過性層上に積層したところ、光散乱率が高いので導光板の出射面での輝度が向上した。 The luminance of the way the light scattering material obtained, was laminated on the light transmitting layer having a gradation pattern provided on the light guide plate back surface, with the light scattering ratio is high emission surface of the light guide plate There was improved.

【0051】実施例5 厚さ1mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液を200線のスクリーン印刷により、ピッチが1.5mmの円形のドットグラデーションパターンに印刷した。 [0051] on a substrate made of a transparent acrylic resin plate of Example 5 thickness 1 mm, by screen printing of the resin solution of the following composition comprising a resin and a good solvent of 200 lines, the pitch is 1.5mm circular dot gradation It was printed on the pattern. アクリル樹脂(三菱レイヨン株式会社製、BR−85) 20重量部 ジアセトンアルコール(良溶媒) 80重量部 Acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co. Ltd., BR-85) 20 parts by weight of diacetone alcohol (good solvent) 80 parts by weight

【0052】印刷後2分間室温でレベリングした後、樹脂被膜の形成された基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰なn-ヘキサノール(貧溶媒)中に30秒間浸漬してジアセトンアルコール(良溶媒)とn-ヘキサノール(貧溶媒)とを十分に入れ換え、その後50℃、30分間オーブン中で乾燥してn-ヘキサノール(貧溶媒)を気化させて光散乱材を得た。 [0052] After leveling at room temperature for 2 minutes after printing, the formed substrate of the resin coating than the good solvent in an excess of n- hexanol relative low boiling at and good solvent (poor solvent) was immersed for 30 seconds di acetone alcohol (good solvent) n- hexanol replaced sufficiently with (poor solvent), then 50 ° C., to vaporize dried n- hexanol (poor solvent) for 30 minutes in an oven to obtain a light scattering material.

【0053】乾燥により基体上にグラデーションパターンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は15μmであった。 [0053] resin film having fine pores formed by gradation pattern on the substrate by drying was white opaque, the film thickness was 15 [mu] m. 顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0.3μmの微細空孔が密に存在していた。 Observation of the resin film with a microscope, the average diameter of the fine pores of 0.3μm were present densely.

【0054】このようにして得られた光散乱材を、導光板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出射面での輝度が向上した。 [0054] The thus light scattering material obtained, was used as a light guide plate, the light scattering rate is high brightness at the exit surface of the light guide plate was improved.

【0055】実施例6 厚さ1mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーターで塗布した。 [0055] on a substrate made of a transparent acrylic resin plate of Example 6 thickness 1 mm, it was applied a resin solution having the following composition comprising a resin and a good solvent to a bar coater. アクリル樹脂(三菱レイヨン株式会社製、BR85) 7重量部 酢酸ブチル(良溶媒) 93重量部 Acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., BR85) 7 parts by weight of butyl acetate (good solvent) 93 parts by weight

【0056】コーティング後直ちに樹脂被膜の形成された基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な [0056] Excessive immediately formed substrate resin film after coating with respect to the good low boiling at and good solvent from the solvent
n-ブタノール(貧溶媒)中に20秒間浸漬して酢酸ブチル(良溶媒)とn-ブタノール(貧溶媒)とを十分に入れ換え、その後50℃、30分間オーブン中で乾燥してn-ブタノール(貧溶媒)を気化させて光散乱材を得た。 n- butanol replaced sufficiently with (poor solvent) for 20 seconds immersed in butyl acetate in (good solvent) and n- butanol (poor solvent), then 50 ° C., dried n- butanol for 30 minutes in an oven ( poor solvent) is vaporized to obtain a light scattering material.

【0057】乾燥により基体上に形成された微細空孔を有する樹脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は1.5μmであった。 [0057] resin film having fine pores formed on the substrate by drying was milky white translucent, the film thickness was 1.5 [mu] m. 顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が1μmの微細空孔が密に存在していた。 Observation of the resin film with a microscope, the average diameter of the fine pores of 1μm were present densely.

【0058】このようにして得られた光散乱材を、拡散板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出射面での輝度が均一になった。 [0058] The thus light scattering material obtained, was used as the diffusion plate, the light scattering rate is high brightness at the exit surface of the diffusion plate became homogeneous.

【0059】実施例7 厚さ1mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーターで塗布した。 [0059] on a substrate made of a transparent acrylic resin plate of Example 7 thickness 1 mm, it was applied a resin solution having the following composition comprising a resin and a good solvent and a good high-boiling poor solvent from the solvent on a bar coater. ポリスチレン樹脂(重合度約1400) 20重量部 キシレン(良溶媒) 50重量部 n-ヘキサノール(貧溶媒) 30重量部 Polystyrene resin (polymerization degree: about 1400) 20 parts by weight of xylene (good solvent) 50 parts by weight n- hexanol (poor solvent) 30 parts by weight

【0060】樹脂液を塗布した後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによってキシレン(良溶媒)、n- [0060] After the resin solution was applied, 50 ° C., xylene followed by drying for 30 minutes in an oven (good solvent), n-
ヘキサノール(貧溶媒)の順で気化させて光散乱材を得た。 To obtain a light scattering material is vaporized in the order of hexanol (poor solvent).

【0061】乾燥により基体上に形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は30μmであった。 [0061] resin film having fine pores formed on the substrate by drying was white opaque, the film thickness was 30 [mu] m. 顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0. Observation of the resin film with a microscope, the average diameter of 0.
5μmの微細空孔が密に存在していた。 5μm of fine pores were present densely.

【0062】このようにして得られた光散乱材を、導光板裏面に設けられたグラデーションパターン有する光透過性層上に積層したところ、光散乱率が高いので導光板の出射面での輝度が向上した。 [0062] The thus obtained light-scattering material, was laminated on the light transmitting layer having gradation pattern provided on the light guide plate back surface, the brightness at the light scattering ratio is high emission surface of the light guide plate It was improved.

【0063】実施例8 厚さ1mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる下記の組成の樹脂液を200線のスクリーン印刷により、ピッチが1.5mmの円形のドットグラデーションパターンに印刷した。 [0063] on a substrate made of a transparent acrylic resin plate of Example 8 thickness 1 mm, by screen printing a resin solution having the following composition comprising a resin and a good solvent and a good high-boiling poor solvent from the solvent 200 lines, pitch is printed in a circular dot gradation pattern of 1.5mm. アクリル樹脂(三菱レイヨン株式会社製、BR85) 20重量部 ジエチルベンゼン(良溶媒) 60重量部 n-オクタノール(貧溶媒) 20重量部 Acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., BR85), 20 parts by weight diethylbenzene (good solvent) 60 parts by weight of n- octanol (poor solvent) 20 parts by weight

【0064】印刷後、60℃、1時間オーブン中で乾燥させることによってジエチルベンゼン(良溶媒)、n-オクタノール(貧溶媒)の順で気化させて光散乱材を得た。 [0064] After printing, 60 ° C., diethylbenzene by drying for 1 hour in an oven (good solvent) to yield a light scattering material is vaporized in the order of n- octanol (poor solvent).

【0065】乾燥により基体上にグラデーションパターンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は30μmであった。 [0065] resin film having fine pores formed by gradation pattern on the substrate by drying was white opaque, the film thickness was 30 [mu] m. 顕微鏡で樹脂被膜観察したところ、平均径が0.3μmの微細空孔が密に存在していた。 Was resin film observed with a microscope, the average diameter of the fine pores of 0.3μm were present densely.

【0066】このようにして得られた光散乱材を、導光板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出射面での輝度が向上した。 [0066] The thus light scattering material obtained, was used as a light guide plate, the light scattering rate is high brightness at the exit surface of the light guide plate was improved.

【0067】実施例9 厚さ0.5mmの透明ポリエチレンテレフタレート樹脂からなる基体上に、樹脂と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーターで塗布した。 [0067] on a substrate made of Example 9 thickness 0.5mm transparent polyethylene terephthalate resin was coated resin solution having the following composition comprising a resin and a good solvent and a good high-boiling poor solvent from the solvent on a bar coater. ポリスチレン樹脂(重合度約1400) 9重量部 テトラヒドロフラン(良溶媒) 67重量部 n-ブタノール(貧溶媒) 24重量部 Polystyrene resin (polymerization degree: about 1400) 9 parts by weight of tetrahydrofuran (good solvent) 67 parts by weight n- butanol (poor solvent) 24 parts by weight

【0068】印刷後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによってテトラヒドロフラン(良溶媒)、n-ブタノール(貧溶媒)の順で気化させて光散乱材を得た。 [0068] After printing, 50 ° C., tetrahydrofuran by drying for 30 minutes in an oven (good solvent) to yield a light scattering material is vaporized in the order of n- butanol (poor solvent).

【0069】乾燥により形成された微細空孔を有する樹脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は2.0μmであった。 [0069] resin film having fine pores formed by drying a milky white translucent, the film thickness was 2.0 .mu.m.
顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が1μmの微細空孔が密に存在していた。 Observation of the resin film with a microscope, the average diameter of the fine pores of 1μm were present densely.

【0070】このようにして得られた光散乱材を、拡散板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出射面での輝度が均一になった。 [0070] The thus light scattering material obtained, was used as the diffusion plate, the light scattering rate is high brightness at the exit surface of the diffusion plate became homogeneous.

【0071】 [0071]

【発明の効果】本発明の光散乱材の製造方法は、非球形で連続した多数の微細空孔を有する樹脂層を基体上に形成することのできるものである。 Method for producing a light-scattering material of the present invention exhibits, a resin layer having a large number of fine pores continuous in a non-spherical those that can be formed on the substrate.

【0072】したがって、樹脂層中の樹脂と微細空孔との間の光散乱界面の面積が大きいので、光散乱率の高い光散乱材が得られる。 [0072] Thus, the area of ​​the light scattering interface between the resin and the fine pores in the resin layer is large, high light scattering material having light scattering ratio.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 1 is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention.

【図2】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 It is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention; FIG.

【図3】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 3 is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention.

【図4】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 It is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention; FIG.

【図5】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 5 is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention.

【図6】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 6 is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention.

【図7】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 7 is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention.

【図8】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 8 is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention.

【図9】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 9 is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention.

【図10】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 It is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention; FIG.

【図11】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を示す模式図である。 11 is a schematic diagram showing one embodiment of a method of manufacturing the light scattering material in accordance with the present invention.

【図12】本発明に係る光散乱材を用いた面光源装置を示す断面図である。 It is a sectional view showing a surface light source device using a light scattering material in accordance with the present invention; FIG.

【図13】本発明に係る光散乱材を用いた面光源装置を示す断面図である。 13 is a sectional view showing a surface light source device using a light scattering material in accordance with the present invention.

【図14】本発明に係る光散乱材を用いた面光源装置を示す断面図である。 14 is a cross-sectional view showing a surface light source device using a light scattering material in accordance with the present invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 インキ層 2 樹脂 3 良溶媒 4 貧溶媒 5 凝集樹脂相 6 貧溶媒相 7 微細空孔 8 樹脂層 9 導光板 10 線光源 11 光散乱層 121 光散乱材 122 光散乱材 123 光散乱材 13 光透過性層 14 支持体 1 ink layer 2 resin 3 good solvent 4 antisolvent 5 aggregated resin phase 6 poor solvent phase 7 microscopic voids 8 resin layer 9 the light guide plate 10-line light source 11 light scattering layer 121 light-scattering material 122 light scattering material 123 light scattering material 13 light permeable layer 14 support

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【手続補正書】 [Procedure amendment]

【提出日】平成6年9月8日 [Filing date] 1994 September 8

【手続補正1】 [Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書 [Correction target document name] specification

【補正対象項目名】0029 [Correction target item name] 0029

【補正方法】変更 [Correction method] change

【補正内容】 [Correction contents]

【0029】最後に、樹脂被膜1を乾燥して貧溶媒4を気化させると(図11参照)、貧溶媒4が飛び去った後に微細空孔7が残り、非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜8となる(図7参照)。 [0029] Finally, (see FIG. 11) when the resin film 1 and dried to vaporize the antisolvent 4, the remaining fine holes 7 after poor solvent 4 flew away, non-spherical shape and a number of consecutive fine the resin film 8 having pores (see FIG. 7).

【手続補正2】 [Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書 [Correction target document name] specification

【補正対象項目名】0032 [Correction target item name] 0032

【補正方法】変更 [Correction method] change

【補正内容】 [Correction contents]

【0032】さらに乾燥して貧溶媒4を気化させる(図6参照)と、貧溶媒4が飛び去った後に微細空孔7が残り、非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜8となる(図7参照)。 The further dried to evaporate the poor solvent 4 (see FIG. 6), the remaining fine holes 7 after poor solvent 4 flew away, resin film having a non-spherical shape and a number of consecutive microvoids 8 become (see FIG. 7).

Claims (3)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 良溶媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒が完全乾燥する前に樹脂被膜を良溶媒より高沸点の貧溶媒中にさらし、その後樹脂被膜を乾燥させることによって良溶媒、貧溶媒の順で気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得ることを特徴とする光散乱材の製造方法。 1. A resin solution obtained by dissolving in a good solvent is coated or printed onto a substrate to form a resin film, the poor solvent of the high boiling point of the resin film from the good solvent before good solvent in the resin coating is completely dried exposed during obtain then the good solvent by the resin film is dried, a light scattering material resin coating formed on a substrate having vaporizes in the order of the poor solvent nonspherical a and continuous large number of fine pores method for producing a light scattering material, characterized in that.
  2. 【請求項2】 良溶媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒が完全乾燥する前に樹脂被膜を良溶媒と同等または良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な貧溶媒中にさらし、その後樹脂被膜を乾燥させることによって貧溶媒を気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得ることを特徴とする光散乱材の製造方法。 2. The resin solution obtained by dissolving in a good solvent is coated or printed onto a substrate to form a resin film, from the good solvent and the equivalent or a good solvent of the resin film before the good solvent in the resin coating is completely dried exposed to excess poor solvent for low boiling at and good solvent, followed the resin film by vaporizing the poor solvent by drying the non-spherical in and resin film having consecutive large number of fine pores on a substrate method for producing a light scattering material, characterized in that to obtain the formed light-scattering material.
  3. 【請求項3】 良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる混合溶液中に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂被膜を形成し、この樹脂被膜を乾燥させることによって良溶媒、貧溶媒の順で気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得ることを特徴とする光散乱材の製造方法。 3. A resin solution dissolved in a mixed solution consisting of a poor solvent having a high boiling point than the good solvent and the good solvent is coated or printed onto a substrate to form a resin coating, by drying the resin coating good solvent, the production method of the light scattering material number of resin film having fine pores at and continuous non-spherical is vaporized in the order of the poor solvent is characterized by obtaining a light scattering material formed on the substrate.
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