JPH077029A - Manufacture of semiconductor device and semiconductor manufacturing device using it - Google Patents

Manufacture of semiconductor device and semiconductor manufacturing device using it

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JPH077029A
JPH077029A JP14813093A JP14813093A JPH077029A JP H077029 A JPH077029 A JP H077029A JP 14813093 A JP14813093 A JP 14813093A JP 14813093 A JP14813093 A JP 14813093A JP H077029 A JPH077029 A JP H077029A
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JP
Japan
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semiconductor
lead frame
processing
magazine
heat
Prior art date
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Application number
JP14813093A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiro Suzuki
信宏 鈴木
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Fujitsu Miyagi Electronics Ltd
Original Assignee
Fujitsu Miyagi Electronics Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH077029A publication Critical patent/JPH077029A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L2224/743Apparatus for manufacturing layer connectors

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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce treatment time for manufacturing semiconductor device including heat treatment and to miniaturize the device. CONSTITUTION:A magazine 21 which can be replaced easily by an elevator 26 is moved into and laid out in a box oven 13 for performing heat treatment. Then, a lead frame 12 to be transported is housed by raising and lowering the magazine 21 to a specific position, is heat-treated for a specific amount of time, and then is unloaded.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造における熱
処理を含む半導体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device including heat treatment in semiconductor manufacturing.

【0002】近年、半導体製造では、工程の簡易化、処
理時間の短縮化が望まれており、例えば熱処理を行う場
合には、温度分布のばらつきが小さく、待ち時間、処理
時間が短いことが要求される。
In recent years, in semiconductor manufacturing, simplification of processes and shortening of processing time have been demanded. For example, when heat treatment is performed, it is required that variation in temperature distribution is small, waiting time and processing time are short. To be done.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、半導体製造工程の中で、例えばリ
ードフレームのダイステージ上に半導体チップを搭載さ
せる工程がある。この工程はダイス付けと呼ばれてお
り、ダイス付けでは一般に銀と樹脂溶剤を混合した銀ペ
ーストの接着剤が用いられる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, there is a process of mounting a semiconductor chip on a die stage of a lead frame, for example. This process is called die attachment, and in the die attachment, an adhesive agent of silver paste in which silver and a resin solvent are mixed is generally used.

【0004】銀ペーストは、作業性、量産性に優れてお
り、印刷又は転写により銀ペーストを塗布して半導体チ
ップをリードフレームのステージ上に載せて加熱接着す
るものである。
The silver paste is excellent in workability and mass productivity, and the silver paste is applied by printing or transfer and the semiconductor chip is placed on the stage of the lead frame and heat-bonded.

【0005】接着は、恒温炉内で加熱するもので、銀ペ
ースト中の溶剤をガス抜きして硬化させて行うもので、
この工程がキュアと呼ばれ、使用する恒温炉がキュア炉
と呼ばれる。
Adhesion is performed by heating in a constant temperature oven, and is performed by degassing the solvent in the silver paste and curing it.
This process is called cure, and the constant temperature oven used is called cure oven.

【0006】キュア炉では、半導体チップが載せられた
リードフレームをマガジンに複数枚収納し、一度に多数
のマガジンを大型炉内に入れて加熱を行うものである。
In the curing furnace, a plurality of lead frames on which semiconductor chips are mounted are housed in a magazine, and a large number of magazines are put in a large furnace at one time for heating.

【0007】一方、キュアをマガジンにリードフレーム
を複数枚収納して行うのではなく、リードフレームごと
に行う方法もある。この方法では、速乾性の銀ペースト
を用いて、半導体チップをリードフレームのステージ上
に載せた後、直接温風を吹き付けて乾燥させるものであ
る。
On the other hand, there is also a method in which the cure is carried out for each lead frame, instead of storing a plurality of lead frames in a magazine. In this method, a semiconductor chip is placed on a stage of a lead frame using a quick-drying silver paste, and then hot air is directly blown to dry the semiconductor chip.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、キュアをマガ
ジン単位で行うことは、炉が大型化すると共に、マガジ
ン数がある程度まとまる必要があって待ち時間が長くな
り、一方待ち時間を短かくするために品種の異なるマガ
ジンをまとめて炉内で処理することは次工程でマガジン
を戻す際に取り違える場合があるという問題がある。
However, performing the curing in magazine units increases the size of the furnace and requires a certain number of magazines, which increases the waiting time, while shortening the waiting time. However, there is a problem in that when the magazines of different types are collectively processed in the furnace, they may be confused when the magazines are returned in the next process.

【0009】また、炉が大型化すると、大容積のためフ
ァン等で強制対流させても炉内の温度分布にばらつきを
生じ、接着強度にばらつきを生じるという問題がある。
Further, when the size of the furnace becomes large, there is a problem in that the temperature distribution in the furnace will fluctuate even if forced convection is carried out by a fan or the like due to its large volume, and the bond strength will fluctuate.

【0010】さらに、速乾性の銀ペーストを使用してリ
ードフレームに直接温風を吹き付ける方法では、接着強
度が弱く、半導体チップのサイズが大いものについては
適用が困難であるという問題がある。
Further, the method of directly blowing hot air onto the lead frame using a quick-drying silver paste has a problem that the adhesive strength is weak and it is difficult to apply it to a semiconductor chip having a large size.

【0011】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、処理時間の短縮及び装置の小型化を図る半導体
装置の製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor device which shortens the processing time and downsizes the device.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】図1に本発明の原理説明
図を示す。図1において、半導体製造工程における所定
の対象物を処理部内で加熱処理を行う場合であって、第
1の工程では、前記処理部に移動により又は内部に配置
される収納部を、前記対象物の収納、取り出しを行う位
置に移動させる。第2の工程では、該収納部に、該対象
物を、処理タイミングごとに逐次搬送して収納させる。
第3の工程では、収納された該対象物の加熱処理を行
う。そして、第4の工程では、所定時間の加熱処理後
に、該収納部より該対象物を取り出し、該処理部より排
出させる。
FIG. 1 shows an explanatory view of the principle of the present invention. In FIG. 1, in a case where a predetermined object in a semiconductor manufacturing process is subjected to heat treatment in a processing unit, in the first step, a storage unit that is moved to or inside the processing unit is used as the object. Move to the position for storing and taking out. In the second step, the object is sequentially conveyed and stored in the storage section at each processing timing.
In the third step, the heat treatment of the stored object is performed. Then, in the fourth step, after the heat treatment for a predetermined time, the object is taken out of the storage section and discharged from the processing section.

【0013】[0013]

【作用】上述のように、対象物を処理装置で加熱処理す
るにあたり、処理装置に移動により配置された収納部
に、又は処理装置内に配置された収納部に、該収納部を
所定位置に移動させて該対象物を収納させ、加熱処理を
所定時間行う。
As described above, when the object is heat-treated by the processing apparatus, the storage section is moved to the processing apparatus or the storage section disposed in the processing apparatus, and the storage section is set at a predetermined position. The object is moved and stored, and heat treatment is performed for a predetermined time.

【0014】すなわち、処理装置は収納部を配置できる
大きさであれば十分であり、装置の小型化を図ることが
可能となり、これにより内部の温度分布を均一にするこ
とが可能となる。また、対象物はその都度逐次搬送され
て収納部に収納されて加熱処理されることから、待ち時
間がなくなり処理時間の短縮を図ることが可能となる。
That is, it is sufficient for the processing device to have a size capable of disposing the storage portion, and it is possible to reduce the size of the processing device, thereby making it possible to make the internal temperature distribution uniform. In addition, since the object is successively conveyed, stored in the storage section, and subjected to the heat treatment, the waiting time is eliminated and the processing time can be shortened.

【0015】[0015]

【実施例】図2に、本発明の一実施例の構成図を示す。
本実施例は、種々の半導体製造工程におけるダイス付け
工程の加熱処理に本発明方法を適用した半導体製造装置
の例を示したものである。
FIG. 2 shows a block diagram of an embodiment of the present invention.
This example shows an example of a semiconductor manufacturing apparatus in which the method of the present invention is applied to the heat treatment in the die attaching process in various semiconductor manufacturing processes.

【0016】図2は、ダイス付け工程の加熱処理を行う
処理装置11を示したもので、加熱処理される対象物
が、ステージ上に半導体チップが接着剤である前述の銀
ペーストを介在させたリードフレーム12である。すな
わち、加熱処理することで銀ペーストを硬化させること
により、ダイス付けを行うものである。
FIG. 2 shows a processing apparatus 11 for performing heat treatment in the die attaching process, in which the object to be heat treated has the above-mentioned silver paste as an adhesive agent for the semiconductor chip on the stage. The lead frame 12. That is, dicing is performed by curing the silver paste by heat treatment.

【0017】図2において、処理装置11は、前述のキ
ュア炉であり、断熱壁で覆われた処理部であるボックス
炉13が処理室13aと、該処理室13をクリップ14
a,14bで固定して形成する扉部13bとにより構成
される。
In FIG. 2, the processing apparatus 11 is the above-mentioned curing furnace, and the box furnace 13 which is a processing section covered with a heat insulating wall has a processing chamber 13a and a clip 14 for the processing chamber 13.
It is constituted by a door portion 13b which is fixedly formed by a and 14b.

【0018】この処理室13a内と、扉部13bの内側
とにヒータブロック15a,15bが取り付けられる。
このヒータブロック15a,1bは放熱性を向上させる
ために表面をフィン状(凹凸状)に形成し、微小な吹き
出し(図示せず)を形成したもので、側部より複数本
(本実施例では3本)の棒状のヒータ16がそれぞれ内
設される。
Heater blocks 15a and 15b are mounted inside the processing chamber 13a and inside the door 13b.
The heater blocks 15a and 1b have fin-shaped (concave-shaped) surfaces to improve heat dissipation, and minute blowouts (not shown) are formed. Three (3) rod-shaped heaters 16 are internally provided.

【0019】なお、ヒータブロック15aの下方側部に
は空気供給穴17が形成される。また、処理室13a内
には炉内温度を測定する熱電対18が設けられると共
に、排気口19が設けられる。
An air supply hole 17 is formed on the lower side of the heater block 15a. A thermocouple 18 for measuring the temperature inside the furnace and an exhaust port 19 are provided in the processing chamber 13a.

【0020】このボックス炉13では、ヒータ16によ
りヒータブロック15a,1bを介して炉内を加熱する
もので、この場合にヒータブロック15aの空気供給穴
17から外部の空気を給入し、加熱された空気をヒータ
ブロック15a面の吹出孔より吹き出させて対流させ、
排気口19から外部に排気させる。
In this box furnace 13, the inside of the furnace is heated by the heater 16 via the heater blocks 15a and 1b. In this case, the outside air is supplied from the air supply hole 17 of the heater block 15a to be heated. Air is blown out from the blow-out holes on the surface of the heater block 15a for convection,
The gas is exhausted from the exhaust port 19 to the outside.

【0021】このとき、熱電対18により炉内温度を測
定し、これに基づいてヒータ16を制御して炉内の温度
を一定かつ均一に保持する。
At this time, the temperature inside the furnace is measured by the thermocouple 18, and the heater 16 is controlled based on this to keep the temperature inside the furnace constant and uniform.

【0022】一方、ボックス炉13の底部には開口部2
0が形成されており、この開口部20よりリードフレー
ム12を複数収納する収納部であるマガジン21が移動
により炉内に配置される。すなわち、ボックス炉13
は、このマガジン21を配置可能なスペースの処理室1
3aが形成されるものである。
On the other hand, the opening 2 is provided at the bottom of the box furnace 13.
0 is formed, and a magazine 21, which is a storage unit for storing a plurality of lead frames 12, is moved from the opening 20 and is placed in the furnace by moving. That is, the box furnace 13
Is a processing chamber 1 in a space where this magazine 21 can be placed.
3a is formed.

【0023】このマガジン21は、移動板22にネジ2
3a,23bにより取り付けられる。移動板22には2
本のシャフト24a,24bが取り付けられており、シ
ャフト24a,24bはT形状の駆動部材25に取り付
けられ、エレベータ26により上下動する。エレベータ
26は取り付け板27に固着される。また、シャフト2
4a,24bの移動板22側にそれぞれ耐熱ブッシュ2
8a,28bが取り付けられ、炉の熱よりシャフト24
a,24bを保護する。
This magazine 21 has a moving plate 22 and screws 2
It is attached by 3a and 23b. 2 on the moving plate 22
Book shafts 24a and 24b are attached, and the shafts 24a and 24b are attached to a T-shaped drive member 25 and vertically moved by an elevator 26. The elevator 26 is fixed to a mounting plate 27. Also, shaft 2
Heat-resistant bush 2 is provided on the moving plate 22 side of 4a and 24b
8a, 28b are attached, and the shaft 24
a and 24b are protected.

【0024】なお、図2では図示しないが、ボックス炉
13の側壁には扉が形成され、搬送手段に搬送されたリ
ードフレーム12がマガジン21内に収納され、処理後
に取り出させて排出させる(図3参照)。
Although not shown in FIG. 2, a door is formed on the side wall of the box furnace 13, and the lead frame 12 carried by the carrying means is housed in the magazine 21 and taken out and discharged after the processing (see FIG. 3).

【0025】このような処理装置11は、まず、エレベ
ータ26によりマガジン21がボックス炉13内に移動
され、搬送されるリードフレーム12の収納位置にマガ
ジン21の収納エリアが位置するように昇降移動され、
このエリアに該リードフレーム12が収納される。すな
わち、マガジン21はエレベータにより順次上昇又は下
降して処理タイミングで逐次搬送されてくるリードフレ
ーム12ごとに収納する。
In the processing apparatus 11, the magazine 21 is first moved into the box furnace 13 by the elevator 26, and is moved up and down so that the storage area of the magazine 21 is located at the storage position of the lead frame 12 to be transported. ,
The lead frame 12 is housed in this area. That is, the magazine 21 is housed for each lead frame 12 that is sequentially raised or lowered by the elevator and sequentially conveyed at processing timing.

【0026】マガジン21は、加熱処理を行う規定時間
内、炉内にリードフレーム12を保管し、キュア終了後
に、収納時と周方向にリードフレームを排出する。そし
て、リードフレーム12ごとにこれらの動作が繰り返さ
れるものである。
The magazine 21 stores the lead frame 12 in the furnace for a prescribed time for performing the heat treatment, and after the curing is completed, the lead frame 12 is discharged during storage and in the circumferential direction. Then, these operations are repeated for each lead frame 12.

【0027】また、サイズの異なるリードフレーム12
を加熱処理する場合には、エレベータ26によりマガジ
ン21を炉外に移動させ、ネジ23a,23bで該マガ
ジン21を移動板より取り外し、サイズの異なるマガジ
ンを取り付けることにより交換を行うものである。
The lead frames 12 of different sizes are also used.
In the case of heat treatment, the magazine 21 is moved to the outside of the furnace by the elevator 26, the magazine 21 is removed from the moving plate by the screws 23a and 23b, and the magazines of different sizes are attached for replacement.

【0028】このように、ボックス炉13をマガジン2
1のサイズに応じて小型化することができることから、
ヒータ容量を小さくすることができると共に、電源投入
後から炉内温度が設定温度で安定するまでの立上り時間
を短縮することができる。また、リードフレーム12単
位でキュアを実行することができることから、待ち時間
がなく、上述の立上り時間の短縮と合わせて処理時間を
短縮することができるものである。
In this way, the box furnace 13 is attached to the magazine 2
Since it can be downsized according to the size of 1,
It is possible to reduce the heater capacity and shorten the rise time from when the power is turned on until the temperature inside the furnace stabilizes at the set temperature. Further, since the curing can be executed in units of the lead frame 12, there is no waiting time, and the processing time can be shortened together with the shortening of the rise time described above.

【0029】また、処理室13aの容積が小さくするこ
とができることから、炉内での空気対流で温度分布のば
らつきが小さく、マガジン21の昇降移動でリードフレ
ーム12が同じ位置に止まらないことから、乾燥ムラが
少なく、ダイス付けの接着状態を均一にすることができ
る。
Further, since the volume of the processing chamber 13a can be made small, the temperature distribution is small due to air convection in the furnace, and the lead frame 12 does not stop at the same position when the magazine 21 moves up and down. There is little drying unevenness, and it is possible to make the bonding state of the die attachment uniform.

【0030】さらに、リードフレームの品種変更がマガ
ジン21を交換するだけでよく、交換作業を容易とする
ことができるものである。
Further, the type of lead frame can be changed only by exchanging the magazine 21, and the exchanging work can be facilitated.

【0031】次に、図3に、本発明の一適用例の構成図
を示す。図3は、図2の処理装置11を自動生産ライン
に組み込んだ例を示している。
Next, FIG. 3 shows a block diagram of an application example of the present invention. FIG. 3 shows an example in which the processing device 11 of FIG. 2 is incorporated in an automatic production line.

【0032】図3において、ボックス炉13の側壁に
は、マガジン(21)へのリードフレーム12の供給又
は排出時に開閉する断熱扉31が設けられ、この断熱扉
31はシリンダ32により上下動して受入れ口の開閉を
行う。また、断熱扉31の対向する側壁に耐熱ブッシュ
33が設けられ、外部に設けられたプッシャ34のプッ
シュロッド34aがボックス炉13内に延出する。この
プッシュロッド34aは炉内に配置されるマガジン(2
1)の背後に位置され、収納されているリードフレーム
12を後方から断熱扉31方向に押し出す役割をなす。
In FIG. 3, a heat insulating door 31 which is opened and closed when the lead frame 12 is supplied to or discharged from the magazine (21) is provided on the side wall of the box furnace 13. The heat insulating door 31 is vertically moved by a cylinder 32. Open and close the receiving port. Further, heat resistant bushes 33 are provided on opposite side walls of the heat insulating door 31, and a push rod 34 a of a pusher 34 provided outside extends into the box furnace 13. This push rod 34a is mounted on a magazine (2
It is located behind 1) and pushes out the accommodated lead frame 12 from the rear toward the heat insulating door 31.

【0033】ボックス炉13の断熱扉31の前方には、
矢印A方向に移動自在な移動ユニット35のガイドレー
ル35aが配置され、ダイス付け装置(図示せず)より
連設されたガイドレール36と連結状態となり、該ガイ
ドレール36には搬送手段である第1の搬送ユニット3
7が設けられる。
In front of the heat insulation door 31 of the box furnace 13,
A guide rail 35a of a movable unit 35 which is movable in the direction of arrow A is arranged and brought into a connected state with a guide rail 36 continuously provided by a die attaching device (not shown). 1 transport unit 3
7 is provided.

【0034】また、移動ユニット35の排出移動方向に
は搬送手段である第2の搬送ユニット38が設けられて
おり、該移動ユニット35の移動でガイドレール35a
が位置される。このときのガイドレール35aは、ワイ
ヤ付け装置(図示せず)に連設されたガイドレールと連
結状態となる。
A second transport unit 38, which is a transport means, is provided in the discharge movement direction of the moving unit 35, and the guide rail 35a is moved by the movement of the moving unit 35.
Is located. At this time, the guide rail 35a is in a connected state with a guide rail continuously provided to a wire attaching device (not shown).

【0035】このうよな自動生産ラインでは、ダイス付
け装置より搬送されたリードフレームが移動ユニット3
5のガイドレール35aから第1の搬送ユニット37に
より断熱扉31からボックス炉13内のマガジン(2
1)に収納される。リードフレーム12のボックス炉1
3内での規定時間の加熱処理が終了すると、プッシャ3
4のプッシュロッド34aにより再び断熱扉31からガ
イドレール35a上に取り出される。
In such an automatic production line, the lead frame conveyed from the die attaching device is moved by the moving unit 3.
5 from the guide rail 35a to the first transport unit 37 from the heat insulating door 31 to the magazine (2
It is stored in 1). Box furnace 1 for lead frame 12
When the heat treatment for the specified time in 3 is completed, pusher 3
The push rod 34a of No. 4 again takes out the heat insulating door 31 onto the guide rail 35a.

【0036】ガイドレール35aは移動ユニット35で
第2の搬送ユニット38まで移動されてガイドレール3
9に連結状態となると、リードフレーム12が該第2の
搬送ユニット38によりワイヤ付装置に搬送されるもの
である。
The guide rail 35a is moved to the second transport unit 38 by the moving unit 35 and is moved to the guide rail 3a.
When the lead frame 12 is connected to the wire attaching device 9, the lead frame 12 is transferred to the wire attaching device by the second transfer unit 38.

【0037】このように、処理装置11を小型化するこ
とにより自動生産ラインに組み込めることが可能とな
り、製品を生産工程外に持ち出す必要がなくなり、人為
的なミスを防止することができるものである。
As described above, by downsizing the processing apparatus 11, it is possible to incorporate the processing apparatus 11 into an automatic production line, it is not necessary to take the product out of the production process, and human error can be prevented. .

【0038】なお、上記実施例では、リードフレーム1
2の供給と排出を同一方向から行う場合を示したが、ボ
ックス炉13の前方から受け入れ、後方から排出する構
造としてもよい。この場合、移動ユニット35及びプッ
シャ34が不要となるもので、プッシュロッド34aの
位置に断熱扉をさらに設け、この位置に第2の搬送ユニ
ット38を設ければよい。
In the above embodiment, the lead frame 1
Although the case where the supply and the discharge of 2 are performed from the same direction is shown, the structure may be such that the box furnace 13 is received from the front and discharged from the rear. In this case, the moving unit 35 and the pusher 34 are not necessary, and a heat insulating door may be further provided at the position of the push rod 34a, and the second transport unit 38 may be provided at this position.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、処理装置
内に配置された収納部に処理タイミングごとに対象物を
収納し、所定時間加熱処理して排出させることにより、
処理時間の短縮及び装置の小型化を図ることができるも
のである。
As described above, according to the present invention, the object is stored in the storage section arranged in the processing apparatus at each processing timing, and the object is heat-treated for a predetermined time and discharged.
The processing time can be shortened and the device can be downsized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一適用例の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of an application example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 処理装置 12 リードフレーム 13 ボックス炉 15a,15b ヒータブロック 16 ヒータ 17 空気供給穴 18 熱電対 19 排気口 21 マガジン 22 移動板 23a,23b ネジ 26 エレベータ 31 断熱扉 34 プッシャ 34a プッシュロッド 35 移動ユニット 37 第1の搬送ユニット 38 第2の搬送ユニット 11 Processing Equipment 12 Lead Frame 13 Box Furnace 15a, 15b Heater Block 16 Heater 17 Air Supply Hole 18 Thermocouple 19 Exhaust Port 21 Magazine 22 Moving Plate 23a, 23b Screw 26 Elevator 31 Heat Insulation Door 34 Pusher 34a Push Rod 35 Moving Unit 37th 1st transport unit 38 2nd transport unit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体製造工程における所定の対象物
(12)を処理部(13)内で加熱処理を行う場合の半
導体装置の製造方法において、 前記処理部(13)に移動により又は内部に配置される
収納部(21)を、前記対象物(12)の収納、取り出
しを行う位置に移動させる工程と、 該収納部(21)に、該対象物(12)を処理タイミン
グごとに逐次搬送して収納させる工程と、 収納された該対象物(12)の加熱処理を行う工程と、 所定時間の加熱処理後に、該収納部(21)より該対象
物を取り出し、該処理部(13)より排出させる工程
と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
1. A method of manufacturing a semiconductor device in which a predetermined object (12) in a semiconductor manufacturing process is heat-treated in a processing section (13), wherein the processing section (13) is moved or placed inside. Moving the storage part (21) to a position for storing and taking out the target object (12), and sequentially transferring the target object (12) to the storage part (21) at each processing timing. And a step of heat-treating the housed object (12), and after the heat treatment for a predetermined time, the object is taken out of the housing section (21), and then processed by the processing section (13). And a step of discharging the semiconductor device.
【請求項2】 前記対象物(12)は、リードフレーム
上に所定の接着剤を介在させて半導体チップが載置され
ていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製
造方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the object (12) has a semiconductor chip mounted on a lead frame with a predetermined adhesive interposed.
【請求項3】 半導体製造工程における所定の対象物
(12)を処理部(13)内で加熱処理を行う場合の半
導体製造装置において、 前記処理部(13)に移動により又は内部に配置され、
前記対象物(12)を収納する収納部(21)と、 該収納部(21)を、該対象物(12)の収納、取り出
しを行う位置に移動させる移動手段(26)と、 該収納部(21)に該対象物(12)を処理タイミング
ごとに逐次搬送して収納させ、所定時間の前記加熱処理
後に該収納部(21)より該対象物(12)を取り出し
て排出する搬送手段(37,38)と、 を有することを特徴とする半導体製造装置。
3. A semiconductor manufacturing apparatus in which a predetermined object (12) in a semiconductor manufacturing process is heat-treated in a processing section (13), wherein the semiconductor manufacturing apparatus is moved to the processing section (13) or arranged inside thereof.
A storage section (21) for storing the object (12), a moving means (26) for moving the storage section (21) to a position for storing and taking out the object (12), and the storage section. Conveying means ((21) for sequentially conveying and storing the object (12) at each processing timing, and for taking out and ejecting the object (12) from the storage section (21) after the heat treatment for a predetermined time ( 37, 38), and a semiconductor manufacturing apparatus comprising:
【請求項4】 前記対象物(12)は、リードフレーム
上に所定の接着剤を介在させて半導体チップが載置され
ていることを特徴とする請求項3記載の半導体製造装
置。
4. The semiconductor manufacturing apparatus according to claim 3, wherein the object (12) has a semiconductor chip mounted on a lead frame with a predetermined adhesive interposed.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100338951B1 (en) * 1999-12-18 2002-05-31 박종섭 Magazine in/out apparatus for semiconductor manufacturing bake oven
KR100925772B1 (en) * 2007-10-22 2009-11-11 (주)아이콘 Cure-Process for semiconductor Chip-Bonding and Cure-Oven Apparatus therof

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