JPH0770139A - 2−(モノ又はジ置換−6,7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリウム−6−イル)チオ−カルバペネム誘導体 - Google Patents

2−(モノ又はジ置換−6,7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリウム−6−イル)チオ−カルバペネム誘導体

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JPH0770139A
JPH0770139A JP6170497A JP17049794A JPH0770139A JP H0770139 A JPH0770139 A JP H0770139A JP 6170497 A JP6170497 A JP 6170497A JP 17049794 A JP17049794 A JP 17049794A JP H0770139 A JPH0770139 A JP H0770139A
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Sei Tamai
聖 玉井
Taketoshi Isoda
武寿 磯田
Ado Mihira
亜土 三平
Toshio Kumagai
年夫 熊谷
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 強力な抗菌活性を示し、しかも、β−ラクタ
マーゼ及び腎デヒドロペプチダーゼに対する優れた耐性
を有する化合物、並び該化合物を有効成分として含有す
ることを特徴とする抗菌剤の提供。 【構成】 一般式(I): 【化1】 式中、R1 及びR2 は、一方が水素原子のとき他方が以
下のいずれかの基: (1) ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、メルカプト基及
びアミノ基の中から選択される基で置換されていてもよ
い低級アルキル基; (2) カルバモイル基; (3) モノ−若しくはジ−低級アルキル置換アミド基; (4) ハロゲン原子、である2−(モノ又はジ置換−6,
7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリ
ウム−6−イル)チオ−カルバペネム誘導体及びその薬
理学的に許容される塩、並びに該化合物を有効成分とし
て含有する抗菌剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカルバペネム系抗生物質
に関し、更に詳細には、カルバペネム骨格の1位にβ−
配位のメチル基を有し、かつ、2位に(モノ又はジ置換
−6,7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピ
ラゾリウム−6−イル)チオ基を有するカルバペネム誘
導体及びその薬理学的に許容される塩、並びに該化合物
を有効成分として含有する抗菌剤に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、種々の抗菌活性を目的として
次式(A)
【0003】
【化2】
【0004】で示されるカルバ−2−ペネム−3−カル
ボン酸を基本骨格とするカルバペネム系抗生物質が多数
提案されている。
【0005】例えば初期のカルバペネム系抗生物質は、
ストレプトミセス・カトレヤ(Streptomyces cattleya
)の発酵により得られる次式(B)
【0006】
【化3】
【0007】で示されるチエナマイシンのような、天然
由来のカルバペネム化合物である。このチエナマイシン
は広範囲にわたるグラム陽性菌及びグラム陰性菌に対し
て優れた抗菌スペクトラムを有するため、有用性の高い
化合物としてその医薬品としての開発が期待されたもの
の、化学的安定性が悪く、実用化されるまでには至って
いない。
【0008】そのため多くの研究者は、上記式で示され
るチエナマイシンの抗菌活性を保有しかつその化学的安
定性が確保されたカルバペネム化合物を開発するために
努力し、その結果、チエナマイシンの2位側鎖のアミノ
基をホルムイミドイル化した次式(C)
【0009】
【化4】
【0010】で示されるイミペネム(imipenem;IN
N)が実用的抗菌剤として登場するに至った。
【0011】しかし、上記式(C)で示されるイミペネ
ムは、チエナマイシンより優れた抗菌活性を示し、化学
的安定性はある程度確保されているものの、生体内にお
いて腎デヒドロペプチダーゼ(DHP)により分解不活
性化が短時間のうちに生じてしまうという欠点を有して
いる。そのため、イミペネムは単独投与することができ
ず、DHP阻害剤と併用し、その分解不活性化を抑制し
てやらなければならない。したがって、この化合物の実
際的製剤はDHP阻害剤の一種であるシラスタチン(ci
lastatin;INN)と併用したイミペネム/シラスタチ
ンの配合処方となっている。
【0012】しかしながら、臨床的に使用される実用的
な抗菌剤としては、薬剤本来の抗菌活性がそのまま発揮
されるのが好ましく、また、併用するDHP阻害剤が生
体内の他の組織において好ましからざる副作用を発揮す
るおそれも考えられるので、配合処方は極力回避したほ
うが良いことはいうまでもない。そのため、抗菌活性と
同時にDHPに対する耐性をも保有するカルバペネム化
合物の開発が強く要望されている。
【0013】最近に至り上述の目的を達成させるものと
して、カルバペネム骨格の1位にメチル基が導入され、
かつ2位に単環式若しくは二環式の第四級ヘテロアリー
ルアルキルチオ置換基が導入された1−メチルカルバペ
ネム化合物が提案されている。例えば特開昭61−63
679号公報には、下記一般式(D)
【0014】
【化5】
【0015】で示される2−第四級ヘテロアリールアル
キルチオ−1−メチルカルバペネム類が開示されてお
り、これら化合物は抗菌活性が優れたものであるととも
にDHPによる分解不活性化に対する抵抗性が著しく改
善され、有用性が高いものであると報告されている。
【0016】しかしながら、当該公報には約300種類
のカルバペネム化合物が例示されているものの、その製
造が現実に確認されている化合物は実施例に示されるわ
ずか16種類に過ぎない。また、例示され、あるいは製
造が確認されている化合物の中に、本発明によって提供
される化合物、すなわち2位側鎖として(モノ又はジ置
換−6,7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]
ピラゾリウム−6−イル)チオ基が導入された化合物は
含まれていない。したがって、当該公報には、本発明の
特異的置換基を有するカルバペネム誘導体についての具
体的記載はもちろんのこと、その化学構造の示唆すら見
出すことはできない。
【0017】ところで、カルバペネム系化合物には、幅
広い菌種に対して抗菌活性を示すものがある。しかしな
がら、現在臨床の場で一般に用いられているβ−ラクタ
ム系抗生物質がそうであるように、新規カルバペネム系
化合物についても、当初有効でありながら徐々に耐性菌
が出現することは十分に予想される。そのため、将来出
現する耐性菌による感染症への対策のためにも、ユニー
クな構造を有するカルバペネム系抗生物質の開発が強く
要望されている。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、今回、1
位がβ−配置でメチル置換され、2位に(モノ又はジ置
換−6,7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]
ピラゾリウム−6−イル)チオ基が導入されており、か
つ、この2位置換基の四級アンモニウムイオンが3位の
カルボキシレートアニオンとの間で分子内塩を形成して
いるカルバペネム誘導体を見出した。そして、当該化合
物が強力な抗菌活性を示し、しかも、β−ラクタマーゼ
阻害作用並びに腎デヒドロペプチダーゼに対する優れた
耐性を有することを確認して、本発明を完成するに至っ
た。かくして、本発明は式(I)
【0019】
【化6】
【0020】式中、R1 及びR2 は、一方が水素原子の
とき他方が以下のいずれかの基: (1) ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、メルカプト基及
びアミノ基の中から選択される置換基で置換されていて
もよい低級アルキル基; (2) カルバモイル基; (3) モノ−若しくはジ−低級アルキル置換アミド基; (4) ハロゲン原子、である2−(モノ又はジ置換−6,
7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリ
ウム−6−イル)チオ−カルバペネム誘導体およびその
薬理学的に許容し得る塩、並びにこれらの化合物を有効
成分として含有する抗菌剤を提供するものである。
【0021】また本発明の好ましい実施態様として、上
記式(I)の置換基R1 及びR2 が、一方が水素原子の
とき他方が以下のいずれかの基: (1) ヒドロキシ基及びアミノ基の中から選択される置換
基で置換されていてもよい低級アルキル基; (2) カルバモイル基; (3) モノ−若しくはジ−低級アルキル置換アミド基; (4) ハロゲン原子、である2−(モノ又はジ置換−6,
7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリ
ウム−6−イル)チオ−カルバペネム誘導体およびその
薬理学的に許容し得る塩、ならびにこれらの化合物を有
効成分として含有する抗菌剤を提供するものである。
【0022】さらに本発明は、特に好ましい実施態様と
して、上記式(I)の置換基R1 がヒドロキシ基及びア
ミノ基の中から選択される置換基で置換されていてもよ
い低級アルキル基であり、かつ置換基R2 が水素原子で
あるか、または、置換基R1が水素原子であり、かつ置
換基R2 がカルバモイル基、モノ−若しくはジ−低級ア
ルキル置換アミド基又はハロゲン原子である2−(モノ
又はジ置換−6,7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,
2−a]ピラゾリウム−6−イル)チオ−カルバペネム
誘導体およびその薬理学的に許容し得る塩、並びにこれ
らの化合物を有効成分として含有する抗菌剤を提供する
ものである。
【0023】本発明のカルバペネム化合物は、先行文
献、例えば、前述の特開昭61−63679号公報の上
位概念による包括的な記載には包含され得るが、具体的
な製造方法や化学的・薬理学的データは一切知られてい
ない新規な化合物であり、その抗菌力が特異的に優れて
いる点に特徴を有するものである。
【0024】以下に本発明について詳細に説明するが、
本明細書中において、「低級」なる語はこの語が付され
た基または化合物の炭素原子数が1〜7個、好ましくは
1〜4個であることを意味する。
【0025】また、「低級アルキル基」は直鎖状または
分枝鎖状のいずれでもよく、例えばメチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、
sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イ
ソペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、n−ヘプチ
ル、イソヘプチル等が挙げられるが、好ましくはメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチルで
ある。
【0026】「低級アルコキシ基」は、低級アルキル基
が上記の意味を有する低級アルキル置換オキシ基を意味
し、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソ
プロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブ
トキシ、tert−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、イ
ソペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、イソヘキシル
オキシ、n−ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ等が
挙げられるが、好ましくはメトキシ、エトキシ、n−プ
ロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキ
シ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシである。
【0027】「ハロゲン原子」は、塩素、フッ素、臭
素、ヨウ素等であり、好ましくは塩素もしくはフッ素を
意味する。
【0028】本発明により提供される式(I)の化合物
の代表例を挙げれば、下記表1及び表2に示すとおりで
ある。
【0029】
【表1】
【0030】
【表2】
【0031】さらに本発明の化合物には、上記表1及び
表2に示した化合物を適当な有機酸又は無機酸で処理す
ることによって得られる酸付加塩のうち、薬学的に許容
し得るものも含まれる。かかる酸付加塩としては、例え
ば酢酸、プロピオン酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、トリ
クロロ酢酸等の低級脂肪酸;安息香酸、p−ニトロ安息
香酸等の置換または未置換の安息香酸;メタンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の(ハロ)低級ア
ルキルスルホン酸;p−ニトロベンゼンスルホン酸、p
−ブロモベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、
2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホン酸等の
置換または未置換のアリールスルホン酸;ジフェニルリ
ン酸等の有機リン酸などの有機酸との塩、または「無機
酸」としては例えば亜硝酸、硝酸、硫酸または過塩素
酸、ホウフッ化水素酸等のハロゲン化水素酸などの無機
酸との塩を上げることができる。
【0032】本発明の式(I)の化合物の製造方法を模
式的に示せば、下記反応式Aのとおりである。
【0033】
【化7】
【0034】式中、R3 はカルボキシル保護基を表し、
a はアシル基を表し、X- は塩形成性陰イオンを表
し、R1 及びR2 は前記定義のとおりである。
【0035】ここで、置換基R3 で表される「カルボキ
シル保護基」としてはエステル残基を例示することがで
き、かかるエステル残基としてはメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−、iso−、tert−
ブチル、n−ヘキシルエステル等の低級アルキルエステ
ル残基;ベンジル、p−ニトロベンジル、o−ニトロベ
ンジル、m−ニトロベンジル、2,4−ジニトロベンジ
ル、p−クロロベンジル、p−ブロモベンジル、p−メ
トキシベンジル等のアラルキルエステル残基;アセトキ
シメチル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシメチ
ル、n−、iso−ブチリルオキシメチル、ピバロイル
オキシメチル等の低級脂肪族アシルオキシメチル残基等
が挙げられる。
【0036】また、Ra で表される「アシル基」は、単
に有機カルボン酸のカルボキシル基からOH基を除いた
残りの原子団のみならず、広義に、有機スルホン酸や有
機リン酸から誘導されるアシル基をも包含し、例えばア
セチル、プロピオニル、ブチリル等の低級アルカノイル
基;メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル
基等の(ハロ)低級アルキルスルホニル基;ベンゼンス
ルホニル、p−ニトロベンゼンスルホニル、p−ブロモ
ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル、2,4,6
−トリイソプロピルベンゼンスルホニル等の置換もしく
は未置換のアリールスルホニル基;ジフェニルホスホリ
ル基等が挙げられる。
【0037】さらに、X- で表される「塩形成性陰イオ
ン」には、四級アンモニウムの陽イオンに対応する陰イ
オンが包含され、具体的には、ヒドロキシアニオン;メ
トキシアニオン、エトキシアニオン等のアルコキシアニ
オン;クロルアニオン、ブロモアニオン、ヨードアニオ
ン、フッ素アニオン等のハロゲンアニオン;または次に
述べる「酸アニオン」等を例示することができる。「酸
アニオン」は広義にプロトン供与性分子から水素原子を
除いた残りの原子団を意味し、その代表例としては前記
で定義した有機酸または無機酸の酸残基を例示すること
ができる。
【0038】式(II)で示される化合物と式(II
I)で示される2−置換、または1,3−ジ置換−6,
7−ジヒドロ−6−メルカプト−5H−ピラゾロ[1,
2−a]ピラゾリウム塩との反応は、例えば、式(I
I)の化合物を、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、ジクロルメタン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ヘ
キサメチルホスホラミド等の適当な溶媒中で、約1〜約
5倍モル量、好ましくは約1〜約3倍モル量の式(II
I)の化合物と、好ましくは炭酸水素ナトリウム、炭酸
カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミンなどの塩基の存在下に、約−40〜約25℃程度の
温度で約30分〜約24時間反応させることにより行う
ことができる。
【0039】反応は、不活性ガス、例えば窒素ガスまた
はアルゴンガス気流中で行うことが好ましい。
【0040】この反応により式(IV)の化合物が得ら
れ、反応液はそのまま次の工程で用いることができる
が、場合によっては、反応液を通常の精製手段に付すこ
とにより、式(IV)の化合物を単離精製することもで
きる。
【0041】上記の反応により得られる式(IV)の化
合物は、次いで、カルボキシル保護基R3 を脱離せしめ
ることにより本発明の目的化合物である式(I)の化合
物に変換される。
【0042】カルボキシル保護基R3 の脱離は、ソルボ
リシス又は水素添加分解のようなそれ自体既知の脱保護
基反応により行うことができる。
【0043】具体的には、式(IV)の化合物を、例え
ば、pH5.5の酢酸緩衝液、pH5.5のモルホリノ
プロパンスルホン酸−水酸化ナトリウム緩衝液、pH
5.5のリン酸塩緩衝液、リン酸二カリウム、重炭酸ナ
トリウム等を含むテトラヒドロフラン−水、テトラヒド
ロフラン−エタノール−水、ジオキサン−水、ジオキサ
ン−エタノール−水、n−ブタノール−水等の混合溶媒
中で、約1〜4気圧の水素を用い、酸化白金、パラジウ
ム−活性炭、水酸化パラジウム−活性炭などの水添触媒
の存在下に、約0〜約50℃の範囲内の温度で約0.2
5〜約5時間処理することにより行うことができる。
【0044】また、保護基R3 の脱離は緩衝液中にて亜
鉛で処理することにより実施することもできる。例え
ば、式(IV)の化合物をpH5〜7の緩衝液、例えば
リン酸緩衝液、酢酸緩衝液、クエン酸緩衝液、モルホリ
ノプロパンスルホン酸緩衝液、N−メチルモルホリン酸
緩衝液中にて亜鉛で処理することにより行うことができ
る。使用し得る亜鉛としては、例えば亜鉛粉末、華状亜
鉛、顆粒亜鉛が挙げられ、その使用量は特に限定されな
いが、一般には式(IV)の化合物1重量部に対し1〜
10重量部、好ましくは1〜5重量部の範囲内とするこ
とができる。また、本脱離反応においては、必要に応
じ、有機溶媒を併用してもよく、そのような溶媒として
は、エタノール、プロパノール、n−ブタノールなどの
アルコール系溶媒;ジエチルエタノール、テトラヒドロ
フランなどのエーテル系溶媒;アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が挙げられ
る。反応は、通常、約−20〜約50℃、好ましくは室
温〜約30℃の温度で、0.1ないし5時間程度処理す
ることにより完了させることができる。
【0045】かくして、本発明の目的化合物である式
(I)の(1R,5S,6S)−2−[(モノ若しくは
ジ置換−6,7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−
a]ピラゾリウム−6−イル)チオ]−6−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カルバペン−2
−エム−3−カルボキシレートを高収率で得ることがで
き、該化合物は、必要に応じてイオン交換樹脂または高
分子吸着樹脂を用いて精製することにより、高純度で単
離することができる。
【0046】なお、必要に応じて、上記の方法で得られ
る式(I)の化合物を前記した有機酸または無機酸で処
理すれば、式(I)の化合物の任意の酸付加塩として単
離することもできる。
【0047】以上に述べた製造方法において出発原料と
して使用される前記式(II)の化合物はそれ自体既知
のものであり、例えば特開昭56−123985号公報
に記載の方法によって製造することができ、あるいは好
適には、特開昭63−284176号公報に記載の方法
により高立体選択的に製造することができる。
【0048】また、上記式(III)の2−置換若しく
は1,3−ジ置換−6,7−ジヒドロ−6−メルカプト
−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリウム塩は、例
えば、下記反応式Bに示す方法によって製造することが
できる。
【0049】
【化8】
【0050】式中、R4 はヒドロキシル保護基を表し、
1 、R2 、Ra 及びX- は前記定義のとおりである。
【0051】ここで、置換基記R4 によって表される
「ヒドロキシル保護基」としては、例えば、アセチル、
ベンゾイル、メタンスルホニル、p−トルエンスルホニ
ル等の脂肪族あるいは芳香族アシル基;ベンジル、トリ
フェニルメチル等のアラルキル基;ベンジルオキシカル
ボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−メ
トキシベンジルオキシカルボニル等の置換若しくは非置
換ベンジルオキシカルボニル基;tert−ブチルジメ
チルシリル、tert−ブチルジフェニルシリル、フェ
ニルイソプロピルジメチルシリル等の置換シリル基;テ
トラヒドロピラニル基等を例示することができるが、好
ましくは、トリフェニルメチル基、tert−ブチルジ
メチルシリル基又はテトラヒドロピラニル基を用いるこ
とができる。
【0052】上記反応式Bにおいては、まず、式(V)
の化合物からアシル基Ra を脱離させてメルカプト化合
物となし、次いでこの化合物を酸化することによって、
ジスルフィド誘導体である式(VI)の化合物を製造す
る。
【0053】アシル基Ra の脱離は、式(V)の化合物
を適当なアルコ−ル溶媒中で、塩基、例えばナトリウム
メトキサイド、ナトリウムエトキサイド等の金属アルコ
キサイド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
カルシウム等の金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の金属炭酸化物などで処理することによって行
なうことができ、これによりメルカプト化合物が得られ
る。次いで、得られるメルカプト化合物を適当な酸化
剤、例えば、酸素、過酸化水素、過酸、塩化第二銅、臭
素、ヨウ素、ハロサクシイミド、空気酸化(塩素又は鉄
の存在下)等を用いるそれ自体既知のチオ−ルの酸化反
応に付すことによって式(VI)で示される化合物を得
ることができる。
【0054】次いで、上記で得られる式(VI)の化合
物は、ヒドロキシル保護基R4 を脱離することによっ
て、式(VII)の化合物へ誘導される。
【0055】上記ヒドロキシル保護基R4 の脱離反応
は、ヒドロキシル保護基の脱離反応として通常行なわれ
る方法で実施することができ、例えば、水、メタノ−
ル、エタノ−ル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、クロ
ロホルム、ジクロクメタン等の不活性溶媒又はこれらの
混合溶媒中で、塩酸、硫酸等の無機酸、もしくは、ギ
酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、トリクロロ酢酸、トロ
フルオロ酢酸、トルエンスルホン酸等の有機酸の存在す
る酸性条件下、あるいは水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム等の金属水酸化物の存在するアル
カリ性条件下、攪拌することにより行うことができる。
また、上記不活性溶媒中で触媒存在下に水素添加分解を
行うことにより実施することもできる。
【0056】上記反応により得られる式(VII)の化
合物は、次いで、閉環して式(VIII)の化合物へ誘
導される。
【0057】式(VII)の化合物の閉環反応は、例え
ば、式(VII)の化合物のヒドロキシル基を、メタン
スルホニルクロリド、トルエンスルホニルクロリド、ナ
フタレンスルホニルクロリドもしくはこれらの化合物の
誘導体であるスルホン酸塩化物等、またはチオニルクロ
リド等で処理することによって一旦アルコールの反応性
誘導体となし、次いで不活性有機溶媒又は無溶媒中で、
室温下もしくは加熱下攪拌することによって行なうこと
ができる。
【0058】さらに、上記反応で得られる式(VII
I)の化合物を還元することにより、目的とする式(I
II)の化合物へ誘導される。
【0059】式(VIII)の化合物の還元反応は、通
常の有機化学反応におけるジスルフィドの硫黄−硫黄結
合を開裂させるのに汎用されている還元条件下で実施す
ることができ、具体的には例えば、トリメチルホスフィ
ン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン等の
トリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン等の
トリアリ−ルホスフィンを用いる方法、あるいは金属に
よる還元、または水酸化ホウ素ナトリウム、水酸化リチ
ウムアルミニウム、トリエチル水素化ホウ素リチウム等
の水素化金属化合物による還元が好ましく、なかでもト
リブチルホスフィン又はトリフェニルホスフィンを利用
する方法が好ましい。反応は、通常、溶媒中で行なわ
れ、用いうる溶媒としては反応に直接の影響を与えない
ものならば任意に選択することができ、用いる還元試薬
により、水;メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−
ル等のアルコ−ル系溶媒;エ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエ−テル系溶媒を必要に応じ適宜組
合せて使用することができる。
【0060】反応終了後、式(III)の化合物の単離
はそれ自体既知の方法、例えば、溶媒留去、抽出、洗
浄、凍結乾燥、結晶化等の手段を適宜組合せることによ
り行なうことができる。
【0061】また、上記式(VIII)及び(III)
の化合物は、通常、四級アンモニウムの塩の形で単離す
ることができる。かかる四級アンモニウムの塩を形成す
る陰イオン部分は酸残基が該当し、酸残基を構成する酸
としては上記した如く脂肪酸、置換または未置換の安息
香酸、置換または未置換のアリ−ルスルホン酸、有機リ
ン酸等に代表される有機酸、硝酸、硫酸、ハロゲン化水
素酸等に代表される無機酸が挙げられるが、中でもメタ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸等の有機酸、あるいは塩酸、臭
化水素酸、ヨウ化水素酸、ホウフツ化水素酸、過塩素
酸、亜硝酸等の無機酸が好ましい。
【0062】したがって、式(VIII)の化合物は、
それぞれの工程で生成せしめた後反応液中で、あるいは
単離した後適当な溶媒に溶解させて、上記の酸、または
当該酸のナトリウムもしくはカリウム等の金属塩で処理
することにより、任意の陰イオンとの塩として単離、精
製することができる。そして、式(VIII)及び(I
II)の化合物は、例えば、塩酸塩、臭素酸塩、ヨウ素
酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン
酸塩又はトリフルオロ酢酸塩とした場合安定な固体とし
て単離することができるため、あらかじめ合成原料とし
て製造し保存しておくことができ、本発明の化合物を工
業的規模で製造する場合に有利である。
【0063】上記反応式Bにおいて出発原料として用い
られる式(V)の化合物は、容易に入手可能な4−モノ
置換、または3,5−ジ置換ピラゾ−ルから、例えば後
記製造例に記載される方法によって製造することができ
る。
【0064】また、式(III)の化合物は、例えば特
開平4−230286号公報に記載される下式
【0065】
【化9】
【0066】で示される化合物にα位がハロゲン化され
たマロンジアルデヒドを反応させて合成することもでき
る(後記製造例3参照)。
【0067】以上の方法によって合成される本発明の式
(I)の化合物は、前述のとおり従来の文献に具体的に
は開示されていない新規な化合物であって、抗菌力が特
異的に優れている。
【0068】本発明の化合物の優れた抗菌力は、以下の
抗菌試験の結果により証明することができる。
【0069】[抗菌試験] 1.試験方法 日本化学療法学会標準法[Chemothrapy, vol29,76
〜79(1981)]に準じた寒天平板希釈法による。
すなわち、被検菌のMueller-Hinton(MH)寒天液体培
地上での37℃、一夜培養液を約106cells/ml になる
ようにBufferedsaline gelatin (BSG)溶液で希釈
し、ミクロプランターを用い試験化合物含有MH寒天培
地に約5μl接種し、37℃で18時間培養後、被検菌
の発育が認められない最小濃度をもってMinimum inhibi
tory concentration(MIC)とした。
【0070】ここで、使用菌株は標準菌株を用いた。
【0071】なお、試験化合物としては後記実施例に記
載の化合物(26)及び(28)を用いた。
【0072】2.結果 結果を下記表3に示す。
【0073】
【表3】
【0074】上記の結果から、本発明のカルバペネム化
合物は優れた抗菌力を有することが明らかである。
【0075】さらに、本発明の化合物は、1位がβ−配
置でメチル置換されていること、および、2位置換基と
してユニークな(モノ又はジ置換−6,7−ジヒドロ−
5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリウム−6−イ
ル)チオ基を有していること等の構造上の特徴のため
に、腎デヒドロペプチダーゼ(DHP)による攻撃に対
して極めて安定であり、かつ化学的および物理的安定性
も高いことが予測される。
【0076】[毒性試験]体重20〜23gのCrjC
D(SD)系雄性マウスを10匹使用し、後記実施例に
記載の本発明のカルバペネム化合物を含む溶液を皮下投
与し、1週間にわたる観察を行った。その結果、本発明
のカルバペネム化合物(26)、(28)及び(30)
は500mg/kgの投与でもすべて異常なく生存した
ことが観察された。
【0077】したがって、本発明の式(I)で示される
化合物は、腎DHP阻害剤との併用が必要でなく単独で
使用することができ、しかも、種々の病原菌による細菌
感染症の治療や予防に極めて有用な抗菌剤となることが
期待される。
【0078】式(I)の化合物またはその薬理学的に許
容し得る塩は、これを抗菌剤として使用するに際して、
その抗菌的有効量を含有する薬剤学的組成物の形で人間
をはじめとする哺乳動物に投与することができる。その
投与量は処置すべき患者の年齢、体重、症状、薬剤の投
与形態、医師の診断等に応じて広い範囲にわたり変える
ことができるが、一般に、成人に対しては1日当たり約
200〜約3,000mgの範囲内の用量が標準的であ
り、通常これを1日1回または数回に分けて経口的、非
経口的または局所的に投与することができる。
【0079】しかして、上記の薬剤学的組成物は、医
薬、特に抗生物質の製剤において慣用されている無機も
しくは有機の固体または液体の製剤用担体または希釈
剤、例えば、でんぷん、乳糖、白糖、結晶セルロース、
リン酸水素カルシウム等の賦形剤;アカシア、ヒドロキ
シプロピルセルロース、アルギン酸、ゼラチン、ポリビ
ニルピロリドン等の結合剤;ステアリン酸、ステアリン
酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、水
添植物油等の滑沢剤;加工でんぷん、カルシウムカルボ
キシメチルセルロース、低置換ヒドロキシプロピルセル
ロース等の崩壊剤;非イオン性界面活性剤、アニオン性
界面活性剤等の溶解補助剤等と共に、経口的、非経口的
または局所的投与に適した剤形に製剤化することができ
る。
【0080】経口投与に適した剤形には、錠剤、コーテ
ィング剤、カプセル剤、トローチ剤、散剤、細粒剤、顆
粒剤、ドライシロップ剤等の固体製剤、あるいはシロッ
プ剤等の液体製剤が挙げられ、非経口投与に適した剤形
としては、例えば注射剤、点滴剤、坐剤等が包含され
る。また、局所投与に適した剤形には軟膏、チンキ、ク
リーム、ゲル等が挙げられる。これらの製剤は製剤学の
分野でそれ自体周知の方法で調製することができる。
【0081】本発明のカルバペネム化合物は特に注射剤
の形態で非経口的に投与するのが好適である。
【0082】
【実施例】次に、製造例および実施例により、本発明の
カルバペネム化合物についてさらに詳細に説明するが、
本発明が以下の記載によって何ら限定されるものでない
ことはいうまでもない。
【0083】なお、以下の記載中の各記号は、下記の意
味を有する。 Ph :フェニル Ac :アセチル Ms :メシル Trt :トリチル PNB :p−ニトロベンジル TBDMS:t−ブチルジメチルシリル
【0084】製造例1 (a)
【0085】
【化10】
【0086】3,5−ジメチルピラゾール(1)1.1
16gの無水エタノール15ml溶液にグリシドール
0.77mlを加えて、窒素ガス気流中5時間加熱還流
する。反応液の溶媒を減圧下留去して得られる残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロルメタン:
アセトン=1:2)に付して、1−(2,3−ジヒドロ
キシプロピル)−3,5−ジメチルピラゾール(2)を
白色結晶として1.194g(収率:60.4%)得
た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.20(s,3
H)、2.24(s,3H)、3.61(d,2H,J
=4.3Hz)、3.86〜4.14(m,3H)、
5.81(s,1H)
【0087】(b)
【0088】
【化11】
【0089】上記(a)で得られた化合物(2)67
1.6mgの無水アセトニトリル20ml溶液にピリジ
ン0.11ml及びトリチルクロリド1.984gを加
えて、窒素ガス気流中室温にて18.5時間攪拌する。
反応液の溶媒を減圧下留去して得られる残渣に酢酸エチ
ル20mlを加えて、水及び飽和食塩水で順次洗浄す
る。得られる溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を減圧下留去して得られる残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ジクロルメタン:酢酸エチル=5:
1)に付して、1−(2−ヒドロキシ−3−トリチルオ
キシプロピル)−3,5−ジメチルピラゾール(3)を
白色固体として1.281g(収率:78.7%)得
た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.16(s,3
H)、2.17(s,3H)、2.95(dd,1H,
J=6.9,9.2Hz)、3.28(dd,1H,
5.0,9.2Hz)、4.16〜3.96(m,3
H)、5.75(s,1H)、7.19〜7.64
(m,15H)
【0090】(c)
【0091】
【化12】
【0092】上記(b)で得られた化合物(3)1.5
56gの無水ジクロルメタン12ml溶液に、窒素ガス
気流中氷冷下にてトリエチルアミン1.06ml及びメ
チル硫酸クロリド0.44mlを加え、同温度にて1.
5時間攪拌する。反応液の溶媒を減圧下留去して得られ
る残渣に酢酸エチル20mlを加えて、水及び飽和食塩
水で順次洗浄する。得られる溶液を硫酸マグネシウムで
乾燥した後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸
エチル=3:1)に付して、1−(2−メシルオキシ−
3−トリチルオキシプロピル)−3,5−ジメチルピラ
ゾール(4)を白色固体として1.715g(収率:9
2.7%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.15(s,3
H)、2.25(s,3H)、2.54(s,3H)、
3.33(dd,1H,J=4.6,10.9Hz)、
3.57(dd、1H,J=4.0,10.9Hz)、
4.12(dd、1H,J=4.0,14.9Hz)、
4.28(dd,1H,J=8.9,14.9Hz)、
5.06〜4.98(m,1H)、5.78(s,1
H)、7.64〜7.01(m,15H)
【0093】(d)
【0094】
【化13】
【0095】上記(c)で得られた化合物(4)3.7
73gの無水ジメチルホルムアミド50ml溶液にチオ
硫酸カリウム1.757gを加えて、窒素ガス気流中8
0℃にて13時間攪拌する。反応液に酢酸エチル150
mlを加えて、水及び飽和食塩水で順次洗浄する。この
溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留
去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に付して、
1−(2−アセチルチオ−3−トリチルオキシプロピ
ル)−3,5−ジメチルピラゾール(5)を黄色油状物
として2.517g(収率:69.6%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.13(s,3
H)、2.18(s,3H)、2.30(s,3H)、
3.22〜3.34(m,2H)、4.06〜4.33
(m,3H)、5.67(s,1H)、7.14〜7.
64(m,15H)
【0096】(e)
【0097】
【化14】
【0098】上記(d)で得られた化合物(5)22
5.3mgの無水メタノール12ml溶液に、窒素ガス
気流中氷冷下にて28%ナトリウムメトキシド100.
7mgを加え、同温度にて20分間攪拌する。次いで、
反応液にヨウ素63.8mgを加え0℃にて1時間攪拌
する。反応終了後、溶媒を減圧下留去して得られた残渣
に酢酸エチル20mlを加えて、飽和亜硫酸ナトリウム
水及び飽和食塩水で順次洗浄する。この溶液を硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後溶媒を減圧下留去して、ジ[1−
(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)−3−トリチル
オキシ−プロパン−2−イル]ジスルフィド(6)を黄
色油状物として211.5mg得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.03、2.05、
2.07及び2.09(s,12H)、3.09〜3.
29(m,6H)、4.03〜4.21(m,4H)、
5.63(S,1H)、5.64(s,1H)、7.1
5〜7.64(m,30H)
【0099】(f)
【0100】
【化15】
【0101】上記(e)で得られた化合物(6)21
1.5mgのトリフルオロ酢酸1.2ml溶液に、窒素
ガス気流中、メタノール8.0ml、10%塩酸1.7
5ml及び98%ギ酸0.48mlを加えて、室温にて
21.5時間攪拌する。反応液の溶媒を減圧下留去して
得られる残渣をテトラヒドロフラン−メタノール(1:
1)混合液に溶解する。この溶液を重曹でアルカリ性と
した後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ジクロルメタン:アセト
ン=1:1)に付して、ジ[3−ヒドロキシ−1−
(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)−プロパン−2
−イル]ジスルフィド(7)を黄色油状物として88.
7mg(収率:定量的)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.19及び2.26
(s,6H)、3.28〜3.32(m,2H)、3.
69〜3.72(m,4H)、4.30(dd,4H,
J=2.6,6.5Hz)、5.80(s,2H) IR(CHCl3 ):3010cm-1
【0102】(g)
【0103】
【化16】
【0104】上記(f)で得られた化合物(7)55
2.5mgのクロロホルム7.5ml溶液に、窒素ガス
気流中チオニルクロリド0.33mlを加えて、室温に
て4時間攪拌する。反応液の溶媒を減圧下留去して得ら
れる残渣をテトラヒドロフラン−メタノール(1:1)
混合液に溶解する。この溶液を重曹でアルカリ性とした
後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ジクロルメタン:アセトン=
10:1)に付して、ジ[3−クロロ−1−(3,5−
ジメチル−1−ピラゾリル)−プロパン−2−イル]ジ
スルフィド(8)を黄色油状物として567.1mg
(収率:93.3%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.19及び2.25
(s,6H)、3.54〜3.80(m,6H)、4.
03〜4.31(m,4H)、5.78(s,2H)
【0105】(h)
【0106】
【化17】
【0107】上記(g)で得られた化合物(8)34
6.0mgを無水エタノール28mlに溶解し、窒素ガ
ス気流中4時間加熱還流する。反応液の溶媒を減圧下留
去して、ジ(6,7−ジヒドロ−1,3−ジメチル−5
H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリウム−6−イル)
ジスルフィド(9)の粗生成物を褐色固体として得た。
この反応混合物は、精製することなくそのまま次の反応
に用いた。1 H−NMR(CD3 OD)δ:2.36(s,12
H)、4.50〜4.55(br,4H)、4.74〜
4.85(br,6H)、6.41(s,2H)
【0108】(i)
【0109】
【化18】
【0110】上記(h)で得られた化合物(9)のテト
ラヒドロフラン3.4ml溶液に、窒素ガス気流中、水
3.4ml及びトリフェニルホフスフィン228.9m
gを加えて、室温にて3時間攪拌する。反応液の溶媒を
減圧下留去して得られる残渣に水5mlを加えて、酢酸
エチル5mlで5回洗浄する。得られる油状物残渣を減
圧下乾燥して、(6,7−ジヒドロ−1,3−ジメチル
−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリウム−6−イ
ル)チオール・塩化物(10)の粗生成物を白色固体と
して得た。この反応混合物は、精製することなくそのま
ま次の反応に用いた。1 H−NMR(CD3 OD)δ:2.41(s,6
H)、4.24〜4.94(m,6H)、6.46
(s,1H)
【0111】製造例2 (a)
【0112】
【化19】
【0113】4−ピラゾールカルボン酸(11)2.5
9gを、窒素気流下、塩化チオニル25ml中で5時間
還流した後、反応液を濃縮する。得られた濃縮液をテト
ラヒドロフラン80mlに溶解し、この溶液を50%ジ
メチルアミン水溶液10.4mlのテトラヒドロフラン
溶液74mlに、窒素気流中0°Cで滴下し、同温度で
1時間撹拌する。反応液の溶媒を減圧下留去して得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒:塩化メチレン−アセトン)に付して、4−(N,N
−ジメチルカルバモイル)ピラゾール(12)を白色結
晶として3.14g(収率:97.5%)得た。1 H−NMR(CD3 OD)δ:3.13(s,3
H)、3.30(s,3H)、7.74−8.08(b
rd,2H)
【0114】(b)
【0115】
【化20】
【0116】上記(a)で得られた化合物(12)3.
14gの無水エタノール溶液45mlにグリシドール
2.5mlを加え、窒素気流中一夜還流を行う。反応溶
液の溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:テトラヒドロフラ
ン)に付して、 1−(2,3−ジヒドロキシプロピ
ル)−4−(N,N−ジメチルカルバモイル)ピラゾー
ル(13)を白色結晶として4.29g(収率:89.
4%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:3.07(brs,3
H)、3.20(brs,3H)、3.55(m,2
H)、4.10(m,1H)、4.24(m,2H)、
7.69(s,1H)、7.89(s,1H)
【0117】(c)
【0118】
【化21】
【0119】上記(b)で得られた化合物(13)4.
26gの無水塩化メチレン溶液100mlにジメチルア
ミノピリジン124mg、トリエチルアミン4.2ml
及びtert−ブチルジメチルシリルクロライド3.6
3gを加え、窒素気流中一夜撹拌する。反応溶液を減圧
濃縮後、得られた残渣に酢酸エチル100mlを加え、
水100ml、飽和食塩水100mlで順次洗浄する。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶媒:塩化メチレン−アセトン)に付して、1−(3−
tert−ブチルジメチルシリルオキシ−2−ヒドロキ
シ)−4−(N,N−ジメチルカルバモイル)ピラゾー
ル(14)を白色固体として5.30g(収率:81.
0%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:0.12(s,6
H)、0.96(s,9H)、3.04−3.36(b
r,6H)、3.59(dd,1H,J=5.9Hz,
10.2Hz)、3.65(dd,1H,J=5.3H
z,10.2Hz)、4.03−4.15(br,1
H)、4.21(dd,1H,J=6.9Hz,13.
9Hz)、4.35(dd,1H,J=3.3Hz,1
3.9Hz)、7.77(s,1H)、7.88(s,
1H)
【0120】(d)
【0121】
【化22】
【0122】上記(c)で得られた化合物(14)5.
28gの無水塩化メチレン溶液54mlに、窒素気流中
0°Cでトリエチルアミン4.5ml及び塩化メシル
1.9mlを加え、同温度で30分撹拌する。反応液を
減圧濃縮後、得られた残渣に酢酸エチル100mlを加
えて、水100ml、飽和食塩水100mlで洗浄す
る。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶媒:塩化メチレン−アセトン)に付して、1−
(3−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−2−メ
シルオキシ)−4−(N,N−ジメチルカルバモイル)
ピラゾール(15)を白色固体として6.40g(収
率:98.1%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:0.11(s,6
H)、0.92(s,9H)、2.75(s,3H)、
3.00−3.42(br,6H)、3.83(dd,
1H,J=5.6Hz,11.6Hz)、3.89(d
d,1H,J=4.6Hz,11.6Hz)、4.36
(dd,1H,J=7.6Hz,14.5Hz)、4.
48(dd,1H,J=3.6Hz,14.5Hz)、
4.96(m,1H)、7.78(s,1H)、7.8
1(s,1H)
【0123】(e)
【0124】
【化23】
【0125】上記(d)で得られた化合物(15)0.
51gの無水ジメチルホルムアミド溶液13mlに、窒
素気流下チオ酢酸カリウム1.44gを加え60°Cで
40時間撹拌する。反応液に酢酸エチル50mlを加
え、水50ml、飽和食塩水50mlで洗浄する。硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒:塩化メチレン−アセトン)に付して、1−(2−ア
セチルチオ−3−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−4−(N,N−ジメチルカルバモイル)ピラゾー
ル(16)を黄色油状物として0.39g(収率:7
9.9%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:0.07(s,3
H)、0.08(s,3H)、0.92(s,9H)、
2.32(s,3H)、3.14(br,6H)、3.
61(dd,1H,J=5.6Hz,10.6Hz)、
3.70(dd,1H,J=4.0Hz,10.6H
z)、4.03(m,1H)、4.34(dd,1H,
J=6.3Hz,13.9Hz)、4.46(dd,1
H,J=6.9Hz,13.9Hz)、7.73(s,
1H)、7.78(s,1H)
【0126】(f)
【0127】
【化24】
【0128】上記(e)で得られた化合物(16)1.
52gの無水メタノール溶液78mlに、窒素気流下、
0°Cで28%ナトリウムメトキサイド0.76gを加
え、同温度で20分間撹拌した後、更にヨウ素0.51
gを加え、0°Cで1.5時間撹拌する。反応液を減圧
濃縮後、得られた残渣に酢酸エチル100mlを加え、
飽和亜硫酸ナトリウム水100ml、飽和食塩水100
mlで順次洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を
減圧下留去することにより、ジ{3−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ−1−[4−(N,N−ジメチル
カルバモイル)−1−ピラゾリル]−プロパン−2−イ
ル}ジスルフィド(17)の粗生成物を黄色油状物とし
て1.38gを得た。得られた化合物(17)は精製す
ることなく、そのまま次の反応に用いた。1 H−NMR(CDCl3 )δ:0.08(s,12
H)、0.92(s,18H)、3.16(br,12
H)、3.32(br,2H)、3.73(m,4
H)、4.29(dd,2H,J=6.9Hz,14.
2Hz)、4.47(dd,2H,J=6.6Hz,1
4.2Hz)、7.76(s,2H)、7.79(s,
2H)
【0129】(g)
【0130】
【化25】
【0131】上記(f)で得られた化合物(17)1.
38gの無水テトラヒドロフラン溶液39mlに、窒素
気流下0°Cでフッ化テトラブチルアンモニウムの1.
1規定テトラヒドロフラン溶液7.2mlを加えた後、
室温で1時間撹拌する。反応液を減圧濃縮後、得られた
残渣に塩化メチレン100mlを加え、50%炭酸カリ
ウム水100mlで2回洗浄する。硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧濃縮する。得られた残渣をクロロホ
ルム10mlに溶解し、窒素気流下、塩化チオニル0.
7mlを加え、室温で2時間撹拌する。反応液を減圧濃
縮後、得られた残渣をテトラヒドロフラン−メタノール
(1:1)混液に溶解し、炭酸水素ナトリウムでアルカ
リ性とする。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチ
レン−アセトン)に付して、 ジ{3−クロロ−1−
[4−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1−ピラゾ
リル]−プロパン−2−イル}ジスルフィド(18)を
黄色油状物として0.51g(収率:52.8%)得
た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:3.14(br,12
H)、3.68(m,6H)、4.34(dd,2H,
J=6.9Hz,14.5Hz)、4.51(dd,2
H,J=5.6Hz,14.5Hz)、7.77(s,
2H)、7.82(s,2H)
【0132】(h)
【0133】
【化26】
【0134】上記(g)で得られた化合物(18)42
3mgの無水エタノール溶液22mlを、窒素気流下1
週間還流する。反応液を減圧濃縮後、得られた残渣に水
30mlを加え酢酸エチル10mlで4回洗浄する。得
られた油状物残渣を減圧乾燥することにより、ジ[6,
7−ジヒドロ−2−(N,N−ジメチルカルバモイル)
−5H−ピラゾロ[1.2−a]ピラゾリウム−6−イ
ル]ジスルフィド・二塩化物(19)の粗生成物を、淡
褐色固体として346mgを得た。得られた化合物(1
9)は精製することなく、そのまま次の反応に用いた。1 H−NMR(DMSO−d6 )δ:3.00(s,6
H)、3.15(s,3H)、3.16(s,3H)、
4.64−4.82(m,6H)、4.99−5.06
(m,4H)、8.90(s,4H)
【0135】(i)
【0136】
【化27】
【0137】上記(h)で得られた化合物(19)31
9mgのテトラヒドロフラン溶液2.7mlに、窒素気
流下、水2.7ml、トリフェニルホスフィン221m
gを加え、室温で4.5時間撹拌する。反応液を減圧濃
縮後、得られた残渣に水30mlを加え、酢酸エチル1
0mlで4回洗浄する。得られた油状物残渣を減圧乾燥
することにより[6,7−ジヒドロ−2−(N,N−ジ
メチルカルバモイル)−5H−ピラゾロ[1.2−a]
ピラゾリウム−6−イル]チオール・塩化物(20)の
粗生成物を淡褐色固体として245mgを得た。得られ
た化合物(20)は精製することなく、そのまま次の反
応に用いた。1 H−NMR(DMSO−d6 )δ:3.00(s,3
H)、3.15(s,3H)、4.31(m,1H)、
4.47(m,3H)、4.94(m,2H)、8.8
6(s,2H)
【0138】製造例3 (a)フルオロ酢酸ナトリウム25g(0.24mo
l)の無水ジメチルホルムアミド170ml溶液に、−
20℃で塩化オキザリル47.5ml(0.54mo
l)を50分かけて滴下する。反応液を0℃、60℃で
それぞれ30分間攪拌した後、−20℃でトリエチルア
ミン68.3ml(0.49mol)を滴下する。反応
液を0℃、55℃でそれぞれ30分間攪拌した後、氷水
50ml、50%炭酸カリウム水溶液300mlを加
え、80℃で40分間攪拌する。反応液を室温まで冷や
した後濾過し、残渣をベンゼン100mlで3回洗浄す
る。濾液を濃縮後、クロロホルム100mlを加えて濾
過し、残渣をクロロホルム100mlで3回洗浄する。
濾液を水100mlで5回洗浄した後、減圧濃縮するこ
とにより、2−フルオロ−3−ジメチルアミノ−アクロ
レインの粗生成物を褐色油状物として16.2g得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:3.15(s,6
H)、6.11(d,1H,JFH=25.4Hz)、
8.54(d,1H,JFH=20.1Hz)
【0139】(b)上記(a)で得られた化合物16.
2gと水酸化ナトリウム5.84g(0.14mol)
の水溶液22mlを70℃で30分間攪拌後、反応溶液
を減圧濃縮する。得られた反応液残渣にアセトン20m
lを加え濾過した後、乾燥エタノール5ml、アセトン
20mlの混合溶液で5回残渣を洗浄する。残渣をよく
乾燥させた後、水−アセトンで再結晶することにより、
フルオロマロンジアルデヒド・ナトリウム塩を淡褐色結
晶として10.2g(収率:37.1%)得た。1 H−NMR(D2 O)δ:7.93(d,1H,JFH
=23.1Hz)
【0140】(c)上記(b)で得られた化合物435
mg(3.9mmol)の無水ジエチルエーテル20m
l溶液中に、0℃で塩化水素ガスを30分間導入する。
反応液を室温で1時間攪拌した後濾過し、残渣を無水ジ
エチルエーテル20mlで洗浄する。濾液を減圧濃縮す
ることにより、フルオロマロンジアルデヒドの粗生成物
を黄色固体として210mg得た。1 H−NMR(DMSO−d6 )δ:8.15(d,1
H,JFH=22.1Hz)
【0141】(d)
【0142】
【化28】
【0143】上記(c)で得られた化合物210mgの
50%メタノール水溶液6mlに、窒素気流下、ジ(ピ
ラゾロリジン−4−イル)ジスルフィド・二塩酸塩(2
1)290mg(1.0mmol)と70%過塩素酸
0.4ml(2.8mmol)を加え、室温で20時間
攪拌する。反応溶液を濾過した後、90%アセトンで残
渣を洗浄する。濾液を減圧濃縮した後、残渣をメタノー
ル5mlで5回洗浄し真空乾燥することにより、ジ
(6.7−ジヒドロ−2−フルオロ−5H−ピラゾロ
[1.2−a]ピラゾリウム−6−イル)ジスルフィド
・二過塩素酸塩(22)の粗生成物を褐色固体として4
50mg得た。1 H−NMR(DMSO−d6 )δ:4.78(m,6
H)、4.94(m,4H)、8.79(d,4H,J
FH=3.3Hz)
【0144】(e)
【0145】
【化29】
【0146】上記(d)上で得られた化合物(22)4
50mgの50%テトラヒドロフラン溶液20mlに、
窒素気流下トリフェニルホスフィン232mg(0.9
mmol)を加えて室温で2時間攪拌する。反応液に水
10mlを加えた後、酢酸エチル10mlで3回洗浄す
る。酢酸エチル層を10%アセトニトリル10mlで洗
浄した後、水層を集めて減圧濃縮することにより、
(6.7−ジヒドロ−2−フルオロ−5H−ピラゾロ
[1.2−a]ピラゾリウム−6−イル)チオール・過
塩素酸塩(23)の粗生成物を黄色油状物として342
mg得た。1 H−NMR(DMSO−d6 )δ:3.89(d,1
H,J=6.9Hz、D2 Oで消失)、4.43(m,
3H)、4.93(m,2H)、8.78(d,2H,
FH=2.6Hz)
【0147】実施例1
【0148】
【化30】
【0149】上記製造例1で得られた化合物(10)の
無水アセトニトリル33ml溶液に、窒素気流中−20
℃にて、p−ニトロベンジル (1R,5R,6S)−
2−(ジフェニルフォスフォリルオキシ)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
バペン−2−エム−3−カルボキシレート(24)1.
105gの無水アセトニトリル11ml溶液、及びジイ
ソプロピルエチルアミン0.36mlを加え、同温度に
て3.5時間攪拌する。反応液の溶媒を減圧下留去して
得られる残渣を酢酸エチル10mlで5回洗浄する。得
られる黄色油状物を減圧下乾燥してp−ニトロベンジル
(1R,5R,6S)−2−[(6,7−ジヒドロ−
1,3−ジメチル−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラ
ゾリウム−6−イル)チオ]−6−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−
3−カルボキシレート(25)の粗生成物を黄色固体と
して得た。この反応混合物は、精製することなくそのま
ま次の反応に用いた。1 H−NMR(CD3 OD)δ:1.35(m,6
H)、2.45(brd,6H)、3.32〜3.66
(br,2H)、4.44(m,2H)、4.78〜
4.94(br,5H)、5.40(brq,2H)、
6.52(br,1H)、7.73(brd,2H)、
8.24(brd,2H)
【0150】実施例2
【0151】
【化31】
【0152】上記実施例1で得られた化合物(25)を
0.1M酢酸緩衝液80ml(pH5.5)に溶解し、
この溶液にn−ブタノール80ml及び10%パラジウ
ム炭素667mlを加えて、水素雰囲気下(4kg/c
2 )室温にて1.5時間激しく攪拌する。反応液をセ
ライトで濾過して不溶物を除去し、得られた溶液をn−
ブタノール50mlで洗浄する。得られる水溶液のpH
を5.5に調整した後減圧下濃縮する。濃縮液をDia
ion SP−207(三菱化成工業株式会社製)によ
るカラムクロマトグラフィー(5%イソプロピルアルコ
ール水)に付して、本発明の(1R,5S,6S)−2
−[(6,7−ジヒドロ−1,3−ジメチル−5H−ピ
ラゾロ[1,2−a]ピラゾリウム−6−イル)チオ]
−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル
−カルバペン−2−エム−3−カルボキシレート(2
6)を淡黄色固体として304.7mg(化合物(8)
からの収率:47.5%)得た。1 H−NMR(CD3 OD)δ:1.32(d,3H,
J=7.3Hz)、1.34(d,3H,J=6.6H
z)、2.50(s,6H)、3.25〜3.34
(m,2H)、4.18(t,1H,J=6.6H
z)、4.30(dd,1H,J=3.0,9.9H
z)、4.45〜4.55(br,2H)、4.73〜
5.06(br,1H)、6.53(s,1H) IR(KBr):3413,1752cm-1
【0153】実施例3
【0154】
【化32】
【0155】化合物(24)632mgの無水アセトニ
トリル溶液19mlに、窒素気流下−25°Cで、上記
製造例2で得られた化合物(20)239mgの無水エ
タノール溶液4ml、ジイソプロピルエチルアミン0.
2mlを加え、同温度で2時間撹拌する。反応液を減圧
濃縮後、得られた残渣に水30mlを加え、酢酸エチル
10mlで3回洗浄する。得られた油状物残渣を減圧乾
燥することにより、p−ニトロベンジル (1R,5
S,6S)−2−{[6,7−ジヒドロ−2−(N,N
−ジメチルカルバモイル)−5H−ピラゾロ[1.2−
a]ピラゾリウム−6−イル]チオ}−6−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバペン−2−
エム−3−カルボキシレート・塩化物(27)の粗生成
物を淡褐色固体として440mgを得た。得られた化合
物(27)は精製することなく、そのまま次の反応に用
いた。1 H−NMR(DMSO−d6 )δ:1.17(d,3
H,J=6.3Hz)、1.22(d,3H,J=6.
1Hz)、3.00(s,3H)、3.12(s,3
H)、3.78(m,1H)、4.01(m,1H)、
4.30(m,1H)、4.64(m,2H)、5.0
2(m,3H)、5.20(m,1H)、5.38(d
d,2H,J=14.2Hz,46.9Hz)、7.6
8(d,2H,J=8.6Hz)、8.22(d,2
H,J=8.6Hz)、8.82(s,1H)、8.8
3(s,1H)
【0156】実施例4
【0157】
【化33】
【0158】上記実施例3で得られた化合物(27)4
31mgを0.1M酢酸緩衝液(pH5.5)37ml
に溶解し、n−ブタノール37ml、10%パラジウム
カーボン280mgを加え、室温、4気圧で1.5時間
接触水添を行う。反応液をセライドパッド上で濾過し、
水10mlで3回、n−ブタノール30mlで1回セラ
イドパッドを洗浄する。濾液を集め、水層を分取する。
得られた水層のpHを5.5に補正し、減圧下、約10
mlまで水を濃縮する。得られた水溶液をDiaion
SP−207(三菱化成工業株式会社製)によるシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:5%イソプ
ロパノール水)で精製し、(1R,5S,6S)−2−
{[6,7−ジヒドロ−2−(N,N−ジメチルカルバ
モイル)−5H−ピラゾロ[1.2−a]ピラゾリウム
−6−イル]チオ}−6−[(R)−ヒドロキシエチ
ル]−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキ
シレート(28)を黄色固体として134mg(化合物
(18)からの総収率:21.1%)得た。1 H−NMR(D2 O)δ:1.23(d,3H,J=
7.3Hz)、1,27(d,3H,J=6.6H
z)、3.07(s,3H)、3.19(s,3H)、
3.21(m,1H)、3.37(m,1H)、3.4
9(dd,1H,J=2.6Jz,5.9Hz)、4.
25(m,1H)、4.64(m,2H)、4.99
(m,2H)、5.13(m,1H)、8.57(s,
1H)、8.59(s,1H) IR(KBr):3421,1755,1625cm-1
【0159】実施例5
【0160】
【化34】
【0161】化合物(24)904mg(1.5mmo
l)の無水アセトニトリル溶液20mlに、窒素気流下
−20℃で、上記製造例3で得られた化合物(23)3
42mgの無水アセトニトリル溶液7ml、ジイソプロ
ピルエチルアミン0.28ml(1.6mmol)を加
え、同温度で1時間攪拌する。反応液を減圧濃縮後、得
られた残渣を酢酸エチル5ml、塩化メチレン5mlで
それぞれ3回洗浄し真空乾燥することにより、p−ニト
ロベンジル (1R,5S,6S)−2−[(6.7−
ジヒドロ−2−フルオロ−5H−ピラゾロ[1.2−
a]ピラゾリウム−6−イル)チオ]−6−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバペン−2−
エム−3−カルボキシレート・過塩素酸塩(29)の粗
生成物を赤色アモスファスとして269mg得た。1 H−NMR(DMSO−d6 )δ:1.17(d,3
H,J=6.3Hz)、1.45(d,3H,J=7.
3Hz)、3.62(m,1H)、4.02(dd,1
H,J=5.6Hz,11.9Hz)、4.29(d
d,1H,J=2.9Hz,9.9Hz)、4.68
(m,2H)、4.85(m,1H)、4.98(m,
2H)、5.15(d,1H,J=5.0Hz)、5.
38(dd,2H,J=14.5Hz,48.2H
z)、7.68(d,2H,J=8.9Hz)、8.2
2(d,2H,J=8.9Hz)、8.79(d,2
H,JFH=3.0Hz)
【0162】実施例6
【0163】
【化35】
【0164】上記実施例5で得られた化合物(29)2
69mgをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、0.1
M酢酸緩衝液(pH5.5)20ml、n−ブタノール
15ml、10%パラジウム炭素171mgを加え、室
温下、水素雰囲気中(4気圧)で1.5時間接触水添を
行う。反応液をセライトパッド上で濾過し、水20ml
で洗浄する。濾液から水層を分取した後、n−ブタノー
ル15mlで2回洗浄する。得られた水層のpHを5.
5に補正し、減圧下約5mlまで水を留去する。得られ
た水溶液をDiaion SP−207(三菱化成工業
株式会社製)14mlによるカラムクロマトグラフィー
(溶出液:4%イソプロパノール水)で精製して、(1
R,5S,6S)−2−[(6,7−ジヒドロ−2−フ
ルオロ−5H−ピラゾロ[1.2−a]ピラゾリウム−
6−イル)チオ]−6−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキ
シレート(30)を白色固体として100mg(原料で
あるフルオロマロンジアルデヒドからの収率7.0%)
得た。1 H−NMR(D2 O)δ:1.26(d,3H,J=
7.3Hz)、1.30(d,3H,J=6.3H
z)、3.40(dd,1H,J=7.9Hz,9.6
Hz)、3.52(dd,1H,J=3.0Hz,6.
3Hz)、4.27(m,2H)、4.67(dd,2
H,J=3.6Hz,12.5Hz)、5.00(m,
2H)、5.19(m,1H)、8.35(d,1H,
FH=4.3Hz)、8.37(d,1H,JFH=4.
0Hz) IR(KBr):3394,1759,1586,14
08cm-1
【0165】次に、本発明のカルバペネム化合物を用い
た製剤例を示すと以下のとおりである。
【0166】製剤例1(注射剤) 上記成分を混合し、総容積100mlの懸濁注射剤とす
る。
【0167】(2)凍結乾燥する場合 化合物(28)20gに蒸留水を適量加えて、容積10
0mlとする。1バイアル中に上記水溶液2.5mlま
たは5ml(それぞれ、化合物500mgまたは100
0mgを含有する)を充填し、凍結乾燥する。用時、蒸
留水約3〜4mlを添加して注射剤とする。
【0168】(3)粉末充填する場合 1バイアル中に化合物(30)250mgを粉末のまま
充填する。用時、蒸留水約3〜4mlを添加して注射剤
とする。
【0169】 上記の成分を混合し、常法により打錠して錠剤とした
後、必要に応じて常法により糖衣もしくはフィルムコー
ティングして糖衣錠もしくはフィルムコーティング錠と
する。
【0170】 上記の成分を混合し、常法により打錠してトローチ剤と
する。
【0171】製剤例4 (カプセル剤) 化合物(26) 500mg ステアリン酸マグネシウム 10mg 1カプセル 510mg 上記の成分を混合し、これを通常の硬ゼラチンカプセル
に充填してカプセル剤とする。
【0172】 上記の成分を混合してドライシロップ剤とする。
【0173】 上記の成分を混合して散剤とする。
【0174】製剤例7 (坐剤) 化合物(28) 500mg ウイテツプソール H−12 700mg (ダイナマイト・ノーベル社製) 1坐剤 1200mg 上記の成分を混合し、これを常法により坐剤とする。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I) 【化1】 式中、R1 及びR2 は、一方が水素原子のとき他方が以
    下のいずれかの基: (1) ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、メルカプト基及
    びアミノ基の中から選択される基で置換されていてもよ
    い低級アルキル基; (2) カルバモイル基; (3) モノ−若しくはジ−低級アルキル置換アミド基; (4) ハロゲン原子、である2−(モノ又はジ置換−6,
    7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリ
    ウム−6−イル)チオ−カルバペネム誘導体およびその
    薬理学的に許容される塩。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の式(I)で示されるカル
    バペネム誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有
    効成分として含有する抗菌剤。
JP6170497A 1993-06-30 1994-06-30 2−(モノ又はジ置換−6,7−ジヒドロ−5H−ピラゾロ[1,2−a]ピラゾリウム−6−イル)チオ−カルバペネム誘導体 Pending JPH0770139A (ja)

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KR100309703B1 (ko) * 1999-01-18 2001-10-29 박호군 이중고리 티올 유도체, 이를 치환기로 갖는 1-β-메틸-카바페넴 유도체, 및 그들의 제조방법

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KR100309703B1 (ko) * 1999-01-18 2001-10-29 박호군 이중고리 티올 유도체, 이를 치환기로 갖는 1-β-메틸-카바페넴 유도체, 및 그들의 제조방법

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