JPH0768460A - Grinding method - Google Patents

Grinding method

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JPH0768460A
JPH0768460A JP8980194A JP8980194A JPH0768460A JP H0768460 A JPH0768460 A JP H0768460A JP 8980194 A JP8980194 A JP 8980194A JP 8980194 A JP8980194 A JP 8980194A JP H0768460 A JPH0768460 A JP H0768460A
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JP
Japan
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polishing
resin
polished
layer
tape
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Application number
JP8980194A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Ryomo
克己 両毛
Masaaki Fujiyama
正昭 藤山
Keisuke Yamada
圭介 山田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0768460A publication Critical patent/JPH0768460A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a grinding method to remove only projections from the surface to be ground from a body to be ground having endogenous projections without damaging the surface to be ground. CONSTITUTION:In the grinding method, the endogenous projections are ground by sliding a body to be ground having endogenous projections on the surface and a grinding tape having a grinding layer which is mainly composed of particles of the grinding agent and the binding agent on the supporting body in a mutually opposite direction so that the surface to be ground of the body to be ground is brought into contact with the grinding layer of the grinding tape in a sliding manner.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、表面に内因性突起を有
する被研磨体からその内因性突起を切除する被研磨体の
研磨方法に関し、特に、STN型、TFT型等の液晶デ
ィスプレーに用いるカラーフィルターの被研磨物を研磨
する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for polishing an object to be polished, which has an intrinsic projection on its surface and excises the endogenous projection, and is particularly used for liquid crystal displays such as STN type and TFT type liquid crystal displays. The present invention relates to a method for polishing an object to be polished of a color filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、種々のディスプレー用に使用され
ている液晶ディスプレーに用いるカラーフィルターは、
顔料分散法、染色法、印刷法等で作成されている。通常
の製造工程ではこのあとITO(酸化インジウム・酸化
錫複合体)等の透明電極を設置するため、カラーフィル
ター表面に突起等の欠陥があると電極の機能を阻害して
フィルターとして充分に機能できなくなる。しかし、塵
埃レベル(米国連邦規格)クラス10〜10,000で
製造を行ってもカラーフィルターの突起物は完全には無
くせない。カラーフィルターにこのような欠陥があると
色ムラ、色ズレ、フィルターのヌケ、パターン異常を発
生して透明電極を設置しても液晶ディスプレーとしては
役に立たないから不良品となり、生産工程での歩留まり
を下げ、実用化上の大きな障害となっていた。
2. Description of the Related Art In recent years, color filters used for liquid crystal displays, which have been used for various displays, are
It is created by a pigment dispersion method, a dyeing method, a printing method, or the like. In the normal manufacturing process, a transparent electrode such as ITO (Indium Oxide / Tin Oxide Composite) is installed after this, so if there are protrusions or other defects on the surface of the color filter, it will interfere with the function of the electrode and will function sufficiently as a filter. Disappear. However, even if the dust level (US Federal Standard) class 10 to 10,000 is used for manufacturing, the protrusions of the color filter cannot be completely eliminated. If there is such a defect in the color filter, it will not be useful as a liquid crystal display even if a transparent electrode is installed due to color unevenness, color misregistration, filter missing, or pattern abnormality, and it will be a defective product, and the yield in the production process will increase. This was a big obstacle to practical use.

【0003】即ち、液晶ディスプレーは、液晶層を中央
部にしてカラーフィルター、透明電極、画素電極やトラ
ンジスター層をガラス基板で挟み込む形で貼り合わせて
製造されるがカラーフィルターに突起があるとその貼り
合わせる際に透明電極面を突き破ったりして、色に関わ
る欠陥を生じてしまうことがあった。
That is, a liquid crystal display is manufactured by laminating a color filter, a transparent electrode, a pixel electrode and a transistor layer on a glass substrate with a liquid crystal layer in the center, but if the color filter has a protrusion, the liquid crystal display is attached. When matching, the transparent electrode surface may be pierced and a defect related to color may occur.

【0004】この突起は、通常、カラーフィルター製造
工程中のガラス基板上に塗設もしくは印刷などによりフ
ィルター膜を形成する工程で発生する分散液や印刷イン
キの凝集等が原因となって発生するいわば内因性突起で
あり、単なる付着物ではないので単に拭き取ることで除
去するのは困難であった。
The protrusions are generally caused by agglomeration of the dispersion liquid or printing ink generated in the process of forming a filter film by coating or printing on a glass substrate during the color filter manufacturing process. Since it is an endogenous protrusion and not a mere deposit, it was difficult to remove it by simply wiping it off.

【0005】突起物等がある凹凸のある表面を研磨して
被研磨体の表面を平滑に仕上げる研磨方法としては、被
研磨体の材質、使用目的、要求性能等により種々の方法
が採用されている。
As a polishing method for polishing the surface of an object to be polished by polishing an uneven surface having protrusions and the like, various methods are adopted depending on the material of the object to be polished, purpose of use, required performance and the like. There is.

【0006】研磨方法としては、一般的には被研磨体の
被研磨面に研磨体を押し当てて摺接することにより、被
研磨面上の凸部を除去して平坦化する方法が通常採用さ
れている。
As a polishing method, generally, a method of pressing a polishing object against a surface to be polished and slidingly contacting the surface to remove a convex portion on the surface to be polished and flattening the surface is usually adopted. ing.

【0007】そして、研磨体としては被研磨面の不特定
の形状に倣って摺接できることから可撓性支持体上に研
磨層を設けた研磨テープが広く使用されている。
As the polishing body, a polishing tape having a polishing layer provided on a flexible support is widely used because it can be slidably contacted by following the unspecified shape of the surface to be polished.

【0008】前記液晶用カラーフィルターの内因性突起
を切除するために研磨テープをカラーフィルター面に摺
接して研磨しても内因性突起が充分に除去できないだけ
ではなく、カラーフィルター面に傷を付けたり、また、
研磨による切り屑が表面に付着して新たな問題を起こし
たり、切り屑により表面に傷を付けたりした。以上の問
題は、従来技術をもってしても十分に解決できなかっ
た。例えば、特開平3ー131463号公報、特開平4
ー315566号公報、特開平5ー 77153号公報
及び特開昭60ー44264号公報等には、各種の構造
の研磨テープを使用する研磨機が開示されているが、こ
れらの研磨機を用いて液晶フィルターの研磨を行ったの
では、しばしば、研磨テープの粗さが不適当であった
り、研磨テープの組成に起因する汚染が被研磨面に生じ
たり、また研磨テープと被研磨面の間に削れ滓が入り込
んで被研磨面に傷を生じたりすることがあった。
Even if the polishing tape is slid on the color filter surface in order to remove the intrinsic projections of the liquid crystal color filter, the endogenous projections cannot be sufficiently removed, and the color filter surface is scratched. Or again
The chips produced by polishing adhered to the surface and caused new problems, and the chips caused scratches on the surface. The above problems could not be sufficiently solved even with the conventional technology. For example, JP-A-3-131463 and JP-A-4
No. 315566, JP-A No. 5-77153, JP-A No. 60-44264 and the like disclose polishing machines using polishing tapes of various structures. These polishing machines are used. When the liquid crystal filter is polished, the roughness of the polishing tape is often inadequate, the surface to be polished is contaminated due to the composition of the polishing tape, and the surface between the polishing tape and the surface to be polished is often damaged. The shavings could enter and scratch the surface to be polished.

【0009】[0009]

【本発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技
術の問題点に鑑みなされたものであって、内因性突起を
有する被研磨体から研磨面に傷を付けずに突起のみを被
研磨面から除去する研磨方法を提供することを目的とし
ており、特に、被研磨面が液晶用カラーフィルターであ
る場合その表面から内因性突起を効率よく除去すること
によりその生産工程における歩留まりの向上を目的とす
るものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, in which only the projections are polished from an object to be polished having an intrinsic projection without scratching the polishing surface. It is intended to provide a polishing method for removing from the surface, and particularly when the surface to be polished is a color filter for liquid crystal, the objective is to improve the yield in the production process by efficiently removing the endogenous protrusions from the surface. It is what

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は、表
面に内因性突起を有する被研磨体と支持体上に研磨剤粒
子と結合剤を主体とする研磨層を有する研磨テープとを
該被研磨体の被研磨面と該研磨テープの該研磨層とが摺
接するように互いに対向する方向に接動させて前記内因
性突起を研削する研磨方法により達成される。
The above object of the present invention is to provide an object to be polished having an intrinsic protrusion on the surface thereof and a polishing tape having a polishing layer mainly containing abrasive particles and a binder on a support. This is achieved by a polishing method in which the surface to be polished of the object to be polished and the polishing layer of the polishing tape are brought into sliding contact with each other in opposite directions to grind the endogenous protrusions.

【0011】本発明の研磨方法においては、研磨テープ
と被研磨体とを互いに対向するように移動させ、研磨テ
ープの研磨層表面と被研磨体の内因性突起がある被研磨
面とを摺接させることにより内因性突起を除去するので
ある。ここでいう内因性突起とは、被研磨体の製造時に
被研磨体の内部を発生源として生じた突起のことであっ
て、被研磨体の製造後に外部から飛来した付着物のこと
ではない。
In the polishing method of the present invention, the polishing tape and the object to be polished are moved so as to face each other, and the surface of the polishing layer of the polishing tape and the surface to be polished having the intrinsic protrusions of the object to be polished are brought into sliding contact with each other. By doing so, the endogenous protrusions are removed. The term “intrinsic projection” as used herein means a projection generated from the inside of the object to be polished as a generation source at the time of manufacturing the object to be polished, and does not refer to an extraneous matter that flies from the outside after manufacturing the object to be polished.

【0012】本発明では、被研磨体と研磨テープを互い
に対向させて接動することにより、被研磨体上の内因性
突起を研磨テープで研削しつつ被研削物を除去するの
で、内因性突起が被研磨面に傷を付けずに有効に除去で
きるのである。ここで対向させて接動するとは、被研磨
体及び研磨テープの双方を逆方向に互いにほぼ水平に接
触するように移動させることである。双方の移動する動
線のなす角度は必ずしも180°に近くなくても良い。
重要なのは双方が移動することと、その移動する方向が
互いに逆であるということである。研磨テープを使用す
る方法であっても被研磨物と対向する方向に移動するこ
とにより、順方向に移動させる場合より摩擦抵抗が増加
し、特に突起部分に応力が集中することにより有効な研
削が行えるものと推定される。
In the present invention, the object to be ground and the polishing tape are opposed to each other and brought into contact with each other, so that the object to be ground is removed while the endogenous projection on the object to be ground is ground by the polishing tape. Can be effectively removed without damaging the surface to be polished. Here, the facing and the contacting means moving both the object to be polished and the polishing tape in opposite directions so as to contact each other substantially horizontally. The angle formed by the two moving lines does not necessarily have to be close to 180 °.
What is important is that they both move and that their directions of movement are opposite to each other. Even when using a polishing tape, moving in a direction facing the object to be polished increases the frictional resistance as compared to the case of moving in the forward direction, and effective grinding is achieved by stress concentrated on the protrusions in particular. It is estimated to be possible.

【0013】内因性突起の場合被研磨面と一体となって
膜中に固定されているので、単なる付着物と異なりエア
ブローやワイピング等のように研磨面を傷つけないよう
に配慮した従来の方法では除去することが極めて困難で
あった。本発明の方法では、特に、ナイフ、小刀、剃刀
等でカラーフィルターの突起を削り取るという従来の方
法とは異なり、研磨テープを用い被研磨物と対向方向に
作用させ、研削と同時に被研削物の除去を行うことが内
因性の突起を被研磨面を傷つけることなく研削するのに
有効なのではないかと考えられる。
In the case of an endogenous protrusion, since it is fixed in the film together with the surface to be polished, unlike the conventional method, in the conventional method in consideration of not damaging the polishing surface such as air blow or wiping. It was extremely difficult to remove. In the method of the present invention, differently from the conventional method of scraping off the protrusions of the color filter with a knife, a sword, a razor, etc., the abrasive tape is used to act in a direction opposite to the object to be ground, and the object to be ground is ground and simultaneously ground. It is considered that the removal is effective for grinding the intrinsic protrusions without damaging the surface to be polished.

【0014】本発明の研磨方法に使用する前記研磨テー
プの研磨層の結合剤樹脂としては、比較的硬質のものと
して、塩ビ系樹脂、ニトロセルロース樹脂、ポリエステ
ル系樹脂、エポキシ樹脂等のそれ自身の乾燥被膜を応力
ー歪測定装置で測定したときのヤング率が400Kg/
mm2を越える硬さを有するハード系樹脂が挙げられ
る。また、比較的軟質なものとしては、ウレタン系樹脂
等のそれ自身の乾燥被膜を応力ー歪測定装置で測定した
ときのヤング率が300Kg/mm2以下である硬さを
有するソフト系樹脂が挙げられる。そして、結合剤樹脂
に硬化剤を併用することにより機械的に強固な研磨層と
するこができる。硬化剤としては、ポリイソシアネート
が望ましい。
As the binder resin for the polishing layer of the polishing tape used in the polishing method of the present invention, a relatively hard binder resin such as a vinyl chloride resin, a nitrocellulose resin, a polyester resin or an epoxy resin is used. Young's modulus of the dried film measured with a stress-strain measuring device is 400 kg /
A hard resin having a hardness of more than mm 2 may be mentioned. Further, examples of the relatively soft resin include a soft resin having a hardness of Young's modulus of 300 Kg / mm 2 or less when its own dry film such as urethane resin is measured by a stress-strain measuring device. To be Then, by using the binder resin and the curing agent together, a mechanically strong polishing layer can be obtained. Polyisocyanate is desirable as the curing agent.

【0015】本発明の研磨方法が適用できる被研磨体に
は特に制限はない。本発明の方法が効果的に適用できる
被研磨体の一例としては、液晶ディスプレー装置に用い
るカラーフィルター、また、仕上げ研磨用として磁気ヘ
ッドや複写機の感光ドラム等が挙げられる。本発明の方
法により、それらの被研磨体の表面にある内因性突起を
除去することができる。中でも、本発明の研磨方法を適
用して特に効果が大きい被研磨体としては、内因性突起
が合成樹脂からなる液晶ディスプレー用のカラーフィル
ターである。可撓性の研磨テープを用いて当該突起箇所
を部分的に研削しそれ以上の研削を行わないことが可能
だからである。
There is no particular limitation on the object to be polished to which the polishing method of the present invention can be applied. Examples of the object to be polished to which the method of the present invention can be effectively applied include a color filter used in a liquid crystal display device, a magnetic head for finish polishing, a photosensitive drum of a copying machine, and the like. By the method of the present invention, it is possible to remove the endogenous protrusions on the surface of the object to be polished. Among them, an object to be polished to which the polishing method of the present invention is particularly effective is a color filter for a liquid crystal display in which the intrinsic protrusions are made of synthetic resin. This is because it is possible to partially grind the protruding portion by using a flexible polishing tape and prevent further grinding.

【0016】本発明で言う液晶ディスプレー用カラーフ
ィルターとは、顔料分散法、染色法、印刷法、電着法の
製造方法があり、ガラス基板の上にRGB3色の顔料や
染料を合成樹脂中に分散させたフィルターを1〜3μm
の厚みに交互に配置したものである。最小線巾は約20
μmで、合成樹脂としては、アクリル系、ポリイミド
系、ゼラチン等が用いられる。またこれらの上に透明電
極としてITO膜を配置したものをさす場合もある。
The color filter for liquid crystal display referred to in the present invention includes a pigment dispersion method, a dyeing method, a printing method, and an electrodeposition method, and a pigment or dye of three RGB colors is placed on a glass substrate in a synthetic resin. The dispersed filter is 1-3 μm
It is arranged alternately in the thickness of. Minimum line width is about 20
In μm, acrylic resin, polyimide resin, gelatin or the like is used as the synthetic resin. In some cases, a transparent electrode on which an ITO film is arranged may be referred to.

【0017】即ち、液晶用のカラーフィルターではその
表面にある内因性突起物が、LCDを作成するときに、
カラーフィルター上に配置される対向電極(ITO)、
配向膜、封入液晶等に悪影響を及ぼし、点欠陥、線欠
陥、表示ムラ、ワレ、面内ショートが生じるので、本発
明の研磨方法を適用する場合、これらの内因性突起物が
除去できるため面内ショートによるLCD(液晶ディス
プレー)の歩留まり低下が防げることとなるからであ
る。
That is, in the color filter for liquid crystal, the intrinsic protrusions on the surface of the color filter are
A counter electrode (ITO) arranged on the color filter,
The alignment film, the enclosed liquid crystal, etc. are adversely affected, and point defects, line defects, display unevenness, cracks and in-plane short-circuits occur. This is because it is possible to prevent the yield of LCDs (liquid crystal displays) from decreasing due to an internal short circuit.

【0018】本発明の研磨方法を液晶用のカラーフィル
ター等の被研磨体の被研層表面にある内因性突起物を研
削除去するためには、特に、研磨テープ表面層の硬さを
適度にコントロールする必要がある。即ち、被研磨体や
被研磨層の樹脂材料の物性や内因性突起の高さ形状に応
じて研磨テープの研磨層表面の硬さを選択することが必
要であるが、通常、研磨層の硬さとしてはテープ長手方
向のヤング率が20〜400Kg/mm2の範囲にある
ことが望ましい。
In order to grind away the endogenous projections on the surface of the layer to be polished of the object to be polished such as a color filter for liquid crystal by the polishing method of the present invention, in particular, the hardness of the surface layer of the polishing tape is appropriately adjusted. Need to control. That is, it is necessary to select the hardness of the polishing layer surface of the polishing tape according to the physical properties of the material to be polished or the resin material of the layer to be polished and the height shape of the intrinsic protrusions. Specifically, it is desirable that the Young's modulus in the tape longitudinal direction is in the range of 20 to 400 Kg / mm 2 .

【0019】そして、そのような研磨層の硬さを上記範
囲にコントロールし易いという観点から、研磨層の結合
剤樹脂の組成としては、上記ハード系樹脂:ソフト系樹
脂:ポリイソシアネートの組成比が特定の割合で使用す
ることが好ましい。特に、ハード系樹脂として塩ビ系樹
脂をソフト系樹脂としてウレタン樹脂が好ましく塩ビ系
樹脂:ウレタン系樹脂:ポリイソシアネート重量が 1
〜10:70〜95:5〜40であり、好ましくは 1
〜5:70〜95:10〜30である。即ち、上記の
ような組成にするとハード系樹脂が少なく、また架橋剤
となるポリイソシアネートも少なく伸びのある靱性の高
い塗膜が得られるので研磨層から研磨剤粒子の脱落が防
止できて、研磨テープの切削残渣も脱落することなく保
持できるので研磨層の硬さが上記の条件に合うようにコ
ントロールし易くなる。研磨層の硬さを上記範囲に保持
して、且つ研磨剤粒子の研磨層からの脱落を防止すると
いう点では、塩ビ系樹脂も含めた三成分系を研磨層の結
合剤樹脂とすることが好ましいのであるが、一方、ハロ
ゲンガスの発生による電極の腐蝕を考慮した場合、塩ビ
系樹脂はないほうが望ましいので、ハード系樹脂として
塩ビ系樹脂を使用する場合は、特にその組成比は重量百
分比で10以下にすることが肝要なのである。
From the viewpoint of easily controlling the hardness of such a polishing layer within the above range, the composition ratio of the binder resin in the polishing layer is the above hard resin: soft resin: polyisocyanate composition ratio. It is preferable to use it in a specific ratio. In particular, a vinyl resin as a hard resin is preferably a urethane resin as a soft resin, and a vinyl resin: urethane resin: polyisocyanate weight is 1
10:70 to 95: 5 to 40, preferably 1
5 to 70 to 95:10 to 30. That is, when the composition as described above is used, the hard resin is small, and the polyisocyanate serving as a crosslinking agent is also small, so that a coating film having high elongation and high toughness can be obtained. Since the cutting residue of the tape can be retained without falling off, the hardness of the polishing layer can be easily controlled to meet the above conditions. In order to maintain the hardness of the polishing layer in the above range and prevent the abrasive particles from falling out of the polishing layer, a three-component system including a vinyl chloride resin may be used as the binder resin for the polishing layer. On the other hand, on the other hand, when considering the corrosion of the electrode due to the generation of halogen gas, it is preferable that the vinyl chloride resin is not used.Therefore, when the vinyl chloride resin is used as the hard resin, the composition ratio thereof is particularly a weight percentage. It is essential to keep it below 10.

【0020】また、塩ビ系樹脂は経年変化により分解し
てハロゲンガスを発生し、その研削粉がカラーフィルタ
ー上などに残留するとITOの腐蝕が発生する恐れがあ
る点を考慮して、ウレタン樹脂とからなる結合剤とする
ことも考えられる。この場合の組成比は、ウレタン樹
脂:ポリイソシアネートは、60〜95:5〜40が好
ましく、更に好ましくは 65〜90:10〜35であ
る。この場合ハード樹脂成分がないがウレタンとポリイ
ソシアネートを結合剤樹脂として使用した場合、ポリウ
レタンの水酸基とポリイソシアネートのNCO基との架
橋反応が生じるので、むしろ塗布膜の硬さはこれらの3
次元的架橋構造により充分保たれる効果が期待できるの
である。
Considering that the polyvinyl chloride resin decomposes over time to generate halogen gas, and if the grinding powder remains on the color filter or the like, the ITO may be corroded, the urethane resin is not used. It is also conceivable to use a binder consisting of In this case, the composition ratio of urethane resin: polyisocyanate is preferably 60 to 95: 5 to 40, and more preferably 65 to 90:10 to 35. In this case, although there is no hard resin component, when urethane and polyisocyanate are used as the binder resin, a cross-linking reaction between the hydroxyl group of polyurethane and the NCO group of polyisocyanate occurs.
The effect that is sufficiently maintained by the dimensional crosslinked structure can be expected.

【0021】以下、本発明の方法を最も有効に適用でき
る被研磨体が液晶用カラーフィルターである場合を例に
説明するが、本発明の方法は液晶用カラーフィルターに
限定されるものではなく、内因性突起を有する被研磨体
であるならば特に制限はなく適用できる。
The case where the object to be polished to which the method of the present invention is most effectively applied is a liquid crystal color filter will be described below as an example, but the method of the present invention is not limited to the liquid crystal color filter. There is no particular limitation as long as it is a body to be polished having an intrinsic protrusion.

【0022】本発明の研磨方法にあっては、被研磨体と
研磨テープの接動する相対速度が重要であり、被研磨体
であるカラーフィルターと研磨テープとの接動する相対
速度は、10〜6000mm/秒、好ましくは、30〜
5000mm/秒、更に好ましくは40〜4000mm
/秒である。
In the polishing method of the present invention, the relative speed of contact between the object to be polished and the polishing tape is important, and the relative speed of contact between the color filter, which is the object to be polished, and the polishing tape is 10. ~ 6000 mm / sec, preferably 30 ~
5000 mm / sec, more preferably 40 to 4000 mm
/ Sec.

【0023】相対速度が10mm/秒未満であると内因
性突起の切除が困難となり、また、6000m/秒を超
えると被研磨面に傷が付き易くなるので望ましくない。
また、被研磨体もしくは研磨テープの速度は、被研磨体
の材質、形状、研磨テープのスティフネス等により異な
ってくるので一概に決められない。
If the relative speed is less than 10 mm / sec, it will be difficult to cut off the endogenous protrusion, and if it exceeds 6000 m / sec, the surface to be polished will be easily scratched, which is not desirable.
Further, the speed of the object to be polished or the polishing tape varies depending on the material and shape of the object to be polished, the stiffness of the polishing tape, etc., and therefore cannot be determined unconditionally.

【0024】カラーフィルターと研磨テープが接動する
とき、被研磨面と研磨層とが摺接する部分で研磨テープ
の研磨層がない面側から圧し当て(硬いスチール)ロー
ルで圧着すると、(研磨テープの被研削物に対する)高
さを内因性突起が一定の高さで研削できず、被研磨面の
平面性を良好に保持することができなくなるので好まし
くない。(この場合は、研磨テープの被研削物に対する
高さを、1〜5μと保持治具により固定することが必要
である。)
When the color filter and the polishing tape are brought into contact with each other, when the surface to be polished and the polishing layer are in sliding contact with each other, pressure is applied from the surface side of the polishing tape which does not have the polishing layer and pressure is applied with a (hard steel) roll. The height (with respect to the object to be ground) is not preferable because the intrinsic protrusion cannot grind at a constant height and the flatness of the surface to be polished cannot be maintained well. (In this case, the height of the polishing tape with respect to the object to be ground needs to be fixed to 1 to 5 μ by a holding jig.)

【0025】この際、前記圧し当てロールの径は、5〜
600mmφ、望ましくは5〜100mmφ、更に望ま
しくは5〜38mmφである。そして、圧し当てロール
の研磨テープ背面の圧着部の巾が290mm以下、望ま
しくは100mm以下、より好ましくは50mm以下で
ある。また、研磨テープを接動する圧し当てロールの材
質が金属もしくはゴムからなるものは軟質の突起を確実
に捕らえて切削できる点で好ましい。また、硬質の突起
は抗張力が大きいので、しばしば周辺部に拡大してブロ
ック状に切削されてしまうことがあるが、その場合でも
ゴムからなるバックロールであるとそのようなことが軽
減されるので好ましい。ロール用材料である金属として
は、ステンレス、Crメッキステンレス等が好ましく、
また、その形状は平坦もしくは太鼓状(中央部で径が最
大になる)のものが望ましい。また、ゴム材料として
は、ショア硬度が20〜100であることがのぞまし
く、形状は平坦もしくは太鼓状(中央部で径が最大にな
る)のものが望ましい。さらに、研磨テープを接動する
圧し当てロールがエア圧ロールである場合は、被研磨面
に対する圧し当て圧力が1〜35Kg/cm2であるこ
とが望ましく、10Kg/cm2以下である場合は、複
数回の研磨をすることが望ましい。なお、エア圧ロール
は、スリットノズルから排出した圧縮空気の圧力で研磨
テープを被研磨体に圧し当てるものであり、ロールは、
研削物が被研磨体の上面に飛散しないように下方より圧
し当てて切削することが望ましい。
At this time, the pressing roll has a diameter of 5 to
It is 600 mmφ, preferably 5 to 100 mmφ, and more preferably 5 to 38 mmφ. The width of the pressure-bonding portion on the back surface of the polishing tape of the pressing roller is 290 mm or less, preferably 100 mm or less, more preferably 50 mm or less. Further, it is preferable that the pressing roller for contacting the polishing tape is made of metal or rubber so that the soft projection can be reliably caught and cut. Further, since the hard protrusion has a large tensile strength, it often expands to the peripheral portion and may be cut into a block shape, but even in that case, the back roll made of rubber can reduce such a case. preferable. As the metal for the roll material, stainless steel, Cr-plated stainless steel, etc. are preferable,
Further, the shape is preferably flat or drum-shaped (the diameter is maximum in the central portion). The rubber material preferably has a Shore hardness of 20 to 100, and is preferably flat or drum-shaped (the diameter is maximum at the center). Furthermore, when the pressing roll for moving the polishing tape is an air pressure roll, the pressing pressure to the surface to be polished is preferably 1 to 35 Kg / cm 2 , and when it is 10 Kg / cm 2 or less, It is desirable to polish a plurality of times. Incidentally, the pneumatic roll is to press the polishing tape against the object to be polished with the pressure of the compressed air discharged from the slit nozzle, and the roll is
It is desirable to press the ground object from below so as to prevent the ground object from scattering on the upper surface of the object to be polished.

【0026】本発明の方法を実施するに当たり、単位線
分(12.5mm)当たり圧し当て荷重が5〜500
g、望ましくは50〜300gである。また、カラーフ
ィルターと研磨テープが接動するとき、圧し当てロール
のニップ圧力が0.1〜100g/mmであることが望
ましい。また、被研磨体の被研磨面を下向きに配置し、
下方より前記研磨テープを研磨層が該被研磨面に摺接す
るように被研磨体に接触させるように研磨を行うことに
より、研削物の微粉が被研磨体上に飛散することによる
汚染を防止することができるので望ましい。
In carrying out the method of the present invention, a pressing load per unit line segment (12.5 mm) is 5 to 500.
g, preferably 50 to 300 g. Further, when the color filter and the polishing tape are brought into contact with each other, the nip pressure of the pressing roller is preferably 0.1 to 100 g / mm. Further, the surface to be polished of the object to be polished is arranged downward,
By polishing the polishing tape from below so that the polishing layer is brought into contact with the object to be polished so that the polishing layer is in sliding contact with the surface to be polished, it is possible to prevent contamination due to the scattering of fine powder of the object to be polished onto the object to be polished. It is desirable because it can.

【0027】本発明の方法で使用する研磨テープの研磨
層中に含有される研磨剤粒子の大きさは平均粒径で0.
05〜1μm、さらに好ましくは0.5〜0.1μmで
ある。研磨剤粒子の平均粒径が0.05μm未満である
と、有効に突起を切除することができなくなり、研削に
長時間を要するようになり、また、1μmを超えると被
研磨面に傷が発生するようになるので好ましくない。ま
た、カラーフィルターと摺接させて研磨テープで突起を
除去する際に、帯電によりカラーフィルターが損傷され
ることがあるので、研磨層に帯電防止剤として平均粒子
径が5〜100nm、好ましくは10〜90nm、更に
好ましくは15〜80nmのカーボンブラックを含有さ
せることが好ましい。カーボンブラックの平均粒子径が
余り小さいと研磨剤粒子の分散混和が不良となって、粒
子の凝集により塗膜表面が平滑になりにくくなり、また
余り大きくなると分散混和は良好であるが電気抵抗が大
きくなってまた研磨層表面が粗面となるのでしまうので
注意を要する。
The size of the abrasive particles contained in the polishing layer of the polishing tape used in the method of the present invention is 0.
The thickness is 05 to 1 μm, more preferably 0.5 to 0.1 μm. If the average particle size of the abrasive particles is less than 0.05 μm, the protrusions cannot be effectively cut off, and it takes a long time to grind, and if it exceeds 1 μm, scratches occur on the surface to be polished. It is not preferable because it will occur. In addition, when the projections are removed with a polishing tape by making sliding contact with the color filter, the color filter may be damaged by charging. Therefore, the polishing layer has an average particle size of 5 to 100 nm, preferably 10 as an antistatic agent. .About.90 nm, more preferably 15 to 80 nm of carbon black is preferably contained. If the average particle size of carbon black is too small, the dispersive mixing of the abrasive particles will be poor, and it will be difficult for the coating film surface to become smooth due to the aggregation of particles, and if it is too large, the dispersive mixing will be good, but the electrical resistance will be low. Care must be taken because the size of the polishing layer becomes large and the surface of the polishing layer becomes rough.

【0028】本発明の方法で使用する研磨テープは、特
に制限されるものではなく従来公知の研磨テープを使用
できるが、結合剤成分、研磨剤粒子の平均粒子径及びに
特にカーボンブラックの添加が本発明の目的を有効に達
成するために好ましいものであることは前述の通りであ
る。
The polishing tape used in the method of the present invention is not particularly limited, and conventionally known polishing tapes can be used. However, the addition of a binder component, the average particle size of the abrasive particles, and especially carbon black As described above, it is preferable for effectively achieving the object of the present invention.

【0029】本発明の研磨方法により研削できる内因性
突起は、カラーフィルターの突起の場合、高さ5〜10
0μm、大きさは直径で1〜1000μmであり、この
突起をカラーフィルター表面粗さの中心線から高さで、
4μm以下に研削する。
The intrinsic protrusions that can be ground by the polishing method of the present invention have a height of 5 to 10 in the case of a protrusion of a color filter.
0 μm, the size is 1 to 1000 μm in diameter, and the protrusion is at a height from the center line of the color filter surface roughness,
Grind to 4 μm or less.

【0030】本発明の研磨方法のさらに具体的なやり方
は、研磨テープをサプライリールから送り出し、
バックテンションを与えながら、ワーク(突起の研削)
部分で研磨テープとカラーフィルターを接動させる。そ
の際の送り速度は、10cm〜1000cm/分であ
り、オシレーション(送り方向と交差する方向の摺動)
は0〜10mm/秒である。また、ワークを斜めに送っ
ても良い。10mm進むとき巾方向に0〜5mm送る。
巻取は、テンションを10mm巾あたり5〜500g
でテイクアップリールに巻きとる。また、研磨テープを
支持するニップロールとしては、種々のものが使用でき
るが材質としては前述したような金属やゴムが好まし
い。ニップロールの昇降機構部を作動させるとき、研磨
テープに張力を与えながら昇降させることが望ましく、
さらにニップロールの幅よりも研磨テープの幅を大きく
とった方が望ましい。
A more specific method of the polishing method of the present invention is to feed the polishing tape from a supply reel,
Work (grinding of protrusion) while applying back tension
Move the polishing tape and color filter in part. The feed rate at that time is 10 cm to 1000 cm / min, and oscillation (sliding in the direction intersecting the feed direction)
Is 0 to 10 mm / sec. Further, the work may be sent obliquely. When moving 10 mm, feed 0 to 5 mm in the width direction.
For winding, tension is 5 to 500 g per 10 mm width.
Then wind it up on the take-up reel. As the nip roll for supporting the polishing tape, various types can be used, but as the material, the metal or rubber as described above is preferable. When operating the lifting mechanism of the nip roll, it is desirable to raise and lower while applying tension to the polishing tape,
Further, it is desirable to make the width of the polishing tape larger than the width of the nip roll.

【0031】本発明の方法における前記研磨テープは、
研磨剤粒子と結合剤を主体とする研磨層塗膜を可撓性支
持体上に形成したものである。本発明に使用できる塩ビ
系樹脂としては、特に制限されず従来より結合剤樹脂と
して公知のものを使用することができる。例えば、塩化
ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体,塩化ビニ
ルビニルアルコール共重合体,塩化ビニル塩化ビニリデ
ン共重合体,塩化ビニルアクリロニトリル共重合体等が
挙げられ、中でも、塩化ビニルの共重合体であるー(C
HClCH2nー(CHXCH2mー(Xは、ーSO3
Na、ーSO3H、ーPO4H等の極性基)を基本単位と
するものが研磨層の強度および研磨剤粒子の分散性の面
で望ましい。塩ビ系樹脂の中でも特に望ましいのは、分
散性、塗布膜強度の点から日本ゼオン社製のMR11
0、400X110A等である。
The polishing tape in the method of the present invention is
A coating for a polishing layer, which mainly contains abrasive particles and a binder, is formed on a flexible support. The vinyl chloride resin that can be used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known binder resin can be used. For example, vinyl chloride vinyl acetate vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride acrylonitrile copolymer and the like can be mentioned. Among them, vinyl chloride copolymer- (C
HClCH 2 ) n- (CHXCH 2 ) m- (X is -SO 3
Those having a basic unit of a polar group such as Na, —SO 3 H, and —PO 4 H) are desirable from the viewpoint of the strength of the polishing layer and the dispersibility of the abrasive particles. Among the vinyl chloride resins, MR11 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. is particularly desirable in terms of dispersibility and coating film strength.
0, 400 × 110A, etc.

【0032】ウレタン系樹脂としては、特に制限されず
従来より結合剤樹脂として公知のものを使用することが
できる。例えば、100%モジュラスが50〜300K
g/cm2のものが、ガラス転移温度(Tg)は、0〜5
0℃であるものが研磨材粒子を研磨層に保持する性能、
また、塗膜に適度の弾性を付与するので望ましい。具体
的には、大日本インキ(株)社製のC−7209、パン
デックス、日本ポリウレタン(株)社製のN−230
1、N−2302、N−2304、N−3107、東洋
紡(株)社製のUR−8200、UR−8300、UR
−8600等が挙げられ、中でも研磨剤粒子の分散を促
進させるための極性基を分子内に有するものが好まし
い。ウレタン樹脂の中でも特に望ましいのは、分散性と
塗布膜強度の観点から極性基をもつものが好ましく、で
あるので、東洋紡(株)社製のUR8200、UR83
00、UR8600等である。本発明におけるポリイソ
シアネートとしては、特に制限されず従来より結合剤樹
脂として公知のものを使用することができる。例えば、
トリレンジイソシアネ−ト、4、4’−ジフェニルメタ
ンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−
ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−1、5
−ジイソシアネ−ト、o−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト等の
イソシアネ−ト類、叉当該イソシアネ−ト類とポリアル
コ−ルとの生成物、叉イソシアネ−ト類の縮合に依って
生成した2〜10量体のポリイソシアネ−ト、又ポリイ
ソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基が
イソシアネート等が挙げられ、中でもイソシアネート基
(−NCO)を1分子内中に3個以上あると架橋が三次
元的になされるので望ましい。これらポリイソシアネ−
ト類の平均分子量は100〜20000のものが好適で
ある。これらポリイソシアネ−トの市販されている商品
名としては、コロネ−トL、コロネ−トHL、コロネ−
ト2030、コロネ−ト2031、ミリオネ−トMR、
ミリオネ−トMTL(日本ポリウレタン株製)、タケネ
−トD−102、タケネ−トD−110N、タケネ−ト
D−200、タケネ−トD−202、タケネ−ト300
S、タケネ−ト500(武田薬品株製)、スミジュ−ル
T−80、スミジュ−ル44S、スミジュ−ルPF、ス
ミジュ−ルL、スミジュ−ルNデスモジュ−ルL、デス
モジュ−ルIL、デスモジュ−ルN、デスモジュ−ルH
L、デスモジュ−ルT65、デスモジュ−ル15、デス
モジュ−ルR、デスモジュ−ルRF、デスモジュ−ルS
L、デスモジュ−ルZ4273(住友バイエル社製)等
があり、これらを単独もしくは硬化反応性の差を利用し
て二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用する
ことができる。叉、硬化反応を促進する目的で、水酸基
(ブタンジオ−ル、ヘキサンジオ−ル、分子量が100
0〜10000のポリウレタン、水等)、アミノ基(モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等)を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能である事が望
ましい。上記のポリイソシアネートの中でも特に望まし
いのは、3次元的架橋密度を促進向上させるため、3官
能ポリイソシアネートが好ましく、日本ポリウレタン社
製のコロネート3040等が挙げられる。
The urethane-based resin is not particularly limited, and a conventionally known binder resin can be used. For example, 100% modulus is 50 ~ 300K
The glass transition temperature (Tg) of g / cm 2 is 0 to 5
The ability of 0 ° C. to hold the abrasive particles in the polishing layer,
It is also desirable because it imparts appropriate elasticity to the coating film. Specifically, C-7209 manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd., Pandex, N-230 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.
1, N-2302, N-2304, N-3107, UR-8200, UR-8300, UR manufactured by Toyobo Co., Ltd.
-8600 and the like can be mentioned, and among them, those having a polar group in the molecule for promoting dispersion of abrasive particles are preferable. Among the urethane resins, those having a polar group are preferable from the viewpoint of dispersibility and coating film strength, and therefore, UR8200 and UR83 manufactured by Toyobo Co., Ltd.
00, UR8600, etc. The polyisocyanate used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known binder resins can be used. For example,
Tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate
Toxylylene diisocyanate, naphthylene-1,5
-Diisocyanate, o-toluidine diisocyanate-
, Isophorone diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, isophorone diisocyanate, and other isocyanates, as well as products of the isocyanates and polyalcohols, and isocyanate. 2-10 mer polyisocyanate produced by condensation of a polyisocyanate, or a product of polyisocyanate and polyurethane, such as isocyanate having an end functional group. Among them, an isocyanate group (-NCO) is contained in one molecule. It is desirable that there are three or more of them because crosslinking is three-dimensionally performed. These polyisocyanates
The average molecular weight of the moss is preferably 100 to 20,000. Commercially available trade names of these polyisocyanates are Coronet L, Coronet HL, and Coronet.
2030, coronet 2031, millionaire MR,
Millionate MTL (Nippon Polyurethane Co., Ltd.), Takenate D-102, Takenate D-110N, Takenate D-200, Takenate D-202, Takenate 300
S, Takenet 500 (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), SUMIJOUR T-80, SUMIJOUR 44S, SUMIJUL PF, SUMIJUL L, SUMIJUL N desmodul L, desmodur IL, desmodur IL -Le N, Death module H
L, Death module T65, Death module 15, Death module R, Death module RF, Death module S
L, Desmodule Z4273 (manufactured by Sumitomo Bayer Co., Ltd.) and the like, and these can be used alone or in combination of two or more utilizing the difference in curing reactivity. In addition, for the purpose of accelerating the curing reaction, hydroxyl groups (butanediol, hexanediol, molecular weight 100) are used.
It is also possible to use a compound having an amino group (monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, etc.), a metal oxide catalyst, or a catalyst such as iron acetylacetonate, together with 0 to 10,000 polyurethane, water, etc.). It is desirable that these compounds having a hydroxyl group or an amino group are polyfunctional. Of the above polyisocyanates, trifunctional polyisocyanates are particularly preferable in order to promote and improve the three-dimensional crosslink density, and examples include Coronate 3040 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.

【0033】本発明方法における研磨テープの研磨層に
ある研磨剤粒子としては、平均粒子径が0.05〜1μ
mの酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化
鉄、弁柄(α酸化鉄)、ダイヤモンド、γ−アルミナ、
α、γ−アルミナ 熔融アルミナ、酸化セリウム、コラ
ンダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメリ−(主成
分:コランダムと磁鉄鉱)、ガ−ネット、珪石、窒化珪
素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タング
ステン、チタンカ−バイド等で、主としてモ−ス硬度6
以上のものが1内至4種迄の組合わせで使用される。こ
れらの併用される研磨剤のpHは2〜10のものが使用
され、特に望ましくは5〜10のものが用いられる。こ
れらの研磨剤は研磨層の主たる構成物質として用いられ
る。
The abrasive particles in the polishing layer of the polishing tape in the method of the present invention have an average particle diameter of 0.05 to 1 μm.
m chromium oxide, α-alumina, silicon carbide, non-magnetic iron oxide, red iron oxide (α iron oxide), diamond, γ-alumina,
α, γ-alumina Fused alumina, cerium oxide, corundum, artificial diamond, garnet, emery (main component: corundum and magnetite), garnet, silica stone, silicon nitride, boron nitride, molybdenum carbide, boron carbide, tungsten carbide , Titanium carbide, etc., mainly moose hardness 6
The above items are used in combination of 1 to 4 types. The pH of these abrasives used in combination is 2 to 10, and particularly preferably 5 to 10. These abrasives are used as the main constituent material of the polishing layer.

【0034】研磨層には被研磨体との間で発生する静電
気による静電破壊を防止するためにカーボンブラックを
含有させることが好ましい。カーボンブラックはゴム用
ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセ
チレンブラック等を用いる事ができる。これらカーボン
ブラックはテープの帯電防止剤、遮光剤、摩擦係数調節
剤、耐久性向上を目的として使用される。これらカ−ボ
ンブラックの米国における略称の具体例をしめすとSA
F、ISAF、IISAF、T、HAF、SPF、F
F、FEF、HMF、GPF、APF、SRF、MP
F、ECF、SCF、CF、FT、MT、HCC、HC
F、MCF、LFF、RCF等があり、米国のASTM
規格のD−1765−82aに分類されているものを使
用することができる。上記のカーボンブラックの中、本
発明の目的を有効に達成するためには、上記の中でも粒
径が前記の条件に適合するファーネスブラックが望まし
い。本発明に使用されるこれらカ−ボンブラックの平均
粒子径は 5〜100nm(電子顕微鏡)、窒素吸着法
比表面積は10〜800m2 /g、pHは4〜11(J
IS規格K−6221−1982法)、ジブチルフタレ
−ト(DBP)吸油量は10〜800ml/100g
(JIS規格K−6221−1982法)である。本発
明に使用されるカ−ボンブラックの平均粒子径は、塗布
膜の表面電気抵抗を下げる目的で 5〜100nmのカ
−ボンブラックを、また塗布膜の強度を制御するときに
50〜1000nmのカ−ボンブラックを用いる。ま
た、カ−ボンブラックの種類と添加量は研磨テープの目
的に応じて使い分けられる。また、これらのカ−ボンブ
ラックを、後述の分散剤などで表面処理したり、樹脂で
グラフト化して使用してもよい。また、カ−ボンブラッ
クを製造するときの炉の温度を2000℃以上で処理し
て表面の一部をグラファイト化したものも使用できる。
また、特殊なカ−ボンブラックとして中空カ−ボンブラ
ックを使用することもできる。これらのカ−ボンブラッ
クは研磨層の場合無機粉末100重量部に対して0.1
〜100重量部で用いることが望ましい。またバック層
の場合後述する樹脂100重量部に対して20〜400
重量部で用いることが望ましい。本発明に使用出来るカ
−ボンブラックは例えば『カ−ボンブラック便覧』、
(カ−ボンブラック協会編、昭和46年発行)を参考に
することができる。
It is preferable that the polishing layer contains carbon black in order to prevent electrostatic breakdown due to static electricity generated between the polishing layer and the object to be polished. As the carbon black, a furnace for rubber, thermal for rubber, black for color, acetylene black, etc. can be used. These carbon blacks are used as an antistatic agent, a light-shielding agent, a friction coefficient adjusting agent, and a durability improving tape. SA is a concrete example of the abbreviations of these carbon blacks in the United States.
F, ISAF, IISAF, T, HAF, SPF, F
F, FEF, HMF, GPF, APF, SRF, MP
F, ECF, SCF, CF, FT, MT, HCC, HC
There are F, MCF, LFF, RCF, etc.
It is possible to use the one classified in the standard D-1765-82a. Among the above-mentioned carbon blacks, in order to effectively achieve the object of the present invention, it is preferable to use furnace black having a particle size satisfying the above-mentioned conditions. The carbon black used in the present invention has an average particle size of 5 to 100 nm (electron microscope), a nitrogen adsorption method specific surface area of 10 to 800 m 2 / g, and a pH of 4 to 11 (J.
IS standard K-6221-1982 method), dibutyl phthalate (DBP) oil absorption is 10 to 800 ml / 100 g
(JIS standard K-6221-1982 method). The carbon black used in the present invention has an average particle size of 5 to 100 nm for the purpose of lowering the surface electric resistance of the coating film, and 50 to 1000 nm for controlling the strength of the coating film. Carbon black is used. Further, the type and the amount of carbon black added are properly selected according to the purpose of the polishing tape. Further, these carbon blacks may be used after being surface-treated with a dispersant described later or grafted with a resin. Further, it is also possible to use one in which a part of the surface is graphitized by treating the furnace temperature at the time of producing carbon black at 2000 ° C. or higher.
Hollow carbon black can also be used as a special carbon black. In the case of the polishing layer, these carbon blacks are added to 0.1 parts by weight of the inorganic powder in an amount of 0.1
It is desirable to use -100 parts by weight. In the case of the back layer, it is 20 to 400 with respect to 100 parts by weight of the resin described later.
It is desirable to use parts by weight. Carbon black that can be used in the present invention is, for example, "Carbon Black Handbook",
(Edited by Carbon Black Association, published in 1972) can be referred to.

【0035】本発明の研磨テープの研磨層に使用される
塩ビ系樹脂、ウレタン樹脂及びポリイソシアネート以外
に、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬
化型樹脂、防黴樹脂やこれらの混合物を使用することが
できる。但し、その際その使用量は、高々結合剤樹脂全
量の50重量%以下、望ましくは25重量%以下に止め
た方がよい。熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃
以下、平均分子量が10000〜300000、重合度
が約50〜2000程度のものでより好ましくは200
〜700程度であり、例えば、アクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリ
デン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、
メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタ
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ−、
ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロ−ス−ポリア
ミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアクリロ
ニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラ−ル、セルロ−
ス誘導体(セルロ−スアセテ−トブチレ−ト、セルロ−
スダイアセテ−ト、セルロ−ストリアセテ−ト、セルロ
−スプロピオネ−ト、ニトロセルロ−ス、エチルセルロ
−ス、メチルセルロ−ス、プロピルセルロ−ス、メチル
エチルセルロ−ス、カルボキシメチルセルロ−ス、アセ
チルセルロ−ス等)、スチレンブタジエン共重合体、ポ
リエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニル
エ−テルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各
種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が
使用される。以上の中でも研磨層の塗膜としての強度と
研磨剤粒子の研磨層からの脱落を防止する意味からニト
ロセルロースやポリカーボネートが望ましい。
In addition to the vinyl chloride resin, urethane resin and polyisocyanate used in the polishing layer of the polishing tape of the present invention, conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, reactive resins, electron beam curing resins and ultraviolet rays are used. A curable resin, a visible light curable resin, an antifungal resin, or a mixture thereof can be used. However, in that case, the amount used should be at most 50% by weight, preferably 25% by weight or less of the total amount of the binder resin. Softening temperature of thermoplastic resin is 150 ℃
Hereafter, those having an average molecular weight of 10,000 to 300,000 and a degree of polymerization of about 50 to 2000 are more preferable and 200
To about 700, for example, acrylic acid ester acrylonitrile copolymer, acrylic acid ester vinylidene chloride copolymer, acrylic acid ester styrene copolymer,
Methacrylic acid ester acrylonitrile copolymer, methacrylic acid ester vinylidene chloride copolymer, methacrylic acid ester styrene copolymer, urethane elastomer,
Nylon-silicone resin, nitrocellulosic-polyamide resin, polyfucca vinyl, vinylidene chloride acrylonitrile copolymer, butadiene acrylonitrile copolymer, polyamide resin, polyvinyl butyral, cellulose
Derivatives (cellulosic acetate butyrate, cellulose
Sudiacetate, cellulose acetate, cellulose propionate, nitrocellulose, ethyl cellulose, methyl cellulose, propyl cellulose, methyl ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, acetyl cellulose, etc. ), A styrene-butadiene copolymer, a polyester resin, a polycarbonate resin, a chlorovinyl ether acrylate copolymer, an amino resin, various synthetic rubber thermoplastic resins, and mixtures thereof. Among the above, nitrocellulose and polycarbonate are preferable in terms of strength as a coating film of the polishing layer and prevention of removal of abrasive particles from the polishing layer.

【0036】また、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂として
は塗布液の状態では200、000以下の分子量であ
り、塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付
加等の反応により分子量は無限大のものとなる。また、
これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟
化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフ
ェノ−ル樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカー
ボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂(電子線硬化樹
脂)、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロ−スメ
ラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネ−
トプレポリマ−の混合物、メタクリル酸塩共重合体とジ
イソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポ
リオ−ルとポリイソシアネ−トとの混合物、尿素ホルム
アルデヒド樹脂、低分子量グリコ−ル/高分子量ジオ−
ル/トリフェニルメタントリイソシアネ−トの混合物、
ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等
である。これらの熱可塑、熱硬化性樹脂、反応型樹脂
は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸(CO
OM)、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホン酸(S
3M)、燐酸(PO(OM)(OM))、ホスホン
酸、硫酸(OSO3M)、及びこれらのエステル基等の
酸性基(MはH、アルカ リ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基)、アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、スルフォベ
タイン、ホスホベタイン、アルキルベタイン型等の両性
類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基等ま
た、水酸基、アルコキシル基、チオ−ル基、アルキルチ
オ基、ハロゲン基(F、Cl、Br、I)、シリル基、
シロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、シアノ
基、ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィン
基を通常1種以上6種以内含み、各々の官能基は樹脂1
g当たり1×10-6eq〜1×10-2eq含むことが研
磨剤粒子の分散の促進、研磨層塗布膜の強度の向上のた
めに望ましい。
Further, the thermosetting resin or the reactive resin has a molecular weight of 200,000 or less in the state of a coating liquid, and by heating and humidifying after coating and drying, the molecular weight is infinite due to reactions such as condensation and addition. Will be the one. Also,
Among these resins, those that do not soften or melt before the resin thermally decomposes are preferable. Specifically, for example, phenol resin, phenoxy resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, polyurethane polycarbonate resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, silicon resin, acrylic reaction resin (electron beam curing resin), epoxy -Polyamide resin, nitrocellulosmelamine resin, high molecular weight polyester resin and isocyanate-
Mixtures of toprepolymers, mixtures of methacrylate copolymers and diisocyanate prepolymers, mixtures of polyester polyols and polyisocyanates, urea formaldehyde resins, low molecular weight glycols / high molecular weight dio-mers.
And a mixture of triphenylmethane triisocyanate,
Examples thereof include polyamine resins, polyimine resins, and mixtures thereof. These thermoplastic, thermosetting resins, and reactive resins have carboxylic acid (CO) as a functional group in addition to the main functional group.
OM), sulfinic acid, sulfenic acid, sulfonic acid (S
O 3 M), phosphoric acid (PO (OM) (OM)), phosphon
Acid, sulfuric acid (OSO 3 M), and acidic groups such as ester groups (M is H, alkali metal, alkaline earth metal,
(Hydrocarbon groups), amino acids; aminosulfonic acids, sulfuric acid or phosphoric acid esters of amino alcohols, amphoteric groups such as sulfobetaine, phosphobetaine, alkylbetaine type, amino groups, imino groups, imide groups, amide groups Etc. Further, a hydroxyl group, an alkoxyl group, a thiol group, an alkylthio group, a halogen group (F, Cl, Br, I), a silyl group,
The siloxane group, the epoxy group, the isocyanato group, the cyano group, the nitrile group, the oxo group, the acryl group, the phosphine group usually contains at least 1 type and up to 6 types, each functional group is a resin 1
It is desirable to contain 1 × 10 −6 eq to 1 × 10 −2 eq per g in order to promote the dispersion of the abrasive particles and to improve the strength of the polishing layer coating film.

【0037】研磨層の研磨剤と結合剤樹脂との混合割合
は重量比で研磨剤100重量部に対して結合剤樹脂5〜
70重量部の範囲で使用される。その他、研磨層中には
各種の機能を持った化合物が添加剤として添加される。
例えば、分散剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防
黴剤、着色剤、溶剤等が加えられる。そのうち、帯電防
止剤としてはカーボンブラックが好ましいことは前述し
た通りである。
The mixing ratio of the polishing agent and the binder resin in the polishing layer is 5 to 100 parts by weight of the polishing agent in the binder resin of 5 parts by weight.
Used in the range of 70 parts by weight. In addition, compounds having various functions are added to the polishing layer as additives.
For example, a dispersant, a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, an antifungal agent, a coloring agent, a solvent and the like are added. Of these, carbon black is preferable as the antistatic agent, as described above.

【0038】本発明の方法における研磨テープの支持体
と研磨層との間に研磨層の剥離防止、研磨剤粒子の研磨
層からの脱落防止、研磨テープの端面の損傷防止の為に
下塗層を設けることできる。下塗層は、熱硬化型樹脂が
望ましく、中でもポリエステル、ポリウレタン系樹脂で
あってガラス転移温度(Tg)がー40〜50℃のもの
が望ましい。さらに、研磨層の密着力の向上、経年した
ときの密着力の保持の面から、極性官能基を有するポリ
エステル系樹脂が望ましい。
In the method of the present invention, an undercoat layer is provided between the support of the polishing tape and the polishing layer to prevent the polishing layer from peeling off, to prevent the abrasive particles from falling out of the polishing layer, and to prevent the end surface of the polishing tape from being damaged. Can be provided. The undercoat layer is preferably a thermosetting resin, and is preferably a polyester or polyurethane resin having a glass transition temperature (Tg) of -40 to 50 ° C. Further, from the viewpoints of improving the adhesiveness of the polishing layer and maintaining the adhesiveness over time, a polyester resin having a polar functional group is desirable.

【0039】研磨層には、摩擦係数の低減、層間の粘着
防止という効果を期待して以下のような粉末状の潤滑剤
を添加することもできる。その際の添加量としては、研
磨剤粒子に対して1〜50重量%、望ましくは2〜25
重量%、さらに望ましくは3〜10重量%であることが
望ましい。研磨層に使用される粉末状潤滑剤としては、
グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒
鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の無機
微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナ
ミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフ
イン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリア
ミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリフッ
カエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等がある。
To the polishing layer, the following powdery lubricants may be added in anticipation of the effect of reducing the friction coefficient and preventing the adhesion between layers. The amount of addition at that time is 1 to 50% by weight, preferably 2 to 25% by weight with respect to the abrasive particles.
It is desirable that the amount is, by weight, more preferably 3 to 10% by weight. As the powdery lubricant used for the polishing layer,
Inorganic fine powder of graphite, molybdenum disulfide, boron nitride, graphite fluoride, calcium carbonate, barium sulfate, silicon oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, tungsten disulfide, acrylic styrene resin fine powder, benzoguanamine resin Fine powder, melamine-based resin fine powder, polyolefin-based resin fine powder, polyester-based resin fine powder, polyamide-based resin fine powder, polyimide-based resin fine powder, poly-fucca ethylene-based resin fine powder, and other resin fine powders.

【0040】研磨層には、さらに、摩擦係数の低減、塗
布膜の弾性のコントロールという効果を期待して以下の
ような有機化合物系潤滑剤を添加することもできる。そ
の際の添加量としては、研磨剤粒子に対して重量百分比
で0.01〜10重量%、望ましくは0.05〜5重量
%である。また有機化合物系潤滑剤としてはシリコンオ
イル(ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポリシ
ロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアルキル
ポリシロキサン(信越化学製KF96、KF69
等))、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコ−
ル、ポリオレフィン(ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等)、ポリグリコ−ル(エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等)、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコ−
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パ−フルオロ脂肪
酸、パ−フルオロ脂肪酸エステル、パ−フルオロアルキ
ル硫酸エステル、パ−フルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パ−フルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パ−フルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸および有機酸エステル化合物、 トリアザイン
ドリジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、
ベンゾトリアジン、ベンゾジアゾール、EDTA等の窒
素・硫黄を含む複素(ヘテロ)環化合物、 炭素数10
〜40の一塩基性脂肪酸と炭素数2〜40個の一価のア
ルコ−ルもしくは二価のアルコ−ル、三価のアルコ−
ル、四価のアルコ−ル、六価のアルコ−ルのいずれか1
つもしくは2つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素
数10個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合
計して炭素数が11〜70個と成る一価〜六価のアルコ
−ルから成る脂肪酸エステル類、炭素数8〜40の脂肪
酸或いは脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂
肪族アルコ−ル類も使用できる.これら化合物の具体的
な例としては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチ
ル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸
オクチル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、
ミリスチ酸オクチル、ミリスチン酸2エチルヘキシル、
パルミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン
酸オクチル、パルミチン酸2エチルヘキシル、ステアリ
ン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸イソブ
チル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸2エチルヘ
キシル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソアミ
ル、ステアリン酸2エチルペンチル、ステアリン酸2ヘ
キシルデシル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリ
ン酸アミド、ステアリン酸アルキルアミド、ステアリン
酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレ
−ト、アンヒドロソルビタンジステアレ−ト、アンヒド
ロソルビタントリステアレ−ト、アンヒドロソルビタン
テトラステアレ−ト、オレイルオレ−ト、オレイルアル
コ−ル、ラウリルアルコ−ル、モンタンワックス、カル
ナウバワックス、等が有り単独若しくは組み合わせ使用
できる。
The following organic compound-based lubricants may be added to the polishing layer, with the expectation that the friction coefficient will be reduced and the elasticity of the coating film will be controlled. The amount of addition at that time is 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, based on the weight of the abrasive particles. As the organic compound-based lubricant, silicone oil (dialkyl polysiloxane, dialkoxy polysiloxane, phenyl polysiloxane, fluoroalkyl polysiloxane (KF96, KF69 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Etc.)), fatty acid modified silicone oil, fluorine alcohol
Polyolefin (polyethylene wax, polypropylene, etc.), polyglycol (ethylene glycol, polyethylene oxide wax, etc.), tetrafluoroethylene oxide wax, polytetrafluoroglyco-
Fluorine, perfluoroalkyl ether, perfluoro fatty acid, perfluoro fatty acid ester, perfluoroalkyl sulfuric acid ester, perfluoroalkyl sulfonic acid ester, perfluoroalkylbenzene sulfonic acid ester, perfluoroalkyl phosphoric acid ester, etc. And compounds with silicon introduced, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, alkyl phosphonate triesters,
Organic acid and organic acid ester compounds such as alkylphosphonic acid monoester, alkylphosphonic acid diester, alkylphosphoric acid ester, and succinic acid ester, triazaindolizine, tetraazaindene, benzotriazole,
Heterocyclic compounds containing nitrogen and sulfur such as benzotriazine, benzodiazole and EDTA, C10
To 40 monobasic fatty acids and monovalent alcohols having 2 to 40 carbon atoms, divalent alcohols, and trivalent alcohols
Any one of a tetravalent alcohol, a tetravalent alcohol, and a hexavalent alcohol
One or two or more, a monobasic fatty acid having 10 or more carbon atoms, and a monovalent to hexavalent alcohol having a carbon number of 11 to 70 in total with the carbon number of the fatty acid Also usable are fatty acid esters consisting of, fatty acids having 8 to 40 carbon atoms or fatty acid amides, fatty acid alkyl amides, and aliphatic alcohols. Specific examples of these compounds include butyl caprylate, octyl caprylate, ethyl laurate, butyl laurate, octyl laurate, ethyl myristate, butyl myristate,
Octyl myristate, 2-ethylhexyl myristate,
Ethyl palmitate, butyl palmitate, octyl palmitate, 2 ethylhexyl palmitate, ethyl stearate, butyl stearate, isobutyl stearate, octyl stearate, 2 ethylhexyl stearate, amyl stearate, isoamyl stearate, 2 ethyl stearate. Pentyl, 2-hexyldecyl stearate, isotridecyl stearate, stearic acid amide, stearic acid alkylamide, butoxyethyl stearate, anhydrosorbitan monostearate, anhydrosorbitan distearate, anhydrosorbitan tristearate. , Anhydrosorbitan tetrastearate, oleyl oleate, oleyl alcohol, lauryl alcohol, montan wax, carnauba wax, etc. There alone or in combination can be used.

【0041】また本発明に使用される潤滑剤としては所
謂潤滑油添加剤も単独若しくはくみあわせで使用出来、
防錆剤としてしられている酸化防止剤(アルキルフェノ
−ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルフ
ァミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロ
キノン、EDTA等の金属キレート剤)、錆どめ剤(ナ
フテン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォ
スフェ−ト等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコ−
ル等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレジル
フォスフェ−ト、トリブチルホスファイト等)、清浄分
散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤はバインダー100重量部に対して
0.01〜30重量部の範囲で添加される。
As the lubricant used in the present invention, a so-called lubricating oil additive can be used alone or in combination.
Antioxidants known as rust preventives (alkylphenols, benzotriazines, tetraazaindenes, sulfamides, guanidines, nucleic acids, pyridines, amines, hydroquinones, metal chelating agents such as EDTA), rust-preventing agents (naphthenes) Acid, alkenyl succinic acid, phosphoric acid, dilauryl phosphate, etc.), oily agent (rapeseed oil, lauryl alcohol)
Etc.), extreme pressure agents (dibenzyl sulfide, tricresyl phosphate, tributyl phosphite, etc.), detergent dispersants, viscosity index improvers, pour point depressants, foam depressants and the like. These lubricants are added in the range of 0.01 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder.

【0042】これらについては、アイビ−エムテクニカ
ル デイ スクロジャ−ブリテン(IBM Techni
cal Disclosure Bulletin)V
ol.9、No7、p779(1966年12月)、エ
レクトロニク(ELEKTRONIK)1961年No
12、p380、化学便覧、応用編、p954−96
7、1980年丸善株発行等に開示されて化合物を参照
できる。
Regarding these, I-M Technical Disclosure Bulletin (IBM Techni)
cal Disclosure Bulletin) V
ol. 9, No7, p779 (December 1966), Electronic (ELEKTRONIK) 1961 No
12, p380, Chemical Handbook, Advanced Edition, p954-96
7, disclosed in Maruzen Co., Ltd., etc. in 1980, and the compound can be referred to.

【0043】研磨層中にはまた研磨剤粒子の分散を助け
る目的で分散剤、分散助剤を加えることがある。分散
剤、分散助剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウ
リン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、
オレイン酸、エライジン酸、リノ−ル酸、リノレン酸、
ステアロ−ル酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の
炭素数2〜40個の脂肪酸(R1 COOH、R1 は炭素
数1〜39個のアルキル基、フェニル基、アラルキル
基)、前記の脂肪酸のアルカリ金属(Li、Na、K、
NH4+ 等)またはアルカリ土類金属(Mg、Ca、B
a等)、Cu、Pb等から成る金属石鹸(オレイン酸
銅)、脂肪酸アミド;レシチン(大豆油レシチン)等が
使用される。この他に炭素数4〜40の高級アルコ−
ル、(ブタノ−ル、オクチルアルコ−ル、ミリスチルア
ルコ−ル、ステアリルアルコ−ル)及びこれらの硫酸エ
ステル、スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルス
ルホン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエステル、燐
酸ジエステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン
酸、フェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能で
ある。また、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオ
キサイド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ
琥珀酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は
通常一種類以上で用いられ、一種類の分散剤はバインダ
ー100重量部に対して0.005〜20重量部の範囲
で添加される。これら分散剤の使用方法は、強磁性微粉
末や非磁性微粉末の表面に予め被着させても良く、また
分散途中で添加してもよ
A dispersant and a dispersion aid may be added to the polishing layer for the purpose of assisting the dispersion of the abrasive particles. As the dispersant and the dispersion aid, caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid,
Oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, linolenic acid,
C2-C40 fatty acids such as stearoic acid, behenic acid, maleic acid, and phthalic acid (R 1 COOH, R 1 is an alkyl group having 1 to 39 carbon atoms, a phenyl group, and an aralkyl group); Alkali metals of fatty acids (Li, Na, K,
NH 4+ ) or alkaline earth metals (Mg, Ca, B)
a) and the like, metal soap (copper oleate) composed of Cu, Pb and the like, fatty acid amide; lecithin (soybean oil lecithin) and the like are used. In addition to this, high-grade alcohol with 4 to 40 carbon atoms
(Butanol, octyl alcohol, myristyl alcohol, stearyl alcohol) and their sulfuric acid esters, sulfonic acids, phenylsulfonic acids, alkylsulfonic acids, sulfonic acid esters, phosphoric acid monoesters, phosphoric acid diesters, Phosphoric acid triester, alkylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, amine compounds and the like can also be used. Further, polyethylene glycol, polyethylene oxide, sulfosuccinic acid, sulfosuccinic acid metal salt, sulfosuccinic acid ester and the like can also be used. One or more kinds of these dispersants are usually used, and one kind of the dispersant is added in the range of 0.005 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder. The method of using these dispersants may be such that they are pre-deposited on the surface of the ferromagnetic fine powder or the non-magnetic fine powder, or they may be added during dispersion.

【0044】また、研磨層には防黴材を添加することも
できる。用いることができる防黴剤としては2−(4−
チアゾリル)−ベンズイミダゾール、N−(フルオロジ
クロロメチルチオ)−フタルイミド、10、10’−オ
キシビスフェノキサルシン、2、4、5、6テトラクロ
ロイソフタロニトリル、P−トリルジヨードメチルスル
ホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス(トリブチル
錫)、サルチルアニライド等がある。 このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」1972年工学図
書、「化学と工業」32巻、904頁(1979年)等
に記載されている。
A mildew-proofing material may be added to the polishing layer. The antifungal agent that can be used is 2- (4-
Thiazolyl) -benzimidazole, N- (fluorodichloromethylthio) -phthalimide, 10,10'-oxybisphenoxarcine, 2,4,5,6 tetrachloroisophthalonitrile, P-tolyldiiodomethylsulfone, triiodo Examples include allyl alcohol, dihydroacetate, mercury phenyloleate, bis (tributyltin) oxide, and saltylanilide. Such materials are described, for example, in "Microbial Hazard and Prevention Technology", 1972 Engineering Book, "Chemistry and Industry", 32, 904 (1979).

【0045】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としてはグラファイト、変成グラファイト、カ
−ボンブラックグラフトポリマ−、酸化錫−酸化アンチ
モン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン、
等の導電性粉末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシド−ル系、多
価アルコ−ル、多価アルコ−ルエステル、アルキルフェ
ノ−ルEO付加体等のノニオン界面活性剤;高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホ
ニウム類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホ
ン酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸
エステル、燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界
面活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミノア
ルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイ
ン型等の両性界面活性剤等が使用される。 これら帯電
防止剤として使用し得る界面活性剤化合物例の一部は、
小田良平他著『界面活性剤の合成とその応用』(槙書店
1972年版);A.W.ベイリ著『サ−フエス アク
テイブ エ−ジエンツ』(インタ−サイエンス パブリ
ケ−ション コ−ポレイテッド1985年版);T.
P.シスリ−著『エンサイクロペディア オブ サ−フ
エスアクティブエ−ジェンツ、第2巻』(ケミカルパブ
リシュカンパニ−1964年版);『界面活性剤便覧』
第六刷(産業図書株式会社、昭和41年12月20
日);丸茂秀雄著『帯電防止剤』幸書房(1968)等
の成書に記載されている。 これらの界面活性剤は単独
または混合して添加しても良い。研磨層におけるこれら
の界面活性剤の使用量は、研磨剤およびもしくは強磁性
微粉末の合計100重量部当たり0.01〜10重量部
である。またバック層での使用量はバインダー100重
量部当たり0.01〜30重量部である。これらは帯電
防止剤として用いられるものであるが、時としてそのほ
かの目的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改
良、塗布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として
適用される場合もある。
Antistatic agents other than carbon black used in the present invention include graphite, modified graphite, carbon black graft polymer, tin oxide-antimony oxide, tin oxide, titanium oxide-tin oxide-antimony oxide.
Conductive powder such as saponin; Natural surfactant such as saponin; Nonionic surface active agent such as alkylene oxide type, glycerin type, glycidyl type, polyhydric alcohol, polyhydric alcohol ester, and alkylphenol EO adduct Agents; higher alkyl amines, cyclic amines, hydantoin derivatives, amido amines, ester amides, quaternary ammonium salts, pyridine and other heterocycles, cation surfactants such as phosphonium or sulfoniums; carboxylic acids, sulfonic acids, phosphonic acids , Anionic surfactants containing acidic groups such as phosphoric acid, sulfuric acid ester groups, phosphonic acid ester groups, phosphoric acid ester groups, etc .; amino acids; amphoteric interfaces such as aminosulfonic acids, sulfuric acid or phosphoric acid esters of amino alcohols, alkyl betaine type, etc. Activators and the like are used. Some of the examples of surfactant compounds that can be used as these antistatic agents are:
Ryohei Oda et al., “Synthesis of surfactants and their applications” (Maki Shoten 1972 edition); W. Bailey's "Surface Active Agents" (Interscience Publications Coporated 1985 edition);
P. Sisley's "Encyclopedia of Surfactive Agents, Volume 2" (Chemical Public Company 1964 edition); "Surfactant Handbook"
6th printing (Sangyo Tosho Co., Ltd., December 20, 1966)
Sun); Hideo Marumoshi, "Antistatic Agent," written in Koshobo (1968). These surfactants may be added alone or as a mixture. The amount of these surfactants used in the polishing layer is 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the abrasive and / or the ferromagnetic fine powder. The amount used in the back layer is 0.01 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the binder. Although these are used as antistatic agents, they are sometimes used for other purposes such as dispersion, improvement of magnetic properties, improvement of lubricity, coating aid, wetting agent, curing accelerator and dispersion accelerator. In some cases.

【0046】本発明の方法で使用する研磨テープを作成
する際の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒とし
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフラン等のケトン系;メタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルアル
コ−ル、イソプロピルアルコ−ル、メチルシクロヘキサ
ノ−ルなどのアルコ−ル系;酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸
エチル、酢酸グリコ−ルモノエチルエ−テル等のエステ
ル系;ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、グリコ
−ルジメチルエ−テル、グリコ−ルモノエチルエ−テ
ル、ジオキサンなどのエ−テル系;ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾ−ル、クロルベンゼン、スチレン
などのタ−ル系(芳香族炭化水素);メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素、N、N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサ
ン等のものが使用できる。またこれら溶媒は通常任意の
比率で2種以上で用いる。また1重量%以下の量で微量
の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、原料成分等)
を含んでもよい。
As the organic solvent used for dispersion, kneading and coating in preparing the polishing tape used in the method of the present invention, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone, tetrahydrofuran, etc. can be used in any ratio. Ketone system; alcohol system such as methanol, ethanol, propanol, butanol, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, and methylcyclohexanol; methyl acetate, ethyl acetate,
Ester systems such as butyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, ethyl lactate, glycol monoethyl ether acetate; ether systems such as diethyl ether, tetrahydrofuran, glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether, dioxane; benzene , Toluene, xylene, cresol, chlorobenzene, styrene and other tal type (aromatic hydrocarbons); methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform,
Chlorinated hydrocarbons such as ethylene chlorohydrin and dichlorobenzene, N, N-dimethylformaldehyde, hexane and the like can be used. Further, these solvents are usually used in two or more kinds at an arbitrary ratio. In addition, trace amounts of impurities (polymers of the solvent itself, water, raw material components, etc.) in an amount of 1% by weight or less
May be included.

【0047】これらの溶剤は研磨層塗布液や下塗り層用
塗布液の合計固形分100重量部に対して100〜20
000重量部で用いられる。 好ましい塗布液の固形分
率は1〜40重量%である。
These solvents are added in an amount of 100 to 20 relative to 100 parts by weight of the total solid content of the coating liquid for polishing layer and the coating liquid for undercoat layer.
Used at 000 parts by weight. The solid content of the coating liquid is preferably 1 to 40% by weight.

【0048】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗
布・乾燥また必要により配向する。研磨テ−プの支持体
の厚み2.5〜500μm、望ましくは3〜75μmが
望ましい。また支持体の長手もしくは幅方向のいずれか
のヤング率が400Kg/mm2以上であることが望ま
しい。素材としてはポリエチレンテレフタ レ−ト、ポ
リエチレンナフタレ−ト等のポリエステル類、ポリプロ
ピレン等ポリオレフイン類、セルロ−ストリアセテ−
ト、セルロ−スダイアセテ−ト等のセルロ−ス誘導体、
ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリカ−ボネ−
ト、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリフェ
ニルスルホン、ポリベンゾオキサゾール等のプラスチッ
クのほかにアルミニウム、銅等の金属、ガラス等のセラ
ミックス等も使用出来る。このなかで特にポリエチレン
ナフタレートもしくはポリアミドが好ましい。これらの
支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処
理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属烝着処理、ア
ルカリ処理をおこなってもよい。これら支持体に関して
は例えば 西独特許3338854A、特開昭59−1
16926号、特開昭61−129731号公報、米国
特許明細書4388368号;三石幸夫著、『繊維と工
業』31巻 p50〜55、1975年などに記載され
ている。研磨テープ等の場合これら支持体の中心線平均
表面粗さは0.001〜1.5μm(カットオフ値0.
25mm)が好ましい。
The polishing layer is formed by dissolving the above composition in any combination and dissolving it in an organic solvent, coating it on a support as a coating solution, drying it, and orienting it if necessary. The thickness of the support of the polishing tape is 2.5 to 500 μm, preferably 3 to 75 μm. Further, it is desirable that the Young's modulus of either the longitudinal direction or the width direction of the support is 400 kg / mm @ 2 or more. Materials include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polypropylene, and cellulose triacetate.
, Cellulose derivatives such as cellulose diacetate,
Vinyl resins such as polyvinyl chloride, polycarbonate
In addition to plastics such as polyimide, polyamide, polysulfone, polyphenyl sulfone, and polybenzoxazole, metals such as aluminum and copper, ceramics such as glass, and the like can be used. Of these, polyethylene naphthalate or polyamide is particularly preferable. Prior to coating, these supports may be subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, undercoating treatment, heat treatment, dust removal treatment, metal dusting treatment, and alkali treatment. Regarding these supports, for example, West German Patent 3338854A and JP-A-59-1
No. 16926, JP-A No. 61-129731, U.S. Pat. No. 4,388,368; Yukio Mitsuishi, "Fiber and Industry", Vol. 31, p50-55, 1975. In the case of an abrasive tape or the like, the center line average surface roughness of these supports is 0.001 to 1.5 μm (cutoff value of 0.
25 mm) is preferred.

【0049】分散、混練の方法には特に制限はなく、ま
た各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等)、
分散・混練中の添加位置、分散温度(0〜80°C)な
どは適宜設定することができる。研磨層塗料の調製には
通常の混練機、例えば、二本ロ−ルミル、三本ロ−ルミ
ル、ボ−ルミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラ
インダ−、ツエ グバリ(Szegvari)アトライタ
−、高速インペラ−、分散機、高速スト−ンミル、高速
度衝撃ミル、ディスパ−、ニ−ダ−、高速ミキサ−、リ
ボンブレンダ−、コニ−ダ−、インテンシブミキサ−、
タンブラ−、ブレンダ−、ディスパ−ザ−、ホモジナイ
ザ−、単軸スクリュ−押し出し機、二軸スクリュ−押し
出し機、及び超音波分散機などを用いることができる。
通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数備え、
連続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は、
T.C.PATTON著(テ−.シ−.パットン)“P
aint Flow and Pigment Dis
persion”(ペイント フロ− アンド ピグメ
ント デイ スパ−ジョン)1964年John Wil
ey & Sons社発行(ジョン ウイリ− アンド
サンズ))や田中信一著『工業材料』25巻37(19
77)などや当該書籍の引用文献に記載されている。こ
れら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よく
進めるため、球相当径で10cmφ〜0.05mmφの
径のスチールボール、スチールビーズ、セラミツクビー
ズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いることが
出来る。またこれら材料は球形に限らない。また、米国
特許第2581414号及び同第2855156号など
の明細書にも記載がある。本発明においても上記の書籍
や当該書籍の引用文献などに記載された方法に準じて混
練分散を行い研磨層塗料およびバック層塗料を調製する
ことができる。
The method of dispersion and kneading is not particularly limited, and the order of addition of each component (resin, powder, lubricant, solvent, etc.),
The addition position during dispersion / kneading, the dispersion temperature (0 to 80 ° C.) and the like can be set appropriately. For the preparation of the coating for the polishing layer, a conventional kneading machine such as a two-roll mill, a three-roll mill, a ball mill, a pebble mill, a tron mill, a sand grinder, a Szegvari attritor, a high speed impeller, Disperser, high-speed stone mill, high-speed impact mill, disperser, kneader, high-speed mixer, ribbon blender, conider, intensive mixer,
A tumbler, a blender, a disperser, a homogenizer, a single-screw extruder, a twin-screw extruder, and an ultrasonic disperser can be used.
For normal dispersion / kneading, a plurality of these dispersion / kneading machines are provided,
Process continuously. For details of the technology related to kneading and dispersion,
T. C. By Patton (T-C-Patton) "P
aint Flow and Pigment Dis
"Person" (Paint Flow and Pigment Day Spar John) 1964 John Wil
published by ey & Sons (John Willy & Sons) and Shinichi Tanaka, "Industrial Materials," Vol. 25, 37 (19).
77) and the like and cited documents of the book. As an auxiliary material for the dispersion and kneading, in order to efficiently carry out the dispersion and kneading, steel balls, steel beads, ceramic beads, glass beads, and organic polymer beads having a sphere equivalent diameter of 10 cmφ to 0.05 mmφ can be used. Also, these materials are not limited to spherical shapes. It is also described in the specifications such as US Pat. Nos. 2,581,414 and 2,855,156. Also in the present invention, the polishing layer coating material and the back layer coating material can be prepared by kneading and dispersing according to the method described in the above-mentioned book or the cited document of the book.

【0050】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては塗布液の粘度を1〜20000センチス
トークス(25°C)に調整し、エア−ドクタ−コ−タ
ー、ブレ−ドコ−ター、エアナイフコ−ター、スクイズ
コ−ター、含浸コ−ター、リバ−スロ−ルコ−ター、ト
ランスファ−ロ−ルコ−ター、グラビアコ−ター、キス
コ−ター、キヤストコ−ター、スプレイコ−ター、ロッ
ドコ−ター、正回転ロ−ルコ−ター、カ−テンコ−タ
ー、押出コ−ター、バ−コ−ター、リップコータ等が利
用出来、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コ−テイング工学』253頁〜2
77頁(昭和46.3.20.発行)等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支持体
との密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良
い。また研磨層を多層で構成したいときは、同時多層塗
布、逐次多層塗布等を行ってもよい。これらは、例え
ば、特開昭57−123532号公報、特公昭62−3
7451号公報、特開昭59−142741号公報、特
開昭59−165239号公報の明細書等にしめされて
いる。
As a method for coating the above-mentioned coating liquid for the polishing layer on the support, the viscosity of the coating liquid is adjusted to 1 to 20000 centistokes (25 ° C.), and an air doctor coater and a blade coater are used. -Coater, air knife coater, squeeze coater, impregnation coater, river roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss coater, cast coater, spray coater, rod coater , A normal rotation roll coater, a carten coater, an extrusion coater, a bar coater, a lip coater, etc. can be used, and other methods are also possible, and specific explanations of these are given by Asakura Shoten. Published "Coating Engineering" pp. 253-2
It is described in detail on page 77 (published 46.20. Showa) and the like. The order of applying these coating liquids can be arbitrarily selected, and corona discharge treatment or the like may be performed before the application of the desired liquid in order to improve the adhesion to the undercoat layer or the support. When it is desired to form the polishing layer in multiple layers, simultaneous multilayer coating, sequential multilayer coating and the like may be performed. These are disclosed, for example, in JP-A-57-123532 and JP-B-62-3.
7451, JP-A-59-142741, and JP-A-59-165239.

【0051】このような方法により、支持体上に約1〜
100μmほどで塗布された研磨層塗布液は、直ちに2
0〜130°Cで多段階で乾燥させる処理を施したの
ち、形成した研磨層を0.1〜10μm厚みに乾燥す
る。このときの支持体の搬送速度は、通常10m/分〜
900m/分でおこなわれ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温
度を20℃〜130℃で制御し塗布膜の残留溶剤量を
0.1〜40mg/m2 とする。叉必要により同様の手
順でバック層を設けてもよく、引き続き表面平滑化加工
を施し研磨層もしくはバック層の中心線平均表面粗さを
0.001〜0.3ミクロン(カットオフ0.25m
m)とし、所望の形状に裁断したりして、本発明の研磨
テープを製造する。これらの製造方法は粉体の予備処理
・表面処理、混練・分散、塗布・配向・乾燥、平滑処
理、熱処理、EB処理、表面クリーニング処理、裁断、
巻き取りの工程を連続して行うことが望ましい。 この
ように作成した研磨テープを裁断したあと所望のプラス
チックや金属のリールに巻き取る。巻き取る直前ないし
はそれ以前の工程において研磨テープ(研磨層、バック
層、エッジ端面、ベース面)をバーニシュおよびまたは
クリーニングすることが望ましい。バーニツシュは研磨
テープの表面粗度と研磨力を制御するために具体的には
サファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド刃、
セラミックス刃のような硬い材料により研磨テープ表面
の突起部分をそぎおとし均一にもしくは平滑にする。こ
れら材料のモース硬度は8以上が好ましいが特に制限は
なく突起を除去できるものであれば良い。これら材料の
形状は特に刃である必要はなく、角型、丸型、ホイール
(回転する円筒形状の周囲にこれらの材質を付与しても
良い)のような形状でも使用できる。また研磨テープの
クリーニングは、研磨テープ表面の汚れや余分な潤滑剤
を除去する目的で研磨テープ表層を不織布などで研磨層
面、バック層面、エッジ端面、バック側のベース面をワ
イピングすることにより行う。このようなワイピングの
材料としては例えば日本バイリーン製の各種バイリーン
や東レ製のトレシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、
また不織布はナイロン製不織布、ポリエステル製不織
布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織布、混
紡不織布など、ティッシュペーパー等が使用できる。
By such a method, about 1 to about 1 is formed on the support.
Immediately after applying the polishing layer coating liquid of about 100 μm,
After performing a multi-stage drying treatment at 0 to 130 ° C., the formed polishing layer is dried to a thickness of 0.1 to 10 μm. The transport speed of the support at this time is usually 10 m / min.
The drying temperature is controlled at 900 m / min, the drying temperature is controlled at 20 ° C to 130 ° C in a plurality of drying zones, and the residual solvent amount of the coating film is set to 0.1 to 40 mg / m 2 . If necessary, a back layer may be provided in the same procedure, and then the surface is smoothed to obtain a polishing layer or a back layer having a center line average surface roughness of 0.001 to 0.3 μm (cutoff of 0.25 m).
m) and cut into a desired shape to produce the polishing tape of the present invention. These manufacturing methods include powder pretreatment / surface treatment, kneading / dispersion, coating / orientation / drying, smoothing treatment, heat treatment, EB treatment, surface cleaning treatment, cutting,
It is desirable to carry out the winding process continuously. The polishing tape prepared in this manner is cut and then wound on a desired plastic or metal reel. It is desirable to burnish and / or clean the polishing tape (polishing layer, back layer, edge surface, base surface) immediately before or before winding. Burnish is a sapphire blade, a razor blade, a cemented carbide blade, a diamond blade, a blade for controlling the surface roughness and polishing power of the polishing tape.
Use a hard material such as a ceramics blade to scrape the protrusions on the surface of the polishing tape to make it uniform or smooth. The Mohs hardness of these materials is preferably 8 or more, but is not particularly limited as long as it can remove the protrusions. The shape of these materials does not have to be a blade, and a shape such as a square shape, a round shape, or a wheel (these materials may be provided around a rotating cylindrical shape) can be used. Cleaning of the polishing tape is performed by wiping the polishing tape surface, the back layer surface, the edge end surface, and the back side base surface with a non-woven fabric or the like on the surface layer of the polishing tape for the purpose of removing dirt on the surface of the polishing tape and excess lubricant. Examples of such wiping materials include various types of Vilene made in Japan Vilene, Toraysee made by Toray, Exaine, Kim Wipe, trade name.
As the non-woven fabric, a nylon non-woven fabric, a polyester non-woven fabric, a rayon non-woven fabric, an acrylonitrile non-woven fabric, a mixed-spun non-woven fabric, a tissue paper or the like can be used.

【0052】本発明の研磨方法に使用される研磨剤粒
子、結合剤樹脂、添加剤(潤滑剤、分散剤、帯電防止
剤、表面処理剤、カ−ボンブラック、遮光剤、酸化防止
剤、防黴剤、等)、溶剤及び支持体(下塗層、バック
層、バック下塗層を有してもよい)或いはその製法に関
しては、更に特公昭56−26890号公報等に記載さ
れている磁気記録媒体のものを参考にできる。
Abrasive particles, binder resin, additives (lubricant, dispersant, antistatic agent, surface treatment agent, carbon black, light-shielding agent, antioxidant, and anti-static agent used in the polishing method of the present invention. Mold and the like), solvent and support (which may have an undercoat layer, a back layer, a back undercoat layer) or a method for producing the same are further described in JP-B-56-26890. You can refer to the one on the recording medium.

【0053】[0053]

【実施例】以下に本発明の方法を実施例により更に具体
的に説明する。ここに示す成分、割合、操作順序等は本
発明の精神から逸脱しない範囲において変更しうるもの
であることは本業界に携わるものにとつては容易に理解
されることである。従って、本発明は 下記の実施例に
制限されるべきではない。なお、実施例中の「部」とあ
るのは「重量部」のことである。
EXAMPLES The method of the present invention will be described more specifically below with reference to examples. It is easily understood by those skilled in the art that the components, ratios, operation sequences and the like shown herein can be changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the present invention should not be limited to the examples below. In addition, "part" in the examples means "part by weight".

【0054】〔実施例1〜2及び比較例1〜5〕厚さ2
5μmの幅300mmのポリエチレンテレフタレート
(PET)支持体上にポリエステルポリウレタン樹脂か
らなる下塗り層を0.1μm厚に塗布し、その上に下記
の組成で調整した研磨層用塗布液を、乾燥後の厚さが1
0μmとなるようにバーコート塗布、乾燥そして各種の
幅にスリットして研磨テープのサンプルを作成した。
[Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 5] Thickness 2
On a polyethylene terephthalate (PET) support having a width of 5 μm and a width of 300 mm, an undercoat layer made of a polyester polyurethane resin is applied to a thickness of 0.1 μm, and a polishing layer coating solution prepared by the following composition is applied to the thickness after drying. Saga 1
A bar coating was applied so as to have a thickness of 0 μm, dried, and slit into various widths to prepare polishing tape samples.

【0055】 〔塗布液組成〕 研磨剤粒子(アルミナ、粒状、平均粒径0.1μm、モース硬度9): 95部 研磨剤粒子(ダイアモンド、粒状、平均粒径0.5μm、モース硬度10): 5部 結合剤樹脂(ポリエステル樹脂): 10部 結合剤樹脂(ポリウレタン、スルホン酸ナトリウム2×10-3当量/g樹脂含有 、 Mw70000): 10部 ポリイソシアネート(トリメチロールプロパン(1モル)のTDI(3モル)付 加物): 5部 分散剤(オレイン酸銅/フタロシアニン=1/1) : 0.1部 潤滑剤(オレイン酸/オレイン酸オレイル): 0.1部 希釈剤(メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=2/1): 200部 希釈剤(トルエン/MIBK): 150部 添加剤(カーボンブラック): 3部 作成したテープでカラーフィルタの突起を以下の条件で
研磨した結果を表1に示した。
[Coating Liquid Composition] Abrasive particles (alumina, granular, average particle size 0.1 μm, Mohs hardness 9): 95 parts Abrasive particles (diamond, granular, average particle size 0.5 μm, Mohs hardness 10): 5 parts Binder resin (polyester resin): 10 parts Binder resin (polyurethane, containing sodium sulfonate 2 × 10 −3 equivalent / g resin, Mw 70000): 10 parts Polyisocyanate (trimethylolpropane (1 mol) TDI ( 3 moles) Additive): 5 parts Dispersant (copper oleate / phthalocyanine = 1/1): 0.1 part Lubricant (oleic acid / oleyl oleate): 0.1 part Diluent (methyl ethyl ketone / cyclohexanone =) 2/1): 200 parts Diluent (toluene / MIBK): 150 parts Additive (carbon black): 3 parts The results of polishing the protrusions of the filter under the following conditions shown in Table 1.

【0056】〔研磨条件〕研磨テープの番手を#800
0〜#33000の範囲で選択して第1表に記載の条件
で実施した。
[Polishing conditions] Polishing tape count # 800
It was carried out under the conditions shown in Table 1 by selecting in the range of 0 to # 33000.

【0057】〔突起物高さの測定条件〕光学顕微鏡(4
00倍)による焦点深度法で測定した。研磨前の最も高
い高さを採用した。
[Conditions for Measuring Height of Protrusion] Optical microscope (4
(00 times). The highest height before polishing was adopted.

【0058】〔カラーフィルターの傷の測定条件〕光学
顕微鏡観察による。ほとんど傷がみられなかったものを
○、傷が認められたものを×と判定した。
[Conditions for Measuring Damage of Color Filter] By optical microscope observation. The sample with almost no scratch was evaluated as ○, and the sample with scratch was evaluated as ×.

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】〔実施例3〜7及び比較例6〜10〕厚さ
25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)支持
体上にポリエステルポリウレタン樹脂からなる下塗り層
を0.5μm厚に塗布し、その上に下記の組成で調整し
た研磨層用塗布液を、乾燥後3μm厚さとなるようにバ
ーコート塗布を行い研磨テープのサンプルを作成した。 塗布液組成 研磨剤(アルミナ、粒状、平均粒径 Aμm、モース硬度9): 100部 結合剤樹脂(塩ビ樹脂) : X部 結合剤樹脂(ポリウレタン、スルホン酸ナトリウム2×10-3当量/g樹脂含 有、Mw70000) : Y部 結合剤樹脂(ポリイソシアネート、トリメチロールプロパン(1モル)のTD I(3モル)付加物 : Z部 カーボンブラック(ケッチェンブラックEC) : B部 潤滑剤(オレイン酸/オレイン酸オレイル) : 0.1部 希釈剤(メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=2/1) : 200部 希釈剤(トルエン/MIBK) : 150部 上記塗布液組成を表2に一覧する。
[Examples 3 to 7 and Comparative Examples 6 to 10] A polyethylene terephthalate (PET) support having a thickness of 25 μm was coated with a subbing layer made of a polyester polyurethane resin to a thickness of 0.5 μm, and the following layers were formed thereon. The coating solution for polishing layer adjusted by the composition was bar-coated so as to have a thickness of 3 μm after drying to prepare a polishing tape sample. Composition of coating liquid Abrasive (alumina, granular, average particle size Aμm, Mohs hardness 9): 100 parts Binder resin (vinyl chloride resin): X part Binder resin (polyurethane, sodium sulfonate 2 × 10 −3 equivalent / g resin) Included, Mw 70000): Y part Binder resin (polyisocyanate, TD I (3 mol) adduct of trimethylolpropane (1 mol)): Z part Carbon black (Ketjenblack EC): B part Lubricant (oleic acid / Oleyl oleate): 0.1 part Diluent (methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 2/1): 200 parts Diluent (toluene / MIBK): 150 parts The above coating liquid compositions are listed in Table 2.

【0061】[0061]

【表2】 [Table 2]

【0062】作成した研磨テープサンプルを12.65
mmに加工しカラーフィルタの突起を前記の条件で研磨
した結果を表3に示した。尚、内因性突起の研削方法及
びその条件は、前記実施例1と同一にして行った。各評
価項目及びその評価条件は、下記の通りにして行った。 〔静電破壊〕研削中に研磨テープの摺動直後の面の帯電
量を、TRECK社のTRECKにより測定して、その
帯電量から以下のように評価した。 ○ … −10〜+10mV × … ー11mV以下もしくは+11mV以上 〔腐蝕〕研磨処理済みカラーフィルターを50℃90%
RHの条件下に30日間放置した後に、LCDのパネル
を作成し、電圧を印加してカラーフィルターエレメント
の、腐蝕状況を調べた。 ○ … ショートが認められなかった。 × … 1箇所以上でショートが認められた。
The prepared polishing tape sample was 12.65.
Table 3 shows the results of processing to mm and polishing the projections of the color filter under the above conditions. In addition, the grinding method and the conditions thereof for the intrinsic projections were the same as those in the first embodiment. Each evaluation item and its evaluation conditions were as follows. [Electrostatic Discharge] The amount of charge on the surface immediately after sliding of the polishing tape during grinding was measured by TRECK manufactured by TRECK and evaluated from the amount of charge as follows. ○ -10 to +10 mV x -11 mV or less or +11 mV or more [corrosion] Polished color filter at 50 ° C 90%
After being left under RH conditions for 30 days, an LCD panel was prepared and a voltage was applied to examine the corrosion state of the color filter element. ○: No short circuit was recognized. × ... A short circuit was observed at one or more places.

【0063】[0063]

【表3】 [Table 3]

【0064】[0064]

【発明の効果】内因性突起が被研磨面を傷つけることな
く切削研磨ができ、特に、液晶用カラーフィルターの研
磨を高得率で行うことができる。更に、それに使用する
研磨テープの研磨層に使用する結合剤樹脂成分を特定す
ることにより、液晶用カラーフィルターの腐蝕や電気的
な短絡が生じる恐れがないようにすることができる。
EFFECTS OF THE INVENTION It is possible to carry out cutting and polishing without damaging the surface to be polished by the endogenous projections, and in particular, it is possible to polish the color filter for liquid crystal at a high rate. Furthermore, by specifying the binder resin component used in the polishing layer of the polishing tape used for it, it is possible to prevent the color filter for liquid crystal from being corroded or the electrical short circuit.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に内因性突起を有する被研磨体と支
持体上に研磨剤粒子と結合剤を主体とする研磨層を有す
る研磨テープとを該被研磨体の被研磨面と該研磨テープ
の該研磨層とが摺接するように互いに対向する方向に接
動させて前記内因性突起を研削する研磨方法。
1. An object to be polished having an intrinsic protrusion on the surface thereof, and a polishing tape having a polishing layer mainly composed of abrasive particles and a binder on a support, the surface to be polished of the object to be polished, and the polishing tape. (3) A polishing method of grinding the endogenous protrusions by bringing them into contact with each other in directions opposite to each other so as to make sliding contact with the polishing layer.
【請求項2】 前記被研磨体が液晶ディスプレー用のカ
ラーフィルターである請求項1に記載の研磨方法。
2. The polishing method according to claim 1, wherein the object to be polished is a color filter for a liquid crystal display.
【請求項3】 前記研磨テープの研磨層の結合剤が塩ビ
系樹脂、ウレタン系樹脂及びポリイソシアネートからな
り、その組成比が重量百分比で1〜10:70〜95:
5〜40である請求項1もしくは請求項2に記載の研磨
方法。
3. The binder of the polishing layer of the polishing tape is made of vinyl chloride resin, urethane resin and polyisocyanate, and the composition ratio thereof is 1 to 10:70 to 95: by weight.
It is 5-40, The polishing method of Claim 1 or Claim 2.
【請求項4】 前記研磨テープの研磨層の結合剤がウレ
タン系樹脂及びポリイソシアネートからなり、その組成
比が重量百分比で60〜95:5〜40である請求項1
もしくは請求項2に記載の研磨方法。
4. The binder of the polishing layer of the polishing tape is made of urethane resin and polyisocyanate, and the composition ratio thereof is 60 to 95: 5 to 40 by weight.
Alternatively, the polishing method according to claim 2.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010069609A (en) * 2008-09-22 2010-04-02 Nihon Micro Coating Co Ltd Cleaning material and manufacturing method for cleaning material
KR101222764B1 (en) * 2010-11-04 2013-01-15 조희태 a scratch remove method for the car class

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