JPH076640Y2 - 荷電粒子ビ−ム装置 - Google Patents
荷電粒子ビ−ム装置Info
- Publication number
- JPH076640Y2 JPH076640Y2 JP11746986U JP11746986U JPH076640Y2 JP H076640 Y2 JPH076640 Y2 JP H076640Y2 JP 11746986 U JP11746986 U JP 11746986U JP 11746986 U JP11746986 U JP 11746986U JP H076640 Y2 JPH076640 Y2 JP H076640Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- particle beam
- kicker
- pertabeta
- beam device
- Prior art date
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、電子やイオンなどの荷電粒子を加速または
蓄積する荷電粒子ビーム装置に関するものである。
蓄積する荷電粒子ビーム装置に関するものである。
第３図はたとえば「入射用シンクロトロンの設計」分子
科学研究所、（昭和56年３月）に示された従来の荷電粒
子ビーム装置を示し、図において、ライナック、マイク
ロトロンなどの予備加速器（１）からの出力ビームを運
ぶ低エネルギ輸送管（２）の先端部に出力ビームを直線
管（４）へ入射するインフレクタ（３）が設けられてい
る。直線管（４）に沿って、入射のときに粒子軌道をず
らせるためのパータベータ（５）、荷電粒子を曲げて閉
軌道を作るための二極電磁石（６）、ビームを集束する
ための四極電磁石（７）、粒子を加速する高周波空洞
（８）および出射時にビーム軌道を曲げるキッカ（９）
等が配置されている。デフレクタ（10）は出射ビームを
高エネルギ輸送管へ送り出すものである。
科学研究所、（昭和56年３月）に示された従来の荷電粒
子ビーム装置を示し、図において、ライナック、マイク
ロトロンなどの予備加速器（１）からの出力ビームを運
ぶ低エネルギ輸送管（２）の先端部に出力ビームを直線
管（４）へ入射するインフレクタ（３）が設けられてい
る。直線管（４）に沿って、入射のときに粒子軌道をず
らせるためのパータベータ（５）、荷電粒子を曲げて閉
軌道を作るための二極電磁石（６）、ビームを集束する
ための四極電磁石（７）、粒子を加速する高周波空洞
（８）および出射時にビーム軌道を曲げるキッカ（９）
等が配置されている。デフレクタ（10）は出射ビームを
高エネルギ輸送管へ送り出すものである。
周回部分の二極電磁石（６）、四極電磁石（７）は、同
じ間隔で置かれ、６周期で１周を形成している。
じ間隔で置かれ、６周期で１周を形成している。
かような構成により、予備加速器（１）で加速されたビ
ームは四極電磁石（7a），（7b）で集束され、低エネル
ギ輸送管（２）を経由してインフレクタ（３）で曲げら
れて直線管（４）に入る。パータベータ（５）は、当初
軌道を図の外側へずらして入射ビームをとり込みながら
徐々に軌道を内側へ戻す。入射されたビームは二極電磁
石（６）で曲げられて閉軌道を周回するが、その間、四
極電磁石（７）を通る際に水平および垂直方向に集束さ
れ、その間では発散して一周で６周期の安定なモードを
作る。
ームは四極電磁石（7a），（7b）で集束され、低エネル
ギ輸送管（２）を経由してインフレクタ（３）で曲げら
れて直線管（４）に入る。パータベータ（５）は、当初
軌道を図の外側へずらして入射ビームをとり込みながら
徐々に軌道を内側へ戻す。入射されたビームは二極電磁
石（６）で曲げられて閉軌道を周回するが、その間、四
極電磁石（７）を通る際に水平および垂直方向に集束さ
れ、その間では発散して一周で６周期の安定なモードを
作る。
入射が完了すると、高周波空洞（８）の印加電圧を上
げ、二極電磁石（６）および四極電磁石（７）の磁界の
強さをこれと連動させることによってエネルギを高くす
る。所定のエネルギに達した時点でキッカ（９）を起動
すると、ビームは安定軌道からずれ、デフレクタ（10）
の所に達してここで外側へ曲げられ、高エネルギ輸送管
（11）へ出射される。
げ、二極電磁石（６）および四極電磁石（７）の磁界の
強さをこれと連動させることによってエネルギを高くす
る。所定のエネルギに達した時点でキッカ（９）を起動
すると、ビームは安定軌道からずれ、デフレクタ（10）
の所に達してここで外側へ曲げられ、高エネルギ輸送管
（11）へ出射される。
とり出されたビームはしばらく発散した後、輸送管（1
1）に付属した四極電磁石（7e），（7f）で集束されな
がら、図に省略された蓄積リングや分析装置へと導かれ
る。
1）に付属した四極電磁石（7e），（7f）で集束されな
がら、図に省略された蓄積リングや分析装置へと導かれ
る。
以上のような従来の荷電粒子ビーム装置では、キッカ
（９）とパータベータ（５）は、同一直線部に装置され
ていたため、それぞれ別の真空槽に入れると、間にフラ
ンジ等の接合部を設ける必要があり、直線部が長くな
り、装置を小型化できないという問題点があった。
（９）とパータベータ（５）は、同一直線部に装置され
ていたため、それぞれ別の真空槽に入れると、間にフラ
ンジ等の接合部を設ける必要があり、直線部が長くな
り、装置を小型化できないという問題点があった。
この考案は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、直線部の長さを短くし、小型化された荷電粒
子ビーム装置を得ることを目的とする。
たもので、直線部の長さを短くし、小型化された荷電粒
子ビーム装置を得ることを目的とする。
この考案に係る荷電粒子ビーム装置は、入・出射機器の
一つであるキッカ、インフレクタ、デフレクタのいずれ
かとパータベータをならべて配置し、それら二つの入・
出射機器を単一の真空槽内に収納したものである。
一つであるキッカ、インフレクタ、デフレクタのいずれ
かとパータベータをならべて配置し、それら二つの入・
出射機器を単一の真空槽内に収納したものである。
この考案においては、キッカなどとパータベータの間の
距離が、接続部のフランジを省略することにより短くで
きる。そのため直線部が短くなる。
距離が、接続部のフランジを省略することにより短くで
きる。そのため直線部が短くなる。
第１図、第２図はこの考案の一実施例を示し、図におい
て、互いに隣接して設置されたパータベータ（５）とキ
ッカ（９）はＫ・Ｐ用真空槽（12）に収納されている。
て、互いに隣接して設置されたパータベータ（５）とキ
ッカ（９）はＫ・Ｐ用真空槽（12）に収納されている。
周回部分の二極電磁石（６）、四極電磁石（７）は同じ
間隔で置かれており、４周期で一周を形成している。
間隔で置かれており、４周期で一周を形成している。
その他、第３図におけると同一符号は同一部分を示して
いる。
いる。
次に動作について説明する。パータベータ（５）は、ビ
ームの入射の際、軌道を外側へずらして入射ビームを取
り込みながら徐々に軌道を内側へ戻す。入射が完了し、
高周波空洞（８）による加速が完了すると、キッカ
（９）を起動することによりビームは安定軌道からず
れ、デフレクタ（10）の部位に達し、ここで外側へ曲げ
られ、高エネルギ輸送管（11）へ出射される。
ームの入射の際、軌道を外側へずらして入射ビームを取
り込みながら徐々に軌道を内側へ戻す。入射が完了し、
高周波空洞（８）による加速が完了すると、キッカ
（９）を起動することによりビームは安定軌道からず
れ、デフレクタ（10）の部位に達し、ここで外側へ曲げ
られ、高エネルギ輸送管（11）へ出射される。
上記のパータベータ（５）やキッカ（９）は、電力効率
の観点よりビームに近づけることが望ましく、そのため
Ｋ・Ｐ用真空槽（12）の中に設置されている。従来パー
タベータ（５）、キッカ（９）等の入・出射機器はそれ
ぞれ別個の真空槽内に設置していたが、この考案による
と、上記動作に支障を起こすことなく単一の真空槽（1
2）内に設置したものである。
の観点よりビームに近づけることが望ましく、そのため
Ｋ・Ｐ用真空槽（12）の中に設置されている。従来パー
タベータ（５）、キッカ（９）等の入・出射機器はそれ
ぞれ別個の真空槽内に設置していたが、この考案による
と、上記動作に支障を起こすことなく単一の真空槽（1
2）内に設置したものである。
なお、上記実施例では、４周期の荷電粒子ビーム装置に
ついて説明したが、他の周期数でもよい。
ついて説明したが、他の周期数でもよい。
また、上記実施例では、パータベータとキッカを単一の
真空槽に入れる構造としたが、他の入・出射機器、例え
ばインフレクタ、デフレクタとパータベータ等の組み合
わせにしても同様の効果を奏する。
真空槽に入れる構造としたが、他の入・出射機器、例え
ばインフレクタ、デフレクタとパータベータ等の組み合
わせにしても同様の効果を奏する。
以上のように、この考案によれば、パータベータとキッ
カを単一の真空槽に収納したので、直線部の長さを短く
して装置を小型化することが可能となり、安価に装置の
建設ができる効果がある。
カを単一の真空槽に収納したので、直線部の長さを短く
して装置を小型化することが可能となり、安価に装置の
建設ができる効果がある。
第１図はこの考案の一実施例の平面図、第２図は同じく
要部縦断面図、第３図は従来の荷電粒子ビーム装置の平
面図である。 （３）……インフレクタ、（４）……直線管、（５）…
…パータベータ、（９）……キッカ、（10）……デフレ
クタ、（12）……Ｋ・Ｐ用真空槽。 なお、各図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。
要部縦断面図、第３図は従来の荷電粒子ビーム装置の平
面図である。 （３）……インフレクタ、（４）……直線管、（５）…
…パータベータ、（９）……キッカ、（10）……デフレ
クタ、（12）……Ｋ・Ｐ用真空槽。 なお、各図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (2)
- 【請求項１】荷電粒子の軌道を形成する複数個の真空槽
が連結されている荷電粒子ビーム装置において、キッ
カ、インフレクタおよびデフレクタのうちのいずれかと
パータベータとを単一の前記真空槽内に収納配置してな
ることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項２】４つの直線部を有する実用新案登録請求の
範囲第１項記載の荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11746986U JPH076640Y2 (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 荷電粒子ビ−ム装置 |
| FR8707381A FR2607345B1 (fr) | 1986-05-27 | 1987-05-26 | Synchrotron |
| DE19873717819 DE3717819C2 (de) | 1986-05-27 | 1987-05-27 | Synchrotron |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11746986U JPH076640Y2 (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 荷電粒子ビ−ム装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6325500U JPS6325500U (ja) | 1988-02-19 |
| JPH076640Y2 true JPH076640Y2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=31003010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11746986U Expired - Lifetime JPH076640Y2 (ja) | 1986-05-27 | 1986-08-01 | 荷電粒子ビ−ム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076640Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020184232A1 (ja) * | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | 粒子加速器、粒子線治療装置、および荷電粒子ビーム出射方法 |
-
1986
- 1986-08-01 JP JP11746986U patent/JPH076640Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6325500U (ja) | 1988-02-19 |
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