JPH0765359A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

磁気ディスクの製造方法

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JPH0765359A
JPH0765359A JP20910093A JP20910093A JPH0765359A JP H0765359 A JPH0765359 A JP H0765359A JP 20910093 A JP20910093 A JP 20910093A JP 20910093 A JP20910093 A JP 20910093A JP H0765359 A JPH0765359 A JP H0765359A
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JP
Japan
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disk
magnetic disk
manufacturing
processing
laser
Prior art date
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Application number
JP20910093A
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English (en)
Inventor
Takeshi Miyai
剛 宮井
Morimichi Tanaka
守通 田中
Masazumi Sato
正純 佐藤
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Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0765359A publication Critical patent/JPH0765359A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は従来の磁気ディスクのテクスチャ加
工に見られた、砥粒の粒径や定盤の加圧のばらつきに依
存したクラッシュや吸着の危険性を、レーザ加工を用い
ることで低減することにある。 【構成】 磁気ディスク表面の面粗し加工において、レ
ーザ加工用光源とAF機構、集光レンズ、ビームスプリ
ッタ等を備えたビームヘッド、ポリゴンミラー等を装備
したレーザ装置にて、ビーム走査手段、ビーム照射時間
およびディスク回転を制御することにより任意の加工形
状を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は情報記録分野、磁気記録
装置用いる記録媒体である磁気ディスクの改良に関す
る。
【0002】
【従来の技術】パーソナルコンピュータのマルチメディ
ア化に対応して磁気記録装置は年々記録容量を増大して
いる。従って一枚の磁気ディスクにおさめられる情報は
膨大なものとなり、それに比例して求められる信頼性は
ますます高くなっている。これに対し記録容量の高密度
化に伴ってビット当たりの磁化の大きさが小さくなり、
良好な記録・再生特性を得るために磁気ヘッドの浮上量
を小さくする傾向にある。このような状況にあって、磁
気記録装置の信頼性を高めるために磁気ヘッドと磁気デ
ィスクの引き起こすクラッシュ並びに吸着をなくすため
の積極的な技術の開発が必要となった。一般に磁気記録
装置において装置始動前は磁気ヘッドと磁気ディスクは
接触している。このとき両者の接触面が鏡面であると吸
着が起こり、最大静止摩擦係数が大きくなるため回転始
動が円滑にできなくなったりディスク表面の部分的な剥
離が起こるなどのトラブルが発生する。従って、前記最
大摩擦係数を小さくする必要があり、媒体表面を砥粒な
どを用いて面粗しするテクスチャ加工の手段が提案され
た(特開昭62−154322)。図3は従来技術の一
例を説明するための図である。例えばアルミ基板上また
はアルミ基板上に形成された被加工層11にダイヤモン
ド粉31などの砥粒を置き、その上から定盤32で加圧
し定盤32の回転や摺動あるいはディスク10の回転と
の組合せによりテクスチャを形成する。定盤の代わりと
してテープを用いても良い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前述のテクスチャ加工
では砥粒の大きさや定盤の加圧がばらつくために加工後
の表面に局所的に高い山が残った。この山の高さがヘッ
ドの浮上距離より高い場合、前述の摩擦とは異なり山と
ヘッドの衝突という形でクラッシュが発生する問題点が
あった。また、図3に示したような手段では局所的な加
工が困難であり、又、回転始動時の接触領域をディスク
の特定のトラックに設定するなどの微細な制御加工が行
えなかった。さらにクラッシュはヘッドとディスクの相
互作用であるため、前述のようにディスクのテクスチャ
加工のばらつきが大きいと、磁気ヘッドの設計などの改
善効果の確認も困難であった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明においては従来の
微細な制御が困難であった砥粒などを用いた機械加工に
変わる加工手段としてレーザ光を用いた加工方法を提案
する。一般のレーザ加工装置においてレーザ出力のばら
つきは±数%と非常に安定している。また加工幅に対応
するビーム絞り込み径はレンズの開口数(NA;numeric
al aperture)と波長によって設計可能である。従って
最適加工条件の設定や前記条件からのばらつき低減を容
易に行うことができる。また、レーザプリンタ装置に代
表されるようにビーム走査手段は製品段階で安定した技
術が確立されている。従ってある一定のトラックを定め
て局所的な加工を行う場合も、制御性良く加工できる。
さらに前述のようにばらつきの小さな加工手段となるの
で、クラッシュや吸着の原因をヘッドとディスクで分離
でき、改善設計の進展に寄与できる。本発明は次のよう
な具体的な手段を提供できる。 (1)磁気ディスクの製造工程の一工程であるディスク表
面のテクスチャ加工にレーザ光による加工工程を含む磁
気ディスクの製造方法。 (2)前記レーザ光の波長λが、0.1<λ< 2μmである磁気
ディスクの製造方法。 (3)前記レーザ光の波長λが、0.1<λ< 0.6μmである磁
気ディスクの製造方法。 (4)前記レーザ光が常にディスク表面または近傍に焦点
を結ぶような制御手段を有する磁気ディスクの製造方
法。 (5)前記レーザ光がディスク面に対してビーム走査手段
を有する磁気ディスクの製造方法。 (6)前記ビーム走査手段が回転多面鏡(ポリゴンミラ
ー)である磁気ディスクの製造方法。 (7)前記レーザ加工時にディスクが回転する磁気ディス
クの製造方法。 (8)前記ビーム走査手段、ビーム照射時間およびディス
ク回転の周速度を各々制御することにより任意の加工形
状を形成する手段を有する磁気ディスクの製造方法。 (9)前記レーザビームが複数である磁気ディスクの製造
方法。 本発明を利用すれば、磁気ディスク自体、及びこれを用
いた磁気記録装置または磁気記録・再生装置または再生
専用装置が得られる。
【0005】
【作用】本発明の磁気ディスクの製造方法は磁気ディス
クの表面に所望の形状及び大きさの凹凸を形成する方法
で、前記凹凸のばらつきを極めて小さくすることができ
る。
【0006】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に
説明する。 (実施例1)図1は本発明の一実施例を説明する図であ
る。レーザ加工用光源21にはアルゴンレーザ装置を用
いた。レーザ光源21から出射されたレーザ光はビーム
スプリッタ22で反射されディスク加工面11上から垂
直にディスクに入射される。途中集光レンズ23によっ
てレーザ光は集光され、ディスク加工面に焦点を結ぶよ
うに集光される。ディスク表面11からの反射光は一部
ビームスプリッタ22を透過してディテクタ24に照射
される。これらビームスプリッタ22、集光レンズ23
およびディテクタ24の組合せを便宜上ビームヘッド2
0と称すことにする。ディテクタの光量が最大になるよ
うにレンズは上下に機械的に制御されるオートフォーカ
ス(AF;auto focus)機構25が設けられており、焦
点は常にディスク上にあるように制御されている。アル
ゴンレーザ21出力は被加工物の材質や反射率により異
なるが、本実施例では被加工物をアルミ基板11とし、
集光されたディスク表面11で数十M〜数GW/cm2
となるようにした。集光レンズ23のNAは0.5と
し、加工幅は集光径である約1μm、加工深さは50n
mとした。加工形状は溝ピッチ1μmの渦巻き型とし
た。加工深さはレーザ光の照射時間を変えることで、溝
ピッチはレンズのNAを変えることで任意の値に設定で
きる。また、ビームヘッドはディスク外周方向から内周
方向に送り、ディスクは変速回転し、周速度が一定とな
るようにした。なお、加工形状はビームヘッドの送りと
ディスクの回転数の制御の組合せで任意である。また、
本加工方法はディスク基板11に磁性体を塗布した後に
実施しても良い。
【0007】(実施例2)図2は本発明の他の実施例を
説明するための図である。レーザ加工用光源21には実
施例1と同様に、アルゴンレーザ装置を用いた。ビーム
ヘッド20はビームを走査するためのポリゴンミラー2
6を有しており、走査されたビームをディスク面上に均
一スポット径で照射するためにfθレンズ27を有して
いる。また、ビームヘッド20は実施例1と同様にAF
機構25を有している。本実施例では実施例1と同様に
被加工物をアルミ基板11とし、集光されたディスク表
面で数十M〜数GW/cm2となるようにした。加工幅
は集光径である1μm、加工深さは50nmとした。加
工形状は回転方向に対し溝ピッチ1μmの蛇行型とし
た。本実施例では加工領域をディスク内周側5mmの領
域に設定し、ビームヘッド20は固定したままポリゴン
ミラー26でビーム走査を設定領域12に限定して行っ
た。ディスク10は一定回転し、ビーム走査速度を周速
度より極端に早くし前記仕様の蛇行型の加工が可能なよ
うにした。なお、加工形状はビームヘッドの送りとディ
スクの回転数の制御の組合せで任意である。
【0008】
【発明の効果】本発明で提案したレーザ加工を用いた磁
気ディスクの製造方法により次の効果が得られる。所望
の加工仕様で、ばらつきの小さなテクスチャ加工を実現
することができる。また、選択的な領域に制御性良く加
工できる手段を実現できる。さらに前述のようにばらつ
きの小さな加工手段であるので、本発明によってクラッ
シュや吸着の原因をヘッドとディスクで分離でき、改善
設計の進展に寄与できる。また、本発明により製造され
た磁気ディスクを媒体とする装置において、特にクラッ
シュの発生確率を著しく低減でき、装置の信頼性を大き
く向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図2】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図3】従来技術の一例を説明するための図である。
【符号の説明】
10 磁気ディスク、11 ディスク基板、12 加工
設定領域、20 ビームヘッド、21 レーザ加工用光
源、22 ビームスプリッタ、23 集光レンズ、24
ディテクタ、25 AF機構、26 ポリゴンミラ
ー、27 fθレンズ、31 砥粒、32 定盤(テー
プ)

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁気ディスクの製造工程であるディスク
    表面の面粗し(テクスチャ)加工にレーザ光による加工
    工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のレーザ光の波長λが、
    0.1<λ< 2μmであることを特徴とする磁気ディスクの
    製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載のレーザ光の波長λが、
    0.1<λ< 0.6μmであることを特徴とする磁気ディスク
    の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記レーザ光が常にディスク表面、また
    は近傍に焦点を結ぶような制御手段を有する請求項1〜
    3のいずれかの項に記載の磁気ディスクの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記レーザ光がディスク面に対してビー
    ム走査手段を有する請求項1〜4のいずれかの項に記載
    の磁気ディスクの製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載のビーム走査手段が回転
    多面鏡(ポリゴンミラー)であることを特徴とする磁気
    ディスクの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記レーザ加工時にディスクが回転する
    手段を有することを特徴とする請求項1〜6に記載の磁
    気ディスクの製造方法。
  8. 【請求項8】 前記ビーム走査手段、ビーム照射時間お
    よびディスク回転の周速度を各々制御することにより任
    意の加工形状を形成する手段を有することを特徴とする
    請求項1〜7のいずれかの項に記載の磁気ディスクの製
    造方法。
  9. 【請求項9】 前記レーザビームが複数であることを特
    徴とする請求項1〜8のいずれかの項に記載の磁気ディ
    スクの製造方法。
JP20910093A 1993-08-24 1993-08-24 磁気ディスクの製造方法 Pending JPH0765359A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5897798A (en) * 1997-06-04 1999-04-27 Hmt Technology Corporation Laser texturing apparatus employing a rotating mirror
US5910262A (en) * 1997-02-06 1999-06-08 International Business Machines Corporation Method and tool for laser texturing of glass substrates
US6327874B1 (en) * 1995-10-31 2001-12-11 Kabushiki Kaisha Ohara Method for manufacturing a glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium

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