JPH0764763B2 - Method for producing methylstyrene - Google Patents

Method for producing methylstyrene

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JPH0764763B2
JPH0764763B2 JP62050947A JP5094787A JPH0764763B2 JP H0764763 B2 JPH0764763 B2 JP H0764763B2 JP 62050947 A JP62050947 A JP 62050947A JP 5094787 A JP5094787 A JP 5094787A JP H0764763 B2 JPH0764763 B2 JP H0764763B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、メチルスチレンの製造方法に関し、更に詳し
くは分子状酸素の存在下、エチルトルエンを酸化脱水素
することからなる、耐熱性樹脂の原料や農薬などの原料
として有用なメチルスチレンの製造方法に関するもので
ある。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing methylstyrene, and more specifically, to a method for producing a heat-resistant resin comprising oxidative dehydrogenation of ethyltoluene in the presence of molecular oxygen. The present invention relates to a method for producing methylstyrene, which is useful as a raw material or a raw material for agricultural chemicals.

〔従来の技術〕 従来、メチルスチレンは、通常の脱水素方法、すなわち
多量の過熱水蒸気を用いて600℃程度の高温でエチルト
ルエンを脱水素する方法で製造される。しかるに該方法
は、エネルギーコストが高く、かつ反応条件が制約され
るという欠点を有するものであった。
[Prior Art] Methylstyrene is conventionally produced by a conventional dehydrogenation method, that is, a method of dehydrogenating ethyltoluene at a high temperature of about 600 ° C. using a large amount of superheated steam. However, this method has the drawbacks of high energy cost and restricted reaction conditions.

そこで、このような従来法の欠点を解消する方法とし
て、例えば、特開昭61−37745号公報に、分子状酸素含
有ガスの非存在下に酸化鉛のごとき酸素キャリアーを用
いてエチルトルエンを酸化脱水素する方法を開示されて
いる。しかし、該方法は、酸素キャリアーの性質上頻繁
に酸素キャリアーを再生する必要があるという欠点を有
していた。
Therefore, as a method for solving such a drawback of the conventional method, for example, JP-A-61-37745 discloses that ethyltoluene is oxidized by using an oxygen carrier such as lead oxide in the absence of a molecular oxygen-containing gas. A method of dehydrogenating is disclosed. However, this method has a drawback that the oxygen carrier needs to be frequently regenerated due to the nature of the oxygen carrier.

また、特開昭61−158940号公報には酸化マグネシウムを
触媒として酸素と硫化水素の共在下、エチルトルエンを
酸化脱水素する方法が開示されている。この方法を用い
ると、高い転化率及び選択率が得られる。しかるに、該
方法は硫化水素を必要とすること、加熱水蒸気を用いる
従来の脱水素反応と同等の高温を必要とすることから、
工業的に有利な方法とはいえなかった。
Further, JP-A-61-158940 discloses a method of oxidatively dehydrogenating ethyltoluene in the presence of oxygen and hydrogen sulfide using magnesium oxide as a catalyst. High conversion and selectivity are obtained with this method. However, the method requires hydrogen sulfide, and since it requires a high temperature equivalent to the conventional dehydrogenation reaction using heated steam,
It was not an industrially advantageous method.

さらに、エチルベンゼンを分子状酸素の存在下に酸化脱
水素しスチレンを製造する方法は既に知られている。し
かし、エチルベンゼンに比してエチルトルエンは反応性
に富むことから、スチレン製造用の酸化脱水素触媒をメ
チルスチレンの製造にそのまま適用することはできなか
った。
Furthermore, a method for producing styrene by oxidative dehydrogenation of ethylbenzene in the presence of molecular oxygen is already known. However, since ethyltoluene is more reactive than ethylbenzene, the oxidative dehydrogenation catalyst for styrene production could not be directly applied to the production of methylstyrene.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

そこで本発明の目的は、比較的低温で実施することがで
き、硫化水素等の危険性の高い物質を必要とせずに、高
い選択率でエチルトルエンからメチルスチレンを製造で
きる方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a method which can be carried out at a relatively low temperature and can produce methylstyrene from ethyltoluene with a high selectivity without requiring a highly dangerous substance such as hydrogen sulfide. is there.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、リンの酸化物、スズの酸化物及びケイ素の酸
化物からなる触媒にエチルトルエンと酸素とを含む反応
供給混合物を気相接触させて、エチルトルエンを酸化脱
水素することを特徴とするメチルスチレンの製造方法に
関する。
The present invention is characterized in that a catalyst comprising an oxide of phosphorus, an oxide of tin and an oxide of silicon is brought into gas phase contact with a reaction feed mixture containing ethyltoluene and oxygen to oxidatively dehydrogenate ethyltoluene. To a method for producing methylstyrene.

以下、本発明について説明する。The present invention will be described below.

本発明においては、リンの酸化物、スズの酸化物及びケ
イ素の酸化物からなる触媒を用いる。該触媒はリン、ス
ズ及びケイ素の複合酸化物を含むものであってもよい。
In the present invention, a catalyst composed of phosphorus oxide, tin oxide and silicon oxide is used. The catalyst may include a complex oxide of phosphorus, tin and silicon.

本発明に用いるリンの酸化物、スズの酸化物及びケイ素
の酸化物からなる触媒は、シリカゲルにスズ及びリンの
酸化物を例えば均一に且つ小粒子として担持させたもの
である。
The catalyst composed of a phosphorus oxide, a tin oxide and a silicon oxide used in the present invention is a silica gel on which tin and phosphorus oxides are, for example, uniformly and supported as small particles.

上記触媒は、スズ:ケイ素の原子比を0.5〜20:100好ま
しくは2〜15:100の範囲に調製することが高選択率でメ
チルスチレンを製造するという観点から好ましい。又上
記触媒は、リン:スズの原子比を0.1〜2:1の範囲にする
ことが、高選択率かつ高転化率でメチルスチレンを製造
するという観点から好ましい。
The above catalyst is preferably adjusted to an atomic ratio of tin: silicon of 0.5 to 20: 100, preferably 2 to 15: 100 from the viewpoint of producing methylstyrene with high selectivity. Further, the above catalyst preferably has an atomic ratio of phosphorus: tin in the range of 0.1 to 2: 1 from the viewpoint of producing methylstyrene with a high selectivity and a high conversion rate.

本発明で触媒として用いるリンの酸化物、スズの酸化物
及びケイ素の酸化物からなる触媒は、気相蒸着法、含浸
法、共沈法等公知の方法でスズの酸化物とケイ素の酸化
物とからなる触媒(前駆体)を調製した後、該触媒にさ
らにリンの酸化物を担持することにより調製できる。
The catalyst composed of a phosphorus oxide, a tin oxide and a silicon oxide used as a catalyst in the present invention is a tin oxide and a silicon oxide by known methods such as vapor deposition, impregnation and coprecipitation. It can be prepared by preparing a catalyst (precursor) consisting of and then supporting a phosphorus oxide on the catalyst.

まずスズの酸化物とケイ素の酸化物とからなる触媒は以
下のように調製することができる。
First, a catalyst composed of tin oxide and silicon oxide can be prepared as follows.

例えば含浸法の場合には、適当な溶媒に溶解したスズ化
合物にシリカゲルを浸漬し、例えば、加熱条件下かつ大
気圧もしくは減圧条件下に、溶媒を蒸発除去し、得られ
たスズ化合物担持シリカゲルを110℃で一夜乾燥する。
ここで必要に応じてアンモニア水で洗浄し、更に水洗し
たのち、空気中500〜900℃で2〜20時間焼成することに
より本発明において用いる触媒の前駆体を調製すること
ができる。
For example, in the case of the impregnation method, the silica gel is immersed in a tin compound dissolved in a suitable solvent, the solvent is evaporated and removed, for example, under heating conditions and atmospheric pressure or reduced pressure conditions. Dry overnight at 110 ° C.
Here, if necessary, the catalyst precursor used in the present invention can be prepared by washing with ammonia water, further washing with water, and then calcination in air at 500 to 900 ° C. for 2 to 20 hours.

上記含浸法において用いるスズ化合物の例としては、溶
媒可溶性のスズ化合物、例えば、塩化第一スズ、塩化第
二スズ、酢酸第一スズ、テトラエトキシスズ、臭化第一
スズ、ヨウ化第一スズ、硫酸第一スズ、硫酸第二スズ等
を挙げることができる。又、上記溶媒としては、水、メ
タノール、エタノール、ヘキサン等を例示することがで
きる。
Examples of the tin compound used in the above impregnation method include solvent-soluble tin compounds, for example, stannous chloride, stannic chloride, stannous acetate, tetraethoxytin, stannous bromide, stannous iodide. , Stannous sulfate, stannic sulfate, and the like. Examples of the solvent include water, methanol, ethanol, hexane and the like.

シリカゲルは特に限定させるものではないが、比表面積
100〜500m2/g、平均細孔径30〜500Å程度のものが好ま
しい。
Silica gel is not particularly limited, but specific surface area
It is preferably 100 to 500 m 2 / g and an average pore size of 30 to 500Å.

気相蒸着法の場合、蒸気圧をもつ適当なスズ化合物、例
えば、塩化第二スズを減圧下、或は大気圧下に窒素、ヘ
リウム等のキャリアーを用いてシリカゲル上に搬送し、
シリカゲル上のシラノール基と反応させることにより担
持することができる。これを水蒸気処理で加水分解し、
塩素を塩化水素として除去したのち、空気中500〜900℃
で2〜20時間焼成することにより本発明において用いる
触媒の前駆体を調製することができる。
In the case of the vapor deposition method, a suitable tin compound having a vapor pressure, for example, stannic chloride is transferred under reduced pressure or under atmospheric pressure onto silica gel using a carrier such as nitrogen or helium,
It can be supported by reacting with silanol groups on silica gel. This is hydrolyzed by steam treatment,
After removing chlorine as hydrogen chloride, 500-900 ℃ in air
The catalyst precursor used in the present invention can be prepared by calcining at 2 to 20 hours.

共沈法の場合は、適当な溶媒に溶解したスズ化合物溶液
にオルトケイ酸エチルを加え、充分に撹はんした後、過
剰のアンモニア水でオルトケイ酸エチルを加水分解し、
例えば湯浴上で溶液を蒸発除去して、沈澱物を乾固し、
空気中500〜900℃で2〜20時間焼成することにより本発
明に用いる触媒の前駆体を調製することができる。
In the case of the coprecipitation method, ethyl orthosilicate is added to a tin compound solution dissolved in an appropriate solvent, stirred thoroughly, and then hydrolyzed with excess ammonia water,
For example, evaporate off the solution on a water bath to dry the precipitate,
The catalyst precursor used in the present invention can be prepared by calcination in air at 500 to 900 ° C. for 2 to 20 hours.

上気共沈法に用いるスズ化合物の例としては、溶媒可溶
性のスズ化合物、例えば、塩化第一スズ、塩化第二ス
ズ、酢酸第一スズ、テトラエトキシスズ、臭化第一ス
ズ、ヨウ化第一スズ、硫酸第一スズ、硫酸第二スズ等を
挙げることができる。又、上記溶媒の例としては、水、
メタノール、エタノール、ヘキサン等を例示することが
できる。
Examples of the tin compound used in the air-precipitation method include solvent-soluble tin compounds such as stannous chloride, stannic chloride, stannous acetate, tetraethoxytin, stannous bromide, and stannous iodide. Examples thereof include stannous tin, stannous sulfate, and stannous sulfate. Further, as an example of the above solvent, water,
Examples thereof include methanol, ethanol, hexane and the like.

以上、数例を示したが、スズの酸化物とケイ素の酸化物
とからなる触媒(前駆体)は他の方法により調製するこ
ともできる。
Although several examples have been shown above, the catalyst (precursor) composed of tin oxide and silicon oxide can be prepared by other methods.

次いでスズの酸化物とケイ素の酸化物とからなる触媒
(前駆体)にリンの酸化物を担持する。
Then, the oxide of phosphorus is supported on the catalyst (precursor) composed of the oxide of tin and the oxide of silicon.

リンの酸化物の担持は、適当な溶媒に溶解したリンの化
合物溶液に、上記スズの酸化物とケイ素の酸化物とから
なる触媒を浸漬し、例えば、湯浴上で溶媒を蒸発除去し
たのち、さらに500〜900℃の温度で2〜20時間空気中で
焼成することにより実施することができる。
The phosphorus oxide is supported by immersing the catalyst composed of the tin oxide and the silicon oxide in a phosphorus compound solution dissolved in an appropriate solvent, and, for example, after removing the solvent by evaporation on a hot water bath. Furthermore, it can be carried out by firing in air at a temperature of 500 to 900 ° C. for 2 to 20 hours.

この際、リンとスズの原子比を前記有効な範囲内に設定
することは、希簿なリン化合物からの担持を繰り返し行
うことによってもできるし、濃いリン化合物溶液を用い
てリン成分を過剰に担持し焼成したのち、水或は希硝酸
水溶液中に浸漬することにより余分なリンの酸化物を除
去することによってもできる。
At this time, the atomic ratio of phosphorus and tin can be set within the above-mentioned effective range by repeating loading from a rare phosphorus compound, or by using a concentrated phosphorus compound solution to excessively add the phosphorus component. It is also possible to remove excess phosphorus oxide by immersing it in water or a dilute aqueous nitric acid solution after supporting and firing it.

上記リン化合物の例としては、溶媒可溶性で且つ焼成後
リンの酸化物以外の成分が残存しない化合物が利用で
き、例えばオルトリン酸、五酸化二リン、リン酸アンモ
ニウム、リン酸水素アンモニウム等をあげることができ
る。溶媒は、水、エタノール、エーテル等の前記リン化
合物を溶解するものであれば限定されない。
As an example of the phosphorus compound, a compound that is soluble in a solvent and does not leave any component other than an oxide of phosphorus after firing can be used, and examples thereof include orthophosphoric acid, diphosphorus pentoxide, ammonium phosphate, and ammonium hydrogenphosphate. You can The solvent is not limited as long as it dissolves the phosphorus compound such as water, ethanol and ether.

又、本発明に用いる触媒は、ケイ素の酸化物にスズの酸
化物とリンの酸化物を同時に担持することによっても調
製することができる。
The catalyst used in the present invention can also be prepared by simultaneously supporting tin oxide and phosphorus oxide on silicon oxide.

本発明に用いる触媒は、例えば、前記触媒を工業的に有
利な方法で使用するために、例えばシリカゾル、アルミ
ナゾル等の結合剤を用いて押し出し成形、打錠成形等の
成形手段を用いて自由に成形することができる。
The catalyst used in the present invention is, for example, extruded using a binder such as silica sol or alumina sol in order to use the catalyst in an industrially advantageous manner, and can be freely formed by using a molding means such as tablet molding. It can be molded.

本発明法の方法を実施する場合、酸素源としては酸素ま
たは空気を用いることができる。反応供給混合物中の酸
素/エチルトルエンのモル比は0.1〜1、好ましくは0.2
〜0.5である。酸素/エチルトルエンのモル比が0.1より
小さい場合、エチルトルエンの転化率が低くなり、1よ
り大きい場合、メチルスチレンの選択率が低下する傾向
がある。
When carrying out the method of the present invention, oxygen or air can be used as the oxygen source. The oxygen / ethyltoluene molar ratio in the reaction feed mixture is 0.1 to 1, preferably 0.2.
~ 0.5. When the oxygen / ethyltoluene molar ratio is less than 0.1, the conversion of ethyltoluene tends to be low, and when it is more than 1, the selectivity of methylstyrene tends to decrease.

また反応供給混合物には、触媒層の局部過熱の防止、あ
るいは反応物の爆発を防止するためにエチルトルエン及
び酸素に加えて窒素、水蒸気等の不活性気体を希釈剤と
して用いることができる。
In addition to the ethyltoluene and oxygen, an inert gas such as nitrogen or water vapor can be used as a diluent in the reaction feed mixture in order to prevent local overheating of the catalyst layer or to prevent explosion of the reaction product.

触媒と反応供給混合物との気相接触温度、すなわち反応
温度は、350〜500℃、好ましくは400〜450℃が適当であ
る。反応温度が350℃より低い場合には、エチルトルエ
ン転化率が低くなり、500℃より高い場合にはメチルス
チレン選択率が低下す傾向がある。
The gas phase contact temperature between the catalyst and the reaction feed mixture, that is, the reaction temperature, is suitably 350 to 500 ° C, preferably 400 to 450 ° C. When the reaction temperature is lower than 350 ° C, the ethyltoluene conversion tends to be low, and when it is higher than 500 ° C, the methylstyrene selectivity tends to be low.

また、1時間当たりの反応供給混合物に対する触媒量
は、1.0〜20.0g・モル-1・時、好ましくは5.0〜10.0g・
モル-1・時の範囲とするのが適当である。
The amount of the catalyst to the reaction feed mixture per hour is 1.0 to 20.0 g · mol −1 · hour, preferably 5.0 to 10.0 g ·
It is appropriate that the range is mol- 1 · hour.

本発明によるメチルスチレンの製造方法は、減圧、常
圧、加圧下いずれの条件下でも実施できるが、通常は常
圧下で実施するのが有利である。また反応形式としては
固定床、流動床のいずれも使用することができる。
The method for producing methylstyrene according to the present invention can be carried out under any of reduced pressure, normal pressure and increased pressure, but it is usually advantageous to carry out under normal pressure. As the reaction system, either a fixed bed or a fluidized bed can be used.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の方法によれば、エチルトルエンを比較的低い反
応温度において酸化脱水素し、メチルスチレンを高転化
率で高選択的に製造することができる。
According to the method of the present invention, ethyltoluene can be oxidatively dehydrogenated at a relatively low reaction temperature to highly selectively produce methylstyrene at a high conversion rate.

〔実施例〕〔Example〕

以下に本発明の実施例を示すが、本発明にこれに限定さ
れるものではない。
Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 塩化第一スズ2水塩(SnCl2・2H2O)18.8gをエタノール
200mlに溶解した。得られた溶液にシリカゲル(富士デ
ヴィソン製マイクロビーズシリカ5D、30〜60メッシュ、
比表面積213m2/g)50.0gを浸漬し、湯浴上で溶媒を除去
したのち乾燥器内で110℃一夜放置した。得られたスズ
化合物を担持したシリカゲルを4Nアンモニア水300mlで
4回洗浄し、さらに純水で洗液が中性になるまで洗浄し
た。その後110℃で一夜乾燥し、ついで空気中500℃で2
時間焼成し触媒Aとした。この触媒Aを螢光X線分析装
置で組成分析したところスズ:ケイ素の原子比は10.7:1
00であった。
Example 1 18.8 g of stannous chloride dihydrate (SnCl 2 · 2H 2 O) was added to ethanol.
It was dissolved in 200 ml. The resulting solution is silica gel (Fuji Davidson microbead silica 5D, 30-60 mesh,
After immersing 50.0 g of a specific surface area of 213 m 2 / g) and removing the solvent on a hot water bath, the mixture was left in a dryer at 110 ° C. overnight. The obtained silica gel supporting the tin compound was washed 4 times with 300 ml of 4N ammonia water, and further washed with pure water until the washing liquid became neutral. After that, it is dried overnight at 110 ℃ and then at 500 ℃ in air for 2
It was calcined for a time to obtain a catalyst A. Composition analysis of this catalyst A with a fluorescent X-ray analyzer showed that the atomic ratio of tin: silicon was 10.7: 1.
It was 00.

触媒A20gを12wt%のリン酸水溶液200mlに10時間浸漬
し、ろ紙上でろ過した後110で2時間乾燥後700℃で2時
間焼成し触媒Bとした。触媒Bを螢光X線分析装置で組
成分析したところスズ:ケイ素の原子比は10.7:100、リ
ン:スズの原子比は0.2:1であった。
20 g of catalyst A was immersed in 200 ml of a 12 wt% phosphoric acid aqueous solution for 10 hours, filtered on filter paper, dried at 110 for 2 hours, and then calcined at 700 ° C. for 2 hours to obtain catalyst B. When the composition of the catalyst B was analyzed by a fluorescent X-ray analyzer, the atomic ratio of tin: silicon was 10.7: 100 and the atomic ratio of phosphorus: tin was 0.2: 1.

次にこの触媒1.5gをガラス製反応管に充填し、この反応
管を温度制御器付きの砂流動槽中に設置し、エチルトル
エンの酸化脱水素反応を行なった。反応条件は、反応供
給混合物中のエチルトルエン/酸素/窒素/水のモル比
が1/0.5/2.6/3.1であり、反応供給混合物の供給速度は2
00mmol/時であった。反応温度は450℃であった。
Next, 1.5 g of this catalyst was filled in a glass reaction tube, and this reaction tube was placed in a sand fluidized tank equipped with a temperature controller to carry out an oxidative dehydrogenation reaction of ethyltoluene. The reaction conditions were such that the molar ratio of ethyltoluene / oxygen / nitrogen / water in the reaction feed mixture was 1 / 0.5 / 2.6 / 3.1, and the feed rate of the reaction feed mixture was 2
It was 00 mmol / hour. The reaction temperature was 450 ° C.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

比較例1 実施例1で得た触媒A(リン成分を含有しない触媒)を
用いて、実施例1と同様の条件でエチルトルエンの酸化
脱水素反応を行なった。結果を表1に示す。
Comparative Example 1 Using catalyst A (catalyst containing no phosphorus component) obtained in Example 1, oxidative dehydrogenation reaction of ethyltoluene was performed under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.

比較例2、3 実施例1と同様の方法でスズ:ケイ素の原子比を0:100
にした触媒(比較例2)及び100:0にした触媒(比較例
3)を調製し、これら触媒を用いて実施例1と同様の条
件で酸化脱水素反応を行った。結果は表1に示す。
Comparative Examples 2 and 3 In the same manner as in Example 1, the atomic ratio of tin: silicon was set to 0: 100.
(Comparative Example 2) and the catalyst set to 100: 0 (Comparative Example 3) were prepared, and the oxidative dehydrogenation reaction was carried out using these catalysts under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例2 85%リン酸水溶液1.01gを水50mlで希釈した溶液に触媒
A各々10gを浸漬し、乾燥器内で水分を蒸発させた後700
℃で2時間焼成して触媒Cを得た。触媒Cのリン:スズ
の原子比は0.4:1であった。触媒Cを用いて実施例1と
同様の条件で酸化脱水素反応を行った。結果は表1に示
す。
Example 2 10 g of each catalyst A was immersed in a solution prepared by diluting 1.01 g of an 85% phosphoric acid aqueous solution with 50 ml of water and evaporating the water content in a drier.
The catalyst C was obtained by calcination for 2 hours. The phosphorus: tin atomic ratio of catalyst C was 0.4: 1. The oxidative dehydrogenation reaction was carried out using the catalyst C under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例3 85%リン酸水溶液1.87gを用いた他は実施例2と同様に
して触媒Dを得た。触媒Dのリン:スズの原子比は1:1
であった。触媒Dを用いて実施例1と同様の条件で酸化
脱水素反応を行った。結果は表1に示す。
Example 3 A catalyst D was obtained in the same manner as in Example 2 except that 1.87 g of an 85% phosphoric acid aqueous solution was used. The phosphorus: tin atomic ratio of catalyst D is 1: 1.
Met. The oxidative dehydrogenation reaction was carried out using the catalyst D under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】リンの酸化物、スズの酸化物及びケイ素の
酸化物からなる触媒にエチルトルエンと酸素とを含む反
応供給混合物を気相接触させてエチルトルエンを酸化脱
水素することを特徴とするメチルスチレンの製造方法。
1. A reaction feed mixture containing ethyltoluene and oxygen is brought into gas phase contact with a catalyst comprising a phosphorus oxide, a tin oxide and a silicon oxide to oxidatively dehydrogenate ethyltoluene. A method for producing methylstyrene.
【請求項2】リンの酸化物、スズの酸化物及びケイ素の
酸化物からなる触媒がリン、スズ及びケイ素の複合酸化
物を含む特許請求の範囲第(1)項記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the catalyst composed of oxides of phosphorus, oxides of tin and oxides of silicon contains a complex oxide of phosphorus, tin and silicon.
【請求項3】リンの酸化物、スズの酸化物及びケイ素の
酸化物からなる触媒が、ケイ素の酸化物にスズの酸化物
及びリンの酸化物を担持したものである特許請求の範囲
第(1)項記載の方法。
3. A catalyst comprising a phosphorus oxide, a tin oxide and a silicon oxide in which a tin oxide and a phosphorus oxide are supported on a silicon oxide. The method described in 1).
【請求項4】リンの酸化物、スズの酸化物及びケイ素の
酸化物からなる触媒においてスズ:ケイ素の原子比が0.
5〜20:100である特許請求の範囲第(1)項記載の方
法。
4. A catalyst comprising a phosphorus oxide, a tin oxide and a silicon oxide having a tin: silicon atomic ratio of 0.1.
The method according to claim (1), which is 5 to 20: 100.
【請求項5】リンの酸化物、スズの酸化物及びケイ素の
酸化物からなる触媒において、リン:スズの原子比が0.
1〜2:1である特許請求の範囲第(1)項記載の方法。
5. A catalyst comprising a phosphorus oxide, a tin oxide and a silicon oxide, wherein the atomic ratio of phosphorus: tin is 0.1.
The method according to claim (1), wherein the method is 1 to 2: 1.
【請求項6】反応供給混合物中の酸素:エチルトルエン
のモル比が0.1〜1:1である特許請求の範囲第(1)項記
載の方法。
6. A process according to claim 1, wherein the molar ratio of oxygen: ethyltoluene in the reaction feed mixture is 0.1 to 1: 1.
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