JPH0764092A

JPH0764092A - 液晶表示装置及びその製造方法

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Publication number: JPH0764092A
Application number: JP5213226A
Authority: JP
Inventors: Noriko Watanabe; 典子渡辺; Tsuguyoshi Hirata; 貢祥平田; Shigemitsu Mizushima; 繁光水嶋
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1993-08-27
Filing date: 1993-08-27
Publication date: 1995-03-10
Anticipated expiration: 2014-10-18
Also published as: JP2965826B2

Abstract

(57)【要約】【目的】視角方向の異なる領域の境界においてディス
クリネーションラインの発生を防止できるようにする。【構成】一対の基板１、２の間に挟持された液晶層３
が、１絵素内において、液晶分子が基板に対して傾き、
かつ配向状態の異なる２つの液晶層領域Ａ、Ｂを有する
と共に、配向状態の異なる液晶層領域Ａ、Ｂの間に、つ
まりディスクリネーションライン発生の虞れがある部分
に、液晶分子が基板に対して垂直に配向した垂直配向領
域Ｃを有する構造となっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光漏れのない良好なコ
ントラストが得られ、広視野角特性を有する液晶表示装
置及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）は、対向する一
対の基板の間に液晶層が挟まれており、液晶分子の長軸
方向と短軸方向の光学的屈折率の差を利用して表示する
構成である。したがって、予め液晶分子を規則正しく配
列させることが重要である。このため、一般的に、液晶
層を挟む基板の表面に配向膜を設け、配向膜の表面をラ
ビングすることにより、液晶分子を一定方向に配列させ
ている。

【０００３】上記配向膜には、無機配向膜と有機配向膜
の２種類がある。無機配向膜には、酸化物、有機シラ
ン、金属および金属錯体などが用いられる。一方、有機
配向膜には数多くの高分子材料があるが、現在用いられ
ている代表的な配向膜材料としてポリイミド樹脂があ
る。例えば、このポリイミド樹脂を配向膜材料として用
いて基板上に形成されたポリイミド膜をラビング処理す
ることにより、液晶分子を配向させることができる。こ
のような配向は、ラビング処理は基板上均一な方向に行
われるので、液晶セル内で均一な視角方向・均一なプレ
チルト角が得られることによる。

【０００４】また、薄膜トランジスタをスイッチング素
子として有するツイストネマティック型の液晶表示装置
（ＴＦＴ−ＬＣＤ）においては、一対の基板間で液晶分
子が９０゜ねじれるように配向させられており、その視
角方向は液晶層の液晶分子の向きに従う。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記ツイス
トネマティック型の液晶表示装置では、見る角度によっ
てコントラストが変化するという現象が生じる。一般に
電圧の非印加時に白色表示となるノーマリホワイトモー
ドでは、電圧を印加して液晶セルの真上（基板面に垂直
な方向）から見ると、図５の実線ＬＩに示すように、印
加電圧値が高くなるにつれて光の透過率が低下してい
き、その値が飽和すると透過率がほぼ零となる。

【０００６】また、真上方向から正視角方向、即ち液晶
分子の端が観察側に傾いている方向側に視角を傾ける
と、図５の実線Ｌ２に示すように、印加電圧−透過率特
性が変化する。即ち、透過率は、印加電圧が高くなるに
つれてある程度低下し、その後、特定の電圧値を越える
と再び高くなり、その後再び徐々に低下する。このよう
に変化する状態において、低下していった透過率が再び
高くなる付近で階調の逆転が生じ、画像の白黒が反転す
る現象が起こる。これは、液晶分子が傾いており、視角
によって屈折率が変化するために生じる。

【０００７】以下に、上述した反転現象が生じる理由
を、図６および図７を参照して説明する。図７は、液晶
セルの断面図である。この液晶セルは、対向する基板３
１、３２の間に、液晶分子３５を有する液晶層が設けら
れている。基板３１は、ガラス基板３１ａ、透明電極３
１ｂ及び配向膜３１ｃからなり、基板３２は、ガラス基
板３２ａ、透明電極３２ｂ及び配向膜３２ｃからなる。
液晶分子３５は、基板３１及び３２の間で９０度にねじ
れている。なお、図７中の記号δはプレチルト角を示
し、番号３６は正視角方向を示している。

【０００８】このような液晶セルにおいて、図６（ａ）
に示すように、透明電極３１ｂ、３２ｂ間に印加する電
圧を零または比較的低電圧とした時、正視角方向に位置
する観測者３７には、中央分子３５は楕円に見える。徐
々に印加電圧を高くしていくと、図６（ｂ）に示すよう
に、中央分子３５が電界方向に移動していき、ある時点
で中央分子３５が真円に見える。更に、印加電圧を高く
していくと、図６（ｃ）に示すように、中央分子３５は
電界方向に平行に近づいていき、再び観測者３７には中
央分子３５が楕円に見える。

【０００９】正視角方向３６以外の視角方向において
も、同様に透過率−印加電圧特性は変化していくが、反
転現象は生じない。また、視角を深くしていくとコント
ラスト比が低くなる。

【００１０】このような、ＴＮモード特有の視角特性を
改善した液晶表示装置を得る技術については、ＪＡＰＡ
ＮＤＩＳＰＬＡＹ’９２のｐ５９１〜ｐ５９４及びｐ
８８６に記載されている。そのうちの一つは、配向膜表
面を一方向にラビングした後、その一部をレジストで被
覆して、先に行ったラビング方向と逆方向にラビング
し、その後レジストを除去して、レジストで被覆されて
いた領域とレジストで被覆されていなかった領域とでラ
ビング方向を異ならせ、それにより同一セル内で視角方
向を異ならせる方法（以下、２回ラビング法と呼ぶ。）
である。他の一つは、材質の異なるポリイミド配向膜を
並設してラビングすることにより、各材質に応じた複数
のプレチルト角を配向膜表面に形成する方法（以下、配
向膜パターニング法と呼ぶ。）である。これらの方法に
よれば、同一セル内に正視角方向及び逆視角方向（正視
角方向とは逆の方向）の２方向の領域が形成されるの
で、観察者にはこの２方向の視角特性が混ざりあって見
え、正視角方向の反転現象や逆視角方向のコントラスト
の急激な低下が緩和され、改善される。

【００１１】ところで、視角方向の異なる２つの領域は
絵素単位に設けられてもよいが、より緻密な表示を得る
ためには一絵素を複数に分割することが好ましい。その
場合、視角方向の異なる２領域の境界に、ディスクリネ
ーションラインが発生する。このディスクリネーション
ラインは、液晶の不連続面における光の散乱による起こ
る。特に、電圧印加時に黒色表示を行うノーマリーホワ
イトモードにおいては、このディスクリネーションライ
ンによりコントラストが低下することとなる。本発明
は、このような従来技術の課題を解決すべくなされたも
のであり、視角方向の異なる領域の境界においてディス
クリネーションラインの発生を防止することができる液
晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とす
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、一対の基板の間に挟持された液晶層が、１絵素内に
おいて、液晶分子が基板に対して傾き、かつ配向状態の
異なる２以上の領域を有すると共に、配向状態の異なる
領域の間に液晶分子が基板に対して垂直に配向した垂直
配向領域を有するので、そのことにより上記目的が達成
される。

【００１３】この液晶表示装置において、一対の基板が
前記液晶層との接する部分に配向膜を有し、該配向膜が
有機高分子からなる構成とすることができる。また、配
向膜は、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ
アミドイミド、エポキシアクリレート、スピラナクリレ
ートまたはポリウレタンを主成分とする有機高分子から
なる構成とすることができる。

【００１４】また、液晶層が両基板間で９０度ねじれて
いるツイストネマティック構造であり、電圧無印加時に
白色表示となるノーマリーホワイトモードである構成と
することができる。

【００１５】本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対
の基板の間に挟持された液晶層が、１絵素内において、
液晶分子が基板に対して傾き、かつ配向状態の異なる２
以上の領域を有すると共に、配向状態の異なる領域の間
に液晶分子が基板に対して垂直に配向した垂直配向領域
を有する液晶表示装置の製造方法であって、該一対の基
板の該液晶層と接する部分に設けた配向膜の少なくとも
一方における該垂直配向領域に対応する部分に、選択的
に光を照射して該垂直配向領域を形成する工程を含むよ
うにしてもよい。

【００１６】この製造方法において、前記光に、紫外
光、可視光、赤外光、またはこれらと同波長域のレーザ
光を使用することができる。

【００１７】本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対
の基板の間に挟持された液晶層が、１絵素内において、
液晶分子が基板に対して傾き、かつ配向状態の異なる２
以上の領域を有すると共に、配向状態の異なる領域の間
に液晶分子が基板に対して垂直に配向した垂直配向領域
を有する液晶表示装置の製造方法であって、該一対の基
板の該液晶層と接する部分に設けた配向膜の少なくとも
一方における該垂直配向領域に対応する部分に、選択的
に表面処理を施し、該垂直配向領域を形成する工程を含
むようにしてもよい。

【００１８】本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対
の基板の間に挟持された液晶層が、１絵素内において、
液晶分子が基板に対して傾き、かつ配向状態の異なる２
以上の領域を有すると共に、配向状態の異なる領域の間
に液晶分子が基板に対して垂直に配向した垂直配向領域
を有する液晶表示装置の製造方法であって、該一対の基
板の該液晶層と接する部分に設けた配向膜の少なくとも
一方における該垂直配向領域に対応する部分に、選択的
に異なる配向膜を形成し、該垂直配向領域を形成する工
程を含むようにしてもよい。

【００１９】

【作用】本発明にあっては、一対の基板の各々に設けた
配向膜の少なくとも一方に対し、選択的に光を照射する
と、その光照射が行われた配向膜部分と接する液晶層部
分が垂直配向領域を有する状態となる。よって、１絵素
内において、液晶分子が基板に対して傾き、かつ配向状
態の異なる液晶層領域の間に、垂直配向領域が存在する
液晶層構造となる。

【００２０】このような構造の本発明の液晶表示装置に
おいては、視角方向の異なる領域の境界でディスクリネ
ーションラインの発生が無くなる。

【００２１】なお、上述した光照射によって配向膜に異
なる配向特性が付与される原理及びディスクリネーショ
ンライン（＝光漏れ）が無くなる原理は以下の通りであ
る。光照射によって配向膜に高いエネルギーを与える
と、配向膜を形成する高分子の構造に変化が生じる。す
なわち、結合エネルギーの低い部分の結合が切断された
り、別の結合ができたりする。そこで、高いエネルギー
を十分与えると、これらの反応が次々と起こって、次第
に配向膜表面が侵食され、粗面化する。この粗面化が配
向膜表面において十分進行すると、粗面化した配向膜部
分に接する液晶分子は基板に対して垂直に配向するよう
になる。つまり、垂直配向領域が形成される。

【００２２】このような状態においては、図８に示すよ
うに、電圧印加時に立ち上がった液晶分子と、垂直配向
領域の垂直配向した液晶分子との間では、液晶分子の向
きがほぼ連続的に変化するので不連続面が生じず、光漏
れが起こらない。

【００２３】また、上記垂直配向領域は、配向膜に対す
る選択的な表面処理、または選択的な配向膜の形成によ
っても作製することができる。前者は、光照射と同様に
配向膜表面を粗面化することにより、また、後者は必要
な領域にのみ垂直配向膜を形成することにより、垂直配
向領域が形成される。

【００２４】本発明は、一絵素内に２つ以上の配向状態
を持つ、あらゆる液晶表示装置において有効である。

【００２５】

【実施例】以下に、本発明の実施例を具体的に説明す
る。

【００２６】（実施例１）図１は本実施に係る液晶表示
装置を示す断面図である。この図における液晶分子は電
圧印加の場合を示している。この液晶表示装置は、対向
する一対の基板１、２の間に液晶層３が設けられてい
る。液晶層３は、両基板間で９０度ねじれているツイス
トネマティック構造であり、電圧無印加時に白色表示と
なるノーマリーホワイトモードである。

【００２７】上記一対の基板１、２のうち一方（上側）
の基板２は、ベース用基板７の上に対向電極８と配向膜
９とが、この順に、かつ、ほぼ全面に形成されている。

【００２８】他方（下側）の基板１は、ベース用基板４
の上に絵素電極５がマトリクス状に形成され、これら絵
素電極５を覆って、ベース用基板４のほぼ全面上に配向
膜６が形成されている。この図示例では、各絵素電極５
の部分で１絵素が構成されている。なお、絵素電極５よ
りも開口部が小さいブラックマスクを設けた場合には、
その開口部の大きさが絵素の大きさとなる。

【００２９】上記配向膜６は、１絵素内において、Ｘ方
向に沿って３つの配向状態の異なる領域６ａ、６ｂ、６
ｃを有する構造となっている。また、液晶層３において
は、領域６ａと接する液晶層領域Ａと、領域６ｂと接す
る液晶層領域Ｂと、領域６ｃと接する液晶層領域Ｃとで
は、各々液晶分子の傾き方向が異なっている。これを詳
述すると、液晶層領域Ａにおいては液晶分子の上端が左
上に位置するように傾いており、液晶層領域Ｂにおいて
は、液晶層領域Ａの場合とは逆に液晶分子の上端が右上
に位置するように傾いている。これら液晶層領域Ａと液
晶層領域Ｂとで挟まれている液晶層領域Ｃにおいては、
液晶分子の両端が両基板１、２に垂直に向いている。即
ち、垂直配向領域となっている。

【００３０】図２は、かかる液晶表示装置の製造方法に
おける光照射工程を模式的に示している。まず、公知の
作製方法により、上記下側の基板１上に絵素電極５を形
成し、この絵素電極５を覆って基板１の全面に配向膜６
を形成する。本実施例では、配向膜６として有機高分子
膜の１つであるポリイミド膜を使用した。配向膜６を形
成した後、任意の方法で絵素を複数の領域６ａ、６ｂ、
６ｃに分割して、領域６ａと６ｂとに配向処理を行い、
領域６ａ、６ｂの配向状態を異ならせる。この配向状態
の変化により、各々の領域で視角方向が異なるものとな
る。このとき、領域６ｃについては、領域６ａ、６ｂの
どちらか一方の配向状態と同一に配向処理を行ってもよ
い。なお、絵素を分割して異なる配向特性をもたせる工
程は、前述の２回ラビング法、配向膜パターニング法を
はじめとして、どのような方法によって構成されていて
もよい。

【００３１】次に、この状態の基板１の上に、遮光部１
１ａの一部に透光部１１ｂが設けられたマスク１１をセ
ットする。このセットのとき、透光部１１ｂが配向状態
の異なる２領域の間の領域の上に位置する状態にする。

【００３２】次に、マスク１１の上から配向膜６に、光
１５を照射する。用いる光としては、紫外光、可視光、
赤外光のいずれを用いてもよいが、配向状態を変化させ
るための高エネルギーを容易に得られる光源として、波
長が４００ｎｍ以下の紫外光が好ましい。このような波
長の光は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、水銀キセノン灯な
どで得られる。紫外光を照射する場合、３０Ｊ／ｃｍ²
以上の条件で照射を行うのがよい。紫外光の他に、可視
光、赤外光またはこれらと同波長域のレーザ光を用いて
もよい。また、電子ビーム、イオンビーム、またはＸ線
などを用いることも可能である。

【００３３】この光照射の結果、配向膜６における領域
６ｃは、光照射により領域６ａ、６ｂとは異なる配向状
態となる。

【００３４】かかる配向膜６を有する基板１に対し、予
め作製しておいたもう一方の基板２を対向配設して、間
に液晶を注入して液晶層３を形成すると、その液晶層３
は、配向膜６の領域６ａと接する液晶層領域Ａにおいて
は液晶分子の上端が左上に位置するように傾いた配向状
態となる。また、領域６ｂと接する液晶層領域Ｂにおい
ては、液晶層領域Ａの場合とは逆に液晶分子の上端が右
上に位置するように傾いた配向状態となる。また、領域
６ａ、６ｂで挟まれた領域６ｃと接する液晶層領域Ｃに
おいては、液晶分子の両端が両基板１、２に垂直に向い
た垂直配向状態となる。つまり、垂直配向領域となる。

【００３５】したがって、上述した液晶表示装置におい
ては、垂直配向領域である液晶層領域Ｃの存在により、
視角方向の異なる領域の境界においてディスクリネーシ
ョンラインの発生が防止される。

【００３６】なお、光照射工程は、配向膜形成後の任意
の時点で実施できる。具体的には、配向膜６を塗布した
後、仮焼成の後、本焼成の後、ラビング処理の後、また
はラビング処理の後の基板洗浄後のいつでもよい。ま
た、絵素を分割して異なる配向特性をもたせる工程の前
後どちらでもよい。

【００３７】上述したマスク１１としては、例えば、通
常使用されるフォトマスクと同様のマスクを使用するこ
とができる。また、直接フォトリソグラフィ技術をもち
いて配向膜６上にマスクパターンを形成し、光を照射し
た後、マスクを剥離してもよい。また、光を境界領域の
幅以下の大きさに集光することによっても所望領域のみ
に光照射することができる。その手段としてレンズを用
いてもよいし、レーザ光を用いることもできる。

【００３８】（実施例２）本実施例２は、配向膜に表面
処理を施すことによって、前述した光照射と同様に、液
晶層領域ＡとＢとの境界に垂直に配向した液晶層領域Ｃ
を形成する場合である。基板構造等は実施例１の場合と
同様である。

【００３９】この場合の製造は、以下のように行われ
る。まず、実施例１と同様にして公知の作製方法によ
り、上記下側の基板１上に絵素電極５を形成し、この絵
素電極５を覆って基板１の全面に配向膜６を形成する。

【００４０】続いて、任意の方法で絵素を複数の領域６
ａ、６ｂ、６ｃに分割して、領域６ａと６ｂとに配向処
理を行い、領域６ａ、６ｂの配向状態を異ならせる。

【００４１】次に、例えばフォトリソグラフィ技術を用
いて、図３に示すように、配向膜６の上にレジスト１７
によりパターンを形成する。このとき、垂直配向領域以
外の領域はレジスト１７によって被覆しておく。

【００４２】この後、配向膜６の表面をアルカリ溶液に
接触させ、配向膜６の接触面のみを表面処理して粗面化
させる。アルカリ溶液としては、０．５％ＮａＯＨ水溶
液、または２．３８％ＴＭＡＨ水溶液等が使用できる。
表面処理に酸溶液を使用することもできる。例として
は、硝酸があげられる。また、反応性ガスであるオゾン
またはアンモニアガスを用いてもよい。

【００４３】上記表面処理の結果、配向膜６の領域６ｃ
が領域６ａ、６ｂとは異なる垂直配向領域となる。これ
により、液晶層３は、配向膜６の領域６ａと接する液晶
層領域、および領域６ｂと接する液晶層領域において
は、液晶分子が基板に対して傾いた配向状態となり、領
域６ｃと接する液晶層領域においては、液晶分子が基板
に垂直に向いた垂直配向状態となる。つまり、垂直配向
領域となる。

【００４４】したがって、この実施例の液晶表示装置に
おいても、垂直配向領域の存在により、視角方向の異な
る領域の境界においてディスクリネーションラインの発
生が防止される。

【００４５】（実施例３）本実施例３は、境界領域に他
の配向膜を形成することによって、前述した光照射と同
様に、液晶層領域ＡとＢとの境界に垂直に配向した液晶
層領域Ｃを形成する場合である。基板構造等は実施例１
の場合と同様である。

【００４６】この場合の製造は、以下のように行われ
る。まず、実施例１と同様にして公知の作製方法によ
り、上記下側の基板１上に絵素電極５を形成し、この絵
素電極５を覆って基板１の全面に配向膜６を形成する。

【００４７】続いて、任意の方法で絵素を複数の領域６
ａ、６ｂ、６ｃに分割して、領域６ａと６ｂとに配向処
理を行い、領域６ａ、６ｂの配向状態を異ならせる。

【００４８】次に、例えばフォトリソグラフィ技術を用
いて、図４（ａ）に示すように、配向膜６の上にレジス
ト１７によるパターンを形成する。このとき、垂直配向
領域以外の領域はレジスト１７でよって被覆しておく。

【００４９】この後、図４（ｂ）に示すように、垂直配
向領域の配向膜６を除去し、続いて図４（ｃ）に示すよ
うに、配向膜６の除去された箇所に垂直配向性の配向膜
１８を塗布する。

【００５０】次に、図４（ｄ）に示すように、レジスト
１７を除去する。

【００５１】上記処理の結果、配向膜６の領域６ｃが領
域６ａ、６ｂとは異なる垂直配向領域となる。これによ
り、液晶層３は、配向膜６の領域６ａと接する液晶層領
域、および領域６ｂと接する液晶層領域においては、液
晶分子が基板に対して傾いた配向状態となり、領域６ｃ
と接する液晶層領域においては、液晶分子が基板に垂直
に向いた垂直配向状態となる。つまり、垂直配向領域と
なる。

【００５２】したがって、この実施例の液晶表示装置に
おいても、垂直配向領域の存在により、視角方向の異な
る領域の境界においてディスクリネーションラインの発
生が防止される。

【００５３】上述した各実施例１〜３において、垂直配
向領域の液晶分子は電界の有無にかかわらず垂直配向し
ているので、電圧無印加状態においても境界領域は黒表
示され、その分だけ開口率の低下が起こるが、光照射す
る境界領域を最低限の幅の線状にすれば、開口率低下は
５％程度に抑えられ、ほぼ問題のないレベルとなる。上
記実施例１では配向膜６としてポリイミド膜を用いた
が、他の材料、例えばポリアミド、ポリスチレン、ポリ
アミドイミド、エポキシアクリレート、スピラナクリレ
ートまたはポリウレタンを主成分とする有機高分子を使
用してもよい。また、窒化ケイ素、酸化ケイ素、フッ化
マグネシウムまたは金等を主成分とした無機材料を用い
てもよいが、この場合には、紫外線レーザ、電子線ビー
ム等の高エネルギーの光の照射が必要である。

【００５４】上述した各実施例１〜３において、液晶層
に垂直配向領域を形成するために光照射、表面処理また
は異なる材質による膜形成を、一対の基板の一方に対し
て行っているが、本発明はこれに限らず、一対の基板の
両方に行ってもよい。また、異なる配向特性をもつ液晶
層領域Ａ、Ｂを形成するために、配向膜９側に異なる配
向特性を持たせても良い。また、液晶層領域Ａ、Ｂを形
成するために、どちから片方の配向膜を処理し、垂直配
向領域Ｃを形成するために、もう一方の側の配向膜に処
理あう施してもよい。

【００５５】上述した実施例では、液晶層が両基板間で
９０度ねじれているツイストネマティック構造であり、
電圧無印加時に白色表示となるノーマリーホワイトモー
ドである液晶表示装置に適用しているが、本発明はこれ
に限らず、他の構造、モードの液晶層を有する液晶表示
装置にも同様にして適用することが可能である。

【００５６】また、本発明は、上述したように液晶分子
が基板に対して傾いた配向状態となっている領域が１絵
素に２つ存在する液晶表示装置に限らず、液晶分子が基
板に対して傾いた配向状態となっている領域が１絵素に
３以上存在する液晶表示装置にも適用することができ
る。その場合にも、配向状態が異なる領域の境界（間）
に垂直配向領域が存在した構成とすることはもちろんで
ある。

【００５７】

【発明の効果】本発明による場合には、ディスクリネー
ションラインによる光漏れがなくなるので、表示のコン
トラストが向上し、高品質の広視野角を持つ液晶表示装
置を得ることができる。特に、光照射方法を用いれば、
マスクを通して光を当てるだけで境界領域の配向を変え
ることができるので、広視野角を持つ液晶表示装置の表
示品位を容易かつ安価に向上できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶表示装置を示す断面図であ
る。

【図２】図１に示す液晶表示装置の製造方法における光
照射工程を模式的に示す断面図である。

【図３】図１に示す液晶表示装置の製造の使用する他の
実施例の模式的な断面図である。

【図４】図１に示す液晶表示装置の製造の使用する更に
他の実施例の模式的な断面図である。

【図５】従来の液晶表示装置における印加電圧−透過率
特性を示すグラフである。

【図６】従来の液晶表示装置における反転現象を説明す
るための図である。

【図７】従来の液晶表示装置における視角特性を説明す
るための断面図である。

【図８】本発明の液晶表示装置における境界部分の模式
的な断面図である。

【符号の説明】

１、２基板３液晶層４、７ベース用基板５絵素電極６配向膜６ａ、６ｂ、６ｃ領域８対向電極９配向膜１１マスク１１ａ遮光部１１ｂ透光部１５光１７レジスト１８垂直配向膜Ａ液晶層領域Ｂ液晶層領域Ｃ液晶層領域（垂直配向領域）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板の間に挟持された液晶層が、
１絵素内において、液晶分子が基板に対して傾き、かつ
配向状態の異なる２以上の領域を有すると共に、配向状
態の異なる領域の間に液晶分子が基板に対して垂直に配
向した垂直配向領域を有する液晶表示装置。
【請求項２】前記一対の基板が前記液晶層との接する
部分に配向膜を有し、該配向膜が有機高分子からなる請
求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】前記配向膜が、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリスチレン、ポリアミドイミド、エポキシアクリ
レート、スピラナクリレートまたはポリウレタンを主成
分とする有機高分子からなる請求項２に記載の液晶表示
装置。
【請求項４】前記液晶層が両基板間で９０度ねじれて
いるツイストネマティック構造であり、電圧無印加時に
白色表示となるノーマリーホワイトモードである請求項
１乃至３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】一対の基板の間に挟持された液晶層が、
１絵素内において、液晶分子が基板に対して傾き、かつ
配向状態の異なる２以上の領域を有すると共に、配向状
態の異なる領域の間に液晶分子が基板に対して垂直に配
向した垂直配向領域を有する液晶表示装置の製造方法で
あって、該一対の基板の該液晶層と接する部分に設けた配向膜の
少なくとも一方における該垂直配向領域に対応する部分
に、選択的に光を照射して該垂直配向領域を形成する工
程を含む液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】前記光に、紫外光、可視光、赤外光、ま
たはこれらと同波長域のレーザ光を使用する請求項５に
記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】一対の基板の間に挟持された液晶層が、
１絵素内において、液晶分子が基板に対して傾き、かつ
配向状態の異なる２以上の領域を有すると共に、配向状
態の異なる領域の間に液晶分子が基板に対して垂直に配
向した垂直配向領域を有する液晶表示装置の製造方法で
あって、該一対の基板の該液晶層と接する部分に設けた配向膜の
少なくとも一方における該垂直配向領域に対応する部分
に、選択的に表面処理を施し、該垂直配向領域を形成す
る工程を含む液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】一対の基板の間に挟持された液晶層が、
１絵素内において、液晶分子が基板に対して傾き、かつ
配向状態の異なる２以上の領域を有すると共に、配向状
態の異なる領域の間に液晶分子が基板に対して垂直に配
向した垂直配向領域を有する液晶表示装置の製造方法で
あって、該一対の基板の該液晶層と接する部分に設けた配向膜の
少なくとも一方における該垂直配向領域に対応する部分
に、選択的に異なる配向膜を形成し、該垂直配向領域を
形成する工程を含む液晶表示装置の製造方法。