JPH0761976A - 2−フェニルベンゾトリアゾール−n−オキシド類及び2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造方法 - Google Patents

2−フェニルベンゾトリアゾール−n−オキシド類及び2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造方法

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JPH0761976A
JPH0761976A JP5211162A JP21116293A JPH0761976A JP H0761976 A JPH0761976 A JP H0761976A JP 5211162 A JP5211162 A JP 5211162A JP 21116293 A JP21116293 A JP 21116293A JP H0761976 A JPH0761976 A JP H0761976A
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general formula
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Masayoshi Marutani
昌義 丸谷
Hideji Suenaga
秀治 末永
Aiichiro Kiyama
愛一郎 木山
Norie Hoshi
乗恵 星
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Welfide Corp
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキ
シ−3’−t−ブチル−5’−メチルアゾベンゼン、2
−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキシ−3’,5’
−ジ−t−ブチルアゾベンゼンなどのo−ニトロアゾベ
ンゼン類を塩基とp−アミノフェノールなどの触媒の存
在下、アルコールで還元する2−フェニルベンゾトリア
ゾール−N−オキシド類の製法、および前記o−ニトロ
アゾベンゼン類または2−フェニルベンゾトリアゾール
−N−オキシド類をメタ硼酸ナトリウムなどの助触媒を
さらに用いて還元することを特徴とする2−フェニルベ
ンゾトリアゾール類の製法。 【効果】 本発明方法により2−フェニルベンゾトリ
アゾール類の高純度品が高得量で得られることから、本
発明方法は、工業化に際し、技術的にも経済的にも極め
て有利な方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は紫外線吸収剤として有用
な2−フェニルベンゾトリアゾール類(一般式(III) の
化合物),およびその製造中間体の2−フェニルベンゾ
トリアゾール−N−オキシド類(一般式(II)の化合物)
の製造法に関する。
【化6】
【0002】
【従来の技術】一般式(III)により示される2−フェニ
ルベンゾトリアゾール類の一般的な製造法としては、一
般式
【0003】
【化7】
【0004】(式中、各記号は前記の意味を表す。)に
より表されるo−ニトロアゾベンゼン類を還元して一般
式(II)により表されるN−オキシドを取得,更にこれを
還元して得る「2段階還元法」と一般式(I)の化合物
から一般式(II)の化合物を経由するが、中間体として取
得することなく一般式(III) の化合物を得る「1段階還
元法」が知られている。ここで、「2段階法」は「1段
階法」に比べ工程数が多くなるが、一般式(III) の目的
化合物によっては品質及び得量の点で有利となる場合が
ある。いずれにしても従来の化学的還元または電解的還
元にはそれぞれ一長一短があって、充分満足し得る方法
ではない。
【0005】例えば、ヒドラジンによる還元が特開昭5
0−88072号公報に、水素添加による方法が特開昭
51−138679号公報および同52−113974
号公報に開示されている。これらの方法を追試した結
果、ヒドラジンを用いる方法は、不純物の副生量が多く
精製しても着色物を除去できず、精製後の収率も50〜
60%と低い。水素添加による方法は、収率は66〜7
5%と低く、オ−トクレ−ブなど高圧容器を必要とする
など、いずれも満足な結果は得られなかった。
【0006】また、特開昭53−63379号公報に記
載の方法では、芳香族キノン化合物および芳香族ヒドロ
キシ化合物などの触媒の存在下、還元剤として亜鉛末、
硫化ソーダ、水硫化ソーダ、多硫化ソーダなどの硫化ア
ルカリや、ヒドラジン、亜ニチオン酸ソーダ、ホルムア
ルデヒドのようなアルデヒド類,水素など使用してい
る。これらの還元剤は、亜鉛末は亜鉛スラッジを硫化ア
ルカリ類は硫化水素,亜硫酸ガス,また亜硫酸塩など多
量に発生し、大気汚染,排水汚染の問題を生じる。
【0007】更に、特開昭59−172481号公報、
特開昭63−72682号公報などにはキノン類や芳香
族ケトン類を触媒として用いる方法が開示されている。
しかし、これらの触媒は高価であったり、皮膚,目,粘
膜を刺激し神経障害を起すなど取扱い上問題があった
り、また反応途中に急激な発熱を起すため特殊な撹拌装
置や冷却装置を必要としたり、また原料の粉体を分割投
入するなど繁雑で工業化には欠点を有する。
【0008】また、これら開示の方法では前記問題点の
他に還元反応の系内に水が混在する場合、反応時間が著
しく長くなる問題点がある。特に、一般式(II)のN−オ
キシド類から一般式(III) のトリアゾール類への反応で
顕著である。このため以下の操作が必要になり、繁雑で
工業化には適さない。すなわち、一般式(I) のo−ニト
ロアゾベンゼン類は通常固液分離品は含水物として得ら
れるため、乾燥するか、または一般式(II)のN−オキシ
ドへの還元終了後、共沸脱水などで反応系内から水を除
くかまたは固液分離して乾燥するなどの操作が必要とな
る。
【0009】
【発明が解決すべき課題】本発明の目的は従来技術の問
題点を解消し、紫外線吸収剤として有用な一般式(III)
の化合物、およびその製造中間体である一般式(II)の化
合物の製造方法を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者等は従来技術の
問題点を解消すべく、種々検討した結果、高純度品が高
得量で得られ、しかも工業化に際し、技術的にも経済的
にも極めて有利な方法を見い出し、本発明を完成した。
【0011】すなわち、本発明は(1)一般式
【0012】
【化8】
【0013】(式中、R1 は水素原子、塩素原子、炭素
数1〜4の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコ
キシル基、カルボキシル基またはスルホン酸基を、R2
は水素原子、塩素原子を、R3 は水素原子、塩素原子、
炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アル
コキシル基、フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で
置換されたフェニル基、フェノキシ基またはアルキル部
分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を、R4 は水
素原子、炭素数1〜12のアルキル基または、アルキル
部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を示す。)
により表されるo−ニトロアゾベンゼン類を塩基と
(a)アミノフェノール類およびジアミノフェノール類
またはその無機酸塩よりなる群より選ばれる少なくとも
1種の化合物よりなる触媒の存在下に炭素数1〜5の低
級アルコールで還元することを特徴とする一般式
【0014】
【化9】
【0015】(式中、各記号は前記の意味を示す。)に
より表される2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オ
キシド類の製造方法、および(2)一般式
【0016】
【化10】
【0017】(式中、各記号は前記の意味を表す。)に
より表されるo−ニトロアゾベンゼン類または一般式
【0018】
【化11】
【0019】(式中、各記号は前記の意味を表す。)に
より表される2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オ
キシド類を塩基と(a)アミノフェノール類およびジア
ミノフェノール類またはその無機酸塩よりなる群より選
ばれる少なくとも1種の化合物よりなる触媒と(b)助
触媒として硼酸アルカリ、亜硫酸アルカリ、重亜硫酸ア
ルカリ、炭酸アルカリ、臭化アルカリの群より選ばれる
少なくとも1種の化合物の存在下に炭素数1〜5の低級
アルコールで還元することを特徴とする一般式
【0020】
【化12】
【0021】(式中、各記号は前記の意味を表す。)に
より表される2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
方法に関する。
【0022】上記定義において、炭素数1〜4の低級ア
ルキル基とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、第2ブチル、第3ブチルを意味し、炭素数
1〜4の低級アルコキシ基とは、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第2ブトキ
シ、第三ブトキシを意味し、炭素数1〜12のアルキル
基とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、第2ブチル、第3ブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2
−エチルヘキシル、デシル、ドデシルなどを意味し、炭
素数1〜8のアルキル基で置換されたフェニル基とは、
メチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、
イソプロピルフェニル、ブチルフェニル、第2ブチルフ
ェニル、第3ブチルフェニル、ペンチルフェニル、イソ
ペンチルフェニル、ネオペンチルフェニル、ヘキシルフ
ェニル、ヘプチルフェニル、オクチルフェニル、2−エ
チルヘキシルフェニル、ジメチルフェニル、ジエチルフ
ェニル、トリメチルフェニルなどを意味し、アルキル基
の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基とは、ベンジ
ル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、3−フ
ェニルプロピル、4−フェニルブチルなどを意味する。
【0023】本発明においては塩基と(a)アミノフェ
ノール類およびジアミノフェノール類またはその無機酸
塩よりなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物より
なる触媒と(b)硼酸アルカリ、亜硫酸アルカリ、重亜
硫酸アルカリ、炭酸アルカリ、臭化アルカリよりなる群
から選ばれる少なくとも一種の化合物よりなる助触媒
(促進剤)の存在下、炭素数1〜5の低級アルコールで
還元することにより、排水,大気汚染の問題,反応熱の
問題,触媒,助触媒の安全性,経済性の問題など解消で
きたのである。
【0024】本発明方法を詳細に説明すると、工程1す
なわち、o−ニトロアゾベンゼン類(I)の2−フェニ
ルベンゾトリアゾール−N−オキシド類(II)への還
元は急激な発熱を伴うことなく穏やかに反応が進み、塩
基性下のo−ニトロアゾベンゼン類(I)の副反応(分
解)もほとんど認められない。工程2の2−フェニルベ
ンゾトリアゾール−N−オキシド類(II)の2−フェ
ニルベンゾトリアゾール類(III)への還元はゆっく
り進行し、着色主成分のアミノアゾベンゼン類の副生も
少ないが、本発明の触媒だけでは反応時間が長い。この
ため助触媒(促進剤)を加えるが、助触媒の効果として
は、触媒のイオン化,活性化が考えられ適度な反応時間
で終了させることができる。
【0025】また、反応系内の水分は、使用アルコール
量の比で20重量%以下であれば、反応には何ら影響は
なく、o−ニトロアゾベンゼン類(I)は通常の固液分
離品の含水量であれば、乾燥または共沸脱水などの反応
系内から水を除去する繁雑な操作は必要としない。した
がって、技術的にも経済的にも工業化に適した方法であ
る。
【0026】本発明の反応温度と時間は工程1の一般式
Iの化合物から一般式(II)の化合物での還元反応は40
〜90℃,1〜4時間が好ましく、工程2の一般式(II)
の化合物から一般式(III) の化合物への還元反応は60
〜120℃,4〜13時間が好ましい。
【0027】本発明の(a)触媒であるアミノフェノー
ル類およびジアミノフェノール類としては、p−アミノ
フェノール,N−メチル−p−アミノフェノール,p−
ヒドロキシフェニルグリシン,2,4−ジアミノフェノ
ール,o−アミノフェノール,N−(2−ヒドロキシエ
チル)−o−アミノフェノールとこれらの無機酸塩(塩
酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩等)等が例示される。こ
れらは2種以上混合してもよい。これら触媒の使用量は
工程1では、一般式(I) の化合物1モル分子に対し0.
05〜0.23モル分子が好ましく、工程2では、一般
式(II)の化合物の1モル分子に対し0.09〜0.28
モル分子が好ましい。
【0028】触媒のほかに(b)助触媒(促進剤)を用
いるが、これは上記(a)の触媒類はおだやかであり急
激な反応による発熱および副生(分解)を抑制するが、
単独では反応が遅く未反応物が残存するため助触媒(促
進剤)を用い適度な時間で反応を完結させるためであ
る。この助触媒の効果は、特に工程2で顕著である。用
い方としては工程1から工程2を続けて行う「一段階還
元法」では工程1の反応開始時に加えてもよく、また工
程2の反応開始時に加えてもよい。また工程1,工程2
のそれぞれ2回に分けて加えることもできる。
【0029】「2段階還元法」すなわち中間体としてN
−オキシドを分取する時は工程1では加える必要はな
く、工程2の反応開始時に加えればよい。この助触媒と
しては硼酸アルカリ、亜硫酸アルカリ、重亜硫酸アルカ
リ、炭酸アルカリ、臭化アルカリがあり、アルカリとし
てはナトリウム、カリウムがあげられる。特に好ましく
はメタ硼酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、臭化カリウ
ムがある。これらは2種以上混合してもよく、その使用
量は一般式(I) または(II)の化合物の1.7〜5.0重
量%である。
【0030】本発明の原料である一般式(I) の化合物を
例示すると、2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキ
シ−3’−t−ブチル−5’−メチルアゾベンゼン、2
−ニトロ−2’−ヒドロキシ−5’−メチルアゾベンゼ
ン、2−ニトロ−2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチル
アゾベンゼン、2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロ
キシ−3’,5’−ジ−t−ブチルアゾベンゼン、2−
ニトロ−2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−アミ
ルアゾベンゼン、2−ニトロ−2’−ヒドロキシ−
3’,5’−ジ−t−ブチルアゾベンゼン、2−ニトロ
−2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチル
アゾベンゼン、2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロ
キシ−3’,5’−ジ−t−アミルアゾベンゼン、2−
ニトロ−2’−ヒドロキシ−5’−t−アミルアゾベン
ゼン、2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキシ−
5’−t−アミルアゾベンゼン、2−ニトロ−2’−ヒ
ドロキシ−5’−n−ドデシルアゾベンゼン、2−ニト
ロ−2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−オクチル
アゾベンゼン、2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロ
キシ−3’,5’−ジ−t−オクチルアゾベンゼン、2
−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキシ−5’−オク
チルアゾベンゼン等が挙げられ、一般式(II)の2−フェ
ニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類は一般式
(I)で示される前記例示化合物に対応するN−オキシ
ド類である。
【0031】本発明の還元剤であるアルコール類は、炭
素数1〜5の低級アルコールが好ましく、第1アルコー
ルではメタノール,エタノール,n−プロパノール,n
−ブタノール,n−アミルアルコールなど、第2アルコ
ールではイソプロピルアルコール,第2ブチルアルコー
ル,第2アミルアルコールなどがあり、特に好ましくは
第2アルコールのイソプロピルアルコール,第2ブチル
アルコールである。これらのアルコールの使用量は化学
当量以上使用するのが好ましく、溶媒を兼ねて使用する
ので、o−ニトロアゾベンゼン(I)または2−フェニ
ルベンゾトリアゾール−N−オキシド (III)に対し重量
で2〜5倍使用する。
【0032】また、反応系内は水分が存在しても問題な
く、この場合含水率は対アルコール比で20重量%以下
が好ましい。
【0033】第2アルコールを還元剤に使用した場合、
以下の反応式のようにケトンが副生され反応系内の温度
が下がることがある。反応途中にこの副生低沸分を系外
に留去し温度を上げて還元する事もでき、目的物によっ
ては好ましい場合もある。
【0034】
【化13】
【0035】また、2種以上のアルコールを混合して
も、何ら反応に影響なく好ましい場合もある。
【0036】また、本発明では還元反応を円滑に行うた
め還元剤と溶媒をかねたアルコールのほかに、トルエ
ン、キシレン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミド、アセトニトリルなどの不活性溶媒を加えるこ
と、またテトラメチルアンモニウムクロライド、ベンジ
ルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラメチルア
ンモニウムブロマイドなどの相間移動触媒、アルキルア
リールスルホン酸、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル、高級アルコール硫酸エステルなどの界面活性剤を併
用することもできる。
【0037】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムが好ましい。その使用量は工程1では一般式
(I) の化合物1モル分子に対し1〜5モル分子が適当
であり、好ましくは1.5〜3モル分子である。工程2
では一般式(II)の化合物1モル分子に対し2〜8モル分
子が適当であり、好ましくは2.5〜6モル分子であ
る。
【0038】本発明での触媒,塩基の仕込み方法として
は工程1から工程2を続けて行う「一段階還元法」では
工程1の反応開始時に一括して加えてもよく、また工程
2の反応開始時との2回に分けて加えてもよい。
【0039】
【実施例】以下 実施例により、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに何ら限定されるものではな
い。
【0040】実施例1 500mlの4口フラスコにイソプロピルアルコール1
73gおよびp−アミノフェノール4.0gを仕込み、
撹拌下97%水酸化ナトリウム21.7g、次いで2−
ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキシ−3’−t−ブ
チル−5’−メチルアゾベンゼン90.4g(水分2
0.8g)を仕込み30分撹拌した。その後昇温し70
〜75℃で1.5時間撹拌,反応した(この間急激な発
熱もなく穏やかに反応は進む。)。反応終了後、水を加
え35%塩酸で中和し、冷却した後固液分離を行った。
得られた結晶を少量のイソプロピルアルコールと温水で
洗浄し乾燥して、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−
ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロルベンゾト
リアゾール−N−オキシド63.6gを得た。収率9
5.8%、融点160〜163℃
【0041】実施例2 実施例1で使用したp−アミノフェノール4.0gの代
わりに (1)o−アミノフェノール4.0g、(2)
p−メチルアミノフェノール硫酸塩6.8gを使用し実
施例1と同様な操作を行ってそれぞれ下記の収量で2−
(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチル
フェニル)−5−クロルベンゾトリアゾル−N−オキシ
ドを得た。(1)収量63.8g、収率96.1%、融
点160〜162℃。(2)収量63.1g、収率9
5.1%、融点160〜162℃
【0042】実施例3 300mlの4口フラスコに第2ブチルアルコール10
6.7gおよびo−アミノフェノール2.0gを仕込
み、撹拌下97%水酸化ナトリウム10.9g、次いで
2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキシ−3’,
5’ジ−t−ブチルアゾベンゼン52.7g(水分1
3.7g)を仕込み、30分撹拌した。その後昇温し8
5〜90℃で2時間撹拌した。反応終了後水を加え35
%塩酸で中和し、冷却した後固液分離し少量のメタノー
ルと温水で洗浄して乾燥すると、2−(2’−ヒドロキ
シ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロ
ルベンゾトリアゾール−N−オキシド35.2gを得
た。収率 94.2%、融点178〜180℃
【0043】実施例4 実施例1で2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキシ
−3’−t−ブチル−5’−メチルアゾベンゼン90.
4g(水分20.8g)の代わりに、(1)2−ニトロ
−4−クロル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルアゾベ
ンゼン51.4g(乾燥品)または(2)2−ニトロ−
4−クロル−2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−
5’−メチルアゾベンゼン69.6g(乾燥品)を使用
し、実施例1と同様な操作を行いそれぞれ下記の収量で
N−オキシドを得た。(1)収量22.3g、収率9
2.5%、融点130〜140℃。(2)収量31.8
g、収率95.8%、融点160〜163℃
【0044】実施例5 300mlの4口フラスコにイソプロピルアルコール8
6.5g、p−アミノフェノール2.0gおよびメタ硼
酸ナトリウム0.3gを仕込み、撹拌下97%水酸化ナ
トリウム11g、次いで2−ニトロ−4−クロル−2’
−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルアゾベ
ンゼン44.6g(水分9.8g)を仕込み30分撹拌
した。次いで、昇温し70〜75℃で1.5時間撹拌反
応した。更に工程2の還元を行うため、メタ硼酸ナトリ
ウム0.7gと97%水酸化ナトリウム10.9gを加
え昇温し、沸点(81〜83℃)で7時間撹拌を続け工
程2の反応を終了した。反応終了物に少量の水を加え3
5%塩酸で中和し20℃まで冷却、析出した結晶を固液
分離し少量のイソプロピルアルコールと温水で洗浄して
乾燥すると、30.2gの収量で2−(2’−ヒドロキ
シ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−
クロルベンゾトリアゾールを得た。収率95.6%、融
点138〜140℃
【0045】実施例6 300mlの4口フラスコにイソプロピルアルコール8
6.5gおよびp−アミノフェノール2.0gを仕込
み、撹拌下97%水酸化ナトリウム10.9g、次いで
2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキシ−3’−t
−ブチル−5’−メチルアゾベンゼン44.6g(水分
9.8g)を仕込み30分撹拌した。次いで、昇温し7
0〜75℃で1.5時間撹拌反応した。更に工程2の還
元を行うため、メタ硼酸ナトリウム1.0gと97%水
酸化ナトリウム10.9gを加え昇温し、沸点(81〜
83℃)で7時間撹拌を続け工程2の反応を終了した。
次いで実施例5と同様な処理操作を行って30.2gの
収量で2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−
5’−メチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾ−
ルを得た。収率 95.6%、融点138〜140℃
【0046】実施例7 300mlの4口フラスコにイソプロピルアルコール8
6.5g、p−アミノフェノール2.0gおよびメタ硼
酸ナトリウム1.0gを仕込み、撹拌下97%水酸化ナ
トリウム21.8g、次いで2−ニトロ−4−クロル−
2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルア
ゾベンゼン44.6g(水分9.8g)を仕込み30分
撹拌した。次いで昇温し、70〜75℃で1.5時間撹
拌反応した。更に工程2の還元を行うため昇温し、沸点
(81〜83℃)で7時間撹拌を続け工程2の反応を終
了した。次いで実施例6と同様な処理操作を行って、3
0.2gの収量で2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−
ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロルベンゾト
リアゾ−ルを得た。収率95.6%、融点138〜14
0℃
【0047】実施例8 実施例6のp−アミノフェノールとメタ硼酸ナトリウム
の代わりに(1)o−アミノフェノール2.0gと臭化
カリ1.0g、または(2)p−メチルアミノフェノー
ル硫酸塩3.4gと亜硫酸ナトリウム1.0gを使用し
同様な操作を行い、それぞれ下記の収量で2−(2−ヒ
ドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)−5
−クロルベンゾトリアゾールを得た。(1)収量29.
9g、収率94.7%、融点138〜140℃。(2)
収量29.7g、収率94.0%、融点138〜140
【0048】実施例9 実施例6の2−ニトロ−4−クロル−2’−ヒドロキシ
−3’−t−ブチル−5’−メチルアゾベンゼンの代り
に2−ニトロ−2’−ヒドロキシ−5’−メチルアゾベ
ンゼン25.7g(乾燥品)を使用し、同様な操作を行
い下記の収率で2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチル
フェニル)ベンゾトリアゾール21.0gを得た。収率
93.2%、融点126〜131℃
【0049】実施例10 300mlの4口フラスコにイソプロピルアルコール8
6.5g、2,4−ジアミノフェノール2塩酸塩3.2
gおよび亜硫酸ナトリウム0.3gを仕込み、撹拌下9
7%水酸化ナトリウム10.9g、次いで2−ニトロ−
4−クロル−2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−
ブチルアゾベンゼン52.7g(水分13.7g)を仕
込み30分撹拌した。次いで昇温し70〜75℃、1.
5時間撹拌反応した。更に工程2の還元反応を行うため
亜硫酸ナトリウム0.7gと97%水酸化ナトリウム1
0.9gを加え、昇温し、沸点(81〜83℃)で8時
間撹拌を続け工程2の反応を終了した。反応終了物に少
量の水を加え35%塩酸で中和し20℃まで冷却した。
析出した結晶を固液分離し、少量のイソプロピルアルコ
ールと温水で洗浄して乾燥すると、34.2gの収量で
2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−5−クロルベンゾトリアゾールを得た。収率9
5.5%、融点154〜158℃
【0050】実施例11 300mlの4口フラスコに実施例1で得られた2−
(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチ
ル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド3
3.2gを仕込み、次いでイソプロピルアルコール8
6.5g、p−アミノフェノール2.0g、メタ硼酸ナ
トリウム1.0gおよび97%水酸化ナトリウム21.
7gを加えた。撹拌しながら昇温し,沸点(82〜83
℃)で7時間反応した。反応終了物に少量の水を加え、
35%塩酸で中和して20℃まで冷却した。析出した結
晶を固液分離し、少量のイソプロピルアルコールと水で
洗浄し、乾燥すると、30.6gの収量で2−(2’−
ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニ
ル)−5−クロルベンゾトリアゾールを得た。収率9
7.0%、融点138〜140℃
【0051】実施例12 実施例11の2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチ
ル−5’−メチル)−5−クロルベンゾトリアゾール−
N−オキシドの代わりに、2−(2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキ
シド24.1gを使用し、同様な操作を行い21.4g
の収量で2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾルを得た。収率95.0%、融点1
26〜131℃
【0052】比較例1 実施例5でメタ硼酸ナトリウム未使用のほかは実施例5
と同様な操作で、工程2の還元反応を17時間行ってみ
た結果,28.0gの収量で2−(2’−ヒロキシ−
3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロ
ルベンゾトリアゾールを得た。収率88.7%、融点1
36〜139℃。実施例5に比し反応時間を約2.5倍
かけてみたが収率も低く、製品には黄色味が強かった。
【0053】比較例2 実施例7でp−アミノフェノ−ル2.0gを1.0gに
減じたほかはすべて実施例8と同様な操作で工程2の還
元反応時間を15時間行ってみた結果、28.4gの収
量で2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’
−メチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾールを
得た。収率89.9%、融点136〜139℃。実施例
8に比し反応時間を約2倍にかけてみたが収率も低く、
製品には黄色味が強かった。
【0054】比較例3 実施例10で亜硫酸ナトリウム未使用のほかは実施例1
0と同様な操作を行った結果、31.0gの結晶を得
た。この結晶の組成分析を行った結果、中間体N−オキ
シドが約46%残存していた。このことから、実施例1
0に比し反応が遅いことがわかる。
【0055】
【発明の効果】本発明方法により2−フェニルベンゾト
リアゾール類の高純度品が高得量で得られることから、
本発明方法は、工業化に際し、技術的にも経済的にも極
めて有利な方法である。
フロントページの続き (72)発明者 星 乗恵 福岡県築上郡吉富町大字小祝955番地 吉 富製薬株式会社吉富工場内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 (式中、R1 は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の低
    級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、カ
    ルボキシル基またはスルホン酸基を、R2 は水素原子、
    塩素原子を、R3 は水素原子、塩素原子、炭素数1〜1
    2のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、
    フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で置換されたフ
    ェニル基、フェノキシ基またはアルキル部分の炭素数が
    1〜4のフェニルアルキル基を、R4 は水素原子、炭素
    数1〜12のアルキル基または、アルキル部分の炭素数
    が1〜4のフェニルアルキル基を示す。)により表され
    るo−ニトロアゾベンゼン類を塩基と(a)アミノフェ
    ノール類およびジアミノフェノール類またはその無機酸
    塩よりなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物より
    なる触媒の存在下に炭素数1〜5の低級アルコールで還
    元することを特徴とする一般式 【化2】 (式中、各記号は前記の意味を示す。)により表される
    2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類の製
    造方法。
  2. 【請求項2】 一般式 【化3】 (式中、R1 は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の低
    級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、カ
    ルボキシル基またはスルホン酸基を、R2 は水素原子、
    塩素原子を、R3 は水素原子、塩素原子、炭素数1〜1
    2のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、
    フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で置換されたフ
    ェニル基、フェノキシ基またはアルキル部分の炭素数が
    1〜4のフェニルアルキル基を、R4 は水素原子、炭素
    数1〜12のアルキル基または、アルキル部分の炭素数
    が1〜4のフェニルアルキル基を示す。)により表され
    るo−ニトロアゾベンゼン類または一般式 【化4】 (式中、各記号は前記の意味を表す。)により表される
    2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類を塩
    基と(a)アミノフェノール類およびジアミノフェノー
    ル類またはその無機酸塩よりなる群より選ばれる少なく
    とも1種の化合物よりなる触媒と(b)助触媒として硼
    酸アルカリ、亜硫酸アルカリ、重亜硫酸アルカリ、炭酸
    アルカリ、臭化アルカリの群より選ばれる少なくとも一
    種の化合物の存在下に炭素数1〜5の低級アルコールで
    還元することを特徴とする一般式 【化5】 (式中、各記号は前記の意味を表す。)により表される
    2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造方法。
JP5211162A 1993-08-26 1993-08-26 2−フェニルベンゾトリアゾール−n−オキシド類及び2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造方法 Pending JPH0761976A (ja)

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