JPH0757477A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

Info

Publication number
JPH0757477A
JPH0757477A JP5220673A JP22067393A JPH0757477A JP H0757477 A JPH0757477 A JP H0757477A JP 5220673 A JP5220673 A JP 5220673A JP 22067393 A JP22067393 A JP 22067393A JP H0757477 A JPH0757477 A JP H0757477A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
write
bit
read
line
data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5220673A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryosuke Iwai
亮介 岩井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP5220673A priority Critical patent/JPH0757477A/en
Publication of JPH0757477A publication Critical patent/JPH0757477A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To accelerate an access time at a reading time, to shorten a write pulse width at a writing time and to accelerate write recovery. CONSTITUTION:At the time of a read cycle, only transfer gates 1, 2 for read become a conductive state by an output selection part 21. Then, by a memory cell, a sense amplifier not shown in figure is driven through a bit line BIT (BIT<->), the transfer gates 1, 2 for read and a read data line RD (RD<->). Further, at the time of a write cycle, only the transfer gates 3, 4 for write become an interruption state by the output selection part 22, and the data are written in the memory cell through a write data line WD (WD<->), the transfer gates 3, 4 for write and a bit line BIT (BIT<->). Further, at the time of write recovery, a wiring required for pulling up becomes only the bit line BIT (BIT<->) and the read data line RD (RD<->), and the write recovery is accelerated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、スタティックRAM等
の半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device such as a static RAM.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置であるメモリは、多数の
記憶素子であるメモリセルからなるメモリアレイと、入
出力に必要な周辺回路から構成されている。アクセス
(読み出し、もしくは書き込み)しようとするメモリセ
ルの位置(番地)は、Xアドレス(ローアドレス)とY
アドレス(カラムアドレス)によって指定され、データ
の書き込み、もしくは読み出しは、入出力制御信号によ
って行なわれる。実際のメモリセルへのデータ伝達は、
上記Xアドレスに対応するX線(ワード線)、Yアドレ
スに対応するY線(ビット線)を介して行なわれる。ビ
ット線は、読み出し用と書き込み用とに、専用のトラン
スファ・ゲート対と、データ線対とを備えたカラムスイ
ッチにより駆動される。
2. Description of the Related Art A memory, which is a semiconductor memory device, comprises a memory array composed of memory cells, which are a large number of memory elements, and peripheral circuits necessary for input / output. The position (address) of the memory cell to be accessed (read or write) is X address (row address) and Y address.
Designated by an address (column address), writing or reading of data is performed by an input / output control signal. Data transmission to the actual memory cell is
This is performed through the X line (word line) corresponding to the X address and the Y line (bit line) corresponding to the Y address. The bit line is driven by a column switch having a dedicated transfer gate pair for reading and writing and a data line pair.

【0003】従来のメモリにおけるカラムスイッチで
は、図7に示すように、読み出し用トランスファ・ゲー
ト1,2および書き込み用トランスファ・ゲート3,4
は、アドレス線ADDのみで同時に制御されていたた
め、読み出し/書き込み用のトランスファ・ゲート1,
2もしくは3,4を通して、ビット線BIT,BIT
 ̄、読み出しデータ線RD,RD ̄、および書き込みデ
ータ線WD,WD ̄の3種の配線が同時に駆動されてい
た。なお、いわゆるローアクティブのラインには反転符
号を図面と同じく記号の上部に付けるのが望ましいが、
明細書中では図面と同じ表現が困難であるため、BIT
 ̄のように記号の後に反転符号を付けて表すことにす
る。他のRD、WDについても同様で、反転符号はそれ
ぞれRD ̄、WD ̄というように表現する。
In a conventional column switch in a memory, as shown in FIG. 7, read transfer gates 1 and 2 and write transfer gates 3 and 4 are used.
Were simultaneously controlled only by the address line ADD, the read / write transfer gates 1,
Bit line BIT, BIT through 2 or 3, 4
The three types of wirings, i.e., the read data lines RD and RD, and the write data lines WD and WD, were simultaneously driven. It should be noted that it is desirable to add an inversion symbol to the upper part of the symbol for the so-called low active line as in the drawing,
Since it is difficult to express the same as the drawing in the specification, BIT
As in  ̄, the sign is followed by an inversion sign. The same applies to the other RDs and WDs, and the inverted codes are expressed as RD- and WD-, respectively.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の半導体記憶装置にあっては、ビット線BIT,BI
T ̄、読み出しデータ線RD,RD ̄、および書き込み
データ線WD,WD ̄の3種の配線が同時に駆動されて
いたため、読み出しサイクル時には、メモリセルがビッ
ト線BIT,BIT ̄と読み出しデータ線RD,RD ̄
との他に、駆動する必要のない書き込みデータ線WD,
WD ̄までを駆動しており、アクセスタイムを遅らせて
いた。また、書き込みサイクル時にも、不必要な読み出
しデータ線RD,RD ̄を駆動していた。
By the way, in the above-mentioned conventional semiconductor memory device, the bit lines BIT and BI are
Since three kinds of wirings of T, read data lines RD and RD, and write data lines WD and WD were driven at the same time, the memory cells are bit lines BIT and BIT and read data lines RD and RD during the read cycle. RD
In addition to the write data lines WD that do not need to be driven,
It was driving up to WD and had delayed access time. Further, unnecessary read data lines RD and RD were driven during the write cycle.

【0005】特に、書き込みリカバー時、同一ビット線
から、書き込んだデータと逆のデータを読み込む場合、
電位がグランドレベルまで下がっている配線を全て読み
出しの定常状態の電位レベルまでプルアップしてから読
み出しを行なわないと、誤データを出力してしまう。し
かしながら、従来の半導体記憶装置では、3種の配線全
てをプルアップしなければならないため、プルアップに
時間がかかったり、誤データを出力してしまうという問
題があった。
Particularly, at the time of write recovery, when reading the data opposite to the written data from the same bit line,
If the wiring is not pulled up after pulling up all the wirings whose potential has dropped to the ground level to the potential level in the steady state of reading, erroneous data will be output. However, in the conventional semiconductor memory device, since all three types of wiring must be pulled up, there are problems that it takes time to pull up and erroneous data is output.

【0006】そこで本発明は、高速アクセスができ、高
速書き込みリカバーができる半導体記憶装置を提供する
ことを目的としている。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which can be accessed at high speed and can be recovered at high speed.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的達成のため請求
項1記載の発明による半導体記憶装置は、行列に配置さ
れたメモリセルと、前記メモリセルに接続された一対の
ビット線と、前記メモリセルに接続されたワード線と、
前記一対のビット線毎に書込専用データバス線との間に
設けられた書込専用選択回路と、前記一対のビット線毎
に読出専用データバス線との間に設けられた読出専用選
択回路とを備え、前記メモリセルへの書き込み時には、
前記書込専用選択回路は、前記一対のビット線を選択的
に書込専用データバス線にのみカップリングし、前記メ
モリセルからの読み出し時には、前記読出専用選択回路
は、前記一対のビット線を選択的に読出専用データバス
線にのみカップリングすることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention according to claim 1 has a memory cell arranged in a matrix, a pair of bit lines connected to the memory cell, and the memory. A word line connected to the cell,
A write-only selection circuit provided between each pair of bit lines and a write-only data bus line, and a read-only selection circuit provided between each pair of bit lines and a read-only data bus line And when writing to the memory cell,
The write-only selection circuit selectively couples the pair of bit lines to only the write-only data bus line, and when reading from the memory cell, the read-only selection circuit selects the pair of bit lines. It is characterized in that it is selectively coupled only to the read-only data bus line.

【0008】また、前記書込専用選択回路及び前記読出
専用選択回路は、各々、スイッチ回路としてもよい。ま
た、前記書込専用選択回路をスイッチ回路から構成し、
前記読出専用選択回路をセンス増幅器から構成してもよ
い。
Further, each of the write-only selection circuit and the read-only selection circuit may be a switch circuit. Further, the write-only selection circuit is composed of a switch circuit,
The read-only selection circuit may be composed of a sense amplifier.

【0009】[0009]

【作用】本発明では、メモリセルへの書き込み時には、
書込専用選択回路は、一対のビット線を選択的に書込専
用データバス線にのみカップリングし、また、メモリセ
ルからの読み出し時には、読出専用選択回路は、一対の
ビット線を選択的に読出専用データバス線にのみカップ
リングする。そして、メモリセルへのデータ伝達は、ワ
ード線、上記ビット線を介して行なわれる。
In the present invention, when writing to the memory cell,
The write-only selection circuit selectively couples the pair of bit lines only to the write-only data bus line, and the read-only selection circuit selectively reads the pair of bit lines when reading from the memory cell. Coupling only to read-only data bus lines. Then, data transmission to the memory cell is performed via the word line and the bit line.

【0010】したがって、読み出し時には、ビット線お
よび読出専用データバス線から、書込専用データバス線
が切り離され、アクセスタイムが高速化できる。また、
書き込み時には、ビット線および書込専用データバス線
から、読出専用データバス線が切り離され、書き込みパ
ルス幅が短くて済む。さらに、書き込みリカバー時に
は、プルアップする必要がある配線が、ビット線と読出
専用データバス線だけとなり、書き込みリカバーの高速
化が可能となる。
Therefore, at the time of reading, the write-only data bus line is disconnected from the bit line and the read-only data bus line, and the access time can be shortened. Also,
At the time of writing, the read-only data bus line is disconnected from the bit line and the write-only data bus line, and the write pulse width can be shortened. Further, at the time of write recovery, the wirings that need to be pulled up are only the bit line and the read-only data bus line, and the write recovery can be speeded up.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
1は本発明の半導体記憶装置の一実施例を示す構成図で
ある。図において、半導体記憶装置10は、多数の記憶
素子からなるメモリアレイ11と、入出力に必要な周辺
回路12から構成されている。アドレスバッファ13
は、アドレス信号A,A.…,Aを一時保持した後、ロ
ーデコーダ14へ出力する。ローデコーダ14は、アド
レス信号A,A.…,Aをデコードして、Xアドレス
(ワード線)としてメモリアレイ11へ出力する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. In the figure, a semiconductor memory device 10 comprises a memory array 11 composed of a large number of memory elements and a peripheral circuit 12 required for input / output. Address buffer 13
Address signals A, A. , A is temporarily held and then output to the row decoder 14. The row decoder 14 receives the address signals A, A. , A is decoded and output to the memory array 11 as an X address (word line).

【0012】アドレスバッファ15は、アドレス信号
A,A.…,Aを一時保持した後、カラムデコーダ16
へ出力する。カラムデコーダ16は、アドレス信号A,
A.…,AをデコードしてYアドレスとしてカラムスイ
ッチ17へ出力する。また、制御バッファ18は、書き
込み制御信号WE ̄やチップセレクタCE ̄等を一時保
持した後、これらに従って、上記アドレスバッファ1
3、カラムスイッチ17、データ・イン・バッファ19
およびデータ・アウト・バッファ20に所定の制御信号
を出力する。カラムスイッチ17は、Yアドレス(カラ
ムアドレス)、書き込み制御信号WEに応じて、ビット
線BITを駆動してメモリアレイ11中のメモリセルの
位置を指定するとともに、該当セルに対し、書き込みデ
ータ線WDの値を書き込むか、読み出しデータ線RDに
データを読み出す。
The address buffer 15 receives the address signals A, A. After temporarily holding A, the column decoder 16
Output to. The column decoder 16 receives the address signals A,
A. ..., A is decoded and output as a Y address to the column switch 17. Further, the control buffer 18 temporarily holds the write control signal WE, the chip selector CE, etc., and then, according to these, the address buffer 1
3, column switch 17, data in buffer 19
And outputs a predetermined control signal to the data out buffer 20. The column switch 17 drives the bit line BIT to specify the position of the memory cell in the memory array 11 according to the Y address (column address) and the write control signal WE, and at the same time, the write data line WD Value is written, or data is read to the read data line RD.

【0013】次に、上述したカラムスイッチ17の構成
について図2を参照して説明する。図2は、本発明の一
実施例におけるカラムスイッチ17の構成を示すブロッ
ク図である。なお、この図において前述した図7と共通
する部分には同一の符号を付けてその説明を省略する。
図2において、カラムスイッチ17は、読み出し用と、
書き込み用とに、それぞれ専用のトランスファ・ゲート
1〜4と、データ線対(RDとRD ̄,WDとWD ̄)
とを備えている。図示する読み出しデータ線RD,RD
 ̄は、図示しないセンス増幅器を経て、出力バッファで
あるデータ・アウト・バッファ20に接続され、書き込
みデータ線WD,WD ̄は、データ・イン・バッファ1
9を介して供給される入力データによって駆動される。
Next, the structure of the above-mentioned column switch 17 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the column switch 17 in the embodiment of the present invention. In this figure, the same parts as those in FIG. 7 described above are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
In FIG. 2, the column switch 17 is for reading,
Dedicated transfer gates 1 to 4 and data line pairs (RD and RD, WD and WD) for writing
It has and. Read data lines RD, RD shown
Is connected to a data out buffer 20 which is an output buffer through a sense amplifier (not shown), and write data lines WD and WD are connected to the data in buffer 1.
It is driven by the input data supplied via 9.

【0014】また、読み出し用の出力選択部21および
書き込み用の出力選択部22には、各々、アドレス線A
DDを介してアドレスデータと書き込み線WEを介して
書き込み制御信号とが供給されており、一方の読み出し
用の出力選択部21は、アドレスデータがアクティブの
ときのみ出力をアクティブとし、他方の書き込み用の出
力選択部22は、アドレスデータおよび書き込み制御信
号の双方がアクティブのとき、その出力をアクティブと
するようになっている。なお、上記アドレスは、カラム
デコーダによりデコードされた信号であり、書き込み制
御信号は、コントロールバッファの書き込み制御信号に
相当する。
The read output selection section 21 and the write output selection section 22 are each provided with an address line A.
Address data is supplied via DD and a write control signal is supplied via a write line WE. One of the read output selection sections 21 activates the output only when the address data is active, and the other write output signal. The output selection section 22 of FIG. 6 activates its output when both the address data and the write control signal are active. The address is a signal decoded by the column decoder, and the write control signal corresponds to the write control signal of the control buffer.

【0015】次に、上述した構成による読み出しサイク
ル時、書き込みサイクル時および書き込みリカバー時の
動作について以下に説明する。 [読み出しサイクル時]読み出しサイクル時には、アド
レスデータのみが選択され、書き込み制御信号は選択さ
れないため、出力選択部21によって読み出し用のトラ
ンスファ・ゲート1,2のみが導通状態とされる。した
がって、メモリセルは、ビット線BIT,BIT ̄、読
み出し用トランスファ・ゲート1,2、読み出しデータ
線RD,RD ̄を通し、図示しないセンス増幅器を駆動
する。一方、書き込み用のトランスファ・ゲート3,4
は、遮断状態であるため、駆動しなくともよい。
Next, the operations during the read cycle, the write cycle and the write recovery by the above-mentioned structure will be described below. [During read cycle] In the read cycle, only the address data is selected and the write control signal is not selected, so that the output selection section 21 makes only the transfer gates 1 and 2 for reading conductive. Therefore, the memory cell drives the sense amplifier (not shown) through the bit lines BIT and BIT, the read transfer gates 1 and 2, and the read data lines RD and RD. On the other hand, transfer gates 3 and 4 for writing
Does not need to be driven because it is in the cutoff state.

【0016】[書き込みサイクル時]書き込みサイクル
時には、アドレスデータ、書き込み制御信号が共に選択
されるので、出力選択部22によって書き込み用のトラ
ンスファ・ゲート3,4が導通状態とされ、書き込みド
ライバにより、書き込みデータ線WD,WD ̄、書き込
み用トランスファ・ゲート3,4、ビット線BIT,B
IT ̄を通し、メモリセルにデータを書き込む。一方、
読み出し用のトランスファ・ゲート1,2は遮断状態で
あるため、駆動しなくともよい。
[Write Cycle] In the write cycle, since the address data and the write control signal are both selected, the output select section 22 brings the write transfer gates 3 and 4 into a conductive state, and the write driver writes the data. Data lines WD, WD, write transfer gates 3, 4, bit lines BIT, B
Write data to the memory cell through IT. on the other hand,
Since the read transfer gates 1 and 2 are in the cutoff state, they do not have to be driven.

【0017】[書き込みリカバー時]例えば、「0」を
書き込み後、書き込みデータ線WDの変化により、1デ
ータを読み込む場合について説明する。「0」の書き込
み時には、書き込み用のトランスファ・ゲート3,4が
導通状態となり、読み出し用のトランスファ・ゲート
1,2は遮断状態であるので、書き込みデータ線WD,
WD ̄と、ビット線BIT,BIT ̄がグランドレベル
までプルダウンされ、メモリセルにデータ「0」が書き
込まれる。次に、読み出しサイクルに変ると、書き込み
用のトランスファ・ゲート3,4が遮断状態となり、読
み出し用のトランスファ・ゲート1,2が導通状態とな
る。グランドレベルが下がっているビット線BIT,B
IT ̄は、プルアップ回路によって、読み出し時の定常
電位レベルまでプルアップされる。そして、メモリセル
により、ビット線BIT ̄がプルダウンされ、センス増
幅器が1データを出力する。なお、従来の回路では、ビ
ット線BITの他に、書き込みデータ線WD、読み出し
データ線RDの2つのノードもプルアップしなければな
らなかったので、リカバー時間が長いという欠点を有し
ていた。
[At the time of write recovery] For example, a case will be described in which after writing "0", one data is read by the change of the write data line WD. At the time of writing "0", the write transfer gates 3 and 4 are in the conductive state, and the read transfer gates 1 and 2 are in the cutoff state. Therefore, the write data lines WD,
WD and bit lines BIT and BIT are pulled down to the ground level, and data "0" is written in the memory cell. Next, in the read cycle, the transfer gates 3 and 4 for writing are turned off, and the transfer gates 1 and 2 for reading are turned on. Bit lines BIT and B whose ground level is lowered
IT-is pulled up to a steady potential level at the time of reading by a pull-up circuit. Then, the bit line BIT is pulled down by the memory cell, and the sense amplifier outputs 1 data. Incidentally, in the conventional circuit, in addition to the bit line BIT, two nodes of the write data line WD and the read data line RD had to be pulled up, so that there was a drawback that the recovery time was long.

【0018】次に、上述したカラムスイッチの具体的な
回路構成およびその動作について、図3ないし図6を参
照して説明する。図3に本発明の第1の実施例を示す。
図において、読み出し用のトランスファ・ゲート1,2
にPMOSによるゲート回路31,32、書き込み用の
トランスファ・ゲート3,4にNMOSによるゲート回
路33,34を用いている。また、出力選択部21,2
2として、NAND回路23、NOR回路24および否
定回路25を用いている。アドレス線ADD ̄は否定回
路25およびNOR回路24の一端へ接続される。ま
た、書き込み制御線WE ̄は、NAND回路23の一端
および上記NOR回路24の他端へ接続される。NAN
D回路23は、上記否定回路25を介して供給されるア
ドレスデータと書き込み制御線WE ̄を介して供給され
る書き込み制御信号との論理積をとり、その出力を読み
出し用のゲート回路31,32へ供給する。一方、NO
R回路24は、上記アドレス線ADD ̄を介して供給さ
れるアドレスデータと、書き込み制御線WE ̄を介して
供給される書き込み制御信号との論理和をとり、その出
力を書き込み用のNチャネルトランジスタ33,34へ
供給する。
Next, a specific circuit configuration and operation of the above-mentioned column switch will be described with reference to FIGS. 3 to 6. FIG. 3 shows a first embodiment of the present invention.
In the figure, transfer gates 1 and 2 for reading
The gate circuits 31 and 32 of PMOS are used, and the gate circuits 33 and 34 of NMOS are used for the transfer gates 3 and 4 for writing. In addition, the output selection units 21, 2
2, a NAND circuit 23, a NOR circuit 24, and a negation circuit 25 are used. The address line ADD- is connected to one ends of the NOT circuit 25 and the NOR circuit 24. The write control line WE_ is connected to one end of the NAND circuit 23 and the other end of the NOR circuit 24. NAN
The D circuit 23 takes the logical product of the address data supplied through the NOT circuit 25 and the write control signal supplied through the write control line WE_ and outputs the output from the gate circuits 31 and 32 for reading. Supply to. On the other hand, NO
The R circuit 24 takes the logical sum of the address data supplied via the address line ADD and the write control signal supplied via the write control line WE, and outputs the result as an N-channel transistor for writing. Supply to 33 and 34.

【0019】次に、図3に示す第1の実施例において、
読み出しサイクル時、書き込みサイクル時および書き込
みリカバー時の動作について以下に説明する。 [読み出しサイクル時]読み出しサイクル時には、アド
レス線ADD ̄がローレベルとなり、書き込み制御線W
E ̄がハイレベルとなる。NAND回路23は、否定回
路25によって反転された「1」と、書き込み制御信号
の「1」との論理積をとる。この結果、NAND回路2
3の出力は「0」となる。したがって、読み出し用のP
チャネルトランジスタ31,32が導通状態となる。一
方、NOR回路24は、書き込み制御信号の「1」と、
アドレスデータの「0」との論理和をとる。この結果、
NOR回路24の出力は「0」となる。したがって、書
き込み用のNチャネルトランジスタ33,34は遮断状
態となる。メモリセルは、ビット線BIT、読み出し用
Pチャネルトランジスタ31、32、読み出しデータ線
RDを通し、センス増幅器を駆動する。書き込み用のN
チャネルトランジスタ33,34は、遮断状態であるた
め、駆動しなくともよい。
Next, in the first embodiment shown in FIG.
The operation during the read cycle, the write cycle, and the write recovery will be described below. [During read cycle] During the read cycle, the address line ADD_ goes low and the write control line W
E becomes high level. The NAND circuit 23 takes the logical product of "1" inverted by the NOT circuit 25 and "1" of the write control signal. As a result, the NAND circuit 2
The output of 3 becomes "0". Therefore, P for reading
The channel transistors 31 and 32 become conductive. On the other hand, the NOR circuit 24 outputs the write control signal “1”,
The logical sum of the address data and "0" is calculated. As a result,
The output of the NOR circuit 24 becomes "0". Therefore, the writing N-channel transistors 33 and 34 are turned off. The memory cell drives the sense amplifier through the bit line BIT, the read P-channel transistors 31 and 32, and the read data line RD. N for writing
Since the channel transistors 33 and 34 are in the cutoff state, they do not have to be driven.

【0020】[書き込みサイクル時]書き込みサイクル
時には、アドレス線ADD ̄、書き込み制御線WE ̄が
共にローレベルとなるので、書き込み用のNチャネルト
ランジスタ33,34が導通状態となり、書き込みドラ
イバにより、書き込みデータ線WD(WD ̄)、書き込
み用Nチャネルトランジスタ33,34のビット線BI
T(BIT ̄)を通し、メモリセルにデータを書き込
む。読み出し用のPチャネルトランジスタ31,32は
遮断状態であるため、駆動しなくともよい。
[During Write Cycle] During the write cycle, both the address line ADD and the write control line WE are at the low level, so that the write N-channel transistors 33 and 34 become conductive, and the write data is written by the write driver. Line WD (WD), bit line BI of write N-channel transistors 33 and 34
Write data to the memory cell through T (BIT). Since the P channel transistors 31 and 32 for reading are in the cutoff state, they do not have to be driven.

【0021】[書き込みリカバー時]例えば、「0」の
書き込み時には、書き込み用のNチャネルトランジスタ
33,34が導通状態となり、読み出し用のPチャネル
トランジスタ31,32は遮断状態であるので、書き込
みデータ線WDと、ビット線BITがグランドレベルま
でプルダウンされ、メモリセルに「0」データが書き込
まれる。読み出しサイクルに変ると、書き込み用のPチ
ャネルトランジスタ33,34が遮断状態となり、読み
出し用のPチャネルトランジスタ31,32が導通状態
となる。グランドレベルが下がっているビット線BIT
は、プルアップ回路によって、読み出し時の定常電位レ
ベルまでプルアップされる。そして、メモリセルによ
り、ビット線BIT ̄がプルダウンされ、センス増幅器
が1データを出力する。
[At the time of write recovery] For example, at the time of writing "0", the write N-channel transistors 33 and 34 are in the conductive state and the read P-channel transistors 31 and 32 are in the cut-off state. WD and the bit line BIT are pulled down to the ground level, and "0" data is written in the memory cell. In the read cycle, the write P-channel transistors 33 and 34 are turned off and the read P-channel transistors 31 and 32 are turned on. Bit line BIT whose ground level is lowered
Is pulled up to the steady potential level at the time of reading by the pull-up circuit. Then, the bit line BIT is pulled down by the memory cell, and the sense amplifier outputs 1 data.

【0022】このように、本第1の実施例によれば、読
み出しサイクル時に、書き込み用トランスファ・ゲート
3,4が遮断状態となり、ビット線BIT(BIT
 ̄)、読み出しデータ線RD(RD ̄)から、書き込み
データ線WD(WD ̄)が切り離され、アクセスタイム
が高速化できる。また、書き込みサイクル時には、読み
出し用トランスファ・ゲート1,2が遮断状態となり、
ビット線BIT(BIT ̄)、書き込みデータ線WD
(WD ̄)から、読み出しデータ線RD(RD ̄)が切
り離され、書き込みパルス幅が短くて済む。書き込みリ
カバー時には、プルアップする必要がある配線が、ビッ
ト線BIT(BIT ̄)と読み出しデータ線RD(RD
 ̄)だけとなり、書き込みリカバーの高速化が可能とな
る。
As described above, according to the first embodiment, the write transfer gates 3 and 4 are turned off during the read cycle, and the bit line BIT (BIT).
), The write data line WD (WD) is separated from the read data line RD (RD), and the access time can be shortened. Also, during the write cycle, the read transfer gates 1 and 2 are cut off,
Bit line BIT (BIT), write data line WD
The read data line RD (RD) is separated from (WD), and the write pulse width can be shortened. The wiring that needs to be pulled up at the time of write recovery is the bit line BIT (BIT) and the read data line RD (RD).
Only  ̄) is available, which enables faster write recovery.

【0023】次に、図4に本発明の第2の実施例を示
す。カラムスイッチ17は、通常、レイアウト的に条件
が厳しいため、多くの素子を配設できず、前述した第1
の実施例のように、読み出し/書き込みの双方のトラン
スファ・ゲートを書き込み制御信号WE ̄で制御するの
は難しい。そこで、該第2の実施例では、書き込み用の
トランスファ・ゲート3,4のみを、書き込み制御線W
E ̄で制御している。すなわち、アドレス線ADD ̄で
読み出し用のPチャネルトランジスタ31,32を制御
し、NOR回路26によりアドレス線ADD ̄と書き込
み制御線WE ̄との論理和をとり、これにより書き込み
用のNチャネルトランジスタ33,34を制御してい
る。
Next, FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention. Since the column switch 17 usually has a severe layout condition, many elements cannot be arranged, and the column switch 17 described above does not have the first structure.
It is difficult to control both the read / write transfer gates by the write control signal WE-, as in the embodiment of FIG. Therefore, in the second embodiment, only the write transfer gates 3 and 4 are connected to the write control line W.
It is controlled by E. That is, the read P channel transistors 31 and 32 are controlled by the address line ADD, and the NOR circuit 26 takes the logical sum of the address line ADD and the write control line WE, thereby writing the N channel transistor 33. , 34 are controlled.

【0024】該第2の実施例では、まず、読み出し時に
は、アドレス線ADDのみがローレベルとなるので、読
み出し用のPチャネルトランジスタ31,32が導通状
態となり、書き込み用のNチャネルトランジスタ33,
34が遮断状態となって、基本的に、第1の実施例と同
様の動作である。これに対して、書き込み時には、読み
出し用のPチャネルトランジスタ31,32が遮断状態
とならないので、読み出しデータ線RD(RD ̄)をプ
ルダウンする。したがって、書き込みリカバー時には、
ビット線BITと、読み出しデータ線RDとをプルアッ
プしなければならない。この結果、第1の実施例例より
も、書き込みリカバーは遅くなるが、従来回路よりも優
れている。
In the second embodiment, first, at the time of reading, only the address line ADD is at a low level, so that the read P-channel transistors 31 and 32 are in a conductive state and the write N-channel transistor 33 ,.
Since 34 is in the cutoff state, the operation is basically the same as that of the first embodiment. On the other hand, at the time of writing, the P channel transistors 31 and 32 for reading do not become in the cutoff state, so the read data line RD (RD) is pulled down. Therefore, during write recovery,
The bit line BIT and the read data line RD must be pulled up. As a result, the write recovery becomes slower than that of the first embodiment, but it is superior to the conventional circuit.

【0025】次に、図5に本発明の第3の実施例を示
す。該第3の実施例では、アドレス線ADDにより書き
込み用のNチャネルトランジスタ33,34を制御し、
NAND回路27により、書き込み制御線WE ̄とアド
レス線ADDとの論理積をとって、これにより読み出し
用のPチャネルトランジスタ31,32を制御してい
る。
Next, FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. In the third embodiment, the address line ADD controls the N channel transistors 33 and 34 for writing,
The NAND circuit 27 takes the logical product of the write control line WE and the address line ADD, and thereby controls the P channel transistors 31 and 32 for reading.

【0026】読み出し時には、アドレス線ADDがハイ
レベル、書き込み制御線WE ̄がハイレベルとなる。こ
のため、NAND回路27の出力は、ローレベルとな
り、読み出し用のPチャネルトランジスタ31,32が
導通状態となる。また、アドレス線ADDがハイレベル
となるため、書き込み用のNチャネルトランジスタ3
3,34も導通状態となるため、ビット線BIT、読み
出しデータ線RD以外に、書き込みデータ線WDまで駆
動する。
At the time of reading, the address line ADD becomes high level and the write control line WE_ becomes high level. Therefore, the output of the NAND circuit 27 becomes low level, and the P channel transistors 31 and 32 for reading are turned on. Further, since the address line ADD becomes high level, the writing N-channel transistor 3
Since 3 and 34 are also in the conductive state, the write data line WD is driven in addition to the bit line BIT and the read data line RD.

【0027】書き込み時には、アドレス線ADDがハイ
レベル、書き込み制御線WE ̄がローレベルとなる。こ
のため、NAND回路27の出力は、ハイレベルとな
り、読み出し用のPチャネルトランジスタ31,32は
遮断状態となる。一方、アドレス線ADDがハイレベル
であるため、書き込み用のNチャネルトランジスタ3
3,34は導通状態となる。このように、読み出し用P
チャネルトランジスタ31,32が遮断状態となるた
め、書き込みデータ線WDと、ビット線BITだけを駆
動すればよい。書き込みリカバー時には、書き込み用/
読み出し用、双方のトランスファ・ゲートが導通状態と
なるため、ビット線BIT、読み出しデータ線RD、書
き込みデータ線WDをプルアップする。
At the time of writing, the address line ADD becomes high level and the write control line WE_ becomes low level. Therefore, the output of the NAND circuit 27 becomes high level, and the P channel transistors 31 and 32 for reading are turned off. On the other hand, since the address line ADD is at the high level, the writing N-channel transistor 3
3, 34 become conductive. In this way, the read P
Since the channel transistors 31 and 32 are cut off, only the write data line WD and the bit line BIT need be driven. For writing recovery,
Since both transfer gates for reading are conductive, the bit line BIT, the read data line RD, and the write data line WD are pulled up.

【0028】次に、図6に本発明の第4の変形例を示
す。該第4の実施例では、読み出し用の出力選択部21
にNMOSの転送ゲート40を用い、書き込み用の出力
選択部22にセンス増幅器41を用いている。書き込み
制御線WEは、Nチャネルトランジスタ35,36に接
続され、書き込み制御線WE ̄は、センス増幅器41の
Nチャネルトランジスタ37へ接続されている。また、
書き込みデータ線WDおよびWD ̄は、各々、上記Nチ
ャネルトランジスタ35,36を介してビット線BI
T,BIT ̄へ接続されている。一方、読み出しデータ
線RD,RD ̄はセンス増幅器41を構成するNチャネ
ルトランジスタ38,39へ接続されている。
Next, FIG. 6 shows a fourth modification of the present invention. In the fourth embodiment, the output selection section 21 for reading is used.
An NMOS transfer gate 40 is used for the output, and a sense amplifier 41 is used for the output selection unit 22 for writing. The write control line WE is connected to the N-channel transistors 35 and 36, and the write control line WE_ is connected to the N-channel transistor 37 of the sense amplifier 41. Also,
The write data lines WD and WD are respectively connected to the bit line BI through the N-channel transistors 35 and 36.
It is connected to T and BIT. On the other hand, the read data lines RD and RD are connected to N-channel transistors 38 and 39 which form a sense amplifier 41.

【0029】上記構成においては、書き込み時には、書
き込み制御線WEがハイレベル、書き込み制御線WE ̄
がローレベルとなる。このため、転送ゲート40が導通
状態となり、センス増幅器41は非活性状態となる。し
たがって、書き込みデータ線WD,WD ̄のデータがビ
ット線BIT,BIT ̄へ出力される。一方、読み出し
時には、書き込み制御線WEがローレベル、書き込み制
御線WE ̄がハイレベルとなる。このため、転送ゲート
40は遮断状態となり、センス増幅器41のNチャネル
トランジスタ37がグランドレベルにプルダウンされ
る。この結果、メモリセルのデータは、ビット線BI
T,BIT ̄を介して、読み出しデータ線RD,RD ̄
に出力される。
In the above structure, at the time of writing, the write control line WE is at the high level and the write control line WE
Becomes low level. Therefore, the transfer gate 40 becomes conductive and the sense amplifier 41 becomes inactive. Therefore, the data on the write data lines WD and WD_ is output to the bit lines BIT and BIT_. On the other hand, at the time of reading, the write control line WE becomes low level and the write control line WE- becomes high level. Therefore, the transfer gate 40 is turned off, and the N-channel transistor 37 of the sense amplifier 41 is pulled down to the ground level. As a result, the data in the memory cell is stored in the bit line BI.
Read data lines RD and RD through T and BIT
Is output to.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明によれば、行列に配置されたメモ
リセルと、前記メモリセルに接続された一対のビット線
と、前記メモリセルに接続されたワード線と、前記一対
のビット線毎に書込専用データバス線との間に設けられ
た書込専用選択回路と、前記一対のビット線毎に読出専
用データバス線との間に設けられた読出専用選択回路と
を備え、前記メモリセルへの書き込み時には、前記書込
専用選択回路は、前記一対のビット線を選択的に書込専
用データバス線にのみカップリングし、前記メモリセル
からの読み出し時には、前記読出専用選択回路は、前記
一対のビット線を選択的に読出専用データバス線にのみ
カップリングするようにしたため、読み出し時には、ビ
ット線および読出専用データバス線から、書込専用デー
タバス線が切り離され、アクセスタイムが高速化でき
る。また、書き込み時には、ビット線および書込専用デ
ータバス線から、読出専用データバス線が切り離され、
書き込みパルス幅が短くて済む。さらに、書き込みリカ
バー時には、プルアップする必要がある配線が、ビット
線と読出専用データバス線だけとなり、書き込みリカバ
ーの高速化が可能となる。
According to the present invention, memory cells arranged in rows and columns, a pair of bit lines connected to the memory cells, a word line connected to the memory cells, and each pair of bit lines. A write-only selection circuit provided between the write-only data bus line and a read-only data bus line, and a read-only selection circuit provided between the read-only data bus line for each of the pair of bit lines. When writing to a cell, the write-only selection circuit selectively couples the pair of bit lines to only a write-only data bus line, and when reading from the memory cell, the read-only selection circuit: Since the pair of bit lines are selectively coupled only to the read-only data bus line, the write-only data bus line is disconnected from the bit line and the read-only data bus line during reading. Is, the access time can be made faster. Also, at the time of writing, the read-only data bus line is disconnected from the bit line and the write-only data bus line,
The write pulse width can be short. Further, at the time of write recovery, the wirings that need to be pulled up are only the bit line and the read-only data bus line, and the write recovery can be speeded up.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る半導体記憶装置の第1の実施例の
メモリ構成全体を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an entire memory configuration of a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】同実施例におけるカラムスイッチの構成を示す
ブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a column switch in the same embodiment.

【図3】本発明における第1の実施例の具体的な構成を
示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific configuration of the first exemplary embodiment of the present invention.

【図4】本発明における第2の実施例の具体的な構成を
示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a specific configuration of a second exemplary embodiment of the present invention.

【図5】本発明における第3の実施例の具体的な構成を
示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a specific configuration of a third exemplary embodiment of the present invention.

【図6】本発明における第4の実施例の具体的な構成を
示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a specific configuration of a fourth exemplary embodiment of the present invention.

【図7】従来の半導体記憶装置におけるカラムスイッチ
の構成を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a column switch in a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 読み出し用のトランスファ・ゲート(読出専用
選択回路) 3,4 書き込み用のトランスファ・ゲート(書込専用
選択回路) 11 メモリアレイ(メモリセル) 21 読み出し用の出力選択部 22 書き込み用の出力選択部 23,27 NAND回路 24,26 NOR回路 25 否定回路 31,32 読み出し用のPチャネルトランジスタ 33,34 書き込み用のNチャネルトランジスタ 35〜39 Nチャネルトランジスタ 40 転送ゲート 41 センス増幅器 BIT(BIT ̄) 一対のビット線 WD(WD ̄) 書き込みデータ線(書込専用データバ
ス線) RD(RD ̄) 読み出しデータ線(読出専用データバ
ス線)
1, 2 Transfer Gate for Read (Read-Only Select Circuit) 3, 4 Transfer Gate for Write (Write-Only Select Circuit) 11 Memory Array (Memory Cell) 21 Output Selector for Read 22 Output for Write Selector 23,27 NAND circuit 24,26 NOR circuit 25 Negative circuit 31,32 P-channel transistor for reading 33,34 N-channel transistor for writing 35-39 N-channel transistor 40 Transfer gate 41 Sense amplifier BIT (BIT) Pair of bit lines WD (WD) Write data line (write-only data bus line) RD (RD-) Read data line (read-only data bus line)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行列に配置されたメモリセルと、 前記メモリセルに接続された一対のビット線と、 前記メモリセルに接続されたワード線と、 前記一対のビット線毎に書込専用データバス線との間に
設けられた書込専用選択回路と、 前記一対のビット線毎に読出専用データバス線との間に
設けられた読出専用選択回路とを備え、 前記メモリセルへの書き込み時には、前記書込専用選択
回路は、前記一対のビット線を選択的に書込専用データ
バス線にのみカップリングし、前記メモリセルからの読
み出し時には、前記読出専用選択回路は、前記一対のビ
ット線を選択的に読出専用データバス線にのみカップリ
ングすることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A memory cell arranged in a matrix, a pair of bit lines connected to the memory cell, a word line connected to the memory cell, and a write-only data bus for each of the pair of bit lines. A write-only selection circuit provided between the memory cell and a read-only selection circuit provided between each of the pair of bit lines and a read-only data bus line. The write-only selection circuit selectively couples the pair of bit lines to only the write-only data bus line, and when reading from the memory cell, the read-only selection circuit selects the pair of bit lines. A semiconductor memory device characterized by being selectively coupled only to a read-only data bus line.
【請求項2】 前記書込専用選択回路及び前記読出専用
選択回路は、各々、スイッチ回路からなることを特徴と
する請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein each of the write-only selection circuit and the read-only selection circuit comprises a switch circuit.
【請求項3】 前記書込専用選択回路はスイッチ回路か
らなり、前記読出専用選択回路はセンス増幅器からなる
ことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the write-only selection circuit comprises a switch circuit, and the read-only selection circuit comprises a sense amplifier.
JP5220673A 1993-08-12 1993-08-12 Semiconductor storage Pending JPH0757477A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5220673A JPH0757477A (en) 1993-08-12 1993-08-12 Semiconductor storage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5220673A JPH0757477A (en) 1993-08-12 1993-08-12 Semiconductor storage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0757477A true JPH0757477A (en) 1995-03-03

Family

ID=16754674

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5220673A Pending JPH0757477A (en) 1993-08-12 1993-08-12 Semiconductor storage

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0757477A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001101863A (en) * 1999-09-27 2001-04-13 Fujitsu Ltd Semiconductor integrated circuit and control method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001101863A (en) * 1999-09-27 2001-04-13 Fujitsu Ltd Semiconductor integrated circuit and control method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6522163B1 (en) Apparatus and method for coupling a first node to a second node using switches which are selectively clocked for fast switching times
EP0675500B1 (en) An improved memory device and method of construction
EP0352572A2 (en) Semiconductor memory device with flash write mode of operation
US6664807B1 (en) Repeater for buffering a signal on a long data line of a programmable logic device
JPS63200391A (en) Static type semiconductor memory
US5268863A (en) Memory having a write enable controlled word line
KR100680520B1 (en) Multi-port memory cell with preset
EP1405315A2 (en) Method and system for banking register file memory arrays
US6378008B1 (en) Output data path scheme in a memory device
JP2604276B2 (en) Semiconductor storage device
US6882555B2 (en) Bi-directional buffering for memory data lines
US6256681B1 (en) Data buffer for programmable memory
US4858188A (en) Semiconductor memory with improved write function
JPH07141873A (en) Semiconductor memory
KR0155986B1 (en) Semiconductor memory device
US6603692B2 (en) Semiconductor memory device improving data read-out access
JPH09139075A (en) Dram array
JPH10334667A (en) Semiconductor memory apparatus
US6741493B1 (en) Split local and continuous bitline requiring fewer wires
JPH0757477A (en) Semiconductor storage
JP3596937B2 (en) Semiconductor storage device
EP0594266B1 (en) SRAM with flash clear for selectable I/Os
JP3291117B2 (en) Semiconductor storage device
KR100600279B1 (en) Write circuit for memory device
JPH0574160A (en) Multi-port memory