JPH0757468A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

Info

Publication number
JPH0757468A
JPH0757468A JP5217027A JP21702793A JPH0757468A JP H0757468 A JPH0757468 A JP H0757468A JP 5217027 A JP5217027 A JP 5217027A JP 21702793 A JP21702793 A JP 21702793A JP H0757468 A JPH0757468 A JP H0757468A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
initial data
memory cell
writing
memory
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP5217027A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Fukazawa
武 深澤
Akira Saeki
亮 佐伯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP5217027A priority Critical patent/JPH0757468A/en
Publication of JPH0757468A publication Critical patent/JPH0757468A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To attain technology for writing initial data at high speed. CONSTITUTION:The device is provided with MOS transistors M5 and M6 and a control system for controlling them-as an initial data writing means for writing initial data in the lump in plural memory cells, and the initial data are written in the lump in the plural memory cells MS. By this method, high speed writing of the initial data is attained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、さら
にはスタティック型メモリセルをアレイ状に配列して成
る半導体記憶装置のイニシャルデータ書込み技術に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to an initial data write technique for a semiconductor memory device having static memory cells arranged in an array.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置として、製造工程で保持
データが決定されるマスクROM(リード・オンリ・メ
モリ)や、電気的に書込み可能なEPROM(エレクト
リカリ・プログラマブル・リード・オンリ・メモリ)、
システムに組込んだ状態でプログラムの変更が可能とさ
れるEEPROM(エレクトリカリ・イレーザブル・ア
ンド・プログラマブル・リード・オンリ・メモリ)、S
RAM(スタティック・ランダム・アクセス・メモリ)
等が挙げられる。
2. Description of the Related Art As a semiconductor memory device, a mask ROM (read only memory) whose holding data is determined in a manufacturing process, an electrically writable EPROM (electrically programmable read only memory),
EEPROM (Electrical Erasable and Programmable Read Only Memory), S that allows program changes while installed in the system, S
RAM (Static Random Access Memory)
Etc.

【0003】尚、半導体記憶装置について記載された文
献の例としては、昭和59年11月30日に株式会社オ
ーム社から発行された「LSIハンドブック(第485
頁)」がある。
As an example of a document describing a semiconductor memory device, "LSI Handbook (485th Edition), published by Ohmsha Co., Ltd. on November 30, 1984, is available.
Page) ”.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ワークステーション等
においてシステム立上げの際に初期環境データ(イニシ
ャルデータ)をロードする必要があり、そのようなロー
ド先メモリ(メインメモリ)について本発明者が検討し
たところ、そのようなメインメモリとしては、EEPR
OM等よりは高速動作可能なSRAMが適しているが、
このSRAMを適用した場合には、書込みの際にSRA
Mの全アドレスをスキャンする必要があるため、イニシ
ャルデータの書込み時間(デー書込みサイクル幅、又は
書込みパルス幅)がどうしても長くなってしまい、その
ことが、システムの高速立上げを阻害していることが見
いだされた。
It is necessary to load initial environment data (initial data) at the time of system startup in a workstation or the like, and the present inventor examined such a load destination memory (main memory). However, as such a main memory, EEPR
SRAM that can operate at high speed is more suitable than OM etc.,
When this SRAM is applied, SRA is used for writing.
Since it is necessary to scan all the addresses of M, the write time of the initial data (day write cycle width or write pulse width) is inevitably long, which impedes high-speed system startup. Was found.

【0005】本発明の目的は、イニシャルデータを高速
に書込むための技術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a technique for writing initial data at high speed.

【0006】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0008】すなわち、半導体記憶装置において、複数
のメモリセルにイニシャルデータを一括して書込むため
のイニシャルデータ書込み手段を設けるものである。こ
のとき、上記イニシャルデータ書込み手段は、メモリセ
ルに結合されたイニシャルデータ書込み用素子と、メモ
リセルに結合されたワード線が非選択レベルとされた状
態で、上記イニシャルデータ書込み用素子を制御して上
記メモリセルの論理状態を決定するための制御手段とを
含んで構成することができる。また、上記イニシャルデ
ータ書込み用素子を制御してメモリセルの論理状態を決
定する直前に、上記メモリセルへの電源供給を一時的中
断させることによって上記メモリセルの保持データを消
去するためのセル電源部を、上記制御手段に含めること
ができる。
That is, the semiconductor memory device is provided with initial data writing means for collectively writing initial data to a plurality of memory cells. At this time, the initial data write means controls the initial data write element in a state in which the initial data write element coupled to the memory cell and the word line coupled to the memory cell are at the non-selection level. And a control means for determining the logic state of the memory cell. A cell power supply for erasing the data held in the memory cell by temporarily interrupting the power supply to the memory cell immediately before the control of the initial data writing element to determine the logic state of the memory cell. Parts may be included in the control means.

【0009】[0009]

【作用】上記した手段によれば、イニシャルデータ書込
み手段は、複数のメモリセルにイニシャルデータを一括
して書込み、このことが、イニシャルデータ書込みの高
速化を達成する。
According to the above-mentioned means, the initial data writing means collectively writes the initial data to the plurality of memory cells, which achieves the speedup of the initial data writing.

【0010】[0010]

【実施例】図1には本発明の一実施例にかかるSRAM
が示される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an SRAM according to an embodiment of the present invention.
Is shown.

【0011】図1に示されるSRAMは、特に制限され
ないが、ワークステーションなどにおいて、イニシャル
データがロードされるメインメモリとされ、公知の半導
体集積回路製造技術により、単結晶シリコンなどの一つ
の半導体基板に形成されている。
Although not particularly limited, the SRAM shown in FIG. 1 is used as a main memory to which initial data is loaded in a workstation or the like, and one semiconductor substrate such as single crystal silicon is manufactured by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique. Is formed in.

【0012】図1において6は、複数個のスタティック
型メモリセルをマトリクス配置したメモリセルアレイで
あり、メモリセルの選択端子はロウ方向毎にワード線に
結合され、メモリセルのデータ入出力端子はカラム方向
毎に相補データ線(相補ビット線とも称される)に結合
される。それぞれの相補データ線は、相補データ線に1
対1で結合された複数個のカラム選択スイッチを含むY
選択スイッチ回路9を介して相補コモンデータ線に共通
接続されている。
In FIG. 1, reference numeral 6 denotes a memory cell array in which a plurality of static memory cells are arranged in a matrix. Select terminals of the memory cells are connected to word lines in each row direction and data input / output terminals of the memory cells are column columns. Each direction is coupled to a complementary data line (also called a complementary bit line). 1 for each complementary data line
Y including a plurality of column selection switches connected in pair 1
It is commonly connected to the complementary common data line via the selection switch circuit 9.

【0013】外部より入力されるアドレス信号A0〜A
nのうちA0〜Amは、それに対応して配置されたアド
レスバッファ1−0〜1−mを介してXデコーダ4に伝
達され、アドレス信号Am+1〜Anは、それに対応し
て配置されたアドレスバッファ1−m+1〜1−nを介
してYデコーダ8に伝達される。ワードドライバ5はX
デコーダ4のデコード出力に基づいて、入力アドレス信
号に対応するワード線を選択レベルに駆動する。所定の
ワード線が駆動されると、このワード線に結合されたメ
モリセルが選択される。またYデコーダ8は、これに供
給されるアドレス信号に対応するカラム選択スイッチを
オン動作させて、上記選択された相補コモンデータ線に
導通する。このとき相補コモンデータ線の電位は、デー
タ入出力回路10に含まれるセンスアンプで増幅され、
さらに出力バッファを介して外部に出力可能とされる。
データ入出力回路10に含まれる入力バッファに外部か
ら書込みデータが与えられると、その書込みデータに従
って相補コモンデータ線が駆動され、それにより、アド
レス信号によって選択された相補データ線を介して所定
のメモリセルにそのデータに応ずる電荷情報が蓄積され
る。ここで、上記データ入出力回路10は、特に制限さ
れないが、4ビット構成とされ、4個の入力バッファ
と、それに対応する4個の出力バッファが含まれる。そ
してそのような構成において、外部端子数の減少のた
め、同一のビットにおいて入力バッファとそれに対応す
る出力バッファとで同一のデータ外部端子が共有され
る。
Address signals A0-A input from the outside
A0 to Am among n are transmitted to the X decoder 4 via the address buffers 1-0 to 1-m arranged corresponding to them, and the address signals Am + 1 to An are corresponding to the address buffers arranged corresponding to them. It is transmitted to the Y decoder 8 via 1-m + 1 to 1-n. Word driver 5 is X
Based on the decoded output of the decoder 4, the word line corresponding to the input address signal is driven to the selection level. When a predetermined word line is driven, the memory cell coupled to this word line is selected. Further, the Y decoder 8 turns on the column selection switch corresponding to the address signal supplied thereto, so that the column decoder switch is electrically connected to the selected complementary common data line. At this time, the potential of the complementary common data line is amplified by the sense amplifier included in the data input / output circuit 10,
Further, it can be output to the outside through the output buffer.
When write data is externally applied to the input buffer included in the data input / output circuit 10, the complementary common data line is driven according to the write data, whereby a predetermined memory is provided via the complementary data line selected by the address signal. Charge information corresponding to the data is stored in the cell. Here, although not particularly limited, the data input / output circuit 10 has a 4-bit structure and includes four input buffers and four output buffers corresponding thereto. In such a configuration, the same data external terminal is shared by the input buffer and the corresponding output buffer in the same bit because of the reduction in the number of external terminals.

【0014】また、本実施例では、アドレス信号A0〜
Anの変化を検出するアドレス変化検出回路(ATD回
路とも称される)11が設けられ、このアドレス変化検
出回路11の検出結果が制御部7に伝達されるようにな
っている。そして外部から与えられる制御信号としての
チップセレクト信号CS*(*はローアクティブ又は信
号反転を示す)、ライトイネーブル信号WE*、及びリ
セット信号RS*がそれぞれCS*バッファ2、WE*
バッファ3、及びRS*バッファ12を介して上記制御
部7に取込まれ、この制御部7により本実施例各部の動
作制御信号が生成されるようになっている。チップセレ
クト信号CS*がローレベルにアサートされることによ
って選択的に動作可能状態とされる。また、そのように
選択された状態で、ライトイネーブル信号WE*がロー
レベルにアサートされた場合にはメモリセルへのデータ
書込み状態とされ、ハイレベルにネゲートされた場合に
はメモリセルデータの読出し状態とされる。さらに、リ
セット信号RS*がローレベルにアサートされた場合に
は、本実施例SRAMは初期状態に戻され、上記チップ
セレクト信号CS*、ライトイネーブル信号WE*、さ
らにはアドレス信号A0〜Anの状態にかかわらず、メ
モリセルアレイ6には、所定のイニシャルデータが書込
まれる。このイニシャルデータの書込みを高速に行うた
め、本実施例では、セル電源部13、及びそれの後段に
配置された遅延回路14が設けられ、上記制御部7の制
御下で、イニシャルデータ書込みサイクルが起動される
ようになっている。尚、イニシャルデータ書込みサイク
ルは、本実施例SRAMへの通電が開始されてから、S
RAMとしての通常の動作が開始される直前にも起動さ
れるようになっている。
Further, in the present embodiment, the address signals A0 to A0.
An address change detection circuit (also referred to as an ATD circuit) 11 that detects a change in An is provided, and the detection result of this address change detection circuit 11 is transmitted to the control unit 7. Then, a chip select signal CS * (* indicates low active or signal inversion) as a control signal given from the outside, a write enable signal WE *, and a reset signal RS * are CS * buffer 2 and WE *, respectively.
It is taken in by the control unit 7 via the buffer 3 and the RS * buffer 12, and the control unit 7 generates the operation control signals for the respective units of this embodiment. When the chip select signal CS * is asserted to the low level, the operation is selectively enabled. Further, in such a selected state, when the write enable signal WE * is asserted to the low level, the data is written to the memory cell, and when it is negated to the high level, the memory cell data is read. To be in a state. Further, when the reset signal RS * is asserted to the low level, the SRAM of this embodiment is returned to the initial state, and the state of the chip select signal CS *, the write enable signal WE *, and the address signals A0 to An are obtained. Regardless of this, predetermined initial data is written in the memory cell array 6. In order to write the initial data at high speed, in this embodiment, the cell power supply unit 13 and the delay circuit 14 arranged at the subsequent stage thereof are provided, and the initial data write cycle is controlled under the control of the control unit 7. It is supposed to be started. In the initial data write cycle, after the energization of the SRAM of this embodiment is started,
The RAM is activated immediately before the normal operation of the RAM is started.

【0015】13はセル電源部であり、このセル電源部
13は、上記メモリセルアレイ6に供給されるセル電源
電圧VC1を形成する。このセル電源電圧VC1は、特
に制限されないが、図3に示されるように、イニシャル
データ書込みサイクルの時刻t1〜t3において、ロー
レベルとされ、その後ハイレベルとされるようになって
いる。そのような制御は、制御部87によって行われ
る。また、外部からのリセット信号RS*がアサートさ
れた場合にも、同様に立上りが遅延されたセル電源電圧
VC1が生成される。つまり、本実施例SRAMに通電
が開始された場合、及びリセット信号RS*がアサート
された場合には、セル電源部13から出力されるセル電
源電圧VC1は、図2に示されるように、立上りが遅延
されることによって短時間だけメモリセルへの通電が停
止されるようになっている。そのように電圧レベルを制
御するのは、後述するように、イニシャルデータを書込
む直前に、全メモリセルの記憶データを消去するためで
ある。
Reference numeral 13 is a cell power supply unit, and this cell power supply unit 13 forms a cell power supply voltage VC1 supplied to the memory cell array 6. The cell power supply voltage VC1 is not particularly limited, but as shown in FIG. 3, is set to a low level at times t1 to t3 of the initial data write cycle, and then set to a high level. Such control is performed by the control unit 87. Also, when the reset signal RS * from the outside is asserted, the cell power supply voltage VC1 whose rising edge is delayed is similarly generated. That is, when the energization of the SRAM of this embodiment is started and the reset signal RS * is asserted, the cell power supply voltage VC1 output from the cell power supply unit 13 rises as shown in FIG. Is delayed so that energization to the memory cell is stopped for a short time. The reason for controlling the voltage level in this way is to erase the stored data of all memory cells immediately before writing the initial data, as will be described later.

【0016】上記セル電源部13の後段には、図3に示
されるように、セル電源電圧VC1を遅延させることに
よってイニシャルデータ書込み信号IDWを生成するた
めの遅延回路14が配置される。図3に示されるよう
に、イニシャルデータ書込み信号IDWは、セル電源電
圧VC1の立ち下がりエッジから遅延されて時刻t2で
ハイレベルとされ、イニシャルデータ書込みサイクルの
終り、すなわち時刻t4でローレベルにされる。
As shown in FIG. 3, a delay circuit 14 for generating the initial data write signal IDW by delaying the cell power supply voltage VC1 is arranged at the subsequent stage of the cell power supply unit 13. As shown in FIG. 3, the initial data write signal IDW is delayed from the falling edge of the cell power supply voltage VC1 and is set to high level at time t2, and is set to low level at the end of the initial data write cycle, that is, time t4. It

【0017】図2には上記メモリセルアレイに含まれる
複数のメモリセルMSのうちの一つが代表的に示され
る。
FIG. 2 representatively shows one of the plurality of memory cells MS included in the memory cell array.

【0018】特に制限されないが、メモリセルMSは、
nチャンネル型MOSトランジスタM3、M4、及びp
チャンネル型MOSトランジスタM7、M8が結合され
て成るフリップフロップを含む。pチャンネル型MOS
トランジスタM7、M8には、メモリセル電源としての
セル電源電圧VC1が供給されるようになっている。n
チャンネル型MOSトランジスタM3、M4は低電位側
電源Vssに結合される。そしてイニシャルデータ書込
みのため、このnチャンネル型MOSトランジスタM
3、M4には、それぞれnチャンネル型MOSトランジ
スタM5、M6が並列接続されている。nチャンネル型
MOSトランジスタM5のゲート電極は、コンタクトC
T1を介してイニシャルデータ書込み線17に結合され
ることによって、イニシャルデータ書込み信号IDWが
印加されるようになっている。また、nチャンネル型M
OSトランジスタM6のゲート電極は、コンタクトCT
2を介して低電位側電源Vssに結合される。相補デー
タ線d,d*は、それぞれnチャンネル型MOSトラン
ジスタM1、M2を介してフリップフロップに結合され
る。このnチャンネル型MOSトランジスタM1、M2
のゲート電極はワード線16に結合されており、このワ
ード線16がハイレベルに駆動されたされた場合に、n
チャンネル型MOSトランジスタM1、M2がオンされ
ることによって、メモリセルMSからのデータの読出し
や、メモリセルMSへのデータ書込みが可能とされる。
この相補データ線d,d*は、図示されないが、図1の
Y選択スイッチ回路9を介して選択的に相補コモンデー
タ線に結合されるようになっている。また、特に制限さ
れないが、この相補データ線d,d*には、それの負荷
としてのpチャンネル型MOSトランジスタM9、M1
0が結合されており、このMOSトランジスタM9、M
10を介して相補データ線d,d*が、プリチャージさ
れるようになっている。
Although not particularly limited, the memory cell MS is
n-channel type MOS transistors M3, M4, and p
It includes a flip-flop formed by coupling channel type MOS transistors M7 and M8. p-channel type MOS
A cell power supply voltage VC1 as a memory cell power supply is supplied to the transistors M7 and M8. n
The channel type MOS transistors M3 and M4 are coupled to the low potential side power source Vss. This n-channel MOS transistor M is used for writing initial data.
N-channel MOS transistors M5 and M6 are connected in parallel to 3 and M4, respectively. The gate electrode of the n-channel MOS transistor M5 has a contact C
By being coupled to the initial data write line 17 via T1, the initial data write signal IDW is applied. Also, n-channel type M
The gate electrode of the OS transistor M6 has a contact CT
It is coupled to the low potential side power source Vss via 2. The complementary data lines d and d * are coupled to flip-flops via n-channel MOS transistors M1 and M2, respectively. The n-channel MOS transistors M1 and M2
Has its gate electrode coupled to a word line 16, and when this word line 16 is driven to a high level, n
By turning on the channel-type MOS transistors M1 and M2, it is possible to read data from the memory cell MS and write data to the memory cell MS.
Although not shown, the complementary data lines d and d * are selectively coupled to the complementary common data line via the Y selection switch circuit 9 of FIG. Although not particularly limited, the complementary data lines d and d * have p-channel MOS transistors M9 and M1 as their loads.
0 is coupled to the MOS transistors M9 and M
The complementary data lines d and d * are precharged via 10.

【0019】尚、他のメモリセルも上記と同様に構成さ
れる。
The other memory cells are also constructed in the same manner as above.

【0020】イニシャルデータの書込みは次のように行
われる。
Writing of the initial data is performed as follows.

【0021】本実施例SRAMへの通電が開始され、若
しくはリセット信号RS*がローレベルにアサートされ
た場合に、セル電源部13の出力であるセル電源電圧V
C1がローレベルにされることによって、全てのメモリ
セルMSの記憶データが失われる(t1)。ワード線1
6の非選択状態により、nチャンネル型MOSトランジ
スタM1、M2がオフされた状態で、イニシャルデータ
書込み信号IDWがローレベルからハイレベルにされる
(t2)。この状態で、セル電源電圧VC1が昇圧され
ると(t3)、nチャンネル型MOSトランジスタM5
側の記憶ノードN1は低電位側電源Vssレベルにな
り、また、nチャンネル型MOSトランジスタM6側の
記憶ノードN2は高電位側電源Vccレベルに設定され
る。つまり、nチャンネル型MOSトランジスタM5の
ゲート電極にイニシャルデータ書込み信号IDWのハイ
レベルが印加されることによって当該MOSトランジス
タM5がオンされるので、ノードN1は低電位側電源V
ssレベルとされるが、nチャンネル型MOSトランジ
スタM6のゲート電極が低電位側電源Vssレベルとさ
れているので、オフ状態とされる。
The cell power supply voltage V which is the output of the cell power supply unit 13 when the energization of the SRAM of this embodiment is started or the reset signal RS * is asserted to the low level.
By setting C1 to the low level, the stored data in all the memory cells MS is lost (t1). Word line 1
Due to the non-selected state of 6, the initial data write signal IDW is changed from the low level to the high level with the n-channel type MOS transistors M1 and M2 turned off (t2). In this state, when the cell power supply voltage VC1 is boosted (t3), the n-channel MOS transistor M5
Side storage node N1 is set to the low potential side power supply Vss level, and storage node N2 on the n-channel MOS transistor M6 side is set to the high potential side power supply Vcc level. That is, since the MOS transistor M5 is turned on by applying the high level of the initial data write signal IDW to the gate electrode of the n-channel MOS transistor M5, the node N1 is connected to the low-potential-side power supply V
Although it is set to the ss level, since the gate electrode of the n-channel type MOS transistor M6 is set to the low potential side power source Vss level, it is turned off.

【0022】イニシャルデータ書込み用のMOSトラン
ジスタM5、M6のゲート電極を、イニシャルデータ書
込み線17に結合させるか、低電位側電源Vssに結合
させるかによって、メモリセルへの書込みデータの状態
が決定される。つまり、本実施例ではイニシャルデータ
書込み信号IDWがハイレベルになることによってノー
ドN1がローレベルとされるので、当該メモリセルMS
には、”0”が書込まれるが、これとは逆に、nチャン
ネル型MOSトランジスタM5のゲート電極を低電位側
電源Vssに結合し、nチャンネル型MOSトランジス
タM6のゲート電極をイニシャルデータ書込み線17に
結合するようにすれば、nチャンネル型MOSトランジ
スタM5がオフ状態、nチャンネル型MOSトランジス
タM6がオン状態とされることにより、当該メモリセル
MSには、”1”が書込まれる。つまり、nチャンネル
型MOSトランジスタM5、又はnチャンネル型MOS
トランジスタM6のいずれかがイニシャルデータ書込み
線17に結合されるかによって、メモリセルMSへ書込
まれるべきデータの論理が決定される。
The state of the write data to the memory cell is determined by whether the gate electrodes of the MOS transistors M5 and M6 for writing the initial data are connected to the initial data writing line 17 or the low potential side power source Vss. It That is, in this embodiment, the node N1 is set to the low level when the initial data write signal IDW is set to the high level.
, "0" is written in, but conversely, the gate electrode of the n-channel type MOS transistor M5 is coupled to the low potential side power source Vss, and the gate electrode of the n-channel type MOS transistor M6 is written with initial data. By connecting to the line 17, the n-channel MOS transistor M5 is turned off and the n-channel MOS transistor M6 is turned on, so that "1" is written in the memory cell MS. That is, the n-channel MOS transistor M5 or the n-channel MOS transistor
The logic of data to be written in the memory cell MS is determined depending on which one of the transistors M6 is coupled to the initial data write line 17.

【0023】そのようなイニシャルデータの状態は、本
実施例SRAMの製造工程すなわち、ウエハ形成工程の
線間コンタクト工程にて決定される。
The state of such initial data is determined in the manufacturing process of the SRAM of this embodiment, that is, in the line contact process in the wafer forming process.

【0024】上記のようなイニシャルデータの書込み
は、全メモリセルについて同時に行われる。そのため、
従来のように全アドレスをスキャンすることによってR
OM、あるいは固定ディスクからイニシャルデータをロ
ードする場合に比べて、イニシャルデータの書込み時間
を大幅に短縮することができる。
The initial data writing as described above is performed simultaneously for all memory cells. for that reason,
R by scanning all addresses as before
As compared with the case of loading the initial data from the OM or the fixed disk, the writing time of the initial data can be significantly shortened.

【0025】イニシャルデータ書込み線サイクルは、イ
ニシャルデータ書込み信号IDWがローレベルにネゲー
トされることによって終了され(t4)、それ以降、通
常のSRAM動作サイクルとされる。例えば、通常のS
RAM動作サイクルでは、アドレス信号A0〜Amに応
じて複数のワード線のうちの1本が選択レベルに駆動さ
れ、アドレス信号Am+1〜Anに応じてY選択スイッ
チが制御されることによって、相補データ線が選択的に
相補コモンデータ線に結合されることによって、特定さ
れたメモリセルからのデータ読出し、又は当該メモリセ
ルへのデータ書込みが可能とされる。
The initial data write line cycle is ended by negating the initial data write signal IDW to the low level (t4), and thereafter, the normal SRAM operation cycle is started. For example, normal S
In the RAM operation cycle, one of the plurality of word lines is driven to the selection level according to the address signals A0 to Am, and the Y selection switch is controlled according to the address signals Am + 1 to An, so that the complementary data lines are Is selectively coupled to the complementary common data line, so that data can be read from or written in the specified memory cell.

【0026】上記実施例によれば以下の作用効果が得ら
れる。
According to the above embodiment, the following operational effects can be obtained.

【0027】(1)制御部7によって制御されるセル電
源部13や遅延部14、さらには、メモリセルMSに結
合されたイニシャルデータ書込み用素子としてのnチャ
ンネル型MOSトランジスタM5、M6によって、イニ
シャルデータ書込み手段を形成して、全てのメモリセル
にイニシャルデータを一括して書込むようにしているの
で、ROMや固定ディスクからイニシャルデータをロー
ドする際に全アドレススキャンが不要とされ、当該イニ
シャルデータの書込みを高速に行うことができる。その
ため、本実施例SRAMをメインメモリとするワークス
テーション等において、システム立上げの高速化を図る
ことができる。例えば、従来技術において、最大アクセ
スタイム20ns、128K×8ビット構成のSRA
M、2個にイニシャルデータ書込みを行なう場合を考え
ると、イニシャルデータ書込みサイクルは(このSRA
Mで書込み時間が律速されるとして)、 20ns×128K×2=5.12ms であるが、そに対して上記実施例によれば、pチャンネ
ル型MOSトランジスタM7、M8の能力にもよるが、
イニシャルデータ書込みサイクルを、50ns以下とす
ることも可能である。
(1) Initialization is performed by the cell power supply unit 13 and the delay unit 14 controlled by the control unit 7, and the n-channel type MOS transistors M5 and M6 as initial data writing elements coupled to the memory cell MS. Since the data writing means is formed to write the initial data to all the memory cells in a lump, it is not necessary to scan all addresses when loading the initial data from the ROM or the fixed disk, and the writing of the initial data is performed. Can be done at high speed. Therefore, in a workstation or the like that uses the SRAM of this embodiment as a main memory, the system can be started up faster. For example, in the prior art, SRA with a maximum access time of 20 ns and a 128K × 8 bit configuration is used.
Considering the case of performing initial data write to M and 2, the initial data write cycle is (this SRA
It is 20 ns × 128 K × 2 = 5.12 ms, assuming that the write time is controlled by M). However, according to the above embodiment, it depends on the capability of the p-channel type MOS transistors M7 and M8.
It is also possible to set the initial data write cycle to 50 ns or less.

【0028】(2)上記イニシャルデータ書込み手段
は、メモリセルMSに結合されたイニシャルデータ書込
み用素子としてのnチャンネル型MOSトランジスタM
5、M6と、ワード線16が非選択レベルとされた状態
で、nチャンネル型MOSトランジスタM5を制御して
上記メモリセルの論理状態を決定するための制御手段と
しての遅延部14とによって、容易に構成することがで
きる。
(2) The initial data write means is an n-channel MOS transistor M as an initial data write element coupled to the memory cell MS.
5, M6 and the delay unit 14 as a control means for controlling the n-channel MOS transistor M5 to determine the logic state of the memory cell with the word line 16 at the non-selection level. Can be configured to.

【0029】(3)上記メモリセルMSの論理状態を決
定する直前に、上記メモリセルMSへの電源供給を一時
的中断させることによって上記メモリセルの保持データ
を消去するためのセル電源部13を設けることによっ
て、イニシャルデータ書込みの的確化を図ることができ
る。
(3) Immediately before determining the logic state of the memory cell MS, a cell power supply unit 13 for erasing the data held in the memory cell by temporarily interrupting the power supply to the memory cell MS is provided. By providing, it is possible to achieve accurate writing of the initial data.

【0030】図4には他の実施例におけるメモリセルア
レイ6に含まれる複数のメモリセルMSのうちの一つが
代表的に示される。
FIG. 4 representatively shows one of the plurality of memory cells MS included in the memory cell array 6 in another embodiment.

【0031】上記実施例では一つのメモリセルに書込ま
れるイニシャルデータが固定されているが、本実施例で
は、複数のイニシャルデータパターンのうちから所望の
パターンを選択できるようになっている。すなわち、イ
ニシャルデータ書込み線21〜26が設けられ、それ
が、図1に示される遅延回路14によって選択的に駆動
されることによって、メモリセルに”1”又は”0”を
書込むことができる。特に制限されないが、イニシャル
データ書込み線21,22には、イニシャルデータ書込
み信号IDW1,イニシャルデータ書込み信号IDW1
*が、イニシャルデータ書込み線23,24には、イニ
シャルデータ書込み信号IDW2,イニシャルデータ書
込み信号IDW2*が、イニシャルデータ書込み線2
5,26には、イニシャルデータ書込み信号IDW3,
イニシャルデータ書込み信号IDW3*が、それぞれ供
給されるようになっている。nチャンネル型MOSトラ
ンジスタM5のゲート電極は、コンタクトCT21によ
りイニシャルデータ書込み線21に結合され、またコン
タクトCT24によりイニシャルデータ書込み線24に
結合され、さらにコンタクトCT26によりイニシャル
データ書込み線26に結合されている。同様に、nチャ
ンネル型MOSトランジスタM6のゲート電極は、コン
タクトCT22によりイニシャルデータ書込み線22に
結合され、またコンタクトCT23によりイニシャルデ
ータ書込み線23に結合され、さらにコンタクトCT2
5によりイニシャルデータ書込み線25に結合されてい
る。そのような構成において、例えば、図5に示される
ように、イニシャルデータ書込み信号IDW1がハイレ
ベルにアサートされ、イニシャルデータ書込み信号ID
W1*がローレベルにアサートされるとき、信号破壊を
防止するため、その他のイニシャルデータ書込み信号は
ハイインピーダンスとされる。このとき、メモリセルに
はイニシャルデータ”0”が書込まれる。また、イニシ
ャルデータ書込み信号IDW2がハイレベルにアサート
され、イニシャルデータ書込み信号IDW2*がローレ
ベルにアサートされるとき、メモリセには、イニシャル
データ”1”が書込まれる。従って、製造工程におい
て、nチャンネル型MOSトランジスタM5、M6のゲ
ート電極をコンタクトによって結合すべきイニシャルデ
ータ書込み線をメモリセル単位で選択するようにすれ
ば、イニシャルデータとして、複数のパターンが用意さ
れることになり、それを任意に選択することができる。
このような構成は、複数種類のイニシャルデータが存在
し、それを条件によって切換える必要がある場合に有効
とされる。
In the above embodiment, the initial data written in one memory cell is fixed, but in this embodiment, a desired pattern can be selected from a plurality of initial data patterns. That is, the initial data write lines 21 to 26 are provided and selectively driven by the delay circuit 14 shown in FIG. 1 to write "1" or "0" in the memory cell. . Although not particularly limited, the initial data write lines 21 and 22 are connected to the initial data write signal IDW1 and the initial data write signal IDW1.
* Indicates that the initial data write signal 23, 24 has the initial data write signal IDW2, the initial data write signal IDW2 * has the initial data write line 2
5 and 26, initial data write signal IDW3,
The initial data write signal IDW3 * is supplied respectively. The gate electrode of the n-channel MOS transistor M5 is coupled to the initial data write line 21 by the contact CT21, coupled to the initial data write line 24 by the contact CT24, and further coupled to the initial data write line 26 by the contact CT26. . Similarly, the gate electrode of the n-channel MOS transistor M6 is coupled to the initial data write line 22 by the contact CT22, coupled to the initial data write line 23 by the contact CT23, and further contact CT2.
5 is coupled to the initial data write line 25. In such a configuration, for example, as shown in FIG. 5, the initial data write signal IDW1 is asserted at a high level, and the initial data write signal ID
When W1 * is asserted to low level, the other initial data write signals are set to high impedance to prevent signal destruction. At this time, initial data "0" is written in the memory cell. When the initial data write signal IDW2 is asserted to the high level and the initial data write signal IDW2 * is asserted to the low level, the initial data "1" is written in the memory cell. Therefore, in the manufacturing process, a plurality of patterns are prepared as the initial data if the initial data write lines to be connected to the gate electrodes of the n-channel MOS transistors M5 and M6 by contacts are selected in memory cell units. That is, it can be arbitrarily selected.
Such a configuration is effective when there are a plurality of types of initial data and it is necessary to switch them depending on the conditions.

【0032】図6には他の実施例におけるメモリセルア
レイ6に含まれる複数のメモリセルMSのうちの一つが
代表的に示される。
FIG. 6 representatively shows one of the plurality of memory cells MS included in the memory cell array 6 in another embodiment.

【0033】上記実施例ではpチャンネル型MOSトラ
ンジスタを負荷とするメモリセルを用いたが、それに限
定されるものではなく、例えば、図6に示されるよう
に、高抵抗R1,R2を負荷としてメモリセルを構成す
ることができ、その場合においても、本発明を適用する
ことができる。高抵抗R1,R2の値は、特に制限され
ないが、互いに等しい。そのように高抵抗負荷によりメ
モリセルを構成した場合でも、上記実施例と同様の効果
を得ることができる。尚、セル電源電圧VC1をハイレ
ベルにしてから、記憶ノードN1と記憶ノードN2との
電位差が、データを記憶するのに安定するまでに要する
時間は、高抵抗値R1、R2と、記憶ノードN1,N2
の静電容量との時定数で決り、そのために、イニシャル
データ書込みサイクルの現実的な値は数msとなること
が考えられ、上記実施例のようにpチャンネル型MOS
トランジスタM7、M8をメモリセル負荷とする場合に
比して、イニシャルデータ書込みに要する時間が、若干
長くなる。
Although the memory cell having the load of the p-channel type MOS transistor is used in the above-mentioned embodiment, the memory cell is not limited to this. For example, as shown in FIG. 6, the high resistances R1 and R2 are used as the memory. A cell can be configured, and in that case, the present invention can be applied. Although the values of the high resistances R1 and R2 are not particularly limited, they are equal to each other. Even when the memory cell is configured by such a high resistance load, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained. Note that the time required for the potential difference between the storage node N1 and the storage node N2 to become stable for storing data after the cell power supply voltage VC1 is set to the high level is the high resistance values R1 and R2 and the storage node N1. , N2
Of the p-channel type MOS as in the above-described embodiment. Therefore, the actual value of the initial data write cycle may be several ms.
The time required to write the initial data is slightly longer than when the transistors M7 and M8 are used as the memory cell load.

【0034】図7には他の実施例におけるメモリセルア
レイ6に含まれる複数のメモリセルMSのうちの一つが
代表的に示される。
FIG. 7 representatively shows one of a plurality of memory cells MS included in the memory cell array 6 in another embodiment.

【0035】上記実施例では、nチャンネル型MOSト
ランジスタM5、M6を有するものについて説明した
が、それを省略することもできる。例えば、図7に示さ
れる実施例では、相補データ線d,d*を介してメモリ
セルMSにイニシャルデータを書込むようにしている。
通常のSRAM動作では、カラム選択スイッチ回路9
(図1参照)によって複数の相補データ線が選択的に相
補コモンデータ線に結合されるが、イニシャルデータ書
込みサイクルにおいては、特に制限されないが、全ての
相補データ線が、それに対応する相補コモンデータ線に
結合されることによって、外部から入力された書込みデ
ータが全ての相補データ線に同時に伝達されるようにな
っている。この場合の動作は、図8に示されるように、
セル電源電圧VC1がローレベルにされるのとほぼ同時
に、負荷制御電圧VC2がハイレベルとなる。この負荷
制御電圧VC2は、pチャンネル型MOSトランジスタ
M9、M10のゲート電極に印加されるようになってお
り、イニシャルデータ書込みサイクルの終了まで、ハイ
レベルとされる。それにより、pチャンネル型MOSト
ランジスタM9、M10はイニシャルデータ書込みサイ
クルの終了まで、オフ状態とされる。そのようにイニシ
ャルデータ書込み時にpチャンネル型MOSトランジス
タM9、M10がオフされることによって、相補データ
線d,d*に無駄な電流が流れるのを阻止している。
In the above embodiment, the n-channel MOS transistors M5 and M6 have been described, but they may be omitted. For example, in the embodiment shown in FIG. 7, the initial data is written in the memory cell MS via the complementary data lines d and d *.
In the normal SRAM operation, the column selection switch circuit 9
Although a plurality of complementary data lines are selectively coupled to the complementary common data line by (see FIG. 1), in the initial data write cycle, although not particularly limited, all complementary data lines have the corresponding complementary common data line. By being coupled to the lines, write data input from the outside can be simultaneously transmitted to all complementary data lines. The operation in this case is as shown in FIG.
Almost at the same time when the cell power supply voltage VC1 is set to low level, the load control voltage VC2 becomes high level. The load control voltage VC2 is applied to the gate electrodes of the p-channel MOS transistors M9 and M10, and is kept at the high level until the initial data write cycle ends. As a result, the p-channel MOS transistors M9 and M10 are kept in the off state until the end of the initial data write cycle. By turning off the p-channel type MOS transistors M9 and M10 at the time of writing the initial data in this way, useless current is prevented from flowing through the complementary data lines d and d *.

【0036】本実施例の場合、イニシャルデータ書込み
サイクルにおいて、メモリセルアレイにおける全てのワ
ード線がハイレベルに駆動される。そのとき外部から与
えられたイニシャルデータが、対応する相補データ線
d,d*を介してメモリセルに書込まれる。データ線d
がハイレベルの場合、当該メモリセルには、イニシャル
データ”1”が書込まれる。このように構成しても、複
数のメモリセルMSへのイニシャルデータの一括書込み
が可能とされるから、上記実施例と同様の効果を得るこ
とができる。
In the case of this embodiment, all word lines in the memory cell array are driven to a high level in the initial data write cycle. At this time, externally applied initial data is written in the memory cell via the corresponding complementary data lines d and d *. Data line d
Is high level, initial data "1" is written in the memory cell. Even with such a configuration, the initial data can be collectively written into the plurality of memory cells MS, and therefore the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained.

【0037】本実施例において、セル電源電圧VC1、
負荷制御電圧VC2のレベル制御や、全ワード線の同時
駆動制御は、特に制限されないが、制御部7(図1参
照)によって行うことができる。
In this embodiment, the cell power supply voltage VC1,
Although not particularly limited, the level control of the load control voltage VC2 and the simultaneous drive control of all word lines can be performed by the control unit 7 (see FIG. 1).

【0038】図9には他の実施例におけるメモリセルア
レイ6に含まれる複数のメモリセルMSのうちの一つが
代表的に示される。
FIG. 9 representatively shows one of the plurality of memory cells MS included in the memory cell array 6 in another embodiment.

【0039】図2及び図4では、nチャンネル型MOS
トランジスタM3、M4に、それぞれnチャンネル型M
OSトランジスタM5、M6を並列接続することによっ
て、イニシャルデータの書込みを行うようにしたが、図
9に示されるように、nチャンネル型MOSトランジス
タM3、M4の負荷とされるpチャンネル型MOSトラ
ンジスタM7、M8に、それぞれpチャンネル型MOS
トランジスタM11、M12を並列接続するようにして
も、イニシャルデータの書込みを行うことができる。そ
の場合において、特に制限されないが、pチャンネル型
MOSトランジスタM11のゲート電極はコンタクトC
T3によりイニシャルデータ書込み線27に結合され、
pチャンネル型MOSトランジスタM12のゲート電極
はコンタクトCT4によりセル電源電圧(VC1)ライ
ン28に結合される。ここで、上記イニシャルデータ書
込み線27には、上記実施例におけるイニシャルデータ
書込み信号IDWが反転されたもの(イニシャルデータ
書込み信号IDW*)が供給される。このように構成し
ても、イニシャルデータ書込み信号IDW*をローレベ
ルにアサートすることによって、メモリセルMSへのイ
ニシャルデータ書込みが可能とされるので、上記実施例
と同様の効果を得ることができる。
In FIGS. 2 and 4, an n-channel type MOS is used.
N-channel type M is used for each of the transistors M3 and M4.
Although the initial data is written by connecting the OS transistors M5 and M6 in parallel, as shown in FIG. 9, the p-channel MOS transistor M7 which is a load of the n-channel MOS transistors M3 and M4 is used. , M8 are p-channel type MOS
Even if the transistors M11 and M12 are connected in parallel, the initial data can be written. In that case, although not particularly limited, the gate electrode of the p-channel MOS transistor M11 has a contact C.
It is connected to the initial data write line 27 by T3,
The gate electrode of the p-channel MOS transistor M12 is coupled to the cell power supply voltage (VC1) line 28 by the contact CT4. Here, the initial data write line 27 is supplied with an inverted version of the initial data write signal IDW in the above embodiment (initial data write signal IDW *). Even with this configuration, by asserting the initial data write signal IDW * at a low level, it is possible to write the initial data to the memory cell MS, so that the same effect as the above embodiment can be obtained. .

【0040】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Yes.

【0041】例えば、上記実施例ではMOSトランジス
タを適用したものについて説明したが、バイポーラトラ
ンジスタを適用することもできる。また、イニシャルデ
ータ書込み信号IDWをSRAMの外部から供給するよ
うにしてもよい。
For example, although the MOS transistor is applied in the above embodiment, a bipolar transistor may be applied. Further, the initial data write signal IDW may be supplied from outside the SRAM.

【0042】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるワーク
ステーションに適用した場合について説明したが、本発
明はそれに限定されるのもではなく、画像データを含む
初期環境データを高速にロードする必要がある各種制御
システムや、表示システムに広く適用することができ
る。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is applied to a workstation which is a field of application which is the background of the invention has been mainly described, but the present invention is not limited to this, and image data is not limited thereto. It can be widely applied to various control systems and display systems that require high-speed loading of initial environment data including.

【0043】本発明は、少なくとも複数のメモリセルを
含むことを条件に適用することができる。
The present invention can be applied on condition that it includes at least a plurality of memory cells.

【0044】[0044]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0045】すなわち、イニシャルデータ書込み手段を
設け、複数のメモリセルにイニシャルデータを一括して
書込みことにより、イニシャルデータ書込み時間の高速
化を図ることができる。
That is, by providing the initial data writing means and collectively writing the initial data to the plurality of memory cells, the initial data writing time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例であるSRAMの全体的な構
成ブロック図である。
FIG. 1 is an overall configuration block diagram of an SRAM which is an embodiment of the present invention.

【図2】上記SRAMにおけるメモリセル部分の詳細な
回路図である。
FIG. 2 is a detailed circuit diagram of a memory cell portion in the SRAM.

【図3】上記SRAMにおける主要部の動作タイミング
図である。
FIG. 3 is an operation timing chart of a main part of the SRAM.

【図4】本発明の他の実施例であるSRAMにおけるメ
モリセル部分の詳細な回路図である。
FIG. 4 is a detailed circuit diagram of a memory cell portion in an SRAM which is another embodiment of the present invention.

【図5】図4に示される回路における主要部の動作タイ
ミングである。
5 is an operation timing of a main part in the circuit shown in FIG.

【図6】本発明の他の実施例であるSRAMにおけるメ
モリセル部分の詳細な回路図である。
FIG. 6 is a detailed circuit diagram of a memory cell portion in an SRAM which is another embodiment of the present invention.

【図7】本発明の他の実施例であるSRAMにおけるメ
モリセル部分の詳細な回路図である。
FIG. 7 is a detailed circuit diagram of a memory cell portion in an SRAM which is another embodiment of the present invention.

【図8】図7に示される回路における主要部の動作タイ
ミングである。
8 is an operation timing of a main part in the circuit shown in FIG.

【図9】本発明の他の実施例であるSRAMにおけるメ
モリセル部分の詳細な回路図である。
FIG. 9 is a detailed circuit diagram of a memory cell portion in an SRAM which is another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1−0〜1−n アドレスバッファ 2 CS*バッファ 3 WE*バッファ 4 Xデコーダ 5 ワードドライバ 6 メモリセルアレイ 7 制御部 8 Yデコーダ 9 Y選択スイッチ回路 10 データ入出力回路 12 RS*バッファ 13 セル電源部 14 遅延部 1-0 to 1-n address buffer 2 CS * buffer 3 WE * buffer 4 X decoder 5 word driver 6 memory cell array 7 control unit 8 Y decoder 9 Y selection switch circuit 10 data input / output circuit 12 RS * buffer 13 cell power supply unit 14 Delay section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐伯 亮 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Ryo Saeki 5-20-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Incorporated company Hitachi Ltd. Semiconductor Division

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スタティック型の複数のメモリセルを含
んで成る半導体記憶装置において、上記複数のメモリセ
ルに、イニシャルデータを一括して書込むためのイニシ
ャルデータ書込み手段を含むことを特徴とする半導体記
憶装置。
1. A semiconductor memory device including a plurality of static memory cells, wherein the plurality of memory cells include initial data writing means for collectively writing initial data. Storage device.
【請求項2】 上記イニシャルデータ書込み手段は、上
記メモリセルに結合されたイニシャルデータ書込み用素
子と、上記メモリセルに結合されたワード線が非選択レ
ベルとされた状態で、上記イニシャルデータ書込み用素
子を制御して上記メモリセルの論理状態を決定するため
の制御手段とを含んで成る請求項1記載の半導体記憶装
置。
2. The initial data writing means is for writing the initial data in a state where an initial data writing element coupled to the memory cell and a word line coupled to the memory cell are at a non-selection level. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising control means for controlling an element to determine a logic state of said memory cell.
【請求項3】 上記制御手段は、上記イニシャルデータ
書込み用素子を制御して上記メモリセルの論理状態を決
定する直前に、上記メモリセルへの電源供給を一時的に
中断させることによって上記メモリセルの保持データを
消去するためのセル電源部を含む請求項1又は2記載の
半導体記憶装置。
3. The memory cell, wherein the control means temporarily interrupts power supply to the memory cell immediately before controlling the initial data write element to determine the logic state of the memory cell. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a cell power supply unit for erasing the held data of the cell.
JP5217027A 1993-08-09 1993-08-09 Semiconductor storage device Withdrawn JPH0757468A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5217027A JPH0757468A (en) 1993-08-09 1993-08-09 Semiconductor storage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5217027A JPH0757468A (en) 1993-08-09 1993-08-09 Semiconductor storage device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0757468A true JPH0757468A (en) 1995-03-03

Family

ID=16697694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5217027A Withdrawn JPH0757468A (en) 1993-08-09 1993-08-09 Semiconductor storage device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0757468A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008047274A (en) * 2006-07-21 2008-02-28 Genusion:Kk Nonvolatile semiconductor storage device, method for determining state of nonvolatile semiconductor storage device, and semiconductor integrated circuit device
JP2012256425A (en) * 2005-07-29 2012-12-27 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012256425A (en) * 2005-07-29 2012-12-27 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device
JP2008047274A (en) * 2006-07-21 2008-02-28 Genusion:Kk Nonvolatile semiconductor storage device, method for determining state of nonvolatile semiconductor storage device, and semiconductor integrated circuit device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6516382B2 (en) Memory device balanced switching circuit and method of controlling an array of transfer gates for fast switching times
US5337281A (en) Non-volatile semiconductor memory device in which data can be erased on a block basis and method of erasing data on a block basis in non-volatile semiconductor memory device
US5079744A (en) Test apparatus for static-type semiconductor memory devices
US5325325A (en) Semiconductor memory device capable of initializing storage data
US5969995A (en) Static semiconductor memory device having active mode and sleep mode
JPH0652685A (en) Semiconductor memory having power-on reset- control latch type line repeater
JPH0756759B2 (en) Static type semiconductor memory device
US7277342B2 (en) Semiconductor memory having dummy bit line precharge/discharge circuit
US4744058A (en) Semiconductor programmable memory device and method of writing a predetermined pattern to same
JP2000260199A (en) Semiconductor memory device
US6088292A (en) Semiconductor memory device having a plurality of banks activated by a common timing control circuit
JPH10199944A (en) Wafer burn-in test circuit for semiconductor memory
US5473565A (en) Method of flash writing with small operation current and semiconductor memory circuit according to the method
US5572467A (en) Address comparison in an inteagrated circuit memory having shared read global data lines
US4858188A (en) Semiconductor memory with improved write function
JP3015652B2 (en) Semiconductor memory device
US6144594A (en) Test mode activation and data override
US6704238B2 (en) Semiconductor memory device including data bus pairs respectively dedicated to data writing and data reading
JPH0512898A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH10334667A (en) Semiconductor memory apparatus
US6643203B2 (en) Semiconductor memory device including clock-independent sense amplifier
JPH0757468A (en) Semiconductor storage device
JP2848117B2 (en) Semiconductor memory circuit
JPH11328966A (en) Semiconductor memory and data processor
JP3400135B2 (en) Semiconductor storage device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20001031