JPH0756922B2 - Magnetostatic wave device - Google Patents

Magnetostatic wave device

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JPH0756922B2
JPH0756922B2 JP1035800A JP3580089A JPH0756922B2 JP H0756922 B2 JPH0756922 B2 JP H0756922B2 JP 1035800 A JP1035800 A JP 1035800A JP 3580089 A JP3580089 A JP 3580089A JP H0756922 B2 JPH0756922 B2 JP H0756922B2
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JP
Japan
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magnetostatic wave
wave device
yig thin
thin films
dielectric constant
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敏夫 西川
裕明 田中
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は静磁波装置に関し、特にたとえばMSWフィル
タなどとして用いられる静磁波装置に関する。
The present invention relates to a magnetostatic wave device, and more particularly to a magnetostatic wave device used as, for example, an MSW filter.

(従来技術) 従来の静磁波装置には、GGG(ガドリニウム,ガリウ
ム,ガーネット)基板上にYIG(イットリウム,アイア
ン,ガーネット)薄膜が形成され、YIG薄膜上に2つの
アンテナないしトランスジューサが形成されたものがあ
った。
(Prior Art) A conventional magnetostatic wave device in which a YIG (yttrium, iron, garnet) thin film is formed on a GGG (gadolinium, gallium, garnet) substrate, and two antennas or transducers are formed on the YIG thin film. was there.

(発明が解決しようとする課題) ところが、このような従来の静磁波装置では、一方のト
ランスデューサから他方のトランスデューサ以外に放射
される電磁波が損失となってしまうため、挿入損失が大
きかった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in such a conventional magnetostatic wave device, since the electromagnetic wave radiated from one transducer to the other transducer becomes a loss, the insertion loss is large.

そこで、本願発明者等によって、挿入損失が小さい、静
磁波装置が考え出された。
Therefore, the inventors of the present application have devised a magnetostatic wave device having a small insertion loss.

第2A図および第2B図は、それぞれ、この発明の背景とな
りかつ本願発明者等が考え出した静磁波装置の一例を示
し、第2A図はその分解斜視図であり、第2B図はその断面
図である。この静磁波装置1では、2つのGGG(ガドリ
ニウム,ガリウム,ガーネット)基板2aおよび2bの一方
主面にYIG(イットリウム,アイアン,ガーネット)薄
膜3aおよび3bが液相法などでエピタキシャル成長させる
ことによって形成される。さらに、一方のYIG薄膜3a上
には、蒸着などの方法によって、トランスジューサ4aお
よび4bが間隔を隔てて形成され、さらに、それらのトラ
ンスデューサ4aおよび4b間に円板状の金属層5が形成さ
れている。そして、それらのトランスデューサ4aおよび
4bないし金属層5は、2つのYIG薄膜3aおよび3bで挟み
込まれている。
2A and 2B respectively show an example of a magnetostatic wave device which is the background of the present invention and which the inventors of the present invention have devised, FIG. 2A is an exploded perspective view thereof, and FIG. 2B is a sectional view thereof. Is. In this magnetostatic wave device 1, YIG (yttrium, iron, garnet) thin films 3a and 3b are formed on one main surface of two GGG (gadolinium, gallium, garnet) substrates 2a and 2b by epitaxial growth by a liquid phase method or the like. It Furthermore, on one YIG thin film 3a, transducers 4a and 4b are formed at intervals by a method such as vapor deposition, and further, a disk-shaped metal layer 5 is formed between the transducers 4a and 4b. There is. And those transducers 4a and
4b or the metal layer 5 is sandwiched between two YIG thin films 3a and 3b.

この静磁波装置1では、トランスデューサ4aおよび4bの
両側にYIG薄膜3aおよび3bが存在するので、トランスデ
ューサから放射される電磁波の損失が小さくなり、その
ため、挿入損失がある程度小さくなる。さらに、この静
磁波装置1では、トランスデューサ4aおよび4b間に金属
層5が存在するため、従来の静磁波装置に比べて、共振
周波数でのQ値が大きくかつそのスプリアスモードのセ
パレーションがよくなる。
In this magnetostatic wave device 1, since the YIG thin films 3a and 3b are present on both sides of the transducers 4a and 4b, the loss of electromagnetic waves radiated from the transducer is reduced, and therefore the insertion loss is reduced to some extent. Further, in the magnetostatic wave device 1, since the metal layer 5 is present between the transducers 4a and 4b, the Q value at the resonance frequency is large and the spurious mode separation is improved as compared with the conventional magnetostatic wave device.

ところが、静磁波装置において、挿入損失をさらに小さ
くすることが望まれている。
However, it is desired to further reduce the insertion loss in the magnetostatic wave device.

それゆえに、この発明の主たる目的は、挿入損失がさら
に小さい、静磁波装置を提供することである。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a magnetostatic wave device having a smaller insertion loss.

(課題を解決するための手段) この発明は、直流磁界が印加される2つのYIG薄膜と、
2つのYIG薄膜間に形成され低誘電率の誘電体材料から
なる低誘電率層と、2つのYIG薄膜と低誘電率層との間
に間隔を隔てて形成される2つのトランスジューサとを
含み、静磁波装置である。
(Means for Solving the Problem) The present invention relates to two YIG thin films to which a DC magnetic field is applied,
A low dielectric constant layer made of a low dielectric constant dielectric material formed between two YIG thin films, and two transducers formed at a distance between the two YIG thin films and the low dielectric constant layer, It is a magnetostatic wave device.

(作用) この静磁波装置では、2つのトランスジューサが2つの
YIG薄膜と低誘電率層との間に挟み込まれるため、伝搬
ロスが小さくなる。
(Operation) In this magnetostatic wave device, the two transducers have two
Since it is sandwiched between the YIG thin film and the low dielectric constant layer, the propagation loss is small.

(発明の効果) この発明によれば、伝搬ロスが小さくなるので、静磁波
装置の挿入損失がさらに小さくなる。
(Effect of the Invention) According to the present invention, since the propagation loss is reduced, the insertion loss of the magnetostatic wave device is further reduced.

発明者の実験によれば、この発明の実施例では、同じ大
きさのYIG薄膜を用いた第2A図および第2B図に示す静磁
波装置に比べて、伝搬ロスが20〜30%小さくなり、それ
に従って、挿入損失も小さくなった。
According to the inventor's experiment, in the embodiment of the present invention, compared with the magnetostatic wave device shown in FIGS. 2A and 2B using YIG thin film of the same size, the propagation loss is reduced by 20 to 30%, Accordingly, the insertion loss also decreased.

この発明の上述の目的,その他の目的,特徴および利点
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
The above-mentioned objects, other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the embodiments with reference to the drawings.

(実施例) 第1A図ないし第1C図は、それぞれ、この発明の一実施例
を示し、第1A図はその分解斜視図であり、第1B図はその
平面図であり、第1C図は第1B図の線IC-ICにおける断面
図である。
(Embodiment) FIGS. 1A to 1C respectively show an embodiment of the present invention, FIG. 1A is an exploded perspective view thereof, FIG. 1B is a plan view thereof, and FIG. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line IC-IC of FIG. 1B.

この静磁波装置10は、2つの薄い矩形状のYIG(イット
リウム,アイアン,ガーネット)薄膜12aおよび12bを含
む。これらのYIG薄膜12aおよび12bは、GGG(ガドリニウ
ム,ガリウム,ガーネット)単結晶からなるGGG基板14a
および14bの一方主面上に、たとえば液相法などの方法
でYIG単結晶をエピタキシャル成長させることによって
形成される。
The magnetostatic wave device 10 includes two thin rectangular YIG (yttrium, iron, garnet) thin films 12a and 12b. These YIG thin films 12a and 12b are GGG substrates 14a made of GGG (gadolinium, gallium, garnet) single crystal.
And 14b are formed on one main surface by epitaxially growing a YIG single crystal by a method such as a liquid phase method.

さらに、これらのYIG薄膜12aおよび12bの間には、たと
えばセラミック,樹脂などの低誘電率の誘電体材料で低
誘電率層16が形成される。
Further, a low dielectric constant layer 16 is formed between these YIG thin films 12a and 12b with a dielectric material having a low dielectric constant such as ceramics or resin.

また、一方のYIG薄膜12aの表面あるいは低誘電率層16の
一方主面には、その長手方向に間隔を隔てて、アンテナ
ないしトランスジューサとしてストリップライン18aお
よび20aが形成され、さらに、これらのストリップライ
ン18aおよび20aの間に、円板状の金属層22aが形成され
る。これらのストリップライン18a,20aおよび金属層22a
は、たとえば蒸着などの方法によって形成される。同様
に、他方のYIG薄膜12bの表面あるいは低誘電率層16の他
方主面には、ストリップライン18a,20aおよび金属層22a
に対応して、ストリップライン18b,20bおよび金属層22b
が形成される。
Further, strip lines 18a and 20a are formed as antennas or transducers on the surface of one YIG thin film 12a or one main surface of the low dielectric constant layer 16 at intervals in the longitudinal direction thereof. A disk-shaped metal layer 22a is formed between 18a and 20a. These strip lines 18a, 20a and the metal layer 22a
Is formed by a method such as vapor deposition. Similarly, the strip lines 18a, 20a and the metal layer 22a are formed on the surface of the other YIG thin film 12b or the other main surface of the low dielectric constant layer 16.
Corresponding to strip lines 18b, 20b and metal layer 22b
Is formed.

したがって、ストリップライン18aおよび20aは、一方の
YIG薄膜12aと低誘電率層16との間に挟み込まれ、ストリ
ップライン18bおよび20bは、他方のYIG薄膜12bと低誘電
率層16との間に挟み込まれる。
Therefore, striplines 18a and 20a are
It is sandwiched between the YIG thin film 12a and the low dielectric constant layer 16, and the strip lines 18b and 20b are sandwiched between the other YIG thin film 12b and the low dielectric constant layer 16.

また、低誘電率層16には、ストリップライン18a,18bが
形成される部分、ストリップライン20a,20bが形成され
る部分および金属円板22a,22bが形成される部分に、そ
れぞれ、多数のスルーホール16a、16bおよび16cが形成
され、それらのスルーホール16a〜16c内に接続電極が形
成されている。そして、これらのスルーホール16a〜16c
内の接続電極を介して、ストリップライン18aと18bと
が、ストリップライン20aと20bとが、金属層22aと22bと
が、それぞれ、電気的に接続される。
Further, the low dielectric constant layer 16 has a large number of through holes in the portions where the strip lines 18a and 18b are formed, the portions where the strip lines 20a and 20b are formed, and the portions where the metal disks 22a and 22b are formed. Holes 16a, 16b and 16c are formed, and connection electrodes are formed in the through holes 16a to 16c. And these through holes 16a-16c
The strip lines 18a and 18b, the strip lines 20a and 20b, and the metal layers 22a and 22b are electrically connected to each other through the internal connection electrodes.

さらに、GGG基板14aおよび14bの他方主面には、それぞ
れ、たとえば金属からなる接地電極24aおよび24bが形成
される。
Further, ground electrodes 24a and 24b made of, for example, metal are formed on the other main surfaces of the GGG substrates 14a and 14b, respectively.

この静磁波装置10では、たとえば、YIG薄膜12aおよび12
bの主面に直交する方向に、直流磁界が印加されて使用
される。そして、たとえばストリップライン18aおよび1
8bに信号を入力すれば、ストリップライン18aおよび18b
から発生する電磁波などによって体積前進静磁波(MSFV
W)が励起される。また、この体積前進静磁波は、2つ
のYIG薄膜12aおよび12b上にストリップライン18aおよび
18bからストリップライン20aおよび20b側に伝搬され
る。それから、伝搬された体積前進静磁波は、ストリッ
プライン20aおよび20bで受信される。したがって、この
静磁波装置10では、従来の静磁波装置に比べて、トラン
スデューサから発生する電磁波を有効的に用いることが
できるため、挿入損失が小さくなるとともにQ値が大き
くなる。また、トランスデューサのストリップラインと
しての伝送損失も小さくなるので、挿入損失が小さくな
る効果がある。
In this magnetostatic wave device 10, for example, YIG thin films 12a and 12
A DC magnetic field is applied in a direction orthogonal to the main surface of b for use. And, for example, striplines 18a and 1
Strip line 18a and 18b
Volume forward magnetostatic wave (MSFV
W) is excited. Further, this volume-advancing magnetostatic wave is generated on the two YIG thin films 12a and 12b by the strip line 18a and
Propagation from 18b to the strip lines 20a and 20b side. The propagated volumetric magnetostatic wave is then received at striplines 20a and 20b. Therefore, in the magnetostatic wave device 10, compared with the conventional magnetostatic wave device, the electromagnetic wave generated from the transducer can be effectively used, so that the insertion loss becomes small and the Q value becomes large. Further, since the transmission loss of the transducer as a stripline is also reduced, there is an effect that the insertion loss is reduced.

発明者の実験によれば、この静磁波装置10では、ストリ
ップライン18a,18b,20aおよび20bがYIG薄膜12aおよび12
bと低誘電率層16との間に挟み込まれているため、同じ
大きさのYIG薄膜を用いた第2A図および第2B図に示す静
磁波装置に比べて、伝搬ロスが20〜30%小さくなり、そ
れに従って、挿入損失も小さくなった。
According to the experiment by the inventor, in the magnetostatic wave device 10, the strip lines 18a, 18b, 20a and 20b have YIG thin films 12a and 12b.
Since it is sandwiched between b and the low dielectric constant layer 16, the propagation loss is 20 to 30% smaller than that of the magnetostatic wave device shown in FIGS. 2A and 2B using YIG thin films of the same size. And accordingly, the insertion loss also decreased.

さらに、この実施例の静磁波装置10では、第2A図および
第2B図に示す静磁波装置と同様に、ストリップライン間
に金属層22aおよび22bが形成されているため、このよう
な金属層のない従来の静磁波装置に比べて、共振周波数
でのQ値が大きくかつそのスプリアスモードのセパレー
ションがよくなる。しかしながら、この発明では、この
ような金属層22aおよび22bないしそれらを接続するため
のスルーホール16cは、形成されなくてもよい。
Further, in the magnetostatic wave device 10 of this embodiment, similar to the magnetostatic wave device shown in FIGS. 2A and 2B, since the metal layers 22a and 22b are formed between the strip lines, such a metal layer The Q value at the resonance frequency is large and the separation of the spurious modes is improved as compared with the conventional magnetostatic wave device which does not have the same. However, in the present invention, such metal layers 22a and 22b or the through holes 16c for connecting them may not be formed.

なお、静磁波装置10には、YIG薄膜12aおよび12bに対し
て平行でかつ静磁波の伝搬方向に対して垂直な方向に磁
界を印加してもよい。この場合、2つのYIG薄膜12aおよ
び12b上には、表面静磁波(MSSW)が伝搬される。ある
いは、YIG薄膜12aおよび12bに対して平行でかつ静磁波
の伝搬方向に対して平行な方向に磁界を印加してもよ
い。この場合、YIG薄膜12aおよび12b上には、体積後退
静磁波(MSBVW)が伝搬される。このように、静磁波装
置10に印加する磁界の方向を任意に変更してもよい。
The magnetostatic wave device 10 may apply a magnetic field in a direction parallel to the YIG thin films 12a and 12b and perpendicular to the propagation direction of the magnetostatic wave. In this case, the surface magnetostatic wave (MSSW) is propagated on the two YIG thin films 12a and 12b. Alternatively, the magnetic field may be applied in a direction parallel to the YIG thin films 12a and 12b and parallel to the magnetostatic wave propagation direction. In this case, the volume receding magnetostatic wave (MSBVW) is propagated on the YIG thin films 12a and 12b. In this way, the direction of the magnetic field applied to the magnetostatic wave device 10 may be arbitrarily changed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1A図ないし第1C図は、それぞれ、この発明の一実施例
を示し、第1A図はその分解斜視図であり、第1B図はその
平面図であり、第1C図は第1B図の線IC-ICにおける断面
図である。 第2A図および第2B図は、それぞれ、この発明の背景とな
りかつ本願発明者等が考え出した静磁波装置の一例を示
し、第2A図はその分解斜視図であり、第2B図はその断面
図である。 図において、10は静磁波装置、12aおよび12bはYIG薄
膜、16は低誘電率層、18a,18b,20aおよび20bはストリッ
プラインを示す。
1A to 1C respectively show an embodiment of the present invention, FIG. 1A is an exploded perspective view thereof, FIG. 1B is a plan view thereof, and FIG. 1C is a line of FIG. 1B. It is sectional drawing in IC-IC. 2A and 2B respectively show an example of a magnetostatic wave device which is the background of the present invention and which the inventors of the present invention have devised, FIG. 2A is an exploded perspective view thereof, and FIG. 2B is a sectional view thereof. Is. In the figure, 10 is a magnetostatic wave device, 12a and 12b are YIG thin films, 16 is a low dielectric constant layer, and 18a, 18b, 20a and 20b are strip lines.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】直流磁界が印加される2つのYIG薄膜、 前記2つのYIG薄膜間に形成され低誘電率の誘電体材料
からなる低誘電率層、および 前記2つのYIG薄膜と前記低誘電率層との間に間隔を隔
てて形成される2つのトランスジューサを含む、静磁波
装置。
1. A YIG thin film to which a DC magnetic field is applied, a low dielectric constant layer made of a dielectric material having a low dielectric constant formed between the two YIG thin films, and the two YIG thin films and the low dielectric constant. A magnetostatic wave device including two transducers spaced apart from a layer.
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JPS6271303A (en) * 1985-09-24 1987-04-02 Murata Mfg Co Ltd Strip line
JPH077881B2 (en) * 1987-05-06 1995-01-30 株式会社村田製作所 Magnetostatic wave device

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