JPH0753346B2 - 脱スケ−ル装置における研磨材補給方法 - Google Patents
脱スケ−ル装置における研磨材補給方法Info
- Publication number
- JPH0753346B2 JPH0753346B2 JP15489586A JP15489586A JPH0753346B2 JP H0753346 B2 JPH0753346 B2 JP H0753346B2 JP 15489586 A JP15489586 A JP 15489586A JP 15489586 A JP15489586 A JP 15489586A JP H0753346 B2 JPH0753346 B2 JP H0753346B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- abrasive
- tank
- replenishing
- amount
- slurry
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【発明の詳細な説明】 〈発明の目的〉 産業上の利用分野 本発明は脱スケール装置における研磨材補給方法に係
り、詳しくは、スケールの除去、錆の除去および表面の
粗度調整等に好適な脱スケール装置における研磨材補給
方法に係る。
り、詳しくは、スケールの除去、錆の除去および表面の
粗度調整等に好適な脱スケール装置における研磨材補給
方法に係る。
従来の技術 従来、スラリー状研磨材と高圧水との混合流体によって
熱延鋼帯のスケールを除去する場合には第３図に示すよ
うに、スラリー状の研磨材３はタンク１からポンプ５に
よってノズル６へ供給され、また、高圧水はタンク12よ
りポンプ14によって高圧水用ノズル11に供給され、研磨
材スラリー７は高圧水８と混合し、加速されて鋼帯９に
衝突し、スケールを研掃する。研掃されたスケールと脱
スケールにより摩耗したスラリー状の研磨材はトレイ10
に受けられてタンク１に送られ破壊され微細化した研磨
材はタンクからオーバーフローして輸送用タンク20に送
られる。このとき、粒度の大きい研磨材はタンク１にた
まる。
熱延鋼帯のスケールを除去する場合には第３図に示すよ
うに、スラリー状の研磨材３はタンク１からポンプ５に
よってノズル６へ供給され、また、高圧水はタンク12よ
りポンプ14によって高圧水用ノズル11に供給され、研磨
材スラリー７は高圧水８と混合し、加速されて鋼帯９に
衝突し、スケールを研掃する。研掃されたスケールと脱
スケールにより摩耗したスラリー状の研磨材はトレイ10
に受けられてタンク１に送られ破壊され微細化した研磨
材はタンクからオーバーフローして輸送用タンク20に送
られる。このとき、粒度の大きい研磨材はタンク１にた
まる。
この際に消費された研磨材３の補給は特公昭59−49865
号に提示されているようにタンク１で研磨材３の上端レ
ベルをレベル計によって検出し、一定量以下となった時
に研磨材をその貯蔵タンク16より補給していた。しか
し、タンク内での乱流および研磨材と水との混合状態が
不均一であるため安定したレベル検出ができず、このた
め、一定時間毎に研磨材を補給することが行なわれてい
た。しかし、この方法ではラインの停止時に高圧水供給
ポンプ14を低圧にする等により研磨材の消耗量が減少し
ても研磨材は連続的に供給されること、また、熱延鋼帯
のスケール生成状態に応じた必要なスケールの除去動力
を、高圧水の高圧又は低圧の切替により必要なエネルギ
ーを付与する場合又は高圧水の圧力を必要なエネルギー
を得るために変化させる場合に、その研磨材の時間当り
の消耗量は著しく異なる等の問題がある。
号に提示されているようにタンク１で研磨材３の上端レ
ベルをレベル計によって検出し、一定量以下となった時
に研磨材をその貯蔵タンク16より補給していた。しか
し、タンク内での乱流および研磨材と水との混合状態が
不均一であるため安定したレベル検出ができず、このた
め、一定時間毎に研磨材を補給することが行なわれてい
た。しかし、この方法ではラインの停止時に高圧水供給
ポンプ14を低圧にする等により研磨材の消耗量が減少し
ても研磨材は連続的に供給されること、また、熱延鋼帯
のスケール生成状態に応じた必要なスケールの除去動力
を、高圧水の高圧又は低圧の切替により必要なエネルギ
ーを付与する場合又は高圧水の圧力を必要なエネルギー
を得るために変化させる場合に、その研磨材の時間当り
の消耗量は著しく異なる等の問題がある。
発明が解決しようとする問題点 本発明はこれらの問題点の解決を目的とし、具体的に
は、高圧ポンプの消費電力に応じて研磨材をタンクの補
給することによって、信頼性の高い安定した操業を行な
うことのできる脱スケール装置における研磨材補給方法
を提供することを目的とする。
は、高圧ポンプの消費電力に応じて研磨材をタンクの補
給することによって、信頼性の高い安定した操業を行な
うことのできる脱スケール装置における研磨材補給方法
を提供することを目的とする。
〈発明の構成〉 問題点を解決するための手段ならびにその作用 本発明は、研磨材タンクから供給されるスラリー状の研
磨材を、高圧ポンプにより圧送される高圧水により加速
して鋼帯に投射すると共に、この投射したスラリー状の
研磨材を前記研磨材タンクに循環する脱スケール装置に
おいて、前記研磨材タンクに消耗した研磨材を補給する
際に、予め求めておいた前記高圧ポンプを駆動するモー
タの電力積算値と研磨材の消耗量との関係にもとづい
て、研磨材の消耗量を推定し、この推定した量の研磨材
を前記研磨材タンクに補給することを特徴とする。
磨材を、高圧ポンプにより圧送される高圧水により加速
して鋼帯に投射すると共に、この投射したスラリー状の
研磨材を前記研磨材タンクに循環する脱スケール装置に
おいて、前記研磨材タンクに消耗した研磨材を補給する
際に、予め求めておいた前記高圧ポンプを駆動するモー
タの電力積算値と研磨材の消耗量との関係にもとづい
て、研磨材の消耗量を推定し、この推定した量の研磨材
を前記研磨材タンクに補給することを特徴とする。
以下、図面によって本発明の構成ならびに作用を説明す
ると、次の通りである。
ると、次の通りである。
第１図は高圧ポンプモータの電力積算値と研磨材消耗量
との関係を示すグラフであり、第２図は高圧ポンプモー
タの回転数より算出して研磨材の補給指令を出す制御系
の工程図であり、第３図は従来のスケール除去装置の説
明図である。
との関係を示すグラフであり、第２図は高圧ポンプモー
タの回転数より算出して研磨材の補給指令を出す制御系
の工程図であり、第３図は従来のスケール除去装置の説
明図である。
すなわち、本発明は高圧ポンプの消費電力と研磨材消耗
量の間に直線関係があることに着目し、高圧ポンプの消
費電力に応じて研磨材をタンクに補給することによって
安定した脱スケールを行なうものである。
量の間に直線関係があることに着目し、高圧ポンプの消
費電力に応じて研磨材をタンクに補給することによって
安定した脱スケールを行なうものである。
以下、本発明に係る研磨材補給方法を説明する。
まず、予め高圧ポンプモータ15の消費電力と研磨材消耗
量の関係を求めておく。これを第１図に示す。
量の関係を求めておく。これを第１図に示す。
次に、第３図に示すように、スラリー状の研磨材３をタ
ンク１からポンプ５によってノズル６に供給し、一方、
高圧水はタンク12からポンプ14によって高圧水ノズル11
に供給し、研磨材７は高圧水８と混合投射されることに
よって加速され鋼帯９に衝突しスケールを研掃する。研
掃されたスケールとスラリー状の研磨材はトレイに受け
られたタンク１に戻るが、破壊された微細化された研磨
材はタンク１からオーバーフローしてタンク20に送られ
る。
ンク１からポンプ５によってノズル６に供給し、一方、
高圧水はタンク12からポンプ14によって高圧水ノズル11
に供給し、研磨材７は高圧水８と混合投射されることに
よって加速され鋼帯９に衝突しスケールを研掃する。研
掃されたスケールとスラリー状の研磨材はトレイに受け
られたタンク１に戻るが、破壊された微細化された研磨
材はタンク１からオーバーフローしてタンク20に送られ
る。
この際に消費された研磨材の補給は高圧ポンプモータ15
の電力積算値が所定の値に達したところで、予め第１図
から求めておいた所定電力積算値に対応する研磨材消耗
量を補給用ポンプ19を規定時間運転することによってタ
ンク１に補給する。これをライン停止まで繰返すことに
よって鋼帯の脱スケールを行なう。消耗した研磨材の補
給は、いつでも可能であるが、以上のようにモータ35の
電力積算値が所定値に達したところで行なう方が実用的
である。
の電力積算値が所定の値に達したところで、予め第１図
から求めておいた所定電力積算値に対応する研磨材消耗
量を補給用ポンプ19を規定時間運転することによってタ
ンク１に補給する。これをライン停止まで繰返すことに
よって鋼帯の脱スケールを行なう。消耗した研磨材の補
給は、いつでも可能であるが、以上のようにモータ35の
電力積算値が所定値に達したところで行なう方が実用的
である。
また、研磨材を大容量の貯蔵タンクから輸送ルート（例
えばベルトコンベア）を駆動することにより同様に研磨
材の補給を行なっても良い。
えばベルトコンベア）を駆動することにより同様に研磨
材の補給を行なっても良い。
更に、電力積算の方法は高圧水ポンプモータの回転数と
消費電力の関係式を使用しても良い。
消費電力の関係式を使用しても良い。
実施例 以下、実施例により更に説明する。
第３図に示すスケール除去装置によって鋼帯の研掃を実
施し、消費された研磨材の補給を第２図に示す制御工程
により高圧ポンプモータ15の電力積算値に対応して行な
った。
施し、消費された研磨材の補給を第２図に示す制御工程
により高圧ポンプモータ15の電力積算値に対応して行な
った。
すなわち、高圧ポンプモータ15の回転数を検出器30で検
出し、制御器31で時間当りの回転数に変換し、これを電
力量に変換する制御器32、更に、これを積算し所定の電
力値に達したところで、指令を出す制御器33および制御
器33からの指令を受けて研磨材補給ポンプ19を駆動する
モータ35を設定時間運転する指令を出す制御器34を使用
し、前記所定の電力値を100KWHに設定し、また、研磨材
補給ポンプの運転設定時間を20minに設定して運転し、
これをライン停止まで繰返すことにより研磨材の補給を
安定して実施することができた。
出し、制御器31で時間当りの回転数に変換し、これを電
力量に変換する制御器32、更に、これを積算し所定の電
力値に達したところで、指令を出す制御器33および制御
器33からの指令を受けて研磨材補給ポンプ19を駆動する
モータ35を設定時間運転する指令を出す制御器34を使用
し、前記所定の電力値を100KWHに設定し、また、研磨材
補給ポンプの運転設定時間を20minに設定して運転し、
これをライン停止まで繰返すことにより研磨材の補給を
安定して実施することができた。
〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明は、研磨材タンクから供給
されるスラリー状の研磨材を、高圧ポンプにより圧送さ
れる高圧水により加速して鋼帯に投射すると共に、この
投射したスラリー状の研磨材を前記研磨材タンクに循環
する脱スケール装置において、前記研磨材タンクに消耗
した研磨材を補給する際に、予め求めておいた前記高圧
ポンプと駆動するモータの電力積算値と研磨材の消耗量
との関係にもとづいて、研磨材の消耗量を推定し、この
推定した量の研磨材を前記研磨材タンクに補給すること
を特徴とするものであって、本発明に係る補給方法によ
って研磨材の消耗量に見合った補給が容易となり、安定
した鋼帯の脱スケール操業ができるようになった。
されるスラリー状の研磨材を、高圧ポンプにより圧送さ
れる高圧水により加速して鋼帯に投射すると共に、この
投射したスラリー状の研磨材を前記研磨材タンクに循環
する脱スケール装置において、前記研磨材タンクに消耗
した研磨材を補給する際に、予め求めておいた前記高圧
ポンプと駆動するモータの電力積算値と研磨材の消耗量
との関係にもとづいて、研磨材の消耗量を推定し、この
推定した量の研磨材を前記研磨材タンクに補給すること
を特徴とするものであって、本発明に係る補給方法によ
って研磨材の消耗量に見合った補給が容易となり、安定
した鋼帯の脱スケール操業ができるようになった。
また、本発明は鋼帯の脱スケール以外に錆の除去および
表面の粗度調整等にも好適に使用できる。
表面の粗度調整等にも好適に使用できる。
第１図は高圧ポンプモータの電力積算値と研磨材消耗量
との関係を示すグラフ、第２図は高圧ポンプモータの回
転数より算出して研磨材の補給指令を出す制御系の工程
図、第３図は従来のスケール除去装置の説明図である。 符号１……研磨材タンク、２、13、17……水 ３……研磨材、５……ポンプ ６……研磨材スラリー投射ノズル ７……研磨材スラリー ８……高圧水、９……鋼帯 20……トレイ、11……高圧水ノズル 12……高圧水タンク 14、19、22……ポンプ 15、35……モータ、16……貯蔵タンク 18……補給用研磨材 20……輸送用タンク、30……検出器 31、32、33、34……制御器
との関係を示すグラフ、第２図は高圧ポンプモータの回
転数より算出して研磨材の補給指令を出す制御系の工程
図、第３図は従来のスケール除去装置の説明図である。 符号１……研磨材タンク、２、13、17……水 ３……研磨材、５……ポンプ ６……研磨材スラリー投射ノズル ７……研磨材スラリー ８……高圧水、９……鋼帯 20……トレイ、11……高圧水ノズル 12……高圧水タンク 14、19、22……ポンプ 15、35……モータ、16……貯蔵タンク 18……補給用研磨材 20……輸送用タンク、30……検出器 31、32、33、34……制御器
Claims (1)
- 【請求項１】研磨材タンクから供給されるスラリー状の
研磨材を、高圧ポンプにより圧送される高圧水により加
速して鋼帯に投射すると共に、この投射したスラリー状
の研磨材を前記研磨材タンクに循環する脱スケール装置
において、前記研磨材タンクに消耗した研磨材を補給す
る際に、予め求めておいた前記高圧ポンプを駆動するモ
ータの電力積算値と研磨材の消耗量との関係にもとづい
て、研磨材の消耗量を推定し、この推定した量の研磨材
を前記研磨材タンクに補給することを特徴とする脱スケ
ール装置における研磨材補給方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15489586A JPH0753346B2 (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 脱スケ−ル装置における研磨材補給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15489586A JPH0753346B2 (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 脱スケ−ル装置における研磨材補給方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6311278A JPS6311278A (ja) | 1988-01-18 |
| JPH0753346B2 true JPH0753346B2 (ja) | 1995-06-07 |
Family
ID=15594303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15489586A Expired - Lifetime JPH0753346B2 (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 脱スケ−ル装置における研磨材補給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0753346B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3126094B1 (de) * | 2014-04-04 | 2018-01-31 | ANT Applied New Technologies AG | Wasser-abrasiv-suspensions-schneidanlage |
| PL3600765T3 (pl) * | 2017-03-31 | 2022-11-14 | Ant Applied New Technologies Ag | Instalacja do cięcia strugą zawiesiny wodno-ściernej i sposób cięcia strugą zawiesiny wodno-ściernej |
-
1986
- 1986-07-01 JP JP15489586A patent/JPH0753346B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6311278A (ja) | 1988-01-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5540810A (en) | IC mechanical planarization process incorporating two slurry compositions for faster material removal times | |
| KR100603672B1 (ko) | 슬러리 공급장치 | |
| US5531861A (en) | Chemical-mechanical-polishing pad cleaning process for use during the fabrication of semiconductor devices | |
| TW483802B (en) | Method and apparatus for cleaning polishing surface of polisher | |
| US6498131B1 (en) | Composition for cleaning chemical mechanical planarization apparatus | |
| US6022266A (en) | In-situ pad conditioning process for CMP | |
| JP3432161B2 (ja) | 研磨液供給装置 | |
| KR950034447A (ko) | 웨이퍼 연마 설비 | |
| JPH0753346B2 (ja) | 脱スケ−ル装置における研磨材補給方法 | |
| US6716364B1 (en) | Method and apparatus for detecting presence of residual polishing slurry subsequent to polishing of a semiconductor wafer | |
| US5993647A (en) | Circulation system of slurry | |
| US6306020B1 (en) | Multi-stage slurry system used for grinding and polishing materials | |
| US8357286B1 (en) | Versatile workpiece refining | |
| US4900409A (en) | Mass grinding and polishing of metal articles in rotofinish equipment | |
| WO2002102919A1 (fr) | Pate de polissage utilisee pour texturer la surface d'un substrat de verre et procede associe | |
| WO1998033606A1 (en) | Continuous particle separation operation | |
| US6478659B2 (en) | Chemical mechanical polishing method for slurry free fixed abrasive pads | |
| JP5187499B2 (ja) | ブラスト装置及びその運転方法 | |
| US6566268B1 (en) | Method and apparatus for planarizing a wafer surface of a semiconductor wafer having an elevated portion extending therefrom | |
| JP2003205464A (ja) | Ｃｍｐ研磨装置における研磨剤の調合装置及び供給装置 | |
| JPS63283860A (ja) | 自動ドレッシング方法 | |
| JPS63283862A (ja) | 研摩方法及び研摩装置 | |
| JPS6268276A (ja) | 研磨剤循環装置 | |
| CN112065729B (zh) | 一种bmd喷射用水的流量控制方法 | |
| JP2003266117A (ja) | 熱延スケールのブラッシング除去方法 |