JPH075246U - Plasma gun - Google Patents
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- JPH075246U JPH075246U JP3355793U JP3355793U JPH075246U JP H075246 U JPH075246 U JP H075246U JP 3355793 U JP3355793 U JP 3355793U JP 3355793 U JP3355793 U JP 3355793U JP H075246 U JPH075246 U JP H075246U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低加熱電力で効率よくフィラメントから陰極
へアーク放電を移行させることができるプラズマ銃を提
供する。
【構成】 プラズマ室１内に設けられた筒体２の先端に
環状の陰極３を配置し、その筒体２内に陰極３のアーク
放電口４に向かってフィラメント５を設けたプラズマ銃
において、フィラメント５の先端部５ａをアーク放電口
３に臨んで突起状に形成したことを特徴としている。
(57) [Summary] [Object] To provide a plasma gun capable of efficiently transferring an arc discharge from a filament to a cathode with low heating power. A plasma gun in which an annular cathode 3 is arranged at the tip of a cylindrical body 2 provided in a plasma chamber 1, and a filament 5 is provided in the cylindrical body 2 toward an arc discharge port 4 of the cathode 3, It is characterized in that the tip portion 5a of the filament 5 faces the arc discharge port 3 and is formed in a protruding shape.
Description
【０００１】[0001]
本考案は、表層処理や薄膜形成装置等に用いられるプラズマ銃に関する。 The present invention relates to a plasma gun used for surface treatment, thin film forming apparatus, and the like.
【０００２】[0002]
プラズマを用いて被加工物にイオンプレーティングやＣＶＤ等の表層処理や薄 膜形成が行われている。プラズマを発生する装置にはプラズマ銃が用いられてい る。プラズマ銃は、プラズマ室と、プラズマ室内に設けられた筒体の先端に設け られた環状の陰極と、その筒体内に陰極のアーク放電口に向かって設けられたフ ィラメントとを有している。このプラズマ銃は、フィラメントでプラズマの初期 放電を発生させ、陰極を傍熱させて熱電子電流の供給が十分となった時にフィラ メントの発熱を停止し、陰極のみでプラズマを発生させるようになっている。 Surface processing such as ion plating and CVD and thin film formation are performed on a workpiece using plasma. A plasma gun is used as a device for generating plasma. The plasma gun has a plasma chamber, an annular cathode provided at the tip of a cylindrical body provided in the plasma chamber, and a filament provided in the cylindrical body toward the arc discharge port of the cathode. . This plasma gun generates an initial discharge of plasma at the filament, stops heating the filament when the cathode is heated indirectly and the supply of thermionic current is sufficient, and plasma is generated only at the cathode. ing.
【０００３】[0003]
しかしながら、上述した従来のプラズマ銃は電源電圧として数ＫＶもの高電圧 が必要であり、異常放電が発生しやすく、時間もかかるため効率が低いという問 題がある。 However, the above-mentioned conventional plasma gun requires a high voltage of several KV as a power supply voltage, is prone to abnormal discharge, and has a problem of low efficiency because it takes time.
【０００４】 そこで、本考案の目的は、上記課題を解決し、低加熱電力で効率よくフィラメ ントから陰極へアーク放電を移行させることができるプラズマ銃を提供すること にある。Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a plasma gun capable of efficiently transferring arc discharge from filament to cathode with low heating power.
【０００５】[0005]
上記目的を達成するために本考案のプラズマ銃は、プラズマ室内に設けられた 筒体の先端に環状の陰極を配置し、その筒体内に陰極のアーク放電口に向かって フィラメントを設けたプラズマ銃において、フィラメントの先端部をアーク放電 口に臨んで突起状に形成したものである。 In order to achieve the above object, the plasma gun of the present invention is a plasma gun in which an annular cathode is arranged at the tip of a cylindrical body provided in a plasma chamber, and a filament is provided in the cylindrical body toward an arc discharge port of the cathode. In the above, the tip of the filament is formed in a protruding shape facing the arc discharge port.
【０００６】 本考案のプラズマ銃は、フィラメントの先端部がフィラメントの他の部分より 細く形成されているものである。In the plasma gun of the present invention, the tip of the filament is formed thinner than the other parts of the filament.
【０００７】 本考案のプラズマ銃は、フィラメントの基部の支持部材が、プラズマ室に対し て着脱自在にホルダに支持されているものである。In the plasma gun of the present invention, the supporting member at the base of the filament is detachably supported by the holder with respect to the plasma chamber.
【０００８】 本考案のプラズマ銃は、支持部材内に冷却媒体通路を形成したものである。The plasma gun of the present invention has a cooling medium passage formed in the support member.
【０００９】 本考案のプラズマ銃の支持部材は、絶縁体を介して筒体内に保持され、筒体内 の放電口側に蒸着防止板を設けたものである。The supporting member of the plasma gun of the present invention is held in the cylinder through an insulator, and the vapor deposition preventing plate is provided on the discharge port side in the cylinder.
【００１０】[0010]
上記構成によれば、フィラメントの先端部をアーク放電口に臨んで突起状に形 成したので、フィラメントの先端部に初期放電が集中すると共にフィラメント近 傍の陰極が短時間で加熱する。このため、低加熱電力でフィラメントから陰極へ 効率よくアーク放電が移行する。 According to the above configuration, since the tip of the filament is formed in a projection shape facing the arc discharge port, the initial discharge is concentrated on the tip of the filament and the cathode near the filament is heated in a short time. Therefore, the arc discharge is efficiently transferred from the filament to the cathode with low heating power.
【００１１】[0011]
以下、本考案の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
【００１２】 図１は本考案のプラズマ銃の一実施例の概略図である。FIG. 1 is a schematic view of an embodiment of the plasma gun of the present invention.
【００１３】 同図において、１は例えばＡｒ等の動作ガスが導入されるプラズマ室であり、 プラズマ室１内の後方（図の上側）には筒体２が設けられている。筒体２の前方 には、環状の陰極としてのＬａＢ6 ディスク３が固定されている。ＬａＢ6 ディ スク３の中央にはアーク放電口４が形成されている。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a plasma chamber into which an operating gas such as Ar is introduced, and a cylindrical body 2 is provided behind the plasma chamber 1 (upper side in the drawing). An LaB 6 disk 3 as an annular cathode is fixed in front of the cylindrical body 2. An arc discharge port 4 is formed at the center of the LaB 6 disk 3.
【００１４】 筒体２内には、ＬａＢ6 ディスク３のアーク放電口４に向かう補助陰極として のフィラメント５が、支持部材としてのフィラメント支持ピン６ａ、６ｂによっ て支持されている。フィラメント５は、例えばタングステン（Ｗ）からなり、そ の先端部５ａはアーク放電口４に臨んで突起状に形成されている（この突起状の 先端部５ａはアーク放電口４の内壁から離隔されて配置されている）。A filament 5 as an auxiliary cathode, which faces the arc discharge port 4 of the LaB 6 disc 3, is supported in the cylindrical body 2 by filament support pins 6 a and 6 b as support members. The filament 5 is made of, for example, tungsten (W), and its tip portion 5a is formed in a projection shape so as to face the arc discharge opening 4 (the projection shaped tip portion 5a is separated from the inner wall of the arc discharge opening 4). Are arranged).
【００１５】 フィラメント支持ピン６ａ、６ｂは、棒状の耐熱金属で形成されており、例え ば銅からなる電流導入端子に接続されている。The filament support pins 6a and 6b are made of a rod-shaped heat-resistant metal, and are connected to a current introduction terminal made of, for example, copper.
【００１６】 両電流導入端子は、外部に配置された加熱用電源（直流又は交流、数Ｖ、１０ ０Ａ程度）７に接続されている。加熱用電源７には例えばタイマが内蔵されてお り、プラズマ銃の起動時に所定の時間だけ作動するようになっている。Both current introduction terminals are connected to a heating power source (DC or AC, several V, about 100 A) 7 arranged outside. The heating power source 7 has, for example, a timer built therein so that the plasma gun is activated for a predetermined time when it is activated.
【００１７】 プラズマ室１の前方には、環状の絶縁体８を介して第１の環状電極９が取り付 けられており、第１の環状電極９の前方には環状の絶縁体１０を介して第２の環 状電極１１が取り付けられている。両環状電極９、１１は抵抗器Ｒ1 、Ｒ2 を介 して直流電源（数百Ｖ程度）１２の陽極に接続され、直流電源１２の陰極はフィ ラメント５側の電流導入端子に接続されている。A first annular electrode 9 is attached to the front of the plasma chamber 1 via an annular insulator 8, and an annular insulator 10 is placed in front of the first annular electrode 9. And the second annular electrode 11 is attached. Both ring electrodes 9 and 11 are connected to the anode of a DC power supply (several hundreds of volts) 12 via resistors R 1 and R 2, and the cathode of the DC power supply 12 is connected to the current introduction terminal on the filament 5 side. ing.
【００１８】 プラズマ銃の前方には、動作ガスが排気されるチャンバ（破線で示す）１３が 設けられており、その底部には直流電源１２の陽極に接続された対向電極１４が ＬａＢ6 ディスク３及び環状電極９、１１に対向して配置されている。チャンバ １３内には被加工物（図示せず）が配置されるようになっている。[0018] In front of the plasma gun, (shown in dashed lines) chamber working gas is exhausted 13 is provided, the counter electrode 14 is LaB 6 disc 3 in its bottom which is connected to the anode of a DC power supply 12 And the annular electrodes 9 and 11 are arranged so as to face each other. A workpiece (not shown) is arranged in the chamber 13.
【００１９】 次に実施例の作用を述べる。Next, the operation of the embodiment will be described.
【００２０】 プラズマ室１内に作動ガスが導入され、加熱用電源７からフィラメント５に電 流が供給されると、フィラメント５の先端部５ａが突起状に形成されているため 、まずフィラメント５の先端部５ａと環状電極９、１１との間（プラズマ室１内 ）にアーク放電（初期放電）が集中して発生してプラズマが発生し、これと共に 、ＬａＢ6 ディスク３が（加熱）傍熱される。ＬａＢ6 ディスク３が所定時間傍 熱され熱電子電流の供給が十分となった時点で、加熱用電源からフィラメント５ への電流の供給が停止し、ＬａＢ6 ディスク３と対向電極１４との間（チャンバ １３内）のみでアーク放電が発生してプラズマが発生する。チャンバ１３でプラ ズマが発生すると被加工物（図示せず）に成膜が行われる。When a working gas is introduced into the plasma chamber 1 and an electric current is supplied to the filament 5 from the heating power source 7, the tip 5 a of the filament 5 is formed in a protruding shape. Arc discharge (initial discharge) is concentrated and generated between the tip 5a and the annular electrodes 9 and 11 (inside the plasma chamber 1) to generate plasma. At the same time, the LaB 6 disk 3 is heated (heated) and heated. Be done. When the LaB 6 disk 3 was heated for a predetermined time and the thermionic current was sufficiently supplied, the current supply from the heating power supply to the filament 5 was stopped, and the LaB 6 disk 3 and the counter electrode 14 were Arc discharge occurs only in the chamber 13) and plasma is generated. When plasma is generated in the chamber 13, a film is formed on a workpiece (not shown).
【００２１】 以上において、本実施例のプラズマ銃は、フィラメント５の先端部５ａが突起 状に形成されているため、初期放電がフィラメント５の先端部５ａに集中し、低 加熱電力で効率よくアーク放電がフィラメント５からＬａＢ6 ディスク３（プラ ズマ室１内からチャンバ１３内）へと移行する。In the above, in the plasma gun of this embodiment, since the tip 5a of the filament 5 is formed in a protruding shape, the initial discharge is concentrated on the tip 5a of the filament 5, and the arc is efficiently generated with low heating power. The discharge is transferred from the filament 5 to the LaB 6 disk 3 (from the plasma chamber 1 to the chamber 13).
【００２２】 図２は本考案の他の実施例の説明図である。FIG. 2 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
【００２３】 図１に示した実施例との相違点は、フィラメントの先端部がフィラメントの他 の部分より細く形成されている点である。The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that the tip of the filament is formed thinner than the other parts of the filament.
【００２４】 フィラメント５の先端部５ａの直径は例えば約０．７ｍｍであり、他の部分の 直径は約１ｍｍであるが、これに限定されるものではない。The diameter of the tip portion 5a of the filament 5 is, for example, about 0.7 mm, and the diameter of the other portion is about 1 mm, but the diameter is not limited to this.
【００２５】 フィラメント５の先端部５ａを細くすることにより、先端部５ａの抵抗値が小 さくなり、発熱量が他の部分より大きくなる。このため低加熱電力で先端部５ａ のみ加熱することができ、より効率的にプラズマを発生させることができる。By making the tip portion 5a of the filament 5 thin, the resistance value of the tip portion 5a becomes small and the amount of heat generation becomes larger than the other portions. Therefore, only the tip 5a can be heated with low heating power, and plasma can be generated more efficiently.
【００２６】 図３は本考案の他の実施例の説明図である。FIG. 3 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
【００２７】 図１に示した実施例との相違点は、フィラメント、フィラメント支持ピンおよ びフィラメント支持ピンを支持するフィラメントホルダがプラズマ室に対して着 脱自在に形成されている点である。The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that the filament, the filament support pin, and the filament holder that supports the filament support pin are detachably attached to the plasma chamber.
【００２８】 ＬａＢ6 ディスク３やフィラメント５はアーク放電の陰極として使用されるた め消耗するので交換する必要があり、その頻度はフィラメント５の方が高い。フ ィラメント５を交換するときは、まずプラズマ室１から筒体２を取出し、フィラ メント支持ピン６ａ、６ｂからフィラメント５を取り外して、交換用のフィラメ ントをフィラメント支持ピン６ａ、６ｂに取り付ける。次に筒体２内にフィラメ ント支持ピン６ａ、６ｂを取り付け、筒体２をプラズマ室１に取り付けなければ ならず、このときフィラメント５の先端部５ａがＬａＢ6 ディスク３のアーク放 電口４と離隔して配置されなければならず、またフィラメント５が軟弱なため変 形しやすいのでフィラメント５の交換が面倒である（図１参照）。Since the LaB 6 disk 3 and the filament 5 are used as the cathode of arc discharge and are consumed, they must be replaced, and the frequency of the filament 5 is higher. When replacing the filament 5, first, the cylinder 2 is taken out from the plasma chamber 1, the filament 5 is removed from the filament support pins 6a and 6b, and the replacement filament is attached to the filament support pins 6a and 6b. Next, the filament support pins 6a and 6b must be attached to the inside of the tubular body 2 and the tubular body 2 must be attached to the plasma chamber 1. At this time, the tip 5a of the filament 5 is the arc discharge port 4 of the LaB 6 disk 3. The filament 5 must be placed apart from each other, and the filament 5 is easily deformed due to its weakness, which makes the replacement of the filament 5 troublesome (see FIG. 1).
【００２９】 そこで図３（ａ）に示すようにフィラメント５、フィラメント支持ピン６ａ、 ６ｂおよび電流導入端子１５ａ、１５ｂをフィラメントホルダ１６に一体的に形 成することにより、筒体２へのフィラメント５の取り付け取り外しが容易となる 。尚、図３（ｂ）は筒体２にフィラメントホルダ１６を取り付けた様子を示す図 である。Therefore, as shown in FIG. 3A, the filament 5, the filament support pins 6 a and 6 b, and the current introduction terminals 15 a and 15 b are integrally formed on the filament holder 16 so that the filament 5 to the tubular body 2 is formed. It is easy to attach and remove. Incidentally, FIG. 3B is a view showing a state in which the filament holder 16 is attached to the tubular body 2.
【００３０】 図４は本考案の他の実施例の説明図である。FIG. 4 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
【００３１】 図１に示した実施例との相違点は、支持部材内に冷却媒体通路を形成した点で ある。The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that a cooling medium passage is formed in the support member.
【００３２】 図１に示したフィラメント５は、耐熱性の金属からなるフィラメント支持ピン ６ａ、６ｂに接続されているが、プラズマ銃の動作条件によってはフィラメント 支持ピン６ａ、６ｂが溶けてフィラメント５の先端部５ａがＬａＢ6 ディスク３ と接触するおそれがある。The filament 5 shown in FIG. 1 is connected to the filament support pins 6a and 6b made of a heat resistant metal, but the filament support pins 6a and 6b may be melted depending on the operating conditions of the plasma gun. The tip 5a may come into contact with the LaB 6 disc 3.
【００３３】 そこで図に示すように金属製の二重管構造を用いて、内側の管２０ａ、２０ｂ に冷却媒体（例えば水）を注入し、外側の管２１ａ、２１ｂの管に設けた排水口 ２２ａ、２２ｂから排水するようにすると共に、これら二重管２３ａ、２３ｂを 絶縁体２４を介して筒体２に取り付け、加熱用電源７に接続するようにすれば、 支持部材としての二重管２３ａ、２３ｂが冷却されるので、プラズマ銃の作動中 にフィラメント５の先端部５ａがＬａＢ6 ディスク３と接触することが防止され る。尚、絶縁体にはセラミック等の耐熱性の材質が好ましい。Therefore, as shown in the figure, a metal double pipe structure is used to inject a cooling medium (for example, water) into the inner pipes 20a and 20b, and the drain ports provided in the outer pipes 21a and 21b. If the drain pipes 22a, 22b are drained, and the double pipes 23a, 23b are attached to the cylinder body 2 via the insulator 24 and connected to the heating power source 7, the double pipes as a supporting member are provided. Since 23a and 23b are cooled, the tip 5a of the filament 5 is prevented from coming into contact with the LaB 6 disk 3 during the operation of the plasma gun. The insulator is preferably made of a heat-resistant material such as ceramic.
【００３４】 図５は本考案の他の実施例の説明図である。FIG. 5 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
【００３５】 図１に示した実施例との相違点は、支持部材が絶縁体を介して筒体内に保持さ れ、筒体内の放電口側に蒸着防止板が設けられている点である。The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that the support member is held in the cylinder through an insulator, and the vapor deposition prevention plate is provided on the discharge port side in the cylinder.
【００３６】 プラズマ銃からプラズマを出射するときに、フィラメント５の熱でフィラメン ト支持ピン６ａ、６ｂが軟化してフィラメント５がＬａＢ6 ディスク３のアーク 放電口４に接触し、フィラメント５の抵抗加熱ができなくなるおそれがある。When the plasma is emitted from the plasma gun, the filament support pins 6 a and 6 b are softened by the heat of the filament 5 and the filament 5 comes into contact with the arc discharge port 4 of the LaB 6 disk 3 and resistance heating of the filament 5 occurs. May not be possible.
【００３７】 そこで、フィラメント支持ピン６ａ、６ｂの基部を、絶縁体としての略円柱状 のスペーサ３０で筒体２内に保持することにより、フィラメント支持ピン６ａ、 ６ｂが軟化してもフィラメント５がアーク放電口４に接触するのが防止される。Therefore, by holding the base portions of the filament support pins 6a and 6b in the cylindrical body 2 by the spacer 30 having a substantially cylindrical shape as an insulator, the filament 5 is not broken even if the filament support pins 6a and 6b are softened. Contact with the arc discharge port 4 is prevented.
【００３８】 また、プラズマ発生中に生じるチャンバ１３（図１参照）内や筒体２内の金属 蒸気が、スペーサ３０の表面に付着してフィラメント支持ピン６ａ、６ｂ間が導 通状態になり、フィラメント５の抵抗加熱ができなくなることがある。Further, the metal vapor in the chamber 13 (see FIG. 1) and the tubular body 2 generated during plasma generation adheres to the surface of the spacer 30 and the filament support pins 6a and 6b are in a conductive state. In some cases, resistance heating of the filament 5 may not be possible.
【００３９】 そこで、筒体２内のスペーサ３０とフィラメント５との間（アーク放電口４側 ）に、フィラメント支持ピン６ａ、６ｂが貫通可能、かつ、フィラメント支持ピ ン６ａ、６ｂと接触することがない穴３２ａ、３２ｂを有する略円板状の蒸着防 止板３３を配置し、この蒸着防止板３３を筒体２に止めピン３４で固定すること により、金属蒸気を蒸着防止板３３に付着させてスペーサ３０の表面に金属蒸気 が付着するのを防止することができる。Therefore, the filament support pins 6a and 6b are capable of penetrating between the spacer 30 and the filament 5 in the cylindrical body 2 (on the side of the arc discharge port 4) and contact with the filament support pins 6a and 6b. A vapor deposition prevention plate 33 having a substantially circular plate shape having no holes 32a and 32b is arranged, and the vapor deposition prevention plate 33 is fixed to the cylindrical body 2 with a retaining pin 34, whereby metal vapor is adhered to the vapor deposition prevention plate 33. By doing so, it is possible to prevent metal vapor from adhering to the surface of the spacer 30.
【００４０】 尚、上述した他の実施例はそれぞれ単独に説明したが、これに限定されるもの ではなく組み合わせてもよいのはいうまでもない。また、フィラメントにはＷを 用いたが、これに限定されるものではなくＴａ等抵抗加熱可能な金属であれば他 の金属を用いてもよい。Although the other embodiments described above have been individually described, it is needless to say that the embodiments are not limited to these and may be combined. Further, although W is used for the filament, the present invention is not limited to this, and another metal may be used as long as it is a metal capable of resistance heating such as Ta.
【００４１】[0041]
以上要するに本考案によれば、次のような優れた効果を発揮する。 In short, according to the present invention, the following excellent effects are exhibited.
【００４２】 フィラメントの先端部をアーク放電口に臨んで突起状に形成したので、低加熱 電力で効率よくフィラメントから陰極へアーク放電を移行させることができるプ ラズマ銃を実現することができる。Since the tip of the filament is formed in a projection shape facing the arc discharge port, it is possible to realize a plasma gun capable of efficiently transferring the arc discharge from the filament to the cathode with low heating power.
【図１】本考案のプラズマ銃の一実施例の概略図であ
る。FIG. 1 is a schematic view of an embodiment of a plasma gun of the present invention.
【図２】本考案の他の実施例の説明図である。FIG. 2 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
【図３】本考案の他の実施例の説明図である。FIG. 3 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
【図４】本考案の他の実施例の説明図である。FIG. 4 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
【図５】本考案の他の実施例の説明図である。FIG. 5 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
１ プラズマ室 ２ 筒体 ３ 陰極（ＬａＢ6 ディスク） ４ アーク放電口 ５ フィラメント ５ａ 先端部1 Plasma Chamber 2 Cylindrical Body 3 Cathode (LaB 6 Disc) 4 Arc Discharge Port 5 Filament 5a Tip
フロントページの続き (72)考案者 ▲桑▼原 一 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 川崎 義則 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 白川 忠秀 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 瓦谷 立身 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内Front page continuation (72) Inventor ▲ Kuwa ▼ Haraichi 1-15 Toyosu 3-chome, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toni Technical Center (72) Inventor Yoshinori Kawasaki 3-chome Toyosu, Koto-ku, Tokyo No. 1-15 Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toni Technical Center (72) Inventor Tadahide Shirakawa 3-15-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toji Technical Center (72) Inventor Karaya Standing 3-15-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toni Technical Center
Claims (5)
環状の陰極を配置し、その筒体内に陰極のアーク放電口
に向かってフィラメントを設けたプラズマ銃において、
前記フィラメントの先端部を前記アーク放電口に臨んで
突起状に形成したことを特徴とするプラズマ銃。1. A plasma gun in which an annular cathode is arranged at a tip of a cylindrical body provided in a plasma chamber, and a filament is provided in the cylindrical body toward an arc discharge port of the cathode,
A plasma gun, characterized in that the tip of the filament is formed in a protruding shape facing the arc discharge port.
ントの他の部分より細く形成されていることを特徴とす
る請求項２記載のプラズマ銃。2. The plasma gun according to claim 2, wherein a tip portion of the filament is formed thinner than other portions of the filament.
前記プラズマ室に対して着脱自在にホルダに支持されて
いることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のプラ
ズマ銃。3. A support member at the base of the filament,
The plasma gun according to claim 1 or 2, wherein the holder is detachably supported by the holder.
たことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一
項記載のプラズマ銃。4. The plasma gun according to claim 1, wherein a cooling medium passage is formed in the support member.
体内に保持され、前記筒体内の放電口側に蒸着防止板を
設けたことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれ
か一項記載のプラズマ銃。5. The support member is held inside the cylinder through an insulator, and a vapor deposition prevention plate is provided on the discharge port side in the cylinder. A plasma gun according to item 1.
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- 1993-06-22 JP JP1993033557U patent/JP2599158Y2/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2004501486A (en) * | 2000-05-17 | 2004-01-15 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | Cathode assembly for indirectly heated cathode ion source |
| JP4803941B2 (en) * | 2000-05-17 | 2011-10-26 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | Cathode assembly for indirectly heated cathode ion source |
| JP2008270207A (en) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | General Electric Co <Ge> | Ablation plasma gun |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2599158Y2 (en) | 1999-08-30 |
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