JPH07502861A - 加熱により製造された材料蒸気のイオン化方法及び該方法を実施する装置 - Google Patents

加熱により製造された材料蒸気のイオン化方法及び該方法を実施する装置

Info

Publication number
JPH07502861A
JPH07502861A JP5512115A JP51211593A JPH07502861A JP H07502861 A JPH07502861 A JP H07502861A JP 5512115 A JP5512115 A JP 5512115A JP 51211593 A JP51211593 A JP 51211593A JP H07502861 A JPH07502861 A JP H07502861A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cathode
heating
anode
material vapor
wall
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5512115A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3345009B2 (ja
Inventor
エーリッヒ・ホルスト
Original Assignee
プラスコ・ドクター・エーリッヒ・プラズマ・コーティング・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by プラスコ・ドクター・エーリッヒ・プラズマ・コーティング・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング filed Critical プラスコ・ドクター・エーリッヒ・プラズマ・コーティング・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
Publication of JPH07502861A publication Critical patent/JPH07502861A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3345009B2 publication Critical patent/JP3345009B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532Electrodes
    • H01J37/32614Consumable cathodes for arc discharge
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 加熱により製造された材料蒸気のイオン化方法及び該方法を実施する装置本発明 の対象は、減圧で加熱により製造された材料蒸気のイオン化方法及び該方法を実 施する装置である。
蒸気相から基材を被覆する際にイオン化された材料蒸気を使用すると、多くの層 特性が明らかに改善されることは、一般に知られている。特に、プラズマ法及び イオン法の使用によって、基材表面への被覆の密着性の増強及び層構造のいっそ うのコンパクト化を達成することができる。さらに、反応性被覆法を実施する可 能性もある。
イオン化された材料蒸気を得るには、放電が使用される。これは、物理的観点か らグロー放電とアーク放電とに類別される。
カッ−トスバッタリング(スパッタリング)は、グロー放電に属する。アーク放 電の場合、米国特許第3.562.141号による中空陰極又は米国特許第4. 197.175号による白熱陰極を用いるプロセスガスと関係した放電並びに米 国特許第4.563.262号による自己消耗性(selbstverzehr end)陰極又は米国特許第4.917.786号による自己消耗性陰極及び自 己消耗性陰極を用いる真空アーク放電が類別される。
さらに、ドイツ特許出願第4042337号明細書から、イオン化度を制御して 設定しつる真空アーク放電が知られている。該明細書に記載されているイオン化 度の制御方法では、蒸発度及びイオン化度は、著しく相互に関係している。さら に、該明細書に記載されているイオン化度の制御は、真空中での機械的運動を必 要とする。
前記の方法はすへて、特殊な操作方法で蒸発材料を設置しなければならない点で 共通である。従来の加熱蒸発器は、前記方法の構成要素ではない。これには、抵 抗加熱又は誘導加熱るつぼ又は蒸発器コイル及び電子線を用いる材料蒸発装置が 挙げられる。加熱蒸発器によって製造された材料蒸気は、イオン化されていない 。この材料蒸気のイオン化については既に若干の方法が知られている。
ドイツ特許出願第3931565号は、加熱によって製造された蒸気に、ガス状 出発物質のイオン、すなわち、輿望的にはアルゴン又は窒素のイオンを添加する 方法を開示している。これらのイオンは、別のイオン源で作製される。したがっ て、この方法は、材料蒸気のイオン化ではなく、ガス状出発物質のイオンが添加 されている材料蒸気に関するものである。
米国特許第4.039.416号及び米国特許第4.342.631号には、加 熱蒸発(誘導加熱又は抵抗加熱)によって材料蒸気を製造するイオン化材料蒸気 の製造方法が記載されている。被覆すべき材料の周囲における材料蒸気のイオン 化は、高周波電磁波(RF−加熱)を組み入れることによって行われる。この方 法の利点は、プロセスガスを使用することなく、材料蒸気の純粋なプラズマが生 成することである。しかし、RF−放電は、特に比較的大きい工業的規模では制 御しがたく、障害電波を避けるために遮蔽手段を必要とする。
さらに、米国特許第3.756.193号及び米国特許第4.461.689号 から、電子線によって加熱製造された材料蒸気を直流−グロー放電によってイオ ン化する方法が知られている。このグロー放電を維持するには、材料蒸気にプロ セスガスを添加しなければならない。この“イオンブレーティングと言われる方 法の原理は、米国特許第3.329.601号に最初に記載された。
イオンブレーティングにおいては、この方法が実際には実験室規模に限定される ことか欠点である。直流−グロー放電においては、蒸発装置又は基材表面積の大 きさが増加するに従って、アーク放電に転換される傾向が著しく増大する。装置 か臨界的大きさである場合、従って放電電流が臨界値以上である場合には、常に 、アーク放電がグロー放電より優れた放電形式である。アーク放電への転換は、 蒸気源又は基材に著しい障害を及はすことがある。さらに、高電圧の使用及びし ばしば被覆の品質に悪影響を及ぼすプロセスガスの使用が不都合である。
米国特許第4.448.802号には、電子線で蒸発させた材料を低電圧アーク を用いてイオン化する方法が記載されている。この低電圧アークは、プロセスガ スと関係しており、蒸発材料を入れたるつぼと白熱陰極との間で作動される。こ の白熱陰極は、陰極領域で必要なプロセスガス圧を、加圧工程として設けられた 開口部を介して蒸発室と結合されている別の陰極室内に置かれる。操作技術的に 必要なプロセスガスを使用すると、このプロセスガスが層形成の際にしばしば好 ましくない作用を及ぼす。
従って、本発明の技術的課題は、従来の加熱蒸発器で製造される材料蒸気をイオ ン化し、その際、前記の欠点、例えば、プロセスガスの使用、高周波電磁波の組 入れ及び高電圧の使用を回避し、既存の加熱蒸発装置に容易に一体化でき、大き い工業的規模に設定しつる方法を開発することである。
この技術的課題は、材料蒸気を自己消耗性冷陰極3.4の陰極点6からの電子に さらし、その際加熱蒸発装置7を陽極として接続して、陰極3.4と陽極7との 間に真空アーク放電を生じさせることを特徴とする減圧加熱で製造された材料蒸 気のイオン化方法によって解決される。好ましい実施態様では、陰極点から出る プラズマ流は、陰極を包囲する壁10によって加熱蒸発装置7から遮蔽されてい る(図I参照)。
別の好ましい実施態様では、陰極で製造されたプラズマ流を、遮蔽する壁10の 方向に向ける。壁10を補助陽極として接続することができる。
本発明は、さらに、上記方法を実施する装置に(図1)に関し、該装置において 、減圧室l内には、自己消耗性冷陰極上に陰極点を作るため上に陰極材料4を載 置した冷却可能な陰極保持部材3、陽極として接続された材料蒸発系7.8.9 及び陰極を包囲する補助陽極として接続され、陰極に向き合って開口部を有する 壁IOが配設されている。陰極には点火装置5が設置されている。
好ましい実施態様においては、イオン化された材料蒸気で被覆すべき材料11が 減圧室l内に設置され、この材料は摺動可能なブラインド15で覆うことができ る。
本発明による方法を以下に詳細に説明する。
供給装置13の接続後、点火機構5を介して陰極材料4上に陰極点6が作られる 。陰極4と補助陽極として接続された壁10との間に補助アークが生じる。同時 に、加熱蒸発系7はエネルギー供給装置9によって作動され、その結果、蒸発装 置と結合された材料か蒸発できる。蒸発系7は、主陽極として接続され、抵抗1 2を介して電圧降下するため常に補助陽極10より高い正電位にある。従って、 領域14から電子が蒸発系7へ加速される。これらの電子は、非弾性衝突によっ で、蒸発系7から流出する材料蒸気をイオン化して、特に7の周囲の蒸気密度の 高い範囲で強い陽極プラズマを生成する。このプラズマのイオン化は、主として 領域14における電子の調製によって影響される、すなわち、陰極プラズマ流に おける帯電粒子密度によって影響される。
蒸発系7で充分に高度にイオン化されると、陰極4と陽極7との間で自然にアー ク放電が起こる。その際、領域14には“電子供給体”の機能が与えられている 。従って、領域14を“実質上の陰極”とみなすこともできる。7の周囲のプラ ズマ雲から流出するプラズマは、被覆の目的に利用することができる。プロセス ガスを使用しないので、材料蒸気のイオン化は、蒸発系から大きい距離(約1m )まで維持される。陰極4と陽極7との間にアークを形成した後、加熱蒸発系7 のエネルギー供給装置9の調節によって蒸発度を、また、供給装置13の調節に よってイオン化度を実際に相互に独立して設定することができる。その際、蒸発 系7上に当たる電子によって蒸発材料の付加的加熱が行われる。前記の操作パラ メータを蒸発度及びイオン化度に関して達成した後、基材11を覆っている摺動 可能なブラインド15を除去してから、製造されたプラズマによる基材11の被 覆を行うことができる。
被覆工程の間、蒸発度及びイオン化を一定のプログラムにしたがって制御し、変 更することができる。プロセスガスを使用しないので、層の成長も妨害されない 。
加熱蒸発装置7の周囲で生成するイオンは、バイアス電圧の印加によって加速す ることができる。イオンの基材方向への加速は、電導性並びに非電導性基材につ いて可能である〔エイチ、エーリソヒ(比Ehrich)ら著、“IEEE−ト ランザクションズ・オン・プラズマ・サイエンス(IEEE−Transact ions on PlasmaScience )、18巻、NQ6.895頁 参照、1990年12月り。
蒸発系7て蒸発材料が消費された後、領域14と壁10及び加熱蒸発装置7の間 にプラズマがもはや存在しないので、アークは自然に消失する。消費された蒸発 材料は、被覆工程の間に蒸発系7に供給することができる。陰極3.4は、その 幾何学的形状及び寸法並びに材料に関して極めて柔軟に構成することがてき、陰 極の長い寿命並びにアークの安全な動作が達成される。
本発明方法は、従来の加熱蒸発器で製造された材料蒸気をイオン化し、その際こ の材料蒸気のイオン化を制御設定できると同時に、イオン化度とは独立に蒸発度 を設定することができる。材料蒸気の汚染は、陰極のカバーによって回避される 。
プロセスガスを使用せずに、高電圧及び高周波を適用することができる。
本発明方法は、既存の真空−蒸発装置を転用することによって低コストに実施す ることができる。本発明方法は、大きい工業的規模で使用することができ、特に イオン化度及び蒸発度の独立制御が可能である点で、従来法より優れている。
すなわち、本発明方法は、蒸気の製造と蒸気のイオン化を充分に引き離したもの である(entkoppeln)。蒸発系7による蒸発速度は、主として供給装 置9からのエネルギー供給によって決定され、イオン化は、陰極4と陽極7の間 のアークで流れるアーク電流によって調節される。さらに、“実質上の陰極14 ″によるアーク動作は、陰極4及び陽極7による材料流の引き離しくEntko ppelung)を保証する。この引き離しは、陰極4及び陽極7に異なる材料 が使用される限り、陽極7から流出するプラズマか陰極材料で汚染されるのを防 止する。アークにおける電流の流れは、陰極プラズマ及び陽極プラズマが接触し 、これにより電極間に電導性結合か作られ、維持されることにより維持される。
これらの利点は、特に、自動化された工程の経過に関して大きい工業的規模で有 利である。
図1は、本発明方法を実施する装置を示すものである。
図示されている減圧室1は、ポンプ接続管2を介して排気可能である。減圧室に は、これによって電気的に絶縁されているのであるが、冷却可能な陰極保持部材 3が設置されており、この陰極保持部材は、その前端で陰極材料4を保持してい る。点火装置5を用いて陰極の動作面上に陰極点6を作ることができ、この陰極 点は公知方法で陰極動作面範囲に固定される。その公知方法には、磁場の使用( 米国特許第4.551.221号による)又は適切な材料による動作面の限定( ドイツ特許出願第4042337号による)がある。
減圧室は、さらに加熱蒸発系7.8.9を含み、これは図1に電気的に絶縁され たブッシング8を介して電気的供給装置9と結合されている蒸発器コイル7とし て例示されている。図1に例示した蒸発器コイル7の代わりに、任意の公知加熱 蒸発系、例えば、抵抗加熱又は誘導加熱るつぼ及び電子線又はレーザーで加熱さ れる材料を使用することができる。
陰極4は、壁10によって包囲されており、この壁土では陰極点6によって陰極 材料4から溶出した材料が凝縮される。壁IOは、陰極点6から溶出した材料が 蒸気器7及び基材1.1から離れて保持され、陽極あるいは被覆すべき材料11 が陰極材料で汚染されないように構成されている。
さらに、壁10又はその一部は、補助陽極としてアーク放電の点火及び維持に役 立つ。さらに、壁10は減圧室によって電気的に絶縁されて配設されており、好 ましくは03〜1オームの抵抗12を介してアーク供給装置13の正のアウトレ ットと結合されている。壁IOを減圧室lと電気的に結合することもできる。
この場合には、抵抗12はアーク供給装置13の正のアウトレットを減圧室と結 合する。
壁lOは、陰極点6から出発するプラズマ流が開口を通って減圧室の領域14に 達し、ここで陰極点から出発するプラズマ流と蒸発器から出発する材料流が出会 うように構成されている。
ブラインド15は、オン−オフ工程によって被覆すべき基材11の隠蔽(Abs chattung )を可能にする。
本発明方法を実施する際には、場合によっては、供給装置9.13が相互に影響 することに注意すべきである。この影響は、供給装置の間に適切な電気的接続手 段を設けることによって回避することができる。この接続手段の必要性及び種類 は、供給装置9.13に適用された、供給電圧の作製原理に左右される。
本発明方法及び該方法を実施する本発明の装置は、特に、イオン化された材料蒸 気で表面を真空中で被覆するために使用することができる。
国際調査報告 、、、T/C0゜tznnnn。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.材料蒸気を自己消耗性冷陰極(3、4)の陰極点(6)からの電子にさらし 、その際、加熱蒸発装置(7)を陽極として接続して、陰極(3、4)と陽極( 7)との間に真空アーク放電を形成させることを特徴とする減圧加熱により製造 された材料蒸気のイオン化方法。
  2. 2.陰極点から出発するプラズマ流を、陰極を包囲する壁(10)によって加熱 蒸発装置(7)から遮蔽することを特徴とする請求の範囲第1項記載の方法。
  3. 3.プラズマ流を遮蔽壁(10)の方向に向けることを特徴とする請求の範囲第 1項又は第2項記載の方法。
  4. 4.壁(10)を補助陽極として接続することを特徴とする請求の範囲第1項〜 第3項記載の方法。
  5. 5.減圧室(1)内に自己消耗性冷陰極上に陰極点を作るため陰極材料(4)を 上に載置した冷却可能な陰極保持部材(3)、陽極として接続された加熱材料蒸 発系(7、8、9)及び陰極を包囲し、補助陽極として接続され、陰極に向き合 って開口部を有する壁(10)が配設されている請求の範囲第1項〜第4項記載 の方法を実施する装置。
  6. 6.陰極に点火装置(5)が設置されていることを特徴とする請求の範囲第5項 記載の装置。
  7. 7.減圧室(1)内にイオン化された材料蒸気で被覆すべき材料(11)が配設 されていることを特徴とする請求の範囲第5項又は第6項記載の装置。
JP51211593A 1992-01-10 1993-01-06 加熱により製造された材料蒸気のイオン化方法及び該方法を実施する装置 Expired - Fee Related JP3345009B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4200429.2 1992-01-10
DE4200429A DE4200429A1 (de) 1992-01-10 1992-01-10 Verfahren zur ionisation thermisch erzeugter materialdaempfe und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
PCT/EP1993/000009 WO1993014240A1 (de) 1992-01-10 1993-01-06 Verfahren zur ionisation thermisch erzeugter materialdämpfe und vorrichtung zur durchführung des verfahrens

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07502861A true JPH07502861A (ja) 1995-03-23
JP3345009B2 JP3345009B2 (ja) 2002-11-18

Family

ID=6449299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51211593A Expired - Fee Related JP3345009B2 (ja) 1992-01-10 1993-01-06 加熱により製造された材料蒸気のイオン化方法及び該方法を実施する装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5662741A (ja)
EP (1) EP0620868B1 (ja)
JP (1) JP3345009B2 (ja)
DE (2) DE4200429A1 (ja)
WO (1) WO1993014240A1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4440521C1 (de) * 1994-11-12 1995-11-02 Rowo Coating Ges Fuer Beschich Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mit einem Materialdampf im Unterdruck oder Vakuum
US6223683B1 (en) 1997-03-14 2001-05-01 The Coca-Cola Company Hollow plastic containers with an external very thin coating of low permeability to gases and vapors through plasma-assisted deposition of inorganic substances and method and system for making the coating
US6251233B1 (en) 1998-08-03 2001-06-26 The Coca-Cola Company Plasma-enhanced vacuum vapor deposition system including systems for evaporation of a solid, producing an electric arc discharge and measuring ionization and evaporation
CA2305938C (en) * 2000-04-10 2007-07-03 Vladimir I. Gorokhovsky Filtered cathodic arc deposition method and apparatus
US7300559B2 (en) * 2000-04-10 2007-11-27 G & H Technologies Llc Filtered cathodic arc deposition method and apparatus
US6740378B1 (en) 2000-08-24 2004-05-25 The Coca-Cola Company Multilayer polymeric/zero valent material structure for enhanced gas or vapor barrier and uv barrier and method for making same
US6720052B1 (en) 2000-08-24 2004-04-13 The Coca-Cola Company Multilayer polymeric/inorganic oxide structure with top coat for enhanced gas or vapor barrier and method for making same
DE20220502U1 (de) 2001-03-23 2003-10-02 AlCove Surfaces GmbH, 45966 Gladbeck Implantat
US6599584B2 (en) 2001-04-27 2003-07-29 The Coca-Cola Company Barrier coated plastic containers and coating methods therefor
JP2005522572A (ja) 2002-04-15 2005-07-28 ザ・コカ−コーラ・カンパニー エポキシド添加剤を含有する被膜用組成物及びそれを被覆した構造体
CN102869183A (zh) * 2011-07-08 2013-01-09 王殿儒 一种获得电离金属蒸气的方法
US10916800B2 (en) * 2019-01-07 2021-02-09 Institute of Nuclear Energy Research, Atomic Energy Council, Executive Yuan, R.O.C. Apparatus of reactive cathodic arc evaporator for plating lithium-compound thin film and method thereof

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0385283B1 (de) * 1989-03-03 1993-12-08 Balzers Aktiengesellschaft Verfahren zur Beschichtung von Hartmetallgrundkörpern und Hartmetallwerkzeug hergestellt nach dem Verfahren
DE4026494A1 (de) * 1990-08-22 1992-02-27 Ehrich Plasma Coating Vorrichtung zur materialverdampfung mittels vakuumlichtbogenentladung und verfahren

Also Published As

Publication number Publication date
JP3345009B2 (ja) 2002-11-18
DE59300312D1 (de) 1995-08-03
WO1993014240A1 (de) 1993-07-22
DE4200429A1 (de) 1993-07-15
US5662741A (en) 1997-09-02
EP0620868A1 (de) 1994-10-26
EP0620868B1 (de) 1995-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5656141A (en) Apparatus for coating substrates
US5017835A (en) High-frequency ion source
WO2005005684A1 (en) Work piece processing by pulsed electric discharges in solid-gas plasma
AU5022496A (en) An electron jet vapor deposition system
JPH07502861A (ja) 加熱により製造された材料蒸気のイオン化方法及び該方法を実施する装置
USRE30401E (en) Gasless ion plating
US6870321B2 (en) High-frequency electron source
JPS5989763A (ja) 薄膜蒸着装置
JPS6237365A (ja) ア−ク点孤装置を有するア−クコ−テイング装置
Sidenius Ion sources for low energy accelerators
US6071595A (en) Substrate with low secondary emissions
US6841942B2 (en) Plasma source with reliable ignition
EP0047456B1 (en) Ion plating without the introduction of gas
Kiziridi et al. High-current electron gun with a planar magnetron integrated with an explosive-emission cathode
JP3406769B2 (ja) イオンプレーティング装置
JP2977862B2 (ja) プラズマ発生装置
JPS6372875A (ja) スパツタリング装置
JP3186777B2 (ja) プラズマ源
RU2801364C1 (ru) Способ генерации потоков ионов твердого тела
JPH04120271A (ja) クラスタイオンビーム発生方法およびクラスタイオンビーム発生装置
JPH0645871B2 (ja) 反応性イオンプレーティング方法
JPS595732Y2 (ja) イオンプレ−ティング装置
JPS62122210A (ja) 薄膜形成装置
JPS62280357A (ja) 電子ビ−ム蒸発イオンプレ−テイングとその装置
JPS586259B2 (ja) イオン発生装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees