JPH07502044A - 歯垢及び歯石の形成を抑制するための口内組成物 - Google Patents

歯垢及び歯石の形成を抑制するための口内組成物

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JPH07502044A JP5511166A JP51116693A JPH07502044A JP H07502044 A JPH07502044 A JP H07502044A JP 5511166 A JP5511166 A JP 5511166A JP 51116693 A JP51116693 A JP 51116693A JP H07502044 A JPH07502044 A JP H07502044A
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フランク,アール.キース
サイモン,ジェイム
キーファー,ガーリー イー.
ウィルソン,デビッド エー.
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ザ ダウ ケミカル カンパニー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 歯垢及び歯石の形成を抑制するための口内組成物・光里少i量 「口内組成物」というのは、歯ならびに口腔表面を清浄し手入れするため口腔に 局所施用するための組成物を意味する。このような組成物の代表としては、口内 洗浄剤又はリンス剤、練り歯みがき、歯科用ゲル、はみかき粉、チューインガム 、トローチ剤及びそれに類する製品などの口内衛生製剤及び歯みがき剤がある。 歯垢を除去するべく歯を清浄することに加えて、口内衛生調製物は、歯石の形成 を停止させ、むしば、歯周症及び歯肉炎といった歯の疾患を予防し、又口臭を無 くするためのものである。 歯の結石つまり時として歯石と呼ばれるものは、無機成分と有機成分から成る歯 上に形成した硬く石化した物質である。この無機部分は主として水酸化リン灰石 (ヒドロキシアパタイト) (HAP)と呼ばれる結晶格子の形に配置されたオ ルトリン酸塩とカルシウムである。有機部分は主として微生物(すなわち細菌、 酵母など)ならびに上皮細胞、白血球及び食物のがすから誘導される。 歯石の形成は、2つの段階を経て起こる。第1段階では、歯垢が歯の上に被着す る。「歯垢」というのは、歯の上に形成し、唾液、食物及び口腔内に存在する細 菌から誘導された無機及び有機成分で構成されている被着物である。大部分の歯 垢は、細菌及び唾液がら誘導されたゲル様の基質によってとり囲まれた死滅した 及び生きている細菌から成る。第2段階では、歯垢は石灰化を受けて歯石を形成 する。最初、リン酸カルシウムの無定形被着物が歯垢の基質上及びその中に現わ れ始める。リン酸カルシウムの凝集塊が充分密に誤まった状態になるにつれて、 これらは結晶化してRAPを形成する。 無定形リン酸カルシウムは水酸化リン灰石と関係があるものの、結晶質構造、粒 子形態、及び化学量論においてこれと異なっている。 細菌及び歯垢被着物の両方の存在は、歯及び歯肉の健康にとって有害なものであ る。細菌及び歯垢形成の検査を行なっていない場合、これらは歯肉組織の感染、 むしばの形成及び歯周病といった結果をもたらす可能性がある。 歯石形成を遅らせ、形成してしまった歯石を除去するため、当該技術分野におい ては、多種多様な化学的及び生物学的製剤が提案されてきた。歯科医による定期 的なこの物質の機械的除去は、当然のことながら歯科診療所における型通りの処 置である。 歯垢の存在は歯石の形成に対する1構成段階であることに加えて、結果として歯 肉炎、歯周炎、う素錠(むしば)及び義歯に付随する問題などをもたらす、抗生 物質又は防腐剤による歯垢形成に関与する口内細菌の抑制は、歯垢の形成を遅ら せかくして歯石の形成及びその他の歯垢関連病の予防又は制御を助けるための1 つの手段である0例えば、P、 S、 Hull、 J、 C11nical  Periodontology+1.431−442 (1980)を参照され たい。防腐剤の例としては、クロルヘキシジン及びアレキノシンといったアミジ ン及び塩化セチルピリジニウムなどの数多くの抗菌活性の第四アンモニウム化合 物又は米国特許3.369,046号、米国特許4,820,507号に記載の 第四アンモニウム化合物及び米国特許4,161,518号に記載の第四アンモ ニウムオルガノシロクサン化合物が含まれる。 第四アンモニウム化合物は、歯の表面に急速に吸着されるが、歯の表面から急速 に放出されかくして短時間しか口腔内に保持されていないことから抗歯垢剤とし ての効力レベルは中庸でしがない、クロルヘキシジンは最も成功した抗歯垢剤で あり、主として口内粘膜上で陰イオン基に結合することにより口腔内に保持され る。しかしながら口内調製物の中にクロルヘキシジンを使用することには以下の ような欠点がある:すなわち(1)にがいあと味が最高数時間に至るまで長く持 続する; (2)長く使用していると歯、舌、歯肉、口内粘膜及び歯の充てん域 にじみを発生させる;及び(3)口内粘膜及び舌の局所的刺激がある。 歯垢及び歯石の形成を防ぐもう1つの手段は、前に適用された治療剤の放出を防 ぐための物質で歯をコーティングすること、又は抗菌剤を含む物質で歯をコーテ ィングすることである。米国特許4.243,658号、4,428,930号 、4,470,964号及び4,485,090号は、歯の表面に塗布した時点 で前に適用された治療剤の溶出を実質的に減少させる疎水性バリヤをその上に、 形成する水和性の膜形成物質を含む歯みがき組成物を開示している。少なくとも 4日間にわたる抗菌剤の持続した放出を提供する抗菌剤を含むフェスが米国特許 4.496.322号で開示された。治療剤又はフェスコーティングの使用は、 その適用に有資格の専門家を必要とし、そのため日常的な口内衛生保全の一部と してのその使用が実施不能なものとなっていることから、全く満足が得られてい るわけではない。 歯石の形成にはHAPの結晶化が必要であることから、RAPを含め結晶の成長 を実際に妨げる作用物質が、抗歯垢/抗歯石剤として有効でありうる。従って結 晶性RAP形成の抑制は、歯石が形成するのを防ぎ及び/又はカルシウムを除去 することによって成熟した歯石を破壊する、カルシウムイオンをキレート化する 化合物によって達成できる。従来の技術においては、水溶性へキサメタリン酸塩 、トリポリリン酸塩及びピロリン酸塩などが効果的なカルシウム及びマグネシウ ムイオン限界剤、金属イオン封鎖剤及び/又はキレート化剤であることがわかっ ている。限界剤は、金属イオン封鎖に必要とされる量よりもはるかに少ない濃度 で塩(例えば炭酸カルシウム)′を形成する一定の規模の沈降を防ぐ能力をもつ 0例えば、ボリホスフォン酸塩を含む口内組成物を開示している米国特許3,4 88,419号ホスフォノ酢酸を含む口内組成物を開示している米国特許4,2 15.105号を参照のこと、抗歯垢剤としてのポリホスフォン酸塩の有効性は 、このポリホスフォン酸塩がHAP形成の抑制物質として効果の無いものである オルトリン酸塩へと唾液酵素(ホスファターゼ)によって著しく加水分解される ために制限されていた。ポリリン酸塩の酵素による加水分解の量は、米国特許4 ,808,410号に記されているようにフッ化物と組み合わせた線状の分子的 に脱水されたポリリン酸塩の使用によって減少した。 従って、歯にじみをつけず酵素加水分解による不活性化を受けない、むしば及び 歯肉炎の防止の一助となる有効な抗歯垢剤を含む口内組成物を得ることが望まし い、同様に、より長い時間口腔内に抗菌化合物を保持できる改良型手段を提供す ることも同様に望ましい。 同様に、無定形リン酸カルシウム塩の通常歯石に関連するHAP結晶性構造への 変換を抑制する改良型抗歯石口内組成物を得ることも有利である。 光里■翌り 本発明は、抗歯垢剤を含む口内組成物に関する。特に、本発明は、抗歯垢剤又は 抗歯石剤として ただしここで各々の環状アルキルアミン又は環状アミンが、という構造式!乃至 ■により表わされる化合物のうちの単数又は複数のものから選択された環状アル キルアミン又は環状アミンを有効量含む口内で受容できる賦形剤を含む口内組成 物であって、構造式中、各りのRは個別に水素、C+ Cm、炭化水素基、Ct  C&ヒ]′口キシアルキル又は、Zを個別ニPOil1m 、C0OH,H, 自−CII77L/キル又はそれらの生理学的に受容可能な塩とし;X及びYを 個別に−H,C。 ない歯垢及び/又は歯肉炎の減少のための改良型方法を提供する。 −paint又は生理学的に受容可能なその塩である少な(とも2つのZ基を含 みさらに、 各々のnは個別に2又は3であり、 mは3以上6以下であり、 nとmは、環状アミンの環内の炭素及び窒素原子の合計数が18を超えないよう に選択されている、口内組成物に関する。 ここで使用する「アルキル」という語は、線状又は有枝アルキルを意味し、従っ て、第2アミン及び第3アミンが含まれる。最高C8゜のアルキルという語には L−ブチル、5ec−ブチル、イソブチルそして同様にしてこのような有枝鎖又 は直鎖アルキル全てが含まれている。 ここで使用する「炭化水素」という語には、アルカン、アルケン、アルキン、ミ クロアルカン、シクロアルケン及びベンゼン基といった有機基が含まれる。 本発明のもう1つの実施態様においては、環状アミン及び抗菌性第四アンモニウ ム化合物を含む口内組成物が提供されている。この組成物は、抗菌性第四アンモ ニウム化合物が口腔内、特に歯の表面上により長い時間保持されるようにする0 口腔内の抗菌性第四アンモニウム化合物の保持の強化は、化合物が抗歯垢剤及び /又は抗歯肉炎剖として有効である時間を増大する。 本発明のもう1つの実施態様は、環状アミン、抗菌性第四アンモニウム化合物及 び口腔内での第四アンモニウム化合物の保持の強化のための金属イオンを含む口 内組成物の形をとる。 本発明のさらにもう1つの実施態様においては、歯垢の形成及び歯肉炎を抑制す る改良型方法が提供されている。 本発明はさらに、歯垢の形成を抑制する改良型方法及び望ましく胚11111回 W肌 図1は、さまざまな濃度のエチレンジアミンテトラメチレンーホスフォン酸(E DTMP)の存在下で消費される滴定液量の減少により観察されるような、水酸 化リン灰石の抑制を示す。 図2は、さまざまな濃度の1.4.7.10−テトラアザシクロドデカン−1, 4,7,10−テトラメチレンホスフオン酸(DOTMP)の存在下で消費され た滴定液の量の減少によって観察されるような水酸化リン灰石形成の抑制を示す 。 図3は、3.3 Xl0−’MのDOTMP 、ヒドロキシエチリデンジホスフ ォン酸(HEDP) 、 EDTMP 、ノルボルナンジアミンテトラメチレン ホスフォ7酸(NDATMP) 又はジシクロペンタジエンジアミンテトラメチ レンホスフォン酸(DCDATMP)の存在下で消費された滴定液の量の減少に より観察されるような水酸化リン灰石形成の抑制を示す。 図4は、4時間にわたり3.3X10’MのDOTMPの存在下で消費された滴 定液の量の減少によって観察されるような水酸化リン灰石形成の抑制を示す。 図5は、2.7X10−’MのEDTMP 、3. 6. 9.15−テトラア ザビシクロ(9,3,1)テトラゾカー1− (15) 、−11,13−トリ エン−3,6,9−)リメチレンホスフオン酸(PCTMP)又は1,4゜7− ドリアザシクロノナントリメチレンホスフオン酸(NOTMP)の存在下で消費 された滴定液の量の減少により観察されるような水酸化リン灰石形成の抑制を示 す。 図6は、両方共2.73 X 10−’ Mの濃度で存在するDOTMPと塩化 セチルピリジニウム(CPC)及び2.73X10−’MのDOTMPの存在下 で消費される滴定液の量の減少によって観察されるような水酸化リン灰石形成の 抑制を示す。 本発明は、抗歯石剤又は抗歯垢剤及び/又は抗歯肉炎剤として有効量の環状アル キルアミン又は環状アミンを口内で受容可能な賦形剤の中に含む口内組成物に関 する。[口内で受容可能な賦形剤」というのは、口腔表面に実質的に有害な影響 なく抗歯石剤又は抗歯垢剤を口腔に投与できる媒質を意味する。有効量というの は、口腔内で歯石、歯垢及び/又は歯肉炎の形成を抑制又は減少させるような量 のことである。 閉蓋は歯肉炎、歯周炎、う素錠(むしば)及びその他の歯に関わる問題における 主な病因であることから、歯垢を制御する能力は、歯肉炎、歯周炎及びむしばを 予防し/又は制御する上で助けとなる。 従って、本書において使用する[抗歯垢」というのは、抗歯垢及び/又は抗歯肉 炎及び/又は抗歯周炎及び/又は抗う素錠を意味する。 さらに、口臭に結びつけられる揮発性硫黄化合物は歯肉の健康に関係しており、 又微生物の腐敗活性により生成されることから、ここで用いる抗歯垢剤は同様に 口臭の制御にも一助となる。 本発明の環状アルキルアミンは、構造式N)に与えられているようなビシクロへ ブタジェンの誘導体:又は構造式(n)に示されているようなジシクロペンタジ ェンの誘導体: であり、 構造式中、各々のRは個別に−H,C,−C,炭化水素基、02Ch ヒドロキ シアルキル又は、Zを個別ニPO5Hg 、C0OH。 −N、−C,−C,、アルキル又は酸性基の生理学的に受容可能な塩とし、X及 びYを個別に−H又はC+ C3炭化水素基としてただしここで各々の環状アル キルアミン又は環状アミンは、POs)It又は生理学的に受容可能なその塩で ある少なくとも2つのZ基を含んでいる。生理学的に受容可能な塩とは、優れた 薬学的実践法と一貫性のある口内製剤の中で用いられたとき著しく不利な生理学 的効果をひき起こさない塩を形成するような塩基の酸付加塩又はその混合物のこ とを言う、適切な塩の例としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びイの混 合物の塩が含まれる。 構造式1−fflの化合物を調製するための方法は当該技術分野において既知で あり、本発明を目的としてこれに対する参照指示が行なわれている。例えば、構 造式I及び■の環状アルキルアミンは、市販のジシクロペンタジェン(ocpn )及びビシクロへブタジェン(BCHD)から調製できる請求電子付加反応は、 [1CPD又はBCHDの2重結合をシアン化水素(HCN)と反応させること によりニトリル又はジニトリルを形成するものとして知られている。ニトリルは このとき、加水分解されてカルボキシル酸誘導体を形成することができる。 DCPD又はBCHDも同様に)ICNと反応させてその後還元することにより ビスメチルアミン誘導体を得ることができる0次に今度はこの生成物を腐食薬の 存在下でグリコロニトリルと反応させて、ビスアミンの四節酸塩を得ることがで きる。 本発明の環状アミンは、構造式(I[l)すなわち又は構造式(rV)すなわち の大環状アミンであり、 式中、各りのnは個別に2又は3であり、mは3以上6以下であり、nとmは環 状アミンの環の中の炭素と窒素の合計数が18を超えないように選択されており 、各々のRは前述のとおり定義づけされる。 本発明の構造式■の環核アミノホスフォン酸塩を形成するべく誘導体化されうる 出発物質として有用なポリアザ大環状化合物としζは、1,4.7−トリアザシ クロノナン、1,4,7.10−テトラアザシクロドデカン、l、4,8.11 −テトラアザ−シクロテトラデカン、1,4,7.10−テトラアザシクロドデ カン、1,4,8゜11−テトラアザ−シクロテトラデカン、1,4,7,10 .13−ペンタアザシクロペンタデカン、1. 4. 7.10.13.16− ヘキサアザシクロオクタゾカンなどがある。これらのポリアザ大環状化合物は、 T、J、、Atkins et al、、J、^yaer、Chew、Soc、 、1. 2268−To (1974)及びT、 J、 Richman et  al、+ Org、 5ynthesis+ 58+ 86−98 (197 B)といった文書になった方法により調製することができる。構造式■のポリア ザ大環状化合物として好ましい出発物質である1、4,7゜IO−テトラアザシ クロドデカンは市販されている。ポリアザ大環状化合物の誘導体化というのは、 上述のようなR基を提供するための通切な反応化合物とアミンの反応のことを意 味する。 本発明の構造式■の環状アミノホスフォン酸塩のための出発物質として有用なポ リアザ大環状化合物は、本書にその開示が内含されているGarry Kief er+ Ja*ie Sis+on及びJoseph R,Garlichによ り本書と同日に提出され「造影剤として使用するためのビシクロポリアザ大環状 ホスフォン酸及びその複合体及び接合体」という題の、1991年12月10日 付は米国特許出1107/805551号(弁理士事件整理番号C−38,66 2)の中に記述されている手順により調製される、一般に、構造式■の化合物は 、以下の反応図式により合成される。 アミノホスフォン酸は、いくつかの既知の合成技術により調製されうる。特に重 要なのは、本書中に参考として開示が内含されている米国特許3,288,84 6号内に記述され、又Moedr i tzer及びIrani。 J、 Org、 Che+s、、、31.1603 (1966)により記述さ れているような、カルボニル化合物(アルデヒド又はケトン)及び亜リン酸又は その誘導体と少なくとも1つの反応性アミン水素を含む化合物との反応である0 例えば、ホルムアルデヒド及び亜リン酸と反応したP−ニトロベンジルエチレン ジアミンは、P−ニトロベンジルエチレンジアミンテトラメチレンホスフオン酸 に変換されうる。ニトロ基の還元はP−アミノベンジルエチレンジアミンテトラ メチレンホスフオン酸を生成する0本発明のill造弐■の環状アミノホスフオ ン酸塩の調製は同様に、その開示が参考として本書に内含されている米国特許出 願第07/284876号の中にも見い出すことができる。本発明の好ましい実 施態様においては、構造式I−■の全てのR置換基はメチレンホスフォン酸であ る。 本発明のアミンのカルボキシメチル化は、ブロム酢酸誘導体及び適切な塩基を用 いてDes treuxの方法により行なうことができる(J。 F、 Desreux、 Inorg、 Chew、、 19+ 1319−2 4 (1980))。 カルボキシアルキル基を含むアミン誘導体を提供するための力Jレボキシルアル キル化の方法は周知のものである。例えば本書にその開示が参考として内含され ている米国特許3,726,912号を参照のこと、同様に、アミン窒素上のア ルキルホスフオン及びヒドロキシアルキル置換基を提供する方法も周知であり、 例えば、その開示が本書に参考として内含されている米国特許3,398.19 8号を参照のこと。 理論により束縛するつもりはないものの、歯石形成の抑制などにおける有利な結 果は、ホスフォメチレンアミンが無定形水酸化リン灰石からの結晶性水酸化リン 灰石の形成を抑制する抗核生成剤として作用するために得られるものである。 本発明の環状アルキルアミン又は環状アミンは、約0.5ミリモル(wM)から 約20−M、好ましくは約1mMから約10mM、より好ましくは約1mMから 約2++Hの濃度で、口内組成物の中に標準的に存在する。 本発明のいくつかの極めて好ましい実施態様においては、口内組成物は、口内洗 浄剤又はリンス剤といったように、実質的に液状である。このような調製物にお いては、賦形剤は水であってもよいし或いは又水、アルコール混合物であっても よいが、アルコールは必要とされるものではない、アルコールが存在する場合、 水とアルコールの重量比は、約1=1乃至約20:l、好ましくは約3=1乃至 10:l、より好ましくは約41乃至約Satである。このタイプの調製物にお ける水又は水とアルコールの混合物の合計量は、標準的に調製物の約70〜約9 9.92重量パーセントである。 本発明に基づくこのような液体及びその他の調製物の91(は一般に4.5〜9 、標準的には約5.5〜約8である。pt+は好ましくは、約6〜約8である。 本発明の歯みがき剤には、その他のさまざまな成分を付加することができる。か くして例えば、当該技術分野にとって既知の技術を用いて、予防薬、研摩剤、石 けん又は洗浄剤、香味料及び甘味料、濃化側及び湿潤剤などを含み入れることが できる。 本発明のその他のいくつかの望ましい態様においては、口内組成物は、歯みがき 粉、デンタルタブレット練り歯みがき、ゲル又はデンタルクリームなどの実質的 に固体又は半固体状であってもよい。 このような固体又は半固体口内組成物の賦形剤には、一般に、以下でより詳しく 記述する研摩剤が付加されている。 代表的な予防薬としては、フッ化ナトリウム、フッ化第−すず、フッ化カリウム 、フッ化水素酸ヘキシルアミン、フッ化水素酸ミリスチルアミン、フッ化ベタイ ン、フッ化グリシンカリウムなどの補足的むしば予防物質が含まれる。特に好ま れるフッ化物は、フッ化ナトリウムである。標準的にはこれらの予防薬は、歯み がき剤組成物の最高約2重量パーセント及び好ましくは約0.5〜の重量パーセ ントという利用可能なフッ化物イオンの濃度を提供するように充分な濃度で存在 する。 適切な研摩剤としては、例えばビロリン酸カルシウム、不溶性ポリリン酸カルシ ウム(ポリメタリン酸カルシウムとしても知られている)及び高度に重合された ポリリン酸ナトリウムといった不溶性濃縮リン酸塩などの研摩性物質及び水分不 浸透性の架橋結合した熱硬化性樹脂が含まれる。その他の適切な研摩剤は、当業 者にとって明白であろう。 研摩剤は一般に、約10パーセントから約99パーセントの重量濃度で固体又は ペースト状の組成物の中に存在する。好ましくは、これは練りはみがきの中には 約20パーセントから約75パーセントの量で、又はみがき粉の中には約70パ ーセントから約99パーセントの量で存在する。 予防作用を増大させ、抗歯垢剤の徹底的かつ完全な拡散を達成するのを助け、当 該組成物を化粧品としてより一層受容され得るものにするため、表面張力を低下 させるのに本発明においては石けん、洗浄剤又は界面活性剤も利用することがで きる。適当な石けんとしては例えばパーム油及びココヤシ油の脂肪酸混合物及び ミリスチン酸、ステアリン酸又はパルミチン酸のナトリウム及びカリウム石けん といった高級脂肪酸石けんが含まれる。標準的な合成洗浄剤には、ラウリル硫酸 ナトリウムといった約8個乃至18個の炭素原子のアルキル基をもつ硫酸アルキ ル及びスルホン酸アルキル、ココヤシ油及びパルム油などから誘導された硫酸化 脂肪アルコールが含まれる。 石けんには標準的に、歯みがき剤組成物が最高約5重量パーセント含まれている 。特に適した非イオン性界面活性剤の一例としては、ポロフサマーとして知られ 例えばrPURONIcsJ(BASF WyandotteCo、、 Par sippany、 NJ)という商標の下で入手可能であるポリ(オキシエチレ ン)、ポリ(オクスプロピレン)ブロック重合体がある。 特に適した非イオン界面活性剤のもう1つの例は、例えば商標rT畦ENS」( ICI American Inc、 Wilmington、 De)の下で 入手可能な酸化ポリエチレンソルビタンエステルである。適切な陰イオン界面活 性剤としては、例えば、H,R,Grace and Co、 ((:T)社か らr HAMPO5YL Jという商標で入手可能なN−ラウロイルサルコシン といったアミノ酸サルコシン及び脂肪酸から生成される陰イオン界面活性剤があ る。界面活性剤は標準的には約0.05〜約5重量パーセントの歯みがき剤組成 物を含んでいる。 適切なあらゆる香味料又は甘味料も同様に利用可能である。適切な香味付は成分 の例としては、例えば、スペアミント、ペパーミント、冬 油、サツサフラス、 丁字、セージ、ユーカリ、マヨラナ、シナモン、レモン及びオレンジの油及びサ リチル酸メチルといった香味油がある。通切な甘味料としては、スクロース、ラ クトース、マルトース、ソルビトール、キシリトール、チク口、ペリラルチン、 APM(アスパルチルフェニルアラニル、メチルエステル)、サッカリンなどが 含まれる。適切には、香味料及び甘味料は合わせて、調製物の約0.1パーセン ト乃至5パーセントを構成する。 練りはみがき、クリーム及びゲルは標準的には天然又は合成の濃化剤又はゲル化 剤を約0.1〜約lO重量パーセント、好ましくは約0.5〜約5重量パーセン トの割合で含む。適切なゲル化又は濃化剤としては例えばカルボキシメチルセル ロースナトリウム及びカルボキシメチルヒドロキシエチルセルロースナトリウム といったセルロース塩の水溶性塩;カラヤ(sterculia campan ulata)コーム、アラビアゴム、トラガントコームなどの天然ゴム;コロイ ド状ケイ酸マグネシウムアルミニウム又は細分割されたシリカ、などが含まれる 。 本発明の組成物の中で利用できる適切な湿潤剤としては、グリセリン、プロピレ ングリコール、ソルビトール、ポリプロピレングリコール及び/又はポリエチレ ングリコール及びその他の多価アルコールが含まれる。湿潤剤は、歯みがき剤組 成物の10〜90重量パーセントを構成することができる。 又驚<べきことに、本発明の環式アルキルアミン又は環式アミンの存在下で、歯 みがき剤の中に陽イオン抗菌性化合物を内含させると、抗菌性化合物は環式アル キルアミン又は環式アミンが無い場合に比べてより長い時間口腔内に保持される 結果となる。理論による束縛を意図するわけではないが、本発明の環式アルキル アミン及び環式アミンは、歯の表面に対する親和性を有し、かくして歯の上に、 有利にも陽イオン抗菌性化合物がひきつけられる陰イオン表面を作り上げる。従 って抗菌性化合物は、陰イオン性の歯の表面と陽イオン性の抗菌性化合物の間の 静電力のためより長い時間口腔内に保持される。抗菌性化合物のもつ口腔内で保 持され活性状態にとどまってより長い時間抗歯垢力を及ぼす能力は、その化合物 の「実質度(substantivity) Jと呼ばれる。本書では「抗菌( antiwicrobial及びantibaeterial) Jという語を 、微生物の成長、増殖又は代謝を抑制する陽イオン化合物の能力を意味するもの として使用している。 抗菌性化合物の強化された「実質度」は、歯垢の初期形成の原因である微生物を 抑制することにより歯石の予防を助ける。@生物の抑制は同様に、微生物の腐敗 性により生成される揮発性硫黄化合物の量も減少させ、かくして、口臭を制御す る一助となる。同様に驚くべきことに、本発明の歯みがき剤の中で用いられる環 状アルキルアミン又は環状アミンの歯石抑制能力に対して抗菌性化合物の内含が 影響を及ぼすことはないということもわかった。 本発明の歯みがき剤化合物内で特に有用な抗菌性化合物は、水性環境内で窒素が 正に帯電することのできる有機アミン、好ましくは水性環境内で陽子付加を受け ることのできる有機アミンを含む化合物及び第四アンモニウム化合物である。 口内組成物の中で用いられる最も一般的な抗菌性第四アンモニウム化合物として は、塩化セチルピリジニウム、ハイアミン1622としても知られている塩化ベ ンゼトニウム又はジ−イソブチル(フェノキシ−エトキシエチルジメチルベンジ ルアンモニウム塩化物)又はサンギナリンがある0本発明において役立つ抗菌性 第四アンモニウムには、以下の構造式で表わされるものが含まれる。 R−はC,−C,。アルキルであり: R”はヘンシル又はC1−C+□アルキルであり;R3及びR4は個別にc、− Ctアルキル又は−(C1l、 −CIIOII−CLO)nl(であり(なお nは1〜6)、R8は−H,C,−C,アルキル又は−(CHz CHOHCL  0)nHであり(なおnは1から6までの整数)、Xは塩化物(C1−)、臭 化物(Br” ) 、ヨウ化物(I−)又はフッ化物(F)イオンである。 本発明において有用な第四アンモニウム化合物は市販されているか又は、過度の 実験なく当業者が獲得できるものである0例えば、これらはアンモニア又は第一 アミンとハロゲン化アルキルを反応させることによって又はハロゲン化アルキル と第三アミン、ピリジン又はピリジン誘導体を反応させることによって生成でき る0例えばZoltewicz及びDeady、 Adv、 Heterocy cl、 Ches、、22+ 71−121 (197B);米国特許2,44 6.792 ; 2.295.504及び4,994,199を参照のこと、な おこれらの文書の教示は本書に参考として内含されている。 本発明の歯みがき剤の中で利用できるその他の第四アンモニウム化合物には、以 下のものが含まれる。 本書にその開示が参考として内含されている一eglowski et al、 +J、 Phar、 Sci、、80.、91−85 (1991)により開示 されているようなアルキルチオメチル又はアルコキシメチル疎水基を含む塩化ピ リジニウム;なお第四アンモニウム化合物は、Xが以上で定義づけされていると おりでありXI は酸素又は硫黄であり、R6がC4Cr hアルキル又はベン ジルであるものとして、という構造式を有する。 本書にその開示が参考として内含されているLin5tedt et al、+ 「抗菌剤と化学療法、39.1949−1954 (1990)により開示され ているようなベタイン及び脂肪アルコールのエステルである第四アンモニウム化 合物(なおこの第四アンモニウム化合物は、(Ctlz )2 Nの−CIIC (0)OR’という式をもちここでR7はC6゜−C11アルキルである)及び 生理学的に受容可能なその塩。 サンギナリン及びサンギナリア。なおサンギナリアは、本書にその開示が参考と して内含されている米国特許4,145,412及び4.406,881号の内 に開示されているとおりサンギナリン、ヘルエリトリン、プロトピン、ホモへリ ドニン及びその生理学的に受容可能な塩といったペンゾフエナントリジンアルカ ロイドを含む、血根植物Sanguinaria candensisからの抽 出物である。サンギナリアは、ViadenL ”ブランドサンギナリアという 商標の下で歯みがき剤の形で入手できる;主有効成分である塩化サンギナリン塩 は以下の構造式をもつ: 臭化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルジメチルステアリンアンモ ニウム、塩化セチルピリジニウム、塩化N−テトラデシル−4−エチルピリジニ ウム、サンギナリア及び5−アミノ−1,3ビス(2−エチル−ヘキシル)−5 −メチルへキサヒドロピリミジンが本発明の歯みがき剤に使用される好ましい第 四アンモニウム抗菌剤である。 水性環境内で陽子付加されうる抗菌性有機アミンの例としては、以下のものが含 まれる; 本書にその開示が参考として含まれている米国特許4,894,221に開示さ れているモルフォリン化合物(なおこのモルフォリン化合物モルフォリン環の位 置2又は3におけるC、−C,、; R”はアルファ位置以外におけるヒドロキ シ基で置換されたCz CIoアルキルであり、R1とR9の和は10以上、好 ましくはlO〜20である);及び生理学的に受容可能なその塩。 本書にその開示が参考として内含されているJ、^nLibaeteriala nd Antifungal Agents41.371 (1989)に開示 されているような抗菌性有機アミン及びアミド(なおここでこの抗菌性化合物は 、R11lをCl6−Cl3アルキルとして 各R1が個別にCsH+、又はCIollz+であるものとしてRIffが09 〜CI?アルキルとして又は、 各々のR13が個別にCJ+s又はCJ+wであるものとしてという式を有する );及びその生理学的に受容可能な塩。 各R14が個別にCsH+を又はC1zlbsであるものとしてRI4 Ntt  RI4という式又は、各RIsが個別にC? CI。アルキルであり、nが2 −5の整数であるものとしてRISNH(CHz)n NHRlsという構造式 を有する、本書にその開示が参考として内含されているJ、^ntibacto rial and Antifungal Agents、 IL 679 ( 1989)内に開示されているようなジアルキルアミン及びN、N’ −ジアル キルポリメチレン−ジアミン及びその薬学的に受容可能な塩。 R16がC8゜−C1lアルキルであるものとしてという構造式をもつ、その開 示が本書に参考として内含されているMuraLa et al、、 J、 P har(Sci、、80.26−28 (1991)により開示されているよう なN′−アルキル−N−(2−アミノエチル)ピペリジン化合物;及びその薬学 的に受容可能な塩。 Xが以上で定義づけされたとおりのものとしてという構造を有するアンモニウム 化合物4−(2−プロピレンペンチル)−1−ピペリジノエタノール、この抗菌 性化合物は、J、 Periodontal Re5earch、則、 429 −437 (1983)内に0ctapiral ”ブランF(7)4−(2− プロピレンペンチル)−1−ピペリジノエタノール(Perrosan AB+  Sweden)として記述されている。 本書にその開示が参考として内含されている米国特許4,839.158号に開 示されているような、アルキル−N、N−ジメチルアミン酸化物と組合わせたア ルキル−N−ベタイン;なおこのアルキル−N−ベタインは、RI7がC3゜− cpsアルキルであるものとしてという構造をもち、アルキル−N、N−ジメチ ルアミンは、R1@がC5゜−〇、アルキルであるものとしてという構造をもつ 。 本発明の歯みがき剤に利用可能なその他の抗菌剤には、クロルヘキシジン(1, 6−ビス−(N’ −(p−クロロフェニル)−N′ビグアニド)ヘキサン;N ’−(4−クロロベンジル) NS−(2,4−ジクロロベンジル)ビグアニド ;p−クロロフェニルビグアニド;4−クロロベンジルヒドリルビグアニド;N −3−ラウロキシプロピル−NS P−クロロベンジルビグアニド;5,6−ジ クロロ−2−グアニジノベンジミダゾールiN’−p−クロロフェニル−NS− ラウリルビグアニド;といったビグアニド及びその非毒性酸性付加塩が含まれる 0本発明の歯みがき剤の中で使用される好ましいビグアニド抗菌剤はクロルヘキ シジンである。 抗菌剤は標準的には、口内製剤がこの抗菌剤を約0.001〜15重量パーセン ト含むことになるような量で利用される。好ましくは、望ましい抗歯垢効果を得 るためには、完成した口内製剤は約0.01から約5重量パーセント、最も好ま しくは約0.025〜1.0重量パーセントの抗菌剤を含んでいる。 口内組成物内の第四アンモニウム化合物対本発明の環状アミンのモル比は、好ま しくは約5:1〜約1:5、より好ましくは約3:l、最も好ましくは約l:1 である。 構造式■の環状アミンは、陽イオン抗菌性化合物と組合わせて口内組成物中で使 用すべき本発明の好ましいアミンである。構造式■の好ましい環状アミンはn= 2.m=4でかつ各々のR基がメチレンホスフォン酸である場合である。環状ア ミンと組合わせて使用すべき好ましい陽イオン抗菌化合物は、塩化セチルピリジ ニウムである。 本発明の歯みがき剤はキット形態であってもよく、このキットには第1の区画に 単数又は複数の環状アルキルアミン又は環状アミンを含む口内で受容可能な賦形 剤が、又第2の区画には単数又は複数の陽イオン抗菌化合物を含む口内で受容可 能な賦形剤が含まれている。歯みがき剤がキット形態をしている場合、別々の区 画の中の化合物は口腔に逐次的に適用することもできるし或いは又適用前に混合 されてもよい、逐次的に適用される場合、陽イオン抗菌性化合物の前に口腔に環 状アルキルアミン又は環状アミンを適用することが好ましい。 環状アルキルアミン又は環状アミンを口腔への適用前に陽イオン抗菌性化合物と 混合する場合、混合時点で発生しうる希釈効果を相殺するためその濃度を高めて おく必要があるかもしれない、環状アルキルアミン又は環状アミンと陽イオン抗 菌性化合物を逐次的に適用するが使用前に混合するかの如何に関わらず、口腔が さらされる環状アルキルアミン、環状アミン及び陽イオン抗菌性化合物の濃度は 、最終的歯みがき副製品の中のその濃度について前述した範囲内になくてはなら ない、使用の便宜上、歯みがき剤は1つの組成物の中に抗菌性化合物及び環状ア ルキルアミン又は環状アミンの両方を含んでいることが望ましい。 前述のような研摩剤、石けん又は洗浄剤、香味料及び甘味料といったさまざまな その他の成分を、歯みがき剤キットの別の区画に付加することも可能である。 驚くべきことに、環状アミン及び陽イオン抗菌性化合物と共に口内組成物の中に 例えばカルシウム(Ca”) 、マグネシウム(Mg”)又はその混合物といっ た多価の金属イオンを含み入れることは、陽イオン抗菌性化合物が陽イオン抗菌 性化合物のみを含む口内組成物と使用した場合に比べて長い時間口腔内に保持さ れることと干渉しないということも判明した。金属イオンの内含は又、歯石形成 を抑制するという環状アミンの能力とも干渉しない、環状アミンに対する金属イ オンのモル比は、好ましくは約5:1から1:5、より好ましくは約3:1〜l :3、最も好ましくは約1:1である。 本発明の好ましい実施態様においては、環状アミンは、n=2゜m=4で各R基 がメチレンホスフォン酸である構造式■の環状アミンであり、陽イオン抗菌性化 合物は塩化セチルピリジニウムであり、金属イオンは、ストロンチウム(Sr  1 + )、マグネシウム(Mg”)、すず(Sn”) 、亜鉛(Zn”) 、 カルシウム(Ca”°)又はその混合物である。好ましくは、金属イオンはSn ”又はCa”、より好ましくは金属イオンはCa”である。 本発明を実施するにあたっては、本発明に従った口内組成物例えば環状アミン又 は環状アルキルアミン及び/又は陽イオン抗菌性化合物及び/又は金属イオンを 含む口内洗浄剤などは、従来の要領で成分を統合することによって調製され、歯 又は歯肉に適用されうる。 本発明は、純粋にその一例として示される以下の例を考慮することによって、さ らに明確になるだろう。 監−豆 cpc =塩化セチルピリジウム DOTMP −1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−1,4,7゜1 0−テトラメチレンホスフォン酸 PC丁MP =3.6.9.15−テトラアザビシクロ(9,3,1)ペンタデ カ−1(15) 、 11.13− )フェン−3,6,9−トリメチレンホス フオン酸 RAP =水酸化リン灰石 DCDATMP =ジシクロペンタジェンジアミンテトラメチレンホスフォン酸 DOTMP = 1. 4. 7.10−テトラアザシクロドデカン−1,4, 7゜10−テトラメチレンホスフォン酸 DTPMP =ジエチレントリアミンペンタメチレンホスフォン酸EDTMP  =エチレンシアミンテトラメチレンホスフォン酸RAP =水酸化リン灰石 HEDP =ヒドロキシエチリデンジホスフォン酸NDATMP =ノルボルナ ンジアミンテトラメチレンホスフォン酸PCTMP =3. 6. 9.15− テトラアザビシクロ(9,3,1)ペンタデカ−1(15) 、 11.13−  トリエン−3,6,9−)リメチレンホスフォン酸 NOTMP =1. 4. 7−ドリアザノナントリメチレンホスフオン酸凰辰 ■■製 原液を調製する上で又以下の例において用いられる水は、脱イオン精製水であっ た。 超可5MのDOT台P、60wL入りのビーカーに固体DOTMPを0.616 8±0.0001 g付加し、溶液のpiを7.4まで上昇させる1、ONのナ トリウム溶液を滴下して水20sLの付加によりこれを溶液の形にすることによ って、0.0045Mの1.4.7.10−テトラアザシクロドデカン−1,4 ,7,10−テトラメチレンホスフォン酸(DOTMP)を調製した。 この溶液を量的に250 mLの容量フラスコに移送し水で印のところまで希釈 した。 0.0015MのDOTMP、4オンス入り広口びんの中に0.0045MのD OTMP原液を20mL装てんし、次ニ40IILノ水で希釈してO,0015 M(7)[lOTMP溶液を生成した。 0.0045MのCPC,0,4026±0.0001 gのCPC(^dri ch Che+wical Cowpany+Inc)を含む60■L入りビー カーに40−Lの水を付加することにより塩化セチルピリジニウム(CPC)の 0.0045M溶液を調製した。 虹別■且夏堕虹 4オンス入り広口びんに20*Lの0.0045M CPC原 液を装てんし、次に4抛りの水で希釈させてO,0015MのCPC溶液を得た 。 0.0015Mの[lOTMP/CPC,4オンス入り広口びんの中に20sL の0.0045M DOTMP溶液と20−Lの0.0045Mのcpc溶液を 装てんし、次に20■Lの水で希釈させて0.0015Mの溶液を生成した。 0.0015Mのクロルヘキシジン 100 mL入リす−カーを風袋計量し、 0.0455±0.001 gのクロルヘキシジン(CH)(Aldrich  ; FH505,46)を装てんし、60−Lの水を付加してpH−1,4で0 .0015Mのクロロヘキシジン溶液を得た。 0.0045MのPCTMP、10*Lの容量フラスコに0.0224±0.0 001 gのPCT門Pを付加し水で印のところまで希釈することにより3.6 ,9.15−テトラアザビシクロ−(9,3,1)−テトラゾカー1 (15)  、 11゜13−トリエン−N、N’ 、N“−トリメチレンホスフォン酸( PCTMP)の0.0045M溶液を調製した。この溶液のpt+を1.ONの Na0)Iを数滴付加して7.0に調整した。 0.0015MのPCTMP/CPC,4ドラム入りの小びんにPCTMPの0 .0045M原液の2.0IILアリコートを付加した。この小びんに次に2. 0*Lの水と0.0045Mのcpc原液の2.0 ml、アリコートを付加し た。この製剤の最終濃度は、0.0015M PCTMP及びO,0015M  CPCであった。 0.0015MのHEDP、60パーセントの活性HEDP (MAYOChe mical Co、+PH206)を0.0618±0.001 g含む60− L入りビーカーニ40+eLの水を付加することにより、HEDPの0.004 5M溶液を調製した。1.ONの水酸化ナトリウムを数滴用いてこの溶液をp) 17.6に調整した。溶液の20sLアリコートを取出し4オンス入り広口びん の中に入れ、ここでこれを40峠の水で希釈してO,0015MのtlE[JP 温溶液生成した。E口TMP 。 NDATMP、 DCDATMP、 DTPMP及びNOTMPの溶液を作るた めの手順は、DOTMP、 PCTMP及び)IRDPの場合と同じ要領で行な った。 の゛ 歯石予防における本発明の組成物の効力は、結晶成長抑制試験により実証された 。)IAP形成の抑制は、pH−スタット法により評価された。その手順は以下 の通りである: 100 ml入りの使い捨てビーカーの中の50sLの水に対して0.1 Mの リン酸溶液(KHxPOs、pHはN a OHを用いて7.4に調整)を2. OsL付加した。望ましい場合には、抑制物質を0.09M溶液で標準的にはl o〜30マイクロリットル(uL)付加した。ビーカーを自動滴定器にしっかり と固定し、撹拌を開始した0反応温度を25°Cで一定に保つためビーカーのま わりに一定温度の水浴を設定した。温度の平衡化が可能となるよう数分間撹拌し た後、0.175 Mのカルシウム溶液2.0*L (CaC1z H28zO 、pH7,4)を付加することにより作業(ラン)を開示した。pH−スタット 滴定を直ちに開始し、必要に応じて0.01MのNaOHを付加することによっ てpFIは約7.4に保った0作業中の消費滴定液量対時間の関係を記録した0 作業を標準的に一時間後に停止させた。 滴定液の消費における初期の上昇が、無定形リン酸カルシウムの形成を原因とし て観察された。その後の滴定液消費量の上昇(対照内で約22分)は、水酸化リ ン灰石の形成によるものであった。抑制物質の存在は、滴定液消費におけるこの 第2の上昇を遅延又は防止した。 ヒ rl“ のfI+ 40*Lの水に表1に記されている金属塩化物をリストアツブされたグラム数だ け付加することによって0.004275モルの金属塩化物溶液を複数調製した 。 表 ■ 金属塩化物溶液の調製 1F−一化学代量 傘これらの金属は、CPCが付加された時点で量った溶液を生成した。 表■にリストアンプされている各々の溶液(番号1〜4)を調製するため、上述 のとおりに調製した0、004275Mの金属塩化物4(lsLを0.0045 MのDOTMP原液40+wLに付加した。この溶液のpHを、数滴の1、ON の水酸化ナトリウム溶液で7.4に調整し、次に溶液を2つの40糺アリコート に分割した。1つの溶液に対して、20*Lの水を付加して、0.0015モル 濃度のDOTMPlo、0014モル濃度の金属を生成した。 もう1ツノ4011Lアリコートに対して、20+*L(7)CPC原液(0, 0045M )を付加して、0.0015モル濃度17)DOTMPとcpcr i液の形テl:0.95:lのDOTMP :金属: cpcの比率を生成した 。かくして、溶液l。 3.5,1.9.11及び13ハ、溶液の形で金属/DOTMPを含み、溶液2 .4,6,8,10.12及び14は溶液の形で金属/DOTMP/CPCを含 んでいた。金属の0.004275モル濃度は、これらの溶液が混合されたとき 5パーセントの余剰のDOTMPリガンドが存在することを保証していた。 鼠藍吐抜駿 60*L入りのビーカー内に1.0gのスクロース(Imperial Pur eCane Sugar)を装てんし、次に2QmLの水を付加することにより 、スクロース溶液を調製した。この溶液に対して80−Lのプールした全ヒト唾 液を付加した。収集期間前には何でも飲食できたものの収集の当日にはいかなる 口内衛生も先に行なわなかったドナーから、唾液を収集した。収集に先立ち、各 々のドナーは約30−シの水で30秒関口をすすぎ、5分待った後、30〜40 分間唾液を収集し始め、収集した唾液は氷上に保った。 唾液/スクロース溶液に対して5treptococcus突然変異体(A+m erican Type Cu1ture Co11ecfions No、  25175. ATCC)を含む脳/心臓注入肉汁を1.01と5trepto coccus sanguis (ATCCl 10556)を含む脳/心臓注 入肉汁を1.0ml付加した。これらの培養を40sLの肉汁内に接種し、唾液 /スクロース溶液に付加する前に16時間37°Cで成長させた。(各肉汁は、 付加時点で約6000万のコロニー形成単位を含んでいた)。 洗浄したさまざまなRAP懸濁液を含む試験管に対して上述の唾液/スクロース /細菌溶液の0.75*Lのアリコートを付加した。これらの試験管にフタをし 、管回転装置にとりつけ、16時間37°Cのインキユベータの中に置いた。こ のインキュベーション期間の後、オープンから回転装置を取り出して周囲温度ま で冷却させた。i液のpHを、pH4,7及び10の緩衝液で較正したp)I電 極を用いてpi計で検査した。 fii : HAP表面に対する細菌の付着予防Ca1citek Incから 得た水酸化リン灰石のディスク(7,5X27++n)を、短かいクロメル線を まわりに結びこの線のもう一方の端部をゴム製ストッパー内に入れてディスクが 試験管内に懸吊されるようにすることによって、準備した0次に別々のディスク を、場合によって混合しながら2分間以下の試験溶液2■L中に入れることによ って処理した:水(対照) ;O,0015Mのクロルヘキシジンi 0.00 15Mの塩化セチルピリジニウム;0.001Mの[lOTMP 、各#O,0 015MのDOTMP/CPC;及び、メタノール中の3(トリメトキシリルプ ロピルジメチルオクタデシルアンモニウム塩化物の42重量パーセント懸濁液で ある0、0015MのDow Corning DC−5700m次にディスク を各々2+sLの水中に入れて洗浄し、この洗浄を2回くり返す。 次に6つの試料の各りを、5パーセントのスクロースを伴う脳−心臓注入肉汁の 成長培地8mLの入った試験管内に入れる。なおここで成長培地には100uL の5treprococcus mutons、 ATCC$25125(約5 .5X10’のコロニー形成単位)が接種されていた0次に管を37°Cでイン キュベートした。−週間毎日、試料ディスクを、新鮮培地とS、 Mutans の入った新しい試験管へ移した。−週間後、試料をとり出し、水中に浸すことに より洗浄し、歯垢顕示剤であるButler Red(:oa tで染色した。 各ディスク上の歯垢の量を目で測定し、以下の尺度に従って定格した: 0=歯垢無し ■=わずかに歯垢あり 2=中庸の重度 3=完全な重度、軽度の歯垢 4=完全な重度、重度の歯垢。 各試料についての歯垢定格は以下のとおりであった:水(対照)=4; クロルヘキシジン=3; CPC=2; DOTMP = 1 。 DOTl’IP/CPC= 2゜ 最も重度の歯垢成長は、対照のディスクに見られた。抗菌剤(クロルヘキシジン 、CPC及び[lOTMP/CPC)を含む製剤は全て歯垢の減少を示した。D OTHPを単独で伴う試料は、抗菌剤を用いることなく細菌の付着を抑制するべ く I(APの表面が変性されたということを示している。 勇IHAP表面上へのDOTHPの吸収度pH1でDOTMPの0.3−M溶液 を調製し、HPLC(高性能液体クロマトグラフィ)システム上に注入した。  HPLCシステムは、1■L/分で0.016 Mの硫酸を溶出剤とするHam ilton PR−XLOQ陰イオン交換カラム(4,1++nX50+u+)  、口1onex勾配ポンプ、Dionew可変波長検出器(210n−に設定 )及びVGPDP−11データ収集システムであった。この濃度でのDOTMP は6.25分の保持時間及び9.16の面積でピークを示した。 水酸化リン灰石懸濁液(Sigma Chemical Co、からのリン酸緩 衝液中の水酸化リン灰石の24.5重量パーセント懸濁液)の13.45 g部 分を2f)+Lの水で洗浄し、次に0.3wMのDOTMP 20sLと混合し た。約10分の接触時間の後、ろ過により水酸化リン灰石を除去し、DOTMP についてHPLCによりろ液を分析した0分析は、0.7未満の面積単位をDO TMPに帰因させることができるということを示しており、これはすなわち93 %のDOTMPが溶液が水酸化リン灰石表面に付着するのを放置したということ を表わしている。 fii : FIAP表面へのCa DOTMPの吸収度DOTMPのカルシウ ム塩(1wMのCa−DOTMP)を、水中で塩化カルシウムとDOTMPを混 合し0. I NのNaOHで7.4までI)Hを調整することにグー7.1& 部分を12sL(7)水で洗浄し、次ニ10+sL(7)1mM Ca−DOT HP内でを例2に記述されているように)IPLcにより分析した。この分析は 、98.5パーセントのI)OTl’IPが溶液から、恐らくは水酸化リン灰石 上へと出てきていることを示していた。 表面に付着したDOTMPを伴うろ過された水酸化リン灰石を、室温で2時間撹 拌しなから10+iLの水中で再懸濁した0次に懸濁液をろ過し、HPLCによ りろ液を分析した。この分析は、溶液中の何らかのDOTMPについての証拠を 全く示さず、IIOTMPが大量の水溶液と共に水酸化リン灰石の表面から出て 来ていないことを表わしていた。結果は又、カルシウムイオンの付加が、水酸化 リン灰石表面に対するDOTHPの付着能力と干渉しないことも示している。 ■土: DOTMPの存在下での唾液タンパク質の水酸化リン灰石に対する付着 の減少水酸化リン灰石のディスク(7,5X2.7論輸。 Ca1citeck、 Inc)を別々にガラス製小びんの中に置き、次に2+ *Lの水(対照)又は2!ILの0.001 M DOTMPのいずれかをこれ に付加した。 小びんにフタをし、30分間転倒型回転装置上に置いた。上清を取出し、ディス クを3回毎回洗液として1■Lの水を使って洗浄した0次に各々の小びんに2M Lの唾液上清を付加し、小びんにフタをして19時間転倒型回転装置上に置いた 。唾液上清は、飲食後口内の洗浄を禁止された人間のボランティアから収集した 唾液をlEC−HN−51I遠心分離機で全速力(約400Orpm)で遠心分 離することによって得られた。 19時間後、各小びんからの上清を穏やかに取出し、各々のディスクを短時間2 *Lの水で穏やかに洗浄した0次にディスクを別々に、1■Lの0. I Nの NaOHを含む小びんの中に入れ、2分間音波処理した。 次に各小びんからの上清の200μLアリコートを石英キュベツト内で3.0I ILの水と混合し、各試料について吸収度を600 nm (水基準)で測定し た。 対照は、0.0167吸収度単位という平均吸収度読取り値(7回の読取り)を 示し、DOTMPに露呈されたディスク(6回の読取り)は0.00588吸収 率単位を示した。従ってOOTMPで処理されたディスクは、水で処理されたデ ィスクとの関係においてDOT?IP処理されたディスク上で蓄積した唾液物質 量の2.84分の1の減少を示した。 側Jノ粉末水酸化リン灰石を用いたDOTMP/CPCとcpcの実質度の関係 歯の表面部分は、約97%の無機物質、約1%の有機物質及び約2%の水で構成 されており、無機物質は主として水酸化リン灰石であることから、歯のエナメル 質のモデルとして粉末水酸化リン灰石が用いられた。 24.5 g部分の水酸化リン灰石懸濁液(Sigma Chemical C o、、 SL。 Louis、 MOからリン酸緩衝液中のRAPの24,5重量パーセント懸濁 液として購入)を計り分け3〜3抛し部分の水で洗浄してリン酸緩衝液を除去し た。60sLの水中で固体を再懸濁して水1mLあたり約100 mgのHAP の水中)IAP懸濁液を得た。2本の試験管の各々の中に固体HAPを10mg 含むこの懸濁液100μLを入れた。管1の中に4.5■Lの0.0015Mの 塩化セチルピリジニウム(CPC)を入れた。管2には、pI(7,75で0. 0015Mのcpc及び0.0015MのDOTMPを含む溶液4.5s+Lを 入れた。両方の管にフタをし、10分間転倒型回転により混合した。この10分 間の後、500μL部分の各懸濁液を取出し0.22ミクロンの注射器フィルタ ーを通して清浄なポリスチレン試験管内へとろ過した。 ろ液の200 μLアリコートを石英キュベツト内で3.O*Lの水と混合し、 260ナノメートルでの紫外線(UV)吸収度を測定した0次に懸濁液を含む試 験管をさらに20分間回転装置上に戻し、この時点で前述のとおりこれらの管の 試料採取をした0次に管をさらに35分間回転装買上に戻し、再び試料採取した 。水酸化リン灰石表面に対する露呈の前のO,0015M溶液の吸収度である、 これらの時点及びゼロ時点でのろ過された溶液のUV吸吸収は、表■に示されて いる。 表■ 水酸化リン灰石に対するcpcの経時的吸着性これらの結果は、cPcに対する DOTMPの等モル付加が、水酸化リン灰石上に吸収されるCPC量の58パー セントの増加をもたらすということを示している。 くり返しの洗浄からIIAP上のcPcの保持を見極めるため、このときさまざ まな量で装てんされたcPcを含む上述のものからの2つの処理済みIIAP試 料を、遠心分離をして上清を廃棄することによって分離した。各々の固体に対し て、遠心分離の前の最終体積を表わす3.1■Lの水を付加した。 10分間転 倒型回転により管を撹拌し、その後500μLを取出し0.22ミクロンの注射 器フィルターを通してろ過した。このろ液の200tIL部分を石英キュベント 内で3.OsLの水に付加し、260ナノメートルでの溶液吸収度を測定した0 次に懸濁液を転倒型回転で混合し、さらに20分及び45分の混合後上述のとお り試料を採取した。洗浄時間の関数としての2つの懸濁液のこの均衡化用洗浄に ついてのUv吸吸収読み取り値は表■に示されている0表面には又、これらの露 出時間中に見い出された水酸化リン灰石上に存在するものとして計算されたcP cの百分率も示されている。 表■ 水酸化リン灰石から水溶液内へのcpcの損失傘 これは、水酸化リン灰石に付 着した状態で発見されたCPCの100%が溶液から出て溶液に入った場合に予 想される最大UV吸吸収である。 この洗浄実験から、cpc単独処理の場合に比べDOTMP/CPCで処理され た水酸化リン灰石の場合にはるかに小さい度合で(68パーセントの減少)水に より水酸化リン灰石からCPCが洗い出されることは明白である。30分及び7 5分長く洗液を均衡化させても、これらの結果は変わらなかった。 f!ii:水酸化リン灰石長球(SHAP)を用いたDOTMP/CPC対cp cの実質度 水酸化リン灰石長球(SWAP)はBDHChemicals Ltd Poo le Englandから購入した。これらは、表面積のわかっていない機械的 に安定し多孔性の球状粒子の形で特に開発された水酸化リン灰石であった。 2本の試験管の各々の中に200 mgの5)IAPを入れた。管lには0.0 015Mのcpcを2.0蒙り加え、管2には同じ< O,0015MのDOT MPを含む0.0015MのCPCを2.0■L付加した。2本の管を10分間 転倒型回転運動により混合し、次に撹拌後発生した細かい粒子を沈下させるべく 短時間遠心分離した。各々の管からの200 μLのアリコートを次に取出し、 石英キュベツト内で3.0■Lの水に付加した0次に260ナノメートルでのU ν吸吸収を測定した。その後管を回転装置上に戻し、4時間及び24時間の混合 後のUV吸吸収を測定するためアリコートを取出した0時間の関数としての、O ,0015Mの溶液の初期UV吸吸収及び5HAPに対する露呈後の溶液のUV 吸吸収は、表■に示されている。 表■ 球状水酸化リン灰石上へのCPCの吸着傘200mgの球状水酸化リン灰石上に 吸着されたCPCのマイクロモル数 これらの結果は、CPCに対する等モル比でのDOTMPの使用が、球状水酸化 リン灰石により溶液から吸着されしかも水溶液との関係において水酸化リン灰石 表面に対するその親和力を増したCPCの量の3.84倍の拡大をひき起こすと いうことを示している。 くり返しの洗浄からの5)IAP上のCPCの保持を見極めるため、以上からの 2つの固体水酸化リン灰石の各々を、フリットの備わった使い捨てポリプロピレ ンカラム(Bio−Rad Laboratories) ヘと移送した。固体 長球を保持し戻すフリ7)を通して、溶液を重力ろ過させた。はとんどの溶液を 放出する管を通しての10■Lの空気の吹込みにより、最後の微量溶液を除去し た。このとき残留水酸化リン灰石を、転倒型回転により10分間2.0紅の水に 露呈した。10分後、上清の200μLアリコートを取り、石英キュベント内で 3.O+wLの水に付加した。 次に、最初の洗液、10分の露呈時間に相当するUV吸吸収をこれら2つの溶液 について決定した0次に、長球を含む溶液をさらに4時間混合し、その時点でU v測測定ためさらに200μLのアリコートを採取した。20時間の混合の後、 Uv測測定ため3番目の200μLアリコートを採取した。このとき上述の使い 捨てカラムを用いて上清から球状水酸化リン灰石を分離させ、2回目の洗液とし て2.0+Lの水の中に入れた。10分の混合後及び4時間の混合後、前述のよ うに2回目の洗液を試料採取した。三回目の洗浄も、同じ(2,01の水及び1 0分の露呈時間を用いて行なわれた。これらの試料からのt+V吸収吸収−デー タVに示されている。 これらの結果は、CPCに対する等モル比でのDOTMPの使用が、球状水酸化 リン灰石上に保持されたCPC量の10倍以上の増大をひきおこしたことを示し ている。 fIi:抗菌性実質度の改善 HAP懸濁液(例1で記述した通り)の8g試料を計り分け、焼結ガラスフィル ター漏斗を用いて3〜201部分の水で洗浄した。洗浄した固体HAPを次に2 01の水中で再懸濁して、懸濁液1mLあたり約100 mgの固体HAPを含 む乳白色の懸濁液を得た。 抜柱Δ このIIAP懸濁液懸濁液1m本の試験管の各々の中に入れた。管1には0.0 015Mのcpc溶液を2吐付加し、管2には、pH7,44でcpc(0,0 015M )及びDOTllP(0,0015M)から成る溶液2.0■Lを付 加した。 結果として得られた懸濁液を転倒型回転装置上で10分間徹底的に混合し、次に 管を3分間遠心分離し、上清を取出した。各管内の固体RAPを次に、プラスチ ック製ピペットで激しく撹拌しながら水3■L中で再懸濁させ、懸濁液を遠心分 離し上清を廃棄した。各々の管の中の固体のRAPを2.0札の水の中で再懸濁 させ、各懸濁液からの500 μLのアリコートを取出し、IA及び2Aとラベ ル貼付した別々の管の中に入れる。各懸濁液の残りの1.5■Lを再度遠心分離 し、上清を廃棄した。 跋料旦 試料Aを取出した後各々の管内に残る固体114Pを3.0■Lの水の中で懸濁 し、遠心分離し、上清を廃棄した。HAP固体を3.0■Lの水の中で2回目に 再懸濁させ、遠心分離させ上清を廃棄した0次に、各管からのI(APを1.5  IILの水の中で再懸濁し、0.5■Lのアリコートを取出し、1B及び2B とラベル貼付した。残りの1.0■Lの懸濁液をμm 試料Bの取出し後に各管内に残ったRAPを3.0■Lの水の中で再〒濁した。 2回目に3.ONLの水中でI(AP固体を再懸濁し、遠心分Mj上清を廃棄し た。結果として得られた各管内の)IAPを1.OwLの水・で再懸濁し、0. 5■Lのアリコートを取出し、lC及び2Cとラベノ貼付した。懸濁液の残りの 0.5sLを3.0畦の水で希釈し、遠心分ミし、上清を廃棄した。 広粁旦 試料Cの取出し後の各管内のRAP固体を3.(1+Lの水中で再懸濁、せ、遠 心分離し、上清を廃棄した0次に(1^Pを0.5紅の水中で再弊濁させ、ID 及び2Dとラベル貼付した。 「A」とラベル貼付されたHAP試料は3+mLの水洗液を受け入れ、[B」と してラベル貼付されたものはLL+aLの水洗液を受け入れ、「C」とラベル貼 付されたものは18.5dの水洗液を受け、rDJノラベル貼付されたものは2 5.5sLの水洗液を受け入れた。 各々約0.5■LのRAP (25B )懸濁液を含む8本の管の各々の中に、 5パーセントのスクロース溶液を0.5■Lと唾液0.5*Lを付加した。 唾液を朝食から2時間後に、食後の口内洗浄を禁じられた4人の号ランティアか らプールした。管を漫とうして中味を混合し、各溶減のpH−1−ptl計を用 いて測定した0次に管にフタをし、約50°Cで一晩、転倒型回転装置内に入れ た。翌日(t=13時間)、管を冷却させ、各懸濁液のpHを測定した。結果は 表■に示されている。 pHの降下は、細菌抑制がほとんど又は全く無くそのため細菌はスクロースを乳 酸といった有機酸に代謝でき、これが次にpHを低下させるということを意味し ている。pH降下が無いということは、細菌が死んでしまったか又はスクロース を代謝できないことを表わし、これは水酸化リン灰石固体上に水洗浄を通してど れほどのCPCが運ばれたかの尺度となる。 これらの結果は、cPc溶液に対するDOTMPの付加が、水酸化リン灰石に対 するCPCのより多くの保持をひき起し、次にこれがさらに長い洗浄の後に抗菌 活性を及ぼしうるということを示している。この試験は又、CPcと共にDOT MPを用いた場合に抗菌活性の実質度が強化されることも示している。 別工 環状アミン/CPC/金属イオンのさまざまな組合せの実質度をさに見掻めるた め、解tlpH試験を実行する前に水酸化リン灰化の以下の洗浄手順を行なった 。 緩衝液懸濁液中の水酸化リン灰石12.Og (Stgma Che+wica l Co、がらの25重量パーセント固体のもの)の入った6oIIL入りビー カーに対して、25mLの水を付加した。HAP懸濁液を媒質ガラスはめ込み式 フィルターを通してろ遇しHAPろ塊を得た。2回目にさらに25mLの水でこ のFIAPろ塊を洗浄した。緩衝液無しで3.0gのHAPを含む白色固体のろ 塊を、30.0+*L (7)水で再懸濁し、3. Og /30.OmL又は 100 B/sLの懸濁液を生成した。 RAP ?Ail液2!ILを、DI−D、、(なおn はE験1液の数) と ラベル貼付された何本かの無菌使い捨てポリスチレン製51入り試験管の各りに 移した。試験溶液2mLを各試験管に付加した。 HAPを試験溶液の入った試験管にフタをし、管回転装置にとりつけ、転倒型回 転させて試験溶液をHAPと合計1o分間接触させた。 混合後、試験管をIndustrial Equipment Company  (IEC) K型遠心分M器の中に入れ、10分間設定(!125 (中央レ ンジ)で回転させた。 管をとり出し、液体層を検温させた0次にマクロピペッタ−を用いて3.OmL の水を遠心分離された水酸化リン灰石の入った各々の試験管に付加した。ピペッ トを通しての激しい流入流出動作により、HAP固体を再懸濁させた。10分間 再び管を設定値25で遠心分離させ、液体層を検温させた。3ミリリットル洗浄 段階の後、HAP固体を2.01lLの水中で再度懸濁させてもとの100−g /wL懸濁液濃度を生み出した。このHAP懸濁液の0.5mL試料(50mg (7)HAPを含む)を取出し、A、〜A、とラベル貼付された何本かのポリス チレン試験管の各々の中に入れた。この試料Aは、3ミリリツトルの水で洗浄さ れたもとのHAP懸濁液の4分の1を含んでいる。 D、−D、とラベル貼付された試験管中の残りの1.5dを10分間遠心分離さ せ、試験管をとり出し、液体層を(Ill瀉した。これらの試験管に3ミリリツ トルの水を付加し、使い捨てピペットを用いてHAP固体を再懸濁させ洗浄した 。管を10分間遠心分離して、管を取り出し、液体層を検温させた。これらの管 にさらに3ミリリツトルの水を加え、ピペットによりHAP固体を再懸濁させ洗 浄した。これらの管を再び遠心分離機の中に入れ、10分間回転させた。管を取 り出し、液体層を検温させ1.5mLの水を各管に付加した。もとの100w+ g/mL濃度まで)IAP固体を再懸濁させ、0.5+*Lの試料をとり出し、 81〜Bいとラベル貼付された何本かの5+*L入りポリスチレン試験管の各々 の中に入れた。この試料Bは、試験溶液で処理されその後合計11ミリリンドル の水で洗浄された50mgのHAP固体を含んでいた。 上述の手順を3回〜4回くり返し、C,−C,及びり、−D、とラベル貼付され た一連の試験管を作り上げた。Cの試料は、試験溶液で処理し合計18.5+* Lの水で洗浄したHAP固体を含んでいた。Dの試料は、試験溶液で処理し合計 25.5+*Lの水で洗浄したHAP固体を含んでいた。 次に、各々処理され洗浄されたHAP懸濁液を0.5mL含むA1〜D7とラベ ル貼付された試験管に唾液/スクロース/細菌混合物の0.75糺アリコートを 付加することにより、上述のとおりに解糖pH試験を実施した。 上述の実験手順を用いて、)IAP実質変質度いて以下の化合物を試験した:す なわち水(対照);CPC;クロルヘキシジン(Cl() ;DOTMP ;及 びDOTMP/CPC、試験対象の化合物は、O,0015Mの水溶液としての 体裁をもつ、これらの試験の結果は表■に示されている。 DOTMP/CPCの溶液は、試験されたその他の溶液に比べて、一連の洗浄の 後はるかに優れた抗菌活性を示す。 表■ )IAP洗浄の関数としてのpH ’ cpc−塩化セチルピリジニウム ”CH=クロルヘキシジン ”DOTMP = 1. 4. 7.10−テトラアザシクロドデカン−1,4 ゜7.10−テトラメチレンホスフオン酸■工 例8に記述された実験手順を用いて、HAP実質変質度いて以下の化合物を試験 した:すなわち、水(対照):塩化セチルピリジニウム(CPC) i DOT ?IP/CPC;及びPCTMP/CPC、化合物はO,0015Mの水溶液と して試験された。 この試験の結果は表■に示されている。 O,0015MのCPCで処理された )IAP Mii液は3mLの水で洗浄された後抗菌活性を示したが、CPCレ ベルは、11mLの水で洗浄した後著しく降下した。 0.0015MのDOT MPとCPCを合わせた製剤の一対一の溶液で処理されたHAP溶液は、25m Lの水での洗浄の後でさえ抗菌性でありつづけた。同様に、1対1のPCTMP プラスcpcの製剤で処理したHAP懸濁液は、25−Lの水洗浄を通して抗菌 性をもち続けた。 表■ RAP洗浄の関数としてのt+H *CPC=塩化セチルピリジウム; DOTMP =1. 4. 7.10−テトラアザシクロドデカン−1,4゜7 .10−テトラメチレンーホスフオン酸;PCTMP =3. 6. 9.15 −テトラビシクロ−(9,3,1)−テトラゾカー−1(15) 、 11.1 3−トリエン3,6゜9−トリメチレンホスフオン酸 源 例8に記されている実験手順を用いて、HAP実質変質度いて以下の化合物を試 験した;すなわち水(対照);塩化セチルピリジウム(CPC) i DOTM P/CPCSカルシウム−DOTMP (Ca−DOTMP) ;及びCa − (IQTMP/CPC、試験対象の化合物は0.0015Mの水溶液という体裁 をもち、Caは0.0014Mの水溶液としての体裁をもつ。 この試験の結果は表■に示されている。これらの結果は、DOTMP/CPC及 び(:a −DO丁MP/CPCが試験されたその他の溶液に比べて一連の洗浄 後実質的に高い抗菌活性を保持していたことを示しており、これはカルシウムの 存在が、DOTMPのCPC実譬度強化能力と干渉しないことを表わしている。 表■ HAP洗浄の関数としてのpl( * cpc−塩化セチルピリジニウム;DOTMP −1,4,7,10−テト ラアザシクロドブシン−1,4゜7.10−テトラメチレンーホスフォン酸;C a=カルシウム 廻頂2 例8に記述されている実験手順を用いて、HAP実質変質度いて以下の化合物を 試験した:すなわち水(対照);塩化セチルピリジニウム(CPC) ; Sn −DOTMP ; Sn−DOTMP/CPC; Zn−DOTMP ;及びZ n −DOTMP/CPC、試験対象の化合物は、0.0015Mの水溶液とし ての体裁を呈し、金属は0.0014M水溶液としての体裁をもつ。 この試験からの結果は、表Xに示されている。 Sn−DOTMP/CPC及び Zn/DOTMP/CPCの溶液は両方共、抗菌活性の保持により測定されるよ うに一連の洗浄を通して実質度を示し、Sn −DO↑MP/CPC溶液が最大 の実質度を示した。 班旦 例8に記されている実験手順を用いて、以下の化合物をRAP実質変質度いて試 験した;すなわち水(対照);塩化セチルピリジニウム(CPC) :Sr−D OTMP ;Sr−DOTMP/CPC;及びMg−[10T?IP/CPC、 試験対象の化合物は0.0015Mの水溶液としての体裁を示し、金属は0.0 014Mの水溶液としての体裁を示している。 この試験からの結果は、表XIに示されている。 Sr−DOTMP/CPC及 びM、 −DOTMP/CPC溶液は両方共、抗菌活性の保持により測定される ように、一連の洗浄を通して実質度を示した。 ・X 殻 シ 例8で記述された実験手順を用いて、RAP実質変質度いて以下の化合物を試験 した:すなわち水(対照);塩化セチルピリジニウム(CPC) ; Ca−D OTMP/CPCs Sn−[10TMP/CPC; Zn−DOTMP/CP C; Sr −DOTMP/CPC; Mg−ロOTMP/CPC; Fe−D OTMP H及びCu−DOTMP、試験対象の化合物はO,0015Mの水溶 液としての体裁を示し、金属は0.0014Mの水溶液としての体裁を示してい る。 この試験からの結果は、X■に示されている。 DOTMP及びCPCで試験し た金属複合体のうち、Snは、抗菌活性の保持により測定されるように、最高の 実質度を有する。 班■ ピーグル大における実験的歯肉炎形成を抑制するというフィチン酸含有試験製剤 の能力を見極めるため、インビボ研究を行なった。 自然に発生した歯肉炎をもつ2〜3才の純粋種の雌のピーグル大を、各々4頭か ら成るグループに無作為に分割した。 14日間の順応の後、イヌの歯をスケー リングして歯肉上の歯石を除去して研摩した。予防法の後−週間、ブラシかけに よる口内ケアを維持し、Loe 。 J、 Periodontal、、38.610 (1967)及びLoe及び 5ilness、^cta 0dontScand、21.533 (1963 )の手順により測定されるように、基底線歯肉炎指数を得た。最初の歯肉炎指数 の読取りの後、各グループの歯に一日2回、−週間に5日、以下の口内リンス剤 のうちの1つを約10sL用いてスプレーを行なった。 (A)塩化セチルピリジニウム(CPC) 1(B)すず/DOTMP/CPC (Sn−DOTMP/CPC) 1(C)カルシウム/DQTMP(Ca −D OTMP) ;(D ) DOTMP/CPC 塩化セチルピリジニウム及びDOTMPは約1.5ミリモル(mM)の濃度で存 在し、金属イオンつまりカルシウム及びすずは約1.4 mMで存在した。 cpc溶液は、水30mL、中に1.096 gのcpcを溶解させることによ って調製した。溶液を2.0リットル入り容量フラスコに移し、水を用いて印の 所まで希釈した。最終溶液のpHは約5.9であった。 まずSn −DOTMP (1リットル中0.447 gのフッ化第−錫及び1 .674gのDOTMP)及びCPC(1リットル中1.096 g)の別々の 溶液を作ることにより、Sn/DOTMP/CPC溶液を調製した。 50sL の水の中に[lOTMPを懸濁させ、フッ化第−錫溶液に付加する前にpnを約 7にするため50重量パーセントの水酸化ナトリウムを付加しながら溶液にした 0次にSn −DOTMPとcpcの溶液を組合わせて約1.4mMのSn、1 .5 mMのDOTMP及び1.5mMのcpcを得た。 Ca−ロOTMP溶液は、50uLの水中に0.419 gの塩化カルシウムイ オン物を溶解させ、2リットル入り容量フラスコに移すことにより調製した。  I)OTMPは、50@シの水の中に1.674 g(7)[)OTIIIPを 懸濁させ次に50重量パーセントの水酸化ナトリウムを付加してDOTMPを溶 液にすることによって調製した。その後、DOTMP溶液を2リットル入りフラ スコに付加し、水で印のあるところまで希釈した。最終的pi(は約7.4であ った。 DOTMP/CPC熔液は1.096 g17)CPCと1.674 gノDO TMPを含ンテいた。 DOTMPを上述のとおり別途調製し、30uLの水の 中に溶解させたCPCを含む2リットル入り容量フラスコに付加し、水で目印の ところまで希釈した。最終pHは約7.66であった。 4週間の治療後、歯肉指数を再び測定した。歯肉指数の変化を示す表X1ll中 に示された結果は、DOTMP/CPC組成物が、歯肉の健康の劣化を抑制する 上で試験対象となった組成物のうち最も効果の高い組成物テアッたことを示しテ イル、 Ca−DOTMP及びSn −DOTMP/CPCの組成物は、塩化セ チルピリジニウム単独の場合と比べて低い歯肉指数の増大を示した。 表X■ ’CPC=塩化セチルピリジニウム; 00フMP =1. 4. 7.10−fト−y7ザドデカ:/−1,4,7, 10−テトラメチレンホスフォン酸 Sn=すず; 及びCa−カルシウム。 k DOT?IP及びCPCとのカルシウムの相客性溶液状態のl)OTMP及 びcpcと金属イオンの相客性を決定するためには、各成分1.5mMの濃度で (pH5,65) DOTMP 、 CaCIg及びcpcを含む試料100μ Lに対し0.01MのCaC1z溶液を15μLの増分量付加した。溶液を混合 し、沈降について観察した0表XIVに示されている結果は、これらの濃度では 少なくとも5つのカルシウムイオンがDOT+’IP/CPC混合物と相容性を もち、目に見える沈降物は全くないということを示している。 表XIV 傘 DOTMP =1. 4. 7.10−テトラアザシクロドデカン−1,4 ゜7、IO−テトラメチレンホスフォン酸;Ca−カルシウム; cpc =塩化セチルピリジニウム ■ル 一般的実験の下で結晶抑制測定について記述した通りの上記p)ストラメチレン ホスフォン酸([!DTMP)及び1,4,7.10−テトラアザシクロドデカ ン−1,4,7,10−テトラメチレンホスフォン酸(DOTMP)を各々さま ざまなレベルで評価し対照と比較した0両方の抑制物質共、0.09Mのアンモ ニウム塩溶液として調製された。使用されたEDTMPのレベルは、10.15 .20及び30uLであった。使用されたDOTMPのレベルは、4 、10. 15.20μLであった(54uL中20μしは3.3 X10−’M又は重量 ベースで14.59p−のE[lTMP及び18.3ppmのDOTMPに等し い)0図1を見ればわかるように、4μLの1)OTMPはlOμLのEDTM Pと等価である。 上述のpHスタンド手順を用いて、3.3 Xl0−5Mの全て(54uLの2 0μLの0.09M溶液)を対照としての水に対して試験した。これらは効率の 増大順でいうと、l(E[JP、 N[lATMP、 EtlT?IP、 [l CDATMP、 [lTPMP及びDOTMPである。図2及び図3を見るとわ かるように、DOTMPは最高のRAP歯石(スプレ)抑制物質として卓越して いる。 ■旦 上述のpHスタンド手順を用いて、延長した作業(4時間)を3.3X10−’ MレベルのDOTMPを用いて行なった(54uL中20μLの0.09M溶液 )0図4を見ればわかるように、4時間経っても目に見える1(AP形成はない 。 上述のpHスタット手順を用いて、全て2.71xlO−’Mの抑制物質EDT MP、 PCTMP及びN0Tl’IPを、対照としての水に対して試験した。 この試験の結果は図5に示されている。 五匹 上述のpHスタット手順を用いて、抑制物質DOTMPに対して等モル濃度の塩 化セチルピリジニウムを付加したことの効果を見極めた。 図6を見ればわかるように、DOTMPに対する等モル量のcPcの付加(両者 共2.73X10−’M)は、水酸化リン灰石形成を防止するDOTMP(2, 73X 10−’ M )の能力を著しく抑制しなかった。 監 上述のpifスタット手順を用いた場合、DOTMPの3.3 Xl0−’M溶 液に対する等モル量のマグネシウム又はカルシウムイオンの付加は、水酸化リン 灰石形成を防止するDOTMPの能力を抑制しなかった。 監 ピーグル大における実験的歯石形成を抑制するというDOTMPを含む製剤の能 力を見極めるため、インビボ研究を行なった。 自然に発生した歯肉炎をもつ2〜3才の純粋種の雌のピーグル犬を、各々4頭か ら成るグループに無作為に分割した。 14日間の順応の後、イヌの歯をスケー リングして歯肉縁上歯石を除去し研摩した。 予防法の後−週間、ブラシかけによる口内ケアを維持し、H,Loe。 J、 Periodontal、+38+ 610 (1967)の手順により 測定されるように、基底線歯石指数を測定した。最初の歯石指数の読取りの後、 各グループの歯を日に2回、−週間に5日、以下のロ浄リンス剤の1つを約10 mL用いてスプレーした: (A) O,0015Mの塩化セチルピリジニウム(CPC) i(B ) 0 .0015Mの[lOTMP 、 0.015 MのCPC(DOTMP/CP C) i(C) 0.0015Mの第1すず、0.015 Mの口OTMP(S n−(IQTMP) ;又は(D ) O,0015Mのカルシウム、0.01 5 MのDOTMP (Ca −DOTMP)。 CPC溶液を 2.0リツトルの水の中に1.096 gの塩化セチルピリジニ ウムを溶解させることによって調製した。 DOTMP/CPC溶液は、50sLの水に1.674 gのDOTMPを付加 し水酸化ナトリウムを50重量パーセント付加して溶解を行なって9Hを5.0 まで上げることによって調製した。この溶液を次に、30uLの水の中に溶解し た塩化セチルピリジニウム1.096 gに付加した。この溶液を次に、最終p Hが7.66の2.0リツトルになるまで希釈した。 第1すず又はカルシウムを含む溶液を調製するため、上述のとおりにDOTMP を調製し、0.419 gの塩化カルシウムニ水和物又は0.477gのフン化 第1すずを含む30−Lの水に付加した0次にこれらの溶液を合計量2リツトル になるまで希釈した。 4週間の治療後、歯石指数を再度測定した0表Iに示した結果は、Ca −DO TMPの組成物が歯石指数の増大を防ぐ上で、試験対象の組成物のうち最も効果 の高いものであったことを示している。 表 ■ 傘cpc−塩化セチルピリジニウム DOTMP −1,4,7,10−テトラアザドデカン−1,4,7゜10−テ トラメチレンホスフォン酸; Sn−すず;Ca−カルシウム 本発明のその他の実施amは、本書で開示した本発明のこの明細又は実践法を考 慮に入れれば当業者にとっては明白なものとなろう。 本明細書及び実施例は、単に例示的なものとしてのみ考えられるべきものであり 、本発明の真の範囲及び精神は以下のクレームによって示されている。 ((?IuJCDHO酎ωll[0’耐) Wil!’<(F”ωHOT!NC DNEO’O) gg、x慾(ご田)iを6平1列 (2T”)IiJ慾 (?l1ll)i′M忠笈 (Jlll) Iω(1−10”N W9rO’0) ?l慾国際調査報告 、−jA+&+1+& PCT/US 92710897フロントページの続き (81)指定国 EP(AT、BE、CH,DE。 DK、ES、FR,GB、GR,IE、IT、LU、MC,NL、PT、SE) 、AU、BR,CA、FI、JP、 KR,NZ、 US (72)発明者 サイモン、ジェイム アメリカ合衆国、テキサス 77515.アングルトン、ルート 1.ボックス  12〇−ジー。 (72)発明者 キーファー、ガーリー イー。 アメリカ合衆国、テキサス 77566、レイク ジャクソン、ジュニパ−11 4 (72)発明者 ウ、イルソン、デビット ニー。 アメリカ合衆国、テキサス 77531. リッチウッド、サン ババ 229

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.抗歯垢剤又は抗歯石剤として、 ▲数式、化学式、表等があります▼(I)▲数式、化学式、表等があります▼( II)▲数式、化学式、表等があります▼(III)▲数式、化学式、表等があ ります▼(IV)という構造式I乃至IVにより表わされる化合物のうちの1又 は複数のものから選択された環状アルキルアミン又は環状アミンを有効量含む口 内で受容できる賦形剤を含む口内組成物であって、構造式中、各々のRは個別に 水素、C1−C■、炭化水素基、C2−C6ヒドロキシアルキル又は、 Zを個別に−PO2H2,−COOH,−H又はC1−C1■アルキル又は酸性 基の生理学的に受容可能な塩とし;X及びYを個別に−H又はC1−C3炭化水 素基として ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、 ただしここで各々の環状アルキルアミン又は環状アミンが、−PO3H2又は生 理学的に受容可能なその塩である少なくとも2つのZ基を含み、さらに 各々のnは個別に2又は3であり、 mは3〜6(3と6を含む)であり、 ただしn及びmは、環状アミンの環内の炭素及び窒素原子の合計数が18を超え ないように選択されている、口内組成物。
  2. 2.抗歯石又は抗歯垢剤が、構造式Iにより表わされる環状アルキルアミンであ る、請求項1に記載の口内組成物。
  3. 3.抗歯石又は抗歯垢剤が構造式IIで表わされる環状アルキルアミンである、 請求項1に記載の口内組成物。
  4. 4.抗歯石又は抗歯垢剤が構造式IIIにより表わされる環状アミンである、請 求項1に記載の口内組成物。
  5. 5.抗歯石又は抗歯垢剤が構造式1Vにより表わされる環状アミンである、請求 項1に記載の口内組成物。
  6. 6.各々のRがメチレンホスフォン酸又は生理学的に受容可能なその塩である、 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の口内組成物。
  7. 7.環状アミンが1,4,7,10−テトラアザーシクロドデカン−1,4,7 ,10−テトラメチレンホスフォン酸又は生理学的に受容可能なその塩である。 請求項1又は4に記載の口内組成物。
  8. 8.抗歯石又は抗歯垢剤が0.5ミリモル乃至20ミリモルの濃度で存在する、 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の口内組成物。
  9. 9.口内組成物がさらに、1又は複数の陽イオン性抗菌化合物を0.001〜1 5重量パーセント含んでいる、抗歯石又は抗歯垢剤を含む請求項8に記載の口内 組成物。
  10. 10.陽イオン性抗菌化合物が、 ▲数式、化学式、表等があります▼(V),▲数式、化学式、表等があります▼ (VI),という構造式V又はVIのうちの一方又は両方により表わされる第四 アンモニウム化合物、クロルヘキシジン、サンギナリン、又はその混合物であり 、式中 R1はC■−C20アルキルであり、 R2はベンジル又はC1−C12アルキルであり、R3及びR4は個別にC1− C7アルキル又は−(CH2−CHOH−CH2−O)nHであり、 ここでnは1以上6以下の整数であり、R5は−H,C1−C7アルキル又はn を1以上6以下の整数とした−(CH2−CHOH−CH2−O)nであり、X は塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン又は弗素イオンである、 請求項9に記載の口内組成物。
  11. 11.第四アンモニウム化合物が塩化セチルピリジニウムである、請求項10に 記載の口内組成物。
  12. 12.さらに金属イオンが含まれ、この金属イオンがSr2+,Mg2+,Sn 2+,Zn2+,Ca2+又はその混合物であり、金属イオン対抗歯石又は抗歯 垢剤の比率が5:1乃至1:5である。抗歯石又は抗歯垢剤を含む請求項1乃至 8のいずれか1項に記載の口内組成物。
  13. 13.金属イオンがSr2+,Mg2+,Sn2+,Zn2+,Ca2+又はそ の混合物であり、金属イオン対抗歯石又は抗歯垢剤の比率が5:1乃至1:5で ある、(a)抗歯石又は抗歯垢剤;(b)抗菌化合物;及び(c)金属イオンを 含む請求項9,10又は11のいずれか1項に記載の口内組成物。
  14. 14.請求項1乃至13のいずれか1項に記載の抗歯垢剤を含む口内組成物を歯 垢抑制量だけ哺乳動物の歯に投与することを含む歯垢形成の抑制方法。
  15. 15.請求項1乃至13のいずれか1項に記載の抗歯石剤を含む口内組成物を歯 石抑制量だけ哺乳類の歯に投与することを含む、歯石形成の抑制方法。
  16. 16.歯石又は歯垢の治療のための口内組成物の製造を目的とした、請求項1に 記載の構造式I乃至IVの化合物のうちの1又は複数のものにより代表される環 状アルキルアミン又は環状アミンの使用。
  17. 17.第1の区画の中には請求項1乃至8のいずれか1項に記載の1又は複数の 環状アルキルアミン又は環状アミンを含む口内で受容可能な賦形剤を含み、第2 の区画には請求項8乃至11のいずれか1項に記載の1又は複数の陽イオン性抗 菌化合物を含む口内で受容可能な賦形剤を含む、歯石又は歯垢の形成を抑制する ためのキット。
  18. 18.有効成分として請求項1乃至8のいずれか1項に記載の1又は複数の抗歯 石又は抗歯垢剤及び口腔内の歯石又は歯垢の形成を抑制するためのその使用説明 書を含む商業用パッケージ。
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