JPH0747231A - 脱硝装置 - Google Patents
脱硝装置Info
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- JPH0747231A JPH0747231A JP5197385A JP19738593A JPH0747231A JP H0747231 A JPH0747231 A JP H0747231A JP 5197385 A JP5197385 A JP 5197385A JP 19738593 A JP19738593 A JP 19738593A JP H0747231 A JPH0747231 A JP H0747231A
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- denitration catalyst
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 脱硝触媒出口のスリツプＮＨ3を低減でき、
しかも長期間安定した脱硝効率が得られる脱硝装置を提
供する。 【構成】 脱硝触媒層５の内一定期間使用した上流側の
脱硝触媒Ａを後流側へ移設する。これにより、モル比を
上げて運転することができる。
しかも長期間安定した脱硝効率が得られる脱硝装置を提
供する。 【構成】 脱硝触媒層５の内一定期間使用した上流側の
脱硝触媒Ａを後流側へ移設する。これにより、モル比を
上げて運転することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アンモニア（ＮＨ3）
分解活性成分を含有する排ガス中の窒素酸化物（ＮＯ
ｘ）を低減するに好適な脱硝装置に関する。
分解活性成分を含有する排ガス中の窒素酸化物（ＮＯ
ｘ）を低減するに好適な脱硝装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＮＯｘによる大気汚染は年々深刻化して
おり、従来の大型排ガス発生源から、小規模用の産業プ
ラント、ガスタービン、デイーゼルなどに至るまで脱硝
装置の適用対象プラントは広範囲にわたつてきている。
これに伴ない、脱硝技術にとつて障害となる新らたな課
題も生じ、ＮＨ3分解成分による脱硝触媒の被毒もその
１つである。
おり、従来の大型排ガス発生源から、小規模用の産業プ
ラント、ガスタービン、デイーゼルなどに至るまで脱硝
装置の適用対象プラントは広範囲にわたつてきている。
これに伴ない、脱硝技術にとつて障害となる新らたな課
題も生じ、ＮＨ3分解成分による脱硝触媒の被毒もその
１つである。
【０００３】例えばＮＨ3分解成分とはＮＨ3の分解活性
を有する一般的な成分を示すが、特にＰｔ，Ｐｄ，Ｒｕ
などの第８族の元素が主な対象となる。
を有する一般的な成分を示すが、特にＰｔ，Ｐｄ，Ｒｕ
などの第８族の元素が主な対象となる。
【０００４】図８は、ＣＯ酸化触媒と脱硝触媒を並設し
たガスタービン用脱硝装置の概略構成図を示したもので
ある。図示していないガスタービンより排出された排ガ
ス２は、ＮＨ3分解成分を含有するＮＨ3分解成分含有触
媒層３、例えば貴金属を担持したＣＯ酸化触媒層３を通
過する時、その飛散成分を捕捉し、ＮＨ3を分解する触
媒成分を含有する排ガス４となり、ＮＨ3分解成分除去
装置６を経てＮＨ3注入装置８によりＮＨ3を注入され、
脱硝触媒層５に導入される。この時、排ガス中のＮＨ3
分解成分の一部が脱硝触媒層５の表面に付着し、ＮＨ3
分解を生じ脱硝性能が見かけ上低下してしまう問題があ
つた。
たガスタービン用脱硝装置の概略構成図を示したもので
ある。図示していないガスタービンより排出された排ガ
ス２は、ＮＨ3分解成分を含有するＮＨ3分解成分含有触
媒層３、例えば貴金属を担持したＣＯ酸化触媒層３を通
過する時、その飛散成分を捕捉し、ＮＨ3を分解する触
媒成分を含有する排ガス４となり、ＮＨ3分解成分除去
装置６を経てＮＨ3注入装置８によりＮＨ3を注入され、
脱硝触媒層５に導入される。この時、排ガス中のＮＨ3
分解成分の一部が脱硝触媒層５の表面に付着し、ＮＨ3
分解を生じ脱硝性能が見かけ上低下してしまう問題があ
つた。
【０００５】これを解決するための手段としては、ＮＨ
3注入装置８の前流に、ＮＨ3分解成分除去装置６、例え
ば、触媒担体によるＮＨ3分解成分吸着を利用するも
の、あるいは、脱硝触媒そのものを吸着層として設置す
るものが提案されている。
3注入装置８の前流に、ＮＨ3分解成分除去装置６、例え
ば、触媒担体によるＮＨ3分解成分吸着を利用するも
の、あるいは、脱硝触媒そのものを吸着層として設置す
るものが提案されている。
【０００６】しかしながら、吸着能力に限界があり、全
てのＮＨ3分解成分の除去は不可能であること、また設
置スぺース又は許容圧力損失の制約上、吸着容量が限ら
れており、吸着が飽和に達する毎に、脱硝装置１を停止
して、吸着層を取り換えなければならない。
てのＮＨ3分解成分の除去は不可能であること、また設
置スぺース又は許容圧力損失の制約上、吸着容量が限ら
れており、吸着が飽和に達する毎に、脱硝装置１を停止
して、吸着層を取り換えなければならない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来技術の脱硝装置
は、脱硝触媒上へのＮＨ3分解成分が飛散、付着しない
よう除去するという考えに基づいており、これを達成す
ることは前述したＮＨ3分解成分吸着剤の種々の制約に
より限界があつた。
は、脱硝触媒上へのＮＨ3分解成分が飛散、付着しない
よう除去するという考えに基づいており、これを達成す
ることは前述したＮＨ3分解成分吸着剤の種々の制約に
より限界があつた。
【０００８】本発明はかかる従来技術の欠点を解消しよ
うとするもので、その目的とするところは、脱硝触媒出
口のスリツプＮＨ3を低減することができ、しかも長期
間安定した脱硝効率が得られる脱硝装置を提供すること
にある。
うとするもので、その目的とするところは、脱硝触媒出
口のスリツプＮＨ3を低減することができ、しかも長期
間安定した脱硝効率が得られる脱硝装置を提供すること
にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成するために、脱硝触媒層の内一定期間使用した前流側
の脱硝触媒を後流側へ移設するようにしたものである。
成するために、脱硝触媒層の内一定期間使用した前流側
の脱硝触媒を後流側へ移設するようにしたものである。
【００１０】
【作用】最後流側に設置されたＮＨ3分解活性を有する
脱硝触媒は、その触媒層の前流側で未反応のまま流出し
てきたＮＨ3を次式のように分解する。
脱硝触媒は、その触媒層の前流側で未反応のまま流出し
てきたＮＨ3を次式のように分解する。
【００１１】 ４ＮＨ3＋５Ｏ2→４ＮＯ＋６Ｈ2Ｏ ……（１） ここで生成したＮＯは、未反応のＮＨ3とさらに次式の
ように分解される。
ように分解される。
【００１２】 ４ＮＯ＋４ＮＨ3＋Ｏ2→４Ｎ2＋６Ｈ2Ｏ ……（２） 従つて、脱硝触媒層出口のスリツプＮＨ3が低減される
ので、その分、入口のモル比（ＮＨ3／ＮＯｘ）を増加
させることにより、所定の脱硝性能を維持できることに
なる。
ので、その分、入口のモル比（ＮＨ3／ＮＯｘ）を増加
させることにより、所定の脱硝性能を維持できることに
なる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
る。
【００１４】図１は初期脱硝触媒の配列を示し、図２は
図１の脱硝装置における一定時間経過後の脱硝触媒への
ＮＨ3分解成分の付着量を示す。
図１の脱硝装置における一定時間経過後の脱硝触媒への
ＮＨ3分解成分の付着量を示す。
【００１５】図１において、ＮＨ3分解成分含有排ガス
４が脱硝触媒層５を通過する時、ＮＨ3分解成分は脱硝
触媒層５の表面に付着する。この付着量は最前流側が最
も多く、後流になるに従つて指数関数的に減少する。
４が脱硝触媒層５を通過する時、ＮＨ3分解成分は脱硝
触媒層５の表面に付着する。この付着量は最前流側が最
も多く、後流になるに従つて指数関数的に減少する。
【００１６】図２は、図１の脱硝装置をある一定期間使
用した後の脱硝触媒層５の各脱硝触媒Ａ〜ＤのＮＨ3分
解成分付着量と脱硝触媒層５の関係を示した特性図で脱
硝触媒５Ｄへの付着量を１として、その比で示したもの
である。
用した後の脱硝触媒層５の各脱硝触媒Ａ〜ＤのＮＨ3分
解成分付着量と脱硝触媒層５の関係を示した特性図で脱
硝触媒５Ｄへの付着量を１として、その比で示したもの
である。
【００１７】ここで、ＮＨ3分解成分はある一定量が脱
硝触媒層５に付着しないとＮＨ3分解を発現しないこと
を発明者等は確認した。例えば、ＮＨ3分解成分含有触
媒層３をＰｔ、脱硝触媒層５をＶ系の場合、ＮＨ3分解
活性が発現する量（以下ＮＨ3分解発現量と呼ぶ）は５
〜１０ｐｐｍ程度である。図２においては、ＮＨ3分解
発現量を仮に８として以下説明する。
硝触媒層５に付着しないとＮＨ3分解を発現しないこと
を発明者等は確認した。例えば、ＮＨ3分解成分含有触
媒層３をＰｔ、脱硝触媒層５をＶ系の場合、ＮＨ3分解
活性が発現する量（以下ＮＨ3分解発現量と呼ぶ）は５
〜１０ｐｐｍ程度である。図２においては、ＮＨ3分解
発現量を仮に８として以下説明する。
【００１８】再び図１に戻り、まず脱硝触媒層５の初期
充填時排ガス前流側より脱硝触媒Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの順に
４層の脱硝触媒層５で構成されているものとする。この
脱硝装置１をある時間運転した後、脱硝触媒層５の脱硝
触媒ＡのＮＨ3分解成分付着量がＮＨ3分解発現量に達す
ると、脱硝触媒Ａの脱硝触媒層５によつて、ＮＨ3注入
装置８からのＮＨ3は分解されるために（前流側で脱硝
反応に寄与するべきＮＨ3が消費されるために）Ｂ以降
のモル比が小さくなり、脱硝性能が低下してしまう。従
つて脱硝触媒層５の脱硝触媒ＡがＮＨ3分解発現量に達
する直前に図３に示すように脱硝触媒層５の脱硝触媒の
Ａを最上流側から最後流に移設する。
充填時排ガス前流側より脱硝触媒Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの順に
４層の脱硝触媒層５で構成されているものとする。この
脱硝装置１をある時間運転した後、脱硝触媒層５の脱硝
触媒ＡのＮＨ3分解成分付着量がＮＨ3分解発現量に達す
ると、脱硝触媒Ａの脱硝触媒層５によつて、ＮＨ3注入
装置８からのＮＨ3は分解されるために（前流側で脱硝
反応に寄与するべきＮＨ3が消費されるために）Ｂ以降
のモル比が小さくなり、脱硝性能が低下してしまう。従
つて脱硝触媒層５の脱硝触媒ＡがＮＨ3分解発現量に達
する直前に図３に示すように脱硝触媒層５の脱硝触媒の
Ａを最上流側から最後流に移設する。
【００１９】図３は、この脱硝触媒５の脱硝触媒Ａを移
設した状態を示す。図４の斜線を施した棒グラフは、脱
硝触媒層５の脱硝触媒のＡを移設直後の各層のＮＨ3分
解成分の付着量を示す。ＮＨ3分解活性を示す脱硝触媒
Ａは最後流側に位置し、上流側の脱硝触媒層５の脱硝触
媒Ｂ，Ｃ，Ｄで脱硝反応処理されたガス中の未反応ＮＨ
3を脱硝触媒層５の最下流に位置する脱硝触媒Ａで分解
する。この状態で運転を続けていき、脱硝触媒層５の脱
硝触媒ＢのＮＨ3分解成分がＮＨ3分解発現量に達した
時、次のステツプつまり、図５に示すように脱硝触媒層
５の脱硝触媒Ｂを最上流側から最下流側へ移設する。
設した状態を示す。図４の斜線を施した棒グラフは、脱
硝触媒層５の脱硝触媒のＡを移設直後の各層のＮＨ3分
解成分の付着量を示す。ＮＨ3分解活性を示す脱硝触媒
Ａは最後流側に位置し、上流側の脱硝触媒層５の脱硝触
媒Ｂ，Ｃ，Ｄで脱硝反応処理されたガス中の未反応ＮＨ
3を脱硝触媒層５の最下流に位置する脱硝触媒Ａで分解
する。この状態で運転を続けていき、脱硝触媒層５の脱
硝触媒ＢのＮＨ3分解成分がＮＨ3分解発現量に達した
時、次のステツプつまり、図５に示すように脱硝触媒層
５の脱硝触媒Ｂを最上流側から最下流側へ移設する。
【００２０】図５は、図３で最上流にあつた脱硝触媒層
５の脱硝触媒Ｂを最下流に移設した状態を示す。図６で
脱硝触媒層５の脱硝触媒Ｂを移設直後の各層のＮＨ3分
解成分付着量（斜線棒グラフ）を見ると、脱硝触媒層５
の脱硝触媒Ａ，ＢがＮＨ3分解発現量を越えている。こ
うなると最下流の脱硝触媒Ｂでは、脱硝反応はほとんど
期待できないが、後述するようにＮＨ3の注入量を増加
させ高モル比運転をすることにより初期の充填触媒量に
十分余裕があればさらに運転を続けることが可能にな
る。その後、各触媒層の脱硝性能が低下し所定脱硝率を
維持することが困難となつた場合、最も脱硝性能の低下
の大きい脱硝触媒Ａは、新しい脱硝触媒と交換する。新
しい脱硝触媒の位置は、現状の脱硝触媒Ａの位置がＮＨ
3分解成分付着量の増加が少なく好適である。以下、新
品触媒交換の順番は脱硝触媒Ｂ，Ｃ，Ｄの順になる。図
１から図６に示した触媒層移設の時期及び新品触媒交換
の時期は、ＮＨ3注入量を増加させても所定の脱硝率を
維持できなくなる直前が望ましい。
５の脱硝触媒Ｂを最下流に移設した状態を示す。図６で
脱硝触媒層５の脱硝触媒Ｂを移設直後の各層のＮＨ3分
解成分付着量（斜線棒グラフ）を見ると、脱硝触媒層５
の脱硝触媒Ａ，ＢがＮＨ3分解発現量を越えている。こ
うなると最下流の脱硝触媒Ｂでは、脱硝反応はほとんど
期待できないが、後述するようにＮＨ3の注入量を増加
させ高モル比運転をすることにより初期の充填触媒量に
十分余裕があればさらに運転を続けることが可能にな
る。その後、各触媒層の脱硝性能が低下し所定脱硝率を
維持することが困難となつた場合、最も脱硝性能の低下
の大きい脱硝触媒Ａは、新しい脱硝触媒と交換する。新
しい脱硝触媒の位置は、現状の脱硝触媒Ａの位置がＮＨ
3分解成分付着量の増加が少なく好適である。以下、新
品触媒交換の順番は脱硝触媒Ｂ，Ｃ，Ｄの順になる。図
１から図６に示した触媒層移設の時期及び新品触媒交換
の時期は、ＮＨ3注入量を増加させても所定の脱硝率を
維持できなくなる直前が望ましい。
【００２１】本発明の実施例によれば、ＮＨ3分解成分
付着によりＮＨ3分解性能を示す脱硝触媒においても、
最後流に移設し、ＮＨ3分解触媒として利用することに
より、脱硝触媒の長期間の有効利用を図ることができ
る。
付着によりＮＨ3分解性能を示す脱硝触媒においても、
最後流に移設し、ＮＨ3分解触媒として利用することに
より、脱硝触媒の長期間の有効利用を図ることができ
る。
【００２２】図７は縦軸に脱硝率、横軸にモル比を示し
た特性曲線図で実線は脱硝率、破線はスリツプＮＨ3を
示す。図中の各記号は以下のことを示す。
た特性曲線図で実線は脱硝率、破線はスリツプＮＨ3を
示す。図中の各記号は以下のことを示す。
【００２３】Ｐ，Ｐ’は最上流側に位置する脱硝触媒Ａ
がＮＨ3分解活性を示す場合（図２の斜線棒グラフ）の
脱硝率及びスリツプＮＨ3のモル比カーブを示す。
がＮＨ3分解活性を示す場合（図２の斜線棒グラフ）の
脱硝率及びスリツプＮＨ3のモル比カーブを示す。
【００２４】Ｑ，Ｑ’は最後流側に位置する脱硝触媒層
５の脱硝触媒ＡがＮＨ3分解活性を示す場合（図４の斜
線棒グラフ）の脱硝率及びスリツプＮＨ3のモル比カー
ブを示す。
５の脱硝触媒ＡがＮＨ3分解活性を示す場合（図４の斜
線棒グラフ）の脱硝率及びスリツプＮＨ3のモル比カー
ブを示す。
【００２５】Ｒ，Ｒ’は脱硝触媒層５の脱硝触媒Ａ〜Ｄ
がＮＨ3分解活性を示さない、つまり全て新品の脱硝触
媒層の脱硝率及びスリツプＮＨ3のモル比カーブを示
す。
がＮＨ3分解活性を示さない、つまり全て新品の脱硝触
媒層の脱硝率及びスリツプＮＨ3のモル比カーブを示
す。
【００２６】Ｓ，Ｓ’は図６に示すように脱硝触媒層５
の脱硝触媒Ｃ，Ｄは脱硝触媒、脱硝触媒Ａ，ＢはＮＨ3
活性を示す場合の脱硝率とスリツプＮＨ3を示す。
の脱硝触媒Ｃ，Ｄは脱硝触媒、脱硝触媒Ａ，ＢはＮＨ3
活性を示す場合の脱硝率とスリツプＮＨ3を示す。
【００２７】図７において、最上流脱硝触媒層がＮＨ3
分解活性を示す場合（Ｐ，Ｐ’）においては、モル比を
増加させても所定脱硝率を得ることは不可能である。
分解活性を示す場合（Ｐ，Ｐ’）においては、モル比を
増加させても所定脱硝率を得ることは不可能である。
【００２８】これに対し、本発明の実施例（Ｑ）におい
ては、ＮＨ3分解活性を示さないケース（Ｒ）に比べ
て、モル比を増加させることにより、所定の脱硝率を得
ることが可能となり、この時スリツプＮＨ3（Ｑ’）
は、ＮＨ3分解活性を示さないケース（Ｒ’）よりも低
くなるため、モル比増加に伴なう、スリツプＮＨ3増加
の弊害を生じない。
ては、ＮＨ3分解活性を示さないケース（Ｒ）に比べ
て、モル比を増加させることにより、所定の脱硝率を得
ることが可能となり、この時スリツプＮＨ3（Ｑ’）
は、ＮＨ3分解活性を示さないケース（Ｒ’）よりも低
くなるため、モル比増加に伴なう、スリツプＮＨ3増加
の弊害を生じない。
【００２９】以下、図７を用いて詳しく説明する。
【００３０】図７において、図１の脱硝触媒層５の脱硝
触媒Ａ〜Ｄが全て新品の脱硝触媒でモル比Ｍ0で運転す
れば脱硝率は曲線ＲのＥ点、スリツプＮＨ3は曲線Ｒ’
のＦ点になる。
触媒Ａ〜Ｄが全て新品の脱硝触媒でモル比Ｍ0で運転す
れば脱硝率は曲線ＲのＥ点、スリツプＮＨ3は曲線Ｒ’
のＦ点になる。
【００３１】そして、図１，図２のように脱硝触媒Ａが
最上流側に位置し、脱硝触媒ＡのＮＨ3分解成分付着量
が最も多くなると脱硝率は図７の曲線ＲのＥ点から曲線
ＰのＧ点へ脱硝効率が低下する。この時のスリツプＮＨ
3は曲線Ｒ’のＦ点から曲線Ｐ’のＨ点へ低下する。
最上流側に位置し、脱硝触媒ＡのＮＨ3分解成分付着量
が最も多くなると脱硝率は図７の曲線ＲのＥ点から曲線
ＰのＧ点へ脱硝効率が低下する。この時のスリツプＮＨ
3は曲線Ｒ’のＦ点から曲線Ｐ’のＨ点へ低下する。
【００３２】それは図２の最上流側に位置する脱硝触媒
ＡでＮＨ3が分解されるために脱硝触媒Ｂ以降のモル比
が低下するからである。
ＡでＮＨ3が分解されるために脱硝触媒Ｂ以降のモル比
が低下するからである。
【００３３】次に、図１および図２に示すように最上流
側に位置していた脱硝触媒Ａを図３および図４に示すよ
うに最後流側に配置し、モル比Ｍ0で運転すると曲線Ｑ
上の脱硝率は所定脱硝率以下になるので、モル比をＭ0
からＭ1に上げて脱硝率を曲線ＰのＧ点から曲線ＱのＩ
点へ上昇させる。
側に位置していた脱硝触媒Ａを図３および図４に示すよ
うに最後流側に配置し、モル比Ｍ0で運転すると曲線Ｑ
上の脱硝率は所定脱硝率以下になるので、モル比をＭ0
からＭ1に上げて脱硝率を曲線ＰのＧ点から曲線ＱのＩ
点へ上昇させる。
【００３４】この時のスリツプＮＨ3は曲線Ｐ’のＨ点
から曲線Ｑ’のＪ点へ下り、許容スリツプＮＨ3以下に
することができる。
から曲線Ｑ’のＪ点へ下り、許容スリツプＮＨ3以下に
することができる。
【００３５】それはモル比をモル比Ｍ0からモル比Ｍ1へ
上げることによつて、図３の脱硝触媒Ｂ〜Ｄでは脱硝反
応に有利となる高モル比で脱硝が行なわれて脱硝率は上
り、最下流に位置する脱硝触媒Ａではモル比をモル比Ｍ
0からモル比Ｍ1に上げることによる余剰のＮＨ3は脱硝
触媒Ａで分解してリークＮＨ3が低下するからである。
上げることによつて、図３の脱硝触媒Ｂ〜Ｄでは脱硝反
応に有利となる高モル比で脱硝が行なわれて脱硝率は上
り、最下流に位置する脱硝触媒Ａではモル比をモル比Ｍ
0からモル比Ｍ1に上げることによる余剰のＮＨ3は脱硝
触媒Ａで分解してリークＮＨ3が低下するからである。
【００３６】次に、図３および図４に示すように最上流
側に位置していた脱硝触媒Ｂを図５および図６に示すよ
うに最後流側に配置し、モル比Ｍ1で運転すると曲線Ｓ
上の脱硝率は所定脱硝率以下になるので、モル比をＭ1
からＭ2に上げて脱硝率を曲線ＱのＩ点から曲線ＳのＫ
点へ移行させる。
側に位置していた脱硝触媒Ｂを図５および図６に示すよ
うに最後流側に配置し、モル比Ｍ1で運転すると曲線Ｓ
上の脱硝率は所定脱硝率以下になるので、モル比をＭ1
からＭ2に上げて脱硝率を曲線ＱのＩ点から曲線ＳのＫ
点へ移行させる。
【００３７】この時のスリツプＮＨ3は曲線Ｑ’のＪ点
から曲線Ｓ’のＬ点へ移行する。
から曲線Ｓ’のＬ点へ移行する。
【００３８】それはモル比をモル比Ｍ1からモル比Ｍ2へ
上げることによつて、図５の脱硝触媒Ｃ，Ｄでは高モル
比で脱硝が行なわれるので、脱硝率を所定脱硝率に維持
することができ、下流側に位置する脱硝触媒Ａ，Ｂでは
モル比をモル比Ｍ1からモル比Ｍ2に上げることによる余
剰のＮＨ3は脱硝触媒Ａ，Ｂで分解してリークＮＨ3を低
くおさえることができるからである。
上げることによつて、図５の脱硝触媒Ｃ，Ｄでは高モル
比で脱硝が行なわれるので、脱硝率を所定脱硝率に維持
することができ、下流側に位置する脱硝触媒Ａ，Ｂでは
モル比をモル比Ｍ1からモル比Ｍ2に上げることによる余
剰のＮＨ3は脱硝触媒Ａ，Ｂで分解してリークＮＨ3を低
くおさえることができるからである。
【００３９】以上本発明の実施例においては、ＣＯ酸化
触媒を並設したガスタービン用脱硝装置を例に説明した
が、ＮＨ3分解成分を含有する排ガスであれば、本発明
の実施例を適用することができる。貴金属類を触媒成分
とする流動接触分解炉用の排ガスあるいはこれに類する
化学プラントの排ガス等にも適用可能である。
触媒を並設したガスタービン用脱硝装置を例に説明した
が、ＮＨ3分解成分を含有する排ガスであれば、本発明
の実施例を適用することができる。貴金属類を触媒成分
とする流動接触分解炉用の排ガスあるいはこれに類する
化学プラントの排ガス等にも適用可能である。
【００４０】例えば、流動接触分解用の排ガスを例にと
ると、原料油の接触分解に使用され劣化した微粉状のア
ルミナシリカゲル触媒を空気で加熱再生する時に発生す
る排ガスは、該触媒の活性成分であるＰｔ等の貴金属類
を含むため、これが触媒微粉の状態で、排ガス中のダス
トとして脱硝触媒に飛散付着し、脱硝性能を低下させて
しまう。従つて、貴金属によるＮＨ3分解を生じ、脱硝
性能を低下させる点で、ＣＯ触媒の場合と同様に取り扱
うことができる。
ると、原料油の接触分解に使用され劣化した微粉状のア
ルミナシリカゲル触媒を空気で加熱再生する時に発生す
る排ガスは、該触媒の活性成分であるＰｔ等の貴金属類
を含むため、これが触媒微粉の状態で、排ガス中のダス
トとして脱硝触媒に飛散付着し、脱硝性能を低下させて
しまう。従つて、貴金属によるＮＨ3分解を生じ、脱硝
性能を低下させる点で、ＣＯ触媒の場合と同様に取り扱
うことができる。
【００４１】
【発明の効果】本発明によれば、スリツプＮＨ3を低減
することができ、しかも少ない脱硝触媒量で、長期間の
安定した運転が可能となり、経済的にも優れた脱硝装置
を得ることができる。
することができ、しかも少ない脱硝触媒量で、長期間の
安定した運転が可能となり、経済的にも優れた脱硝装置
を得ることができる。
【図１】初期脱硝触媒の配列を示す断面図である。
【図２】図１の脱硝装置における一定時間経過後の脱硝
触媒へのＮＨ3分解成分の付着量を示す特性図である。
触媒へのＮＨ3分解成分の付着量を示す特性図である。
【図３】本発明の実施例に係る脱硝触媒の配列を示す断
面図である。
面図である。
【図４】図３の脱硝触媒へのＮＨ3分解成分の付着量を
示す特性図である。
示す特性図である。
【図５】本発明の他の実施例を示す脱硝触媒の配列を示
す断面図である。
す断面図である。
【図６】図５の脱硝触媒へのＮＨ3分解成分の付着量を
示す特性図である。
示す特性図である。
【図７】縦軸に脱硝率、横軸にモル比を示した特性曲線
図である。
図である。
【図８】従来の脱硝装置を示す断面図である。
１ 脱硝装置 ３ ＮＨ3分解成分含有触媒層 ５ 脱硝触媒層 Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ 脱硝触媒
Claims (1)
- 【請求項１】 ＮＨ3分解成分を含むＮＨ3分解成分含有
触媒層を脱硝触媒層の前流側に配置し、排ガスを脱硝す
るものにおいて、 前記脱硝触媒層の内一定期間使用した上流側の脱硝触媒
を後流側へ移設することを特徴とする脱硝装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5197385A JPH0747231A (ja) | 1993-08-09 | 1993-08-09 | 脱硝装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5197385A JPH0747231A (ja) | 1993-08-09 | 1993-08-09 | 脱硝装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0747231A true JPH0747231A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=16373636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5197385A Pending JPH0747231A (ja) | 1993-08-09 | 1993-08-09 | 脱硝装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0747231A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018176079A (ja) * | 2017-04-14 | 2018-11-15 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 燃焼排ガス処理方法、燃焼排ガス処理装置およびそれのメンテナンス方法 |
-
1993
- 1993-08-09 JP JP5197385A patent/JPH0747231A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018176079A (ja) * | 2017-04-14 | 2018-11-15 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 燃焼排ガス処理方法、燃焼排ガス処理装置およびそれのメンテナンス方法 |
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