JPH07320303A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

Info

Publication number
JPH07320303A
JPH07320303A JP6112574A JP11257494A JPH07320303A JP H07320303 A JPH07320303 A JP H07320303A JP 6112574 A JP6112574 A JP 6112574A JP 11257494 A JP11257494 A JP 11257494A JP H07320303 A JPH07320303 A JP H07320303A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
recording
dielectric layer
thermal conductivity
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6112574A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Nakatani
健司 中谷
Toru Horiguchi
透 堀口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP6112574A priority Critical patent/JPH07320303A/en
Priority to EP95303554A priority patent/EP0684601B1/en
Priority to TW084105307A priority patent/TW303454B/zh
Priority to DE69500790T priority patent/DE69500790T2/en
Priority to KR1019950013467A priority patent/KR100251979B1/en
Priority to US08/451,156 priority patent/US5577021A/en
Publication of JPH07320303A publication Critical patent/JPH07320303A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a high density information recording medium which can deal with a laser light source of short wavelength and mark edge recording by setting a coefficient of thermal conduction within a specified range for each of a dielectric layer, a recording layer and a reflective layer laminated on a substrate. CONSTITUTION:A first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, and a reflective layer are laminated sequentially on a transparent substrate. The coefficient of thermal conduction, defined by the product of thermal conductivity and the film thickness, is set at 0.03-0.1, 0.01-0.03 and 4-12muH/K, respectively, for the first dielectric layer, the second dielectric layer and the reflective layer. It is set preferably at 5-20W/mK for the recording layer. This structure suppresses fluctuation in the length of mark due to laser power resulting in a high density recording medium suitable for mark edge recording.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光等のエネルギ
ービームによる光信号を用いて、映像、音声、あるいは
電子計算機用データ等の情報の記録を行なう光記録媒体
に関する。そして好ましくは記録層として光磁気記録層
を用いた光磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium for recording information such as video, audio, or computer data by using an optical signal from an energy beam such as laser light. And preferably, it relates to a magneto-optical recording medium using a magneto-optical recording layer as a recording layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録媒体は高密度、大容量の情報記録
媒体としていろいろな研究開発が行われ、一部実用に供
されている。そして光記録媒体の一つとして、光磁気記
録媒体がある。この光磁気記録媒体においては、透明基
板上に設けられる記録層として、膜面に対して垂直方向
に磁化容易軸を有する希土類−遷移金属非晶質合金膜が
広く用いられている。
2. Description of the Related Art Various researches and developments have been carried out on optical recording media as high-density and large-capacity information recording media, and some of them have been put to practical use. There is a magneto-optical recording medium as one of the optical recording media. In this magneto-optical recording medium, a rare earth-transition metal amorphous alloy film having an easy axis of magnetization perpendicular to the film surface is widely used as a recording layer provided on a transparent substrate.

【0003】この非晶質合金磁性膜からなる記録層は、
単独では耐久性が悪く、また再生時に十分なC/N(搬
送信号/ノイズ)比が得られないなどの課題がある。そ
こで、それらの特性を改善するいくつかの提案がなされ
ている。その一つには、基板上に、第1誘電体層、記録
層、第2誘電体層、金属反射層を設けた4層構造媒体が
ある。
The recording layer made of this amorphous alloy magnetic film is
There is a problem that durability alone is poor, and a sufficient C / N (carrier signal / noise) ratio cannot be obtained during reproduction. Therefore, some proposals have been made to improve those characteristics. One of them is a four-layer structure medium in which a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, and a metal reflection layer are provided on a substrate.

【0004】またこうした光記録媒体においては、媒体
への情報の記録には、レーザ光等のエネルギービームを
照射して行なわれる。その際にレーザ光源としては、微
少な体積で強力なエネルギーを得ることのできる780 n
m波長の半導体レーザが使用されることが多い。
Further, in such an optical recording medium, information is recorded on the medium by irradiating an energy beam such as a laser beam. At that time, as a laser light source, it is possible to obtain strong energy with a minute volume of 780 n.
An m-wavelength semiconductor laser is often used.

【0005】そしてこれまでは、記録層に光学的特性の
違う記録マークを形成し、その記録マークの中心にデジ
タル情報の“0”あるいは“1”を対応させる、いわゆ
る“マークポジション記録”が広く行なわれてきた。
In the past, so-called "mark position recording" has been widely used, in which recording marks having different optical characteristics are formed on the recording layer, and "0" or "1" of digital information is made to correspond to the center of the recording mark. Has been done.

【0006】しかし、情報量の増大につれて、記録容量
の増加が情報記録媒体に要求されている。そのために、
使用レーザ光の短波長化による記録マーク長さの縮小
化、マークとマークの間の縮小化、隣接トラック間の縮
小化による高密度化が必要になっている。
However, as the amount of information increases, the recording capacity of the information recording medium is required to increase. for that reason,
It is necessary to reduce the recording mark length by shortening the wavelength of the laser light used, the space between marks, and the density between adjacent tracks.

【0007】また従来のマークポジション記録に変わっ
て、記録マークの両端に情報の“0”あるいは“1”を
対応させ、記録容量がマークポジションの1.5 倍になる
“マークエッジ記録”を採用することも検討されてい
る。
Further, instead of the conventional mark position recording, "mark edge recording" in which information "0" or "1" is made to correspond to both ends of the recording mark and the recording capacity is 1.5 times the mark position is adopted. Are also being considered.

【0008】あるいは、記録層として書き込み層と読み
出し層、あるいは中間層等の多層化構造を採用して、そ
の熱磁気特性の違いを利用し、書き込み層上の記録マー
クを読み出し層で部分的に磁気的なマスクをして微小な
記録マークを読み出し可能とする、いわゆる超解像技術
も提案されている。
Alternatively, a multi-layered structure such as a writing layer and a reading layer or an intermediate layer is adopted as the recording layer, and the difference in thermomagnetic characteristics is utilized to partially record the recording marks on the writing layer in the reading layer. A so-called super-resolution technique has also been proposed in which a minute recording mark can be read by using a magnetic mask.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】記録容量の増大、すな
わち記録密度の増大のためには、上記記載のように縮小
化した記録マークを明確に、かつ正確な位置に、正確な
大きさで記録することが求められる。すなわち同一パワ
ーで記録した時、記録パルス幅と記録マーク長の線形性
が良好なこと、同一パルス幅で記録した時、記録マーク
長の記録パワー依存性が小さいこと、そして隣接したマ
ーク間での熱干渉が小さいことが求められる。
In order to increase the recording capacity, that is, increase the recording density, the recording mark reduced as described above is recorded clearly and at an accurate position with an accurate size. Required to do. That is, when recording with the same power, the linearity between the recording pulse width and the recording mark length is good, when recording with the same pulse width, the recording power dependence of the recording mark length is small, and between adjacent marks Small thermal interference is required.

【0010】特にマークエッジ記録では、エッジが記録
情報に相当する。このためその位置の正確さが、従来の
マークポジション記録に比べて厳しく要求される。この
ため隣接マーク間での熱干渉問題が、重要な課題とな
る。
Particularly in mark edge recording, the edge corresponds to recording information. Therefore, the accuracy of the position is required more severely than the conventional mark position recording. Therefore, the problem of thermal interference between adjacent marks becomes an important issue.

【0011】そこで、レーザ光で記録層に生じた熱の分
布を制御すること、すなわち熱の広がりを抑えることが
重要である。単純には、記録層を挟む誘電体層、反射層
を完全断熱材料にし、記録層のみに熱が作用する状態を
作ることが考えられる。しかし、厚み方向での熱の拡散
を抑えることは、記録層内での面内での熱の広がりを助
長させることになる。また、記録層の熱による劣化を生
じ、寿命を短くする恐れがある。そこで、厚み方向への
熱の移動と面内方向への熱の移動を最適状態に制御する
ことが課題となる。
Therefore, it is important to control the distribution of heat generated in the recording layer by laser light, that is, to suppress the spread of heat. It is conceivable that the dielectric layer and the reflective layer that sandwich the recording layer are made completely heat insulating materials so that heat is applied only to the recording layer. However, suppressing the diffusion of heat in the thickness direction promotes the in-plane expansion of heat in the recording layer. In addition, the recording layer may be deteriorated due to heat, and the service life may be shortened. Therefore, it is an issue to control the heat transfer in the thickness direction and the heat transfer in the in-plane direction to the optimum state.

【0012】さらに超解像技術においても、マスクされ
た狭い面積からの信号を読み取るために、マーク位置や
マーク形状の正確さが必要である。多層構造の各層の熱
磁気特性の違いを十分活用するためにも、記録温度へは
速やかに昇温されるが、それ以上には昇温しにくく、周
囲へのマーク形状のにじみの生じない媒体が必要であ
る。
Further, even in the super-resolution technique, the accuracy of the mark position and the mark shape is required to read the signal from the masked small area. In order to make full use of the difference in thermomagnetic characteristics of each layer of the multilayer structure, the recording temperature is quickly raised, but it is difficult to raise the recording temperature higher than that, and there is no bleeding of the mark shape to the surroundings. is necessary.

【0013】本発明の光記録媒体はかかる課題を解決し
て、短波長レーザ光源に対応でき、かつマークエッジ記
録に対応できる高密度情報記録媒体を得ることを目的と
する。
An object of the optical recording medium of the present invention is to solve the above problems and to obtain a high density information recording medium which can be applied to a short wavelength laser light source and can be applied to mark edge recording.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の光記録媒体は、
透明基板上に、第1誘電体層、記録層、第2誘電体層、
および反射層をこの順に備え、光信号を用いて情報の記
録を行なう光記録媒体において、熱伝導率と膜厚との積
で定義される熱伝導係数が、第1誘電体層は0.03〜0.1
μW/K、第2誘電体層は0.01〜0.03μW/K、および
反射層は4 〜12μW/Kであることを特徴としている。
The optical recording medium of the present invention comprises:
On the transparent substrate, the first dielectric layer, the recording layer, the second dielectric layer,
In the optical recording medium which is provided with a reflection layer and a reflection layer in this order and records information by using an optical signal, the thermal conductivity coefficient defined by the product of thermal conductivity and film thickness is 0.03 to 0.1 for the first dielectric layer.
.mu.W / K, the second dielectric layer is 0.01 to 0.03 .mu.W / K, and the reflective layer is 4 to 12 .mu.W / K.

【0015】前述のようにマークエッジ記録のために
は、エッジ位置の正確な制御が必要であり、熱分布の制
御が重要である。しかし、光記録媒体において良好なC
/Nを得るためには、媒体構成に光学的な制約が存在す
る。すなわち、記録層へのレーザ光の集中、記録層から
の光学信号の増幅のために、第1誘電体、第2誘電体の
膜厚、屈折率、吸収係数、さらに反射層の反射率、吸収
係数が使用される光源、すなわちレーザ光波長にあわせ
て最適条件が選択される。
As described above, for mark edge recording, accurate control of the edge position is necessary, and control of heat distribution is important. However, good C in optical recording media
In order to obtain / N, there are optical restrictions on the medium configuration. That is, in order to concentrate the laser beam on the recording layer and amplify the optical signal from the recording layer, the film thickness, the refractive index, and the absorption coefficient of the first dielectric and the second dielectric, and the reflectance and the absorption of the reflective layer. Optimal conditions are selected according to the light source for which the coefficient is used, that is, the laser light wavelength.

【0016】記録層からの信号光をより多く得るために
は、使用光源の波長域で、誘電体層の吸収係数が低く、
ゼロに近い程良い。また反射層の反射率が、高いほど良
い。あるいは、記録層への光の集中、記録層からの信号
光の増幅(ファラデー効果のエンハンスメント)のため
には、第1誘電体層と第2誘電体層による光の干渉効果
を利用するが、これが有効に作用するためには誘電体層
の屈折率が1.6 以上必要である。
In order to obtain more signal light from the recording layer, the absorption coefficient of the dielectric layer is low in the wavelength range of the light source used,
The closer to zero, the better. The higher the reflectance of the reflective layer, the better. Alternatively, in order to concentrate the light on the recording layer and amplify the signal light from the recording layer (enhancement of the Faraday effect), the light interference effect of the first dielectric layer and the second dielectric layer is used. In order for this to work effectively, the refractive index of the dielectric layer must be 1.6 or more.

【0017】さらに媒体の製造は、スパッタリング法な
どの真空を用いたプロセスで通常行われる。その際に、
製造コストを低減するためには、真空装置でのスループ
ットを高めることが必要である。そのため薄い構成膜を
用いる方が生産性が高く、好ましい。
Further, the production of the medium is usually performed by a process using a vacuum such as a sputtering method. At that time,
In order to reduce the manufacturing cost, it is necessary to increase the throughput in the vacuum device. Therefore, it is preferable to use a thin constituent film because the productivity is higher.

【0018】これらの結果、使用されるレーザ光源の種
類に応じて誘電体層に要求される膜厚は自ずとある範囲
の中に収れんする。例えば、光源に波長680 nmのレー
ザを用い、誘電体の屈折率が約2 の場合、第1誘電体層
は40〜140 nmであり、第2誘電体層は5 〜60nmであ
る。この範囲は上述したように使用光源の波長によって
異なる。
As a result of these, the film thickness required for the dielectric layer naturally falls within a certain range depending on the type of laser light source used. For example, when a laser having a wavelength of 680 nm is used as a light source and the refractive index of the dielectric is about 2, the first dielectric layer has a thickness of 40 to 140 nm and the second dielectric layer has a thickness of 5 to 60 nm. This range depends on the wavelength of the light source used as described above.

【0019】そして光学的に決まるこうした制約条件の
中で、記録層に記録されるマークのエッジ位置をどれだ
け正確に制御するかが、高密度媒体を得るポイントとな
る。そこで、記録信号を光エネルギーで与えた時、記録
層の温度が記録温度までは速やかに上昇し易い断熱特性
を有し、記録温度以上ではそれ以上の高温になるのを防
ぐ放熱性を発揮する媒体が望ましい。
Under such optically determined constraint conditions, how accurately the edge position of the mark recorded on the recording layer is controlled is the key to obtaining a high density medium. Therefore, when a recording signal is given by optical energy, the recording layer has a heat insulating property that easily rises rapidly to the recording temperature, and exhibits heat dissipation that prevents the temperature from becoming higher than the recording temperature. Medium is preferred.

【0020】本発明の誘電体層としては、熱伝導率が低
い材料が好ましい。従来、誘電体層として一般的にSi
N、AlN、SiC等が用いられている。しかし、例えばSi
N膜での熱伝導率は3 W/mKと高く、断熱特性の低い
材料が使用されてきた。あるいはAlN膜で24.9W/m
K、Si3 4 膜で10W/mKと高い熱伝導率の誘電体が
使用されている。
As the dielectric layer of the present invention, a material having a low thermal conductivity is preferable. Conventionally, Si is generally used as a dielectric layer.
N, AlN, SiC, etc. are used. But for example Si
The thermal conductivity of N film is as high as 3 W / mK, and materials with low heat insulating properties have been used. Or 24.9W / m with AlN film
Dielectric materials with high thermal conductivity of 10 W / mK are used for K and Si 3 N 4 films.

【0021】そこで本発明で必要とされる特性を有する
誘電体層としては、Al、Si、およびN原子を主成分と
し、C、O、Hより選択された1種以上の原子を30atom
%以内で含有させて実現できる。すなわちAl、Si、N原
子からなる誘電体層は構成原子の種類の増加による格子
散乱による熱伝導率の低下が見られるが、さらにC、
O、Hから選ばれた1種以上の元素を添加することによ
って共有結合を形成し、またその共有結合手の数も限定
される事によって格子振動による熱伝達が遮断され熱伝
導率の低下が得られる。
Therefore, the dielectric layer having the characteristics required in the present invention is mainly composed of Al, Si, and N atoms, and contains 30 atoms of one or more kinds of atoms selected from C, O, and H.
It can be realized by making it contained within%. That is, although the dielectric layer made of Al, Si, and N atoms shows a decrease in thermal conductivity due to lattice scattering due to an increase in the types of constituent atoms, C,
A covalent bond is formed by adding one or more elements selected from O and H, and the number of the covalent bonds is limited, so that heat transfer due to lattice vibration is blocked and the thermal conductivity is lowered. can get.

【0022】もちろん誘電体層の熱伝導率が低いだけで
は、記録層への熱の蓄積が生じ、耐久性を低下する恐れ
がある。そのため適度の反射層への熱の伝達が必要であ
り、誘電体層は熱伝導系数が本発明の範囲にあることが
必要である。
Of course, if the thermal conductivity of the dielectric layer is only low, heat may be accumulated in the recording layer and the durability may be reduced. Therefore, it is necessary to appropriately transfer heat to the reflective layer, and the dielectric layer needs to have a heat transfer coefficient within the range of the present invention.

【0023】また酸素含有量の多い誘電体層を用いると
きには、記録層の酸化を防止するために記録層に近い部
分での酸素組成を減らし、膜の厚み方向での組成分布を
形成するとか、誘電体層を多層化するなどの方法も可能
である。そしてこの場合においては誘電体層全体として
の熱伝導係数が、本発明の範囲に入ることが必要であ
る。
When a dielectric layer having a high oxygen content is used, the oxygen composition near the recording layer is reduced in order to prevent the recording layer from being oxidized, and a composition distribution in the film thickness direction is formed. It is also possible to use a method in which the dielectric layers are multilayered. In this case, the thermal conductivity coefficient of the entire dielectric layer needs to fall within the range of the present invention.

【0024】これらの誘電体層の作成方法としては、例
えば公知の真空蒸着、スパッタリング法、CVD法等が
用いられるが、均一膜の作成の容易さからスパッタリン
グ法が用いられる。この場合ターゲットとしては、金属
合金、酸化物、窒化物、あるいは炭化物等を用いること
ができる。さらにその際の雰囲気ガスとしては、Ar、X
e、Krの不活性ガスの他に窒素、水素、酸素、炭酸ガ
ス、一酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、メタンガ
ス、エタンガス、水素化珪素ガス等のプラズマ中で反応
するガスを選択混入して、目的とする組成の誘電体層を
得ることができる。
As a method of forming these dielectric layers, for example, known vacuum deposition, sputtering method, CVD method and the like are used, but the sputtering method is used because of the ease of forming a uniform film. In this case, a metal alloy, an oxide, a nitride, a carbide, or the like can be used as the target. Further, the atmosphere gas at that time is Ar, X
In addition to the inert gases of e and Kr, gases that react in plasma such as nitrogen, hydrogen, oxygen, carbon dioxide, carbon monoxide, nitrogen monoxide, nitrogen dioxide, methane gas, ethane gas, and silicon hydride gas are selectively mixed. Thus, a dielectric layer having a desired composition can be obtained.

【0025】一方反射層については、その熱伝導率が低
い場合でも膜厚を増すことによって、熱伝導率を高くし
たのと同様な効果が得られる。しかし、反射層の膜厚の
増加は確かに記録感度の適正化には有効であるが、マー
ク位置を正確に制御するためには効果がなく、薄い膜の
方が好ましい。これは、反射層膜厚が増加すると反射層
中に熱が蓄積され、表面からの放熱が遅れるためであ
る。そこで、本発明の熱伝導係数の反射層と誘電体層と
の組み合わせが必要となる。
On the other hand, with respect to the reflective layer, even if the thermal conductivity thereof is low, the effect similar to that of increasing the thermal conductivity can be obtained by increasing the film thickness. However, although an increase in the film thickness of the reflective layer is certainly effective in optimizing the recording sensitivity, it is not effective in accurately controlling the mark position, and a thin film is preferable. This is because as the film thickness of the reflective layer increases, heat is accumulated in the reflective layer and heat radiation from the surface is delayed. Therefore, it is necessary to combine the reflective layer having the thermal conductivity coefficient of the present invention and the dielectric layer.

【0026】なお反射層の膜厚の下限は、光学的に十分
な反射率を得るために約20nm以上が好ましい。また膜
厚の上限は、生産性や膜に生じる応力を考慮して決める
ことが好ましい。
The lower limit of the film thickness of the reflective layer is preferably about 20 nm or more in order to obtain an optically sufficient reflectance. The upper limit of the film thickness is preferably determined in consideration of productivity and stress generated in the film.

【0027】また反射層は、誘電体層を通して伝達され
た熱を放熱することで、記録層の過度な温度上昇を防止
する働きをする。そこで反射層としては熱伝導率の高い
膜が好ましく、80W/mK以上の膜が好ましい。
The reflective layer also radiates the heat transferred through the dielectric layer to prevent an excessive temperature rise of the recording layer. Therefore, as the reflective layer, a film having high thermal conductivity is preferable, and a film having 80 W / mK or more is preferable.

【0028】そして本発明の熱伝導係数を持つ反射層と
しては、{Al、Au、Ag、Cu}の群より選ばれた1種以上
の元素を主成分として、{Ti、Cr、Ta、Co、Ni、Mg、S
i}の群より選ばれた元素を10atom%以下で添加した合
金膜、あるいはそれらの多層膜が好ましい。こうした反
射層は公知の蒸着、スパッタリング法等によって形成さ
れる。
The reflective layer having a thermal conductivity of the present invention contains {Ti, Cr, Ta, Co as a main component and contains at least one element selected from the group of {Al, Au, Ag, Cu}. , Ni, Mg, S
An alloy film in which an element selected from the group i) is added at 10 atom% or less, or a multilayer film thereof is preferable. Such a reflective layer is formed by a known vapor deposition, sputtering method or the like.

【0029】また本発明の記録層としては、光を熱に変
換して情報の記録を行なう薄膜層であればどのようなも
のでも良い。例えば相変化型記録層、光磁気記録層が代
表的に用いられる。特に光磁気効果により記録、再生、
消去されるものが好適に用いられる。光磁気記録層とし
ては公知の希土類−遷移金属合金膜を始め、交換結合を
利用した多層膜、Pt/Co等の人工格子多層膜等が利用で
きる。
Further, the recording layer of the present invention may be any thin film layer as long as it converts light into heat to record information. For example, a phase change recording layer and a magneto-optical recording layer are typically used. In particular, recording and reproduction by the magneto-optical effect
Those that are erased are preferably used. As the magneto-optical recording layer, a known rare earth-transition metal alloy film, a multilayer film using exchange coupling, an artificial lattice multilayer film of Pt / Co, etc. can be used.

【0030】しかしながら、記録層での熱の伝達を考え
ると、記録層の熱伝導率が5 〜20W/mKの範囲のもの
が好ましい。特に好ましくは希土類−遷移金属を主とす
る記録層が用いられる。この記録層の膜厚は単層、多層
のいずれにおいても200 nmを超えない範囲の中で選択
される。
However, considering the heat transfer in the recording layer, it is preferable that the thermal conductivity of the recording layer is in the range of 5 to 20 W / mK. Particularly preferably, a recording layer mainly containing a rare earth-transition metal is used. The thickness of this recording layer is selected within a range not exceeding 200 nm for both single layer and multilayer.

【0031】また、この媒体は耐久性を向上するために
反射層上にさらに保護層を設けることが一般に行われる
が、保護層の形成によって熱特性への影響が考えられ
る。このために、使用する保護層としては、断熱特性の
良い、熱伝導率が小さな有機高分子材料が使用され、好
ましくは、熱伝導率が0.2 W/mK以下で、膜厚が5 〜
10μmのものが用いられる。
Further, in order to improve the durability of this medium, it is generally practiced to further provide a protective layer on the reflective layer, but the formation of the protective layer may affect the thermal characteristics. For this reason, as the protective layer to be used, an organic polymer material having a good heat insulating property and a small thermal conductivity is used, and preferably the thermal conductivity is 0.2 W / mK or less and the film thickness is 5 to 5
The one with 10 μm is used.

【0032】なお本発明の基板としては、公知のポリカ
ーボネート樹脂基板を始め、ガラス等のレーザ光に透明
で、複屈折の小さな基板ならどれでも使用可能である。
基板の熱伝導率は本来低く0.2 W/mK以下の材料が使
用される。
As the substrate of the present invention, any substrate such as a known polycarbonate resin substrate which is transparent to laser light and has a small birefringence can be used, including a known polycarbonate resin substrate.
The thermal conductivity of the substrate is originally low and a material of 0.2 W / mK or less is used.

【0033】[0033]

【実施例】直径90mm、厚さ1.2 mmの円盤で1.2 μm
ピッチのグルーブを有するポリカーボネート樹脂製のデ
ィスク基板(PC基板)を、3ターゲット設置可能なマ
グネトロンスパッタ装置の真空槽内に配置した。誘電体
層用のターゲットとしては、直径100 mm,厚さ5 mm
のAlSi焼結体からなる円盤を用いた。記録層用のターゲ
ットとしては、TbFeCo(19:72:9 )合金ターゲットを
用いた。また反射層用のターゲットとしては、AlAu(9
8:2 )合金ターゲットを用いた。なお合金について括
弧内の数値は、元素名の順に対応した組成比(atom%)
を表す。
[Example] 1.2 μm with a disk having a diameter of 90 mm and a thickness of 1.2 mm
A disc substrate (PC substrate) made of a polycarbonate resin having a groove of a pitch was placed in a vacuum chamber of a magnetron sputtering apparatus capable of installing 3 targets. The target for the dielectric layer is 100 mm in diameter and 5 mm in thickness.
A disk made of AlSi sintered body was used. A TbFeCo (19: 72: 9) alloy target was used as the target for the recording layer. The target for the reflective layer is AlAu (9
8: 2) An alloy target was used. The values in parentheses for alloys are composition ratios (atom%) corresponding to the order of element names.
Represents

【0034】そしてまずは、槽内圧力が50μPaになるま
で排気した。次にAr/N2 の混合ガス(Ar:N2 =90:
10 vol%)を真空槽内に導入するとともに、水素ガスを
Ar/N2 混合ガスに対して20vol %添加して、圧力を1.
33Paになるように調整した。
First, the tank was evacuated to a pressure of 50 μPa. Next, a mixed gas of Ar / N 2 (Ar: N 2 = 90:
(10 vol%) is introduced into the vacuum chamber and hydrogen gas
Add 20 vol% to Ar / N 2 mixed gas and set the pressure to 1.
Adjusted to 33Pa.

【0035】そして放電電力500 W、放電周波数13.56
MHzで高周波スパッタリングを行い、回転しているPC
基板上に第1誘電体層としてAlSiN:H膜を70nm堆積
した。なお、ここで形成したAlSiN:H膜の組成は、オ
ージェ電子分光装置(PHI社製SAM610) 、FT
−IR分析装置(島津製作所製)で分析した結果、膜中
に水素が12atom%含有されていた。
Discharge power 500 W, discharge frequency 13.56
Rotating PC with high frequency sputtering at MHZ
An AlSiN: H film having a thickness of 70 nm was deposited as a first dielectric layer on the substrate. The composition of the AlSiN: H film formed here is the Auger electron spectrometer (SAM610 by PHI), FT
As a result of analysis using an IR analyzer (manufactured by Shimadzu Corporation), the film contained 12 atom% of hydrogen.

【0036】続いて、TbFeCo合金ターゲットを用い、Ar
ガス圧0.5Pa 、放電電力150 Wの条件でDCスパッタリ
ングを行い、光磁気記録層としてTbFeCo(20.5:70.9:
8.6)非晶質合金膜を22.5nmの厚さで堆積した。
Then, using a TbFeCo alloy target, Ar
DC sputtering was performed under the conditions of a gas pressure of 0.5 Pa and a discharge power of 150 W, and TbFeCo (20.5: 70.9:
8.6) An amorphous alloy film was deposited to a thickness of 22.5 nm.

【0037】さらに引き続いて第2誘電体層として、第
1誘電体層と同様の条件で膜厚だけを変えて、AlSiN:
H膜を20nm堆積した。
Subsequently, as a second dielectric layer, only the film thickness is changed under the same conditions as the first dielectric layer, and AlSiN:
An H film was deposited to 20 nm.

【0038】次にAlAu合金ターゲットを用い、Arガス圧
0.2Pa 、放電電圧125 WのDCスパッタリングを行い40
nmのAlAu合金膜を堆積した。Auの含有量は2.2atom %
であった。
Next, using an AlAu alloy target, Ar gas pressure
DC sputtering with a discharge voltage of 125 W at 0.2 Pa 40
nm AlAu alloy film was deposited. Au content is 2.2 atom%
Met.

【0039】作製したの光磁気媒体は、光磁気記録再生
装置(パルステック工業製DDU−1000) を用い、
以下の条件で記録再生特性を測定し、記録マーク長のレ
ーザパワー依存性から、レーザパワーが変動したときの
マーク長の変動幅を測定した。
The produced magneto-optical medium was a magneto-optical recording / reproducing apparatus (DDU-1000 manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.),
The recording / reproducing characteristics were measured under the following conditions, and the fluctuation range of the mark length when the laser power fluctuated was measured from the laser power dependence of the recording mark length.

【0040】使用レーザ波長=680 nm、NA=0.55。
記録条件:デスク回転数=3000rpm、記録トラック位置
=半径30mm、記録最小マーク長T=0.34μm、記録時
の印加磁界=250Oe 、記録信号パターン=2 T(M),
8 T(S),4 T(M),8T(S),8 T(M),8
T(S)(S=スペース、M=マーク)。再生条件:デ
スク回転数=3000rpm 、読み出しレーザパワー=0.6 m
W。
Laser wavelength used = 680 nm, NA = 0.55.
Recording conditions: desk rotation speed = 3000 rpm, recording track position = radius 30 mm, minimum recording mark length T = 0.34 μm, applied magnetic field during recording = 250 Oe, recording signal pattern = 2 T (M),
8 T (S), 4 T (M), 8 T (S), 8 T (M), 8
T (S) (S = space, M = mark). Playback conditions: Desk rotation speed = 3000 rpm, read laser power = 0.6 m
W.

【0041】レーザパワーを変化して4 T、8 T記録マ
ークの再生マーク長(4 L,8 L)のレーザパワー依存
性を測定し、4 T=4 Lになるレーザパワー(Pw)で
記録再生した時の8 L長さから(8 T−8 L)/T×10
0 %をマーク長の変動幅とした。Pwが+10%変動した
時のシフト変動幅を表1に示した。このシフト変動幅が
小さいほど、記録マーク長さ、すなわちエッジ位置の変
動が小さいことを示す。
The laser power was changed to measure the laser power dependence of the reproduction mark length (4 L, 8 L) of the 4 T and 8 T recording marks, and recording was performed with the laser power (Pw) at which 4 T = 4 L. From the length of 8 L when played back (8 T-8 L) / T × 10
The variation width of the mark length was set to 0%. Table 1 shows the shift fluctuation range when Pw changed by + 10%. The smaller the shift variation width, the smaller the variation of the recording mark length, that is, the edge position.

【0042】なお誘電体層と反射層の熱伝導率は、石英
薄板上に各膜のみを約数μmの厚さに堆積し、薄膜熱伝
導率測定装置(真空理工社製)を用いて測定した。そし
て各膜の熱伝導率から各層での熱伝導係数(膜厚×熱伝
導率)を表1に示す。
The thermal conductivity of the dielectric layer and the reflective layer was measured using a thin film thermal conductivity measuring device (manufactured by Vacuum Riko Co., Ltd.) by depositing each film alone on a quartz thin plate to a thickness of about several μm. did. Table 1 shows the thermal conductivity coefficient (film thickness × thermal conductivity) of each layer based on the thermal conductivity of each film.

【0043】[0043]

【比較例】次の条件を変えた以外は、実施例と同様に4
層構成の媒体を作製した。すなわち誘電体層は、作製時
に水素ガスを添加せず、AlSiN膜を堆積した。また反射
層としては、ターゲットにAlAuTi(92.0:4.8 :3.2 )
合金ターゲットを用い、AlAuTi膜を40nm堆積してAu,T
i の組成比は11atom%であった。そして実施例と同様に
評価を行なった結果を、表1に示す。
[Comparative Example] The same as Example 4 except that the following conditions were changed.
A medium having a layer structure was prepared. That is, for the dielectric layer, an AlSiN film was deposited without adding hydrogen gas at the time of manufacturing. As the reflective layer, the target was AlAuTi (92.0: 4.8: 3.2).
Using an alloy target, depositing an AlAuTi film with a thickness of 40 nm, Au, T
The composition ratio of i was 11 atom%. Table 1 shows the results of evaluation performed in the same manner as in the examples.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】[0045]

【発明の効果】実施例、比較例の結果を表1に示すよう
に、本発明の熱伝導係数を持つ誘電体、反射層の組み合
わせでは、マーク長さのレーザパワーによる変動での変
動幅が小さく、エッジ記録に適している、すなわち高密
度記録を可能化できる効果を有している。
As shown in Table 1 for the results of Examples and Comparative Examples, in the case of the combination of the dielectric material having the thermal conductivity coefficient and the reflective layer of the present invention, the fluctuation width due to the fluctuation of the mark length due to the laser power varies. It is small and suitable for edge recording, that is, it has the effect of enabling high-density recording.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 11/10 521 J 9075−5D 523 9075−5D ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G11B 11/10 521 J 9075-5D 523 9075-5D

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に、第1誘電体層、記録層、
第2誘電体層、および反射層をこの順に備え、光信号を
用いて情報の記録を行なう光記録媒体において、熱伝導
率と膜厚との積で定義される熱伝導係数が、第1誘電体
層は0.03〜0.1 μW/K、第2誘電体層は0.01〜0.03μ
W/K、および反射層は4 〜12μW/Kであることを特
徴とする光記録媒体。
1. A transparent substrate, a first dielectric layer, a recording layer, and
In an optical recording medium having a second dielectric layer and a reflective layer in this order and recording information using an optical signal, the thermal conductivity coefficient defined by the product of thermal conductivity and film thickness is Body layer is 0.03-0.1 μW / K, second dielectric layer is 0.01-0.03 μ
An optical recording medium characterized in that W / K and the reflection layer are 4 to 12 μW / K.
【請求項2】 反射層が、{Al、Au、Ag、Cu}の群より
選ばれた1種以上の元素を主成分として、{Ti、Cr、T
a、Co、Ni、Mg、Si}の群より選ばれた元素を10atom%
以下で添加した合金膜あるいは多層膜であり、さらに反
射層の熱伝導率が80W/mK以上であることを特徴とす
る請求項1記載の光記録媒体。
2. The reflection layer is mainly composed of one or more elements selected from the group of {Al, Au, Ag, Cu} and {Ti, Cr, T.
element selected from the group of a, Co, Ni, Mg, Si} 10 atom%
The optical recording medium according to claim 1, wherein the optical recording medium is an alloy film or a multilayer film added below, and the thermal conductivity of the reflective layer is 80 W / mK or more.
【請求項3】 記録層の熱伝導率が、5 〜20W/mKで
あることを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載の
光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer has a thermal conductivity of 5 to 20 W / mK.
【請求項4】 記録層が光磁気記録層であることを特徴
とする請求項1〜3のいずれかに記載の光記録媒体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is a magneto-optical recording layer.
JP6112574A 1993-12-16 1994-05-26 Optical recording medium Pending JPH07320303A (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6112574A JPH07320303A (en) 1994-05-26 1994-05-26 Optical recording medium
EP95303554A EP0684601B1 (en) 1994-05-26 1995-05-25 Optical recording medium
TW084105307A TW303454B (en) 1993-12-16 1995-05-25
DE69500790T DE69500790T2 (en) 1994-05-26 1995-05-25 Optical recording medium
KR1019950013467A KR100251979B1 (en) 1994-05-26 1995-05-26 Optical recording medium
US08/451,156 US5577021A (en) 1994-05-26 1995-05-26 Optical and magnetooptical recording medium having a low thermal conductivity dielectric layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6112574A JPH07320303A (en) 1994-05-26 1994-05-26 Optical recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07320303A true JPH07320303A (en) 1995-12-08

Family

ID=14590130

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6112574A Pending JPH07320303A (en) 1993-12-16 1994-05-26 Optical recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07320303A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100251979B1 (en) Optical recording medium
JPH0325737A (en) Magneto-optical recording medium
JPH0573975A (en) Magneto-optical recording medium
JP2541677B2 (en) Optical recording medium
JPH07320303A (en) Optical recording medium
US5091267A (en) Magneto-optical recording medium and process for production of the same
EP0509467B1 (en) Magneto-optical recording medium
JP2507592B2 (en) Optical recording medium
JPH0581719A (en) Reflection film for optical recording medium
JP2804165B2 (en) Magneto-optical recording medium
JPH02128346A (en) Magneto-optical disk
JP3109926B2 (en) Method for manufacturing magneto-optical recording medium
JPH08106662A (en) Magneto-optical recording medium
EP1014352A2 (en) Optical recording medium and method for manufacture thereof
JP2775853B2 (en) Magneto-optical recording medium
JPH02261822A (en) Optical recording medium and preparation thereof
KR100194131B1 (en) Optical recording media
JPH035929A (en) Optical recording medium and its production
JPH0896429A (en) Magneto-optical recording medium
JPH07262633A (en) Magneto-optical recording medium
JP2003016704A (en) Magneto-optical recording medium and producing method thereof
JPH0594647A (en) Production of magneto-optical recording medium
JPH02308454A (en) Magneto-optical recording medium
JPH0352144A (en) Magneto-optical recording medium
JPH0644624A (en) Magneto-optical recording medium