JPH07312298A - マイクロ波プラズマ発生装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ発生装置Info
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- JPH07312298A JPH07312298A JP6103798A JP10379894A JPH07312298A JP H07312298 A JPH07312298 A JP H07312298A JP 6103798 A JP6103798 A JP 6103798A JP 10379894 A JP10379894 A JP 10379894A JP H07312298 A JPH07312298 A JP H07312298A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プラズマを全域に均一となるように発生させ
ること。 【構成】 マイクロ波発振器１と、マイクロ波発振器１
からのマイクロ波を伝送する導波管２と、導波管２に接
続された誘電体被覆線路３と、誘電体被覆線路３に対向
配置されるマイクロ波導入窓を有する反応器６とを備え
たマイクロ波プラズマ発生装置である。誘電体被覆線路
３またはマイクロ波導入窓を有する反応器６のすくなく
ともどちらか一方をマイクロ波の導入側から進行方向に
向かって両者間の間隔が小さくなるような傾斜角度調整
部材８を備える。
ること。 【構成】 マイクロ波発振器１と、マイクロ波発振器１
からのマイクロ波を伝送する導波管２と、導波管２に接
続された誘電体被覆線路３と、誘電体被覆線路３に対向
配置されるマイクロ波導入窓を有する反応器６とを備え
たマイクロ波プラズマ発生装置である。誘電体被覆線路
３またはマイクロ波導入窓を有する反応器６のすくなく
ともどちらか一方をマイクロ波の導入側から進行方向に
向かって両者間の間隔が小さくなるような傾斜角度調整
部材８を備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波プラズマ発
生装置の改良に関するものである。
生装置の改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】低圧ガスの放電によって生成した低温プ
ラズマは、系全体が低温でありながら様々な化学反応を
促進するため、無機材料と有機材料のいずれにも適用で
き、極めて応用範囲が広く、半導体の製造プロセス、高
分子材料、金属の表面改質等に用いられている。
ラズマは、系全体が低温でありながら様々な化学反応を
促進するため、無機材料と有機材料のいずれにも適用で
き、極めて応用範囲が広く、半導体の製造プロセス、高
分子材料、金属の表面改質等に用いられている。
【０００３】しかして、この低温プラズマを発生させる
ために、従来の研究開発・実用機では主にラジオ波（１
３．５６ＭＨｚ）により励起させる方法が用いられてい
たが、マイクロ波を用いる方が効率・装置の点で有利で
あることが知られている（広瀬：マイクロ波放電プラズ
マとその装置、塗装技術、１９，〔１〕，（１９８
０），１００〜１０５頁）。有利な点を以下に示す。
ために、従来の研究開発・実用機では主にラジオ波（１
３．５６ＭＨｚ）により励起させる方法が用いられてい
たが、マイクロ波を用いる方が効率・装置の点で有利で
あることが知られている（広瀬：マイクロ波放電プラズ
マとその装置、塗装技術、１９，〔１〕，（１９８
０），１００〜１０５頁）。有利な点を以下に示す。
【０００４】 電子温度Ｔｅとガス温度Ｔｇの比Ｔｅ
／Ｔｇが大きく、より低温のプラズマが得られる。 電極を必要としないので、電極からの汚染を防ぐこ
とができる。 マイクロ波の電力を局所的に注入でき、外部空間へ
の不用な放射損失がなく、高密度のプラズマが生成でき
る。 発振器が簡単である。 導波管でマイクロ波を伝送するため放射損失がな
く、整合が簡単な構造でできる。
／Ｔｇが大きく、より低温のプラズマが得られる。 電極を必要としないので、電極からの汚染を防ぐこ
とができる。 マイクロ波の電力を局所的に注入でき、外部空間へ
の不用な放射損失がなく、高密度のプラズマが生成でき
る。 発振器が簡単である。 導波管でマイクロ波を伝送するため放射損失がな
く、整合が簡単な構造でできる。
【０００５】ところで、従来のマイクロ波を利用したプ
ラズマ発生装置としては、以下の構造のものが知られて
いる。 生成部・処理室分離型（前記文献） 従来よりよく知られている構造で、導波管中に石英管を
貫通させ、石英管中でプラズマを発生させるもの。な
お、処理容器は別途設け、被処理物はプラズマから離れ
た下流に設置する。
ラズマ発生装置としては、以下の構造のものが知られて
いる。 生成部・処理室分離型（前記文献） 従来よりよく知られている構造で、導波管中に石英管を
貫通させ、石英管中でプラズマを発生させるもの。な
お、処理容器は別途設け、被処理物はプラズマから離れ
た下流に設置する。
【０００６】 金属アンテナ型（特公昭５７−５３８
５８、特開昭５７−９８６８、特開昭５６−４１３８
２） 金属アンテナを用いて導波管からマイクロ波を別の大容
量の処理容器内に導入し、該処理容器内でプラズマを発
生させるもの。 周期構造型（R.G.Bosisio,C.F.Weissfloch,M.R.Wer
theimer:The Large Volume Microwave Plasma Generato
r,J.Microwave Power,7(4),1972) 導波管より周期構造を利用した開放線路にマイクロ波を
導入し、前記開放線路下に設けた石英管内にプラズマを
発生させるもの。
５８、特開昭５７−９８６８、特開昭５６−４１３８
２） 金属アンテナを用いて導波管からマイクロ波を別の大容
量の処理容器内に導入し、該処理容器内でプラズマを発
生させるもの。 周期構造型（R.G.Bosisio,C.F.Weissfloch,M.R.Wer
theimer:The Large Volume Microwave Plasma Generato
r,J.Microwave Power,7(4),1972) 導波管より周期構造を利用した開放線路にマイクロ波を
導入し、前記開放線路下に設けた石英管内にプラズマを
発生させるもの。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記
の構造のものは、プラズマ生成部が導波管の大きさで限
定される為、多量の試料や大型の試料の処理が行えな
い。また、この構造のものは、プラズマによるマイクロ
波の反射が大きく効率が悪い。
の構造のものは、プラズマ生成部が導波管の大きさで限
定される為、多量の試料や大型の試料の処理が行えな
い。また、この構造のものは、プラズマによるマイクロ
波の反射が大きく効率が悪い。
【０００８】また、の構造のものは、比較的径の大き
な石英管にプラズマを発生させることができるために多
数処理が可能であるが、アンテナと導波管との整合がむ
ずかしく、プラズマが不均一になりやすい為、その改善
のための装置が複雑になる。
な石英管にプラズマを発生させることができるために多
数処理が可能であるが、アンテナと導波管との整合がむ
ずかしく、プラズマが不均一になりやすい為、その改善
のための装置が複雑になる。
【０００９】更に、の構造のものは、周期構造型線路
と導波管の整合をとるために幅広いものができず、細長
いプラズマしか発生できない（前記文献によれば外径１
９ｍｍの石英ガラス管内でプラズマを発生させてい
る。）。また、前記線路の構造も複雑であるという問題
がある。
と導波管の整合をとるために幅広いものができず、細長
いプラズマしか発生できない（前記文献によれば外径１
９ｍｍの石英ガラス管内でプラズマを発生させてい
る。）。また、前記線路の構造も複雑であるという問題
がある。
【００１０】そこで、本出願人は上記問題点に鑑みて、
マイクロ波を用いて大面積かつ均一なプラズマを比較的
簡単な構造で安定して発生できるマイクロ波プラズマ発
生装置を備えたマイクロ波プラズマ処理装置を特願昭６
０−１４３０３６号で提案した。本発明は、本出願人が
先に提案した特願昭６０−１４３０３６号の発明の構成
要素であるマイクロ波プラズマ発生装置を更に改良した
ものを提供することを目的としている。
マイクロ波を用いて大面積かつ均一なプラズマを比較的
簡単な構造で安定して発生できるマイクロ波プラズマ発
生装置を備えたマイクロ波プラズマ処理装置を特願昭６
０−１４３０３６号で提案した。本発明は、本出願人が
先に提案した特願昭６０−１４３０３６号の発明の構成
要素であるマイクロ波プラズマ発生装置を更に改良した
ものを提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明のマイクロ波プラズマ発生装置は、マイ
クロ波発振器と、該マイクロ波発振器からのマイクロ波
を伝送する導波管と、該導波管に接続された誘電体被覆
線路と、該誘電体被覆線路に対向配置されるマイクロ波
導入窓を有する反応器とを備えたマイクロ波プラズマ発
生装置において、誘電体被覆線路またはマイクロ波導入
窓を有する反応器のすくなくともどちらか一方をマイク
ロ波の導入側から進行方向に向かって両者間の間隔が小
さくなるような傾斜角度調整部材を備えさせたり、ま
た、誘電体被覆線路を構成する誘電体層の厚みをマイク
ロ波の導入側から進行方向に向かって薄くしたりしてい
るのである。
ために、本発明のマイクロ波プラズマ発生装置は、マイ
クロ波発振器と、該マイクロ波発振器からのマイクロ波
を伝送する導波管と、該導波管に接続された誘電体被覆
線路と、該誘電体被覆線路に対向配置されるマイクロ波
導入窓を有する反応器とを備えたマイクロ波プラズマ発
生装置において、誘電体被覆線路またはマイクロ波導入
窓を有する反応器のすくなくともどちらか一方をマイク
ロ波の導入側から進行方向に向かって両者間の間隔が小
さくなるような傾斜角度調整部材を備えさせたり、ま
た、誘電体被覆線路を構成する誘電体層の厚みをマイク
ロ波の導入側から進行方向に向かって薄くしたりしてい
るのである。
【００１２】ここで、本発明装置の構成要素である誘電
体被覆線路またはマイクロ波導入窓を有する反応器のす
くなくともどちらか一方をマイクロ波の導入側から進行
方向に向かって両者間の間隔が小さくなるような傾斜角
度調整部材を備えさせたり、また、誘電体被覆線路を構
成する誘電体層の厚みをマイクロ波の導入側から進行方
向に向かって薄くなしたりするのは、次の理由による。
体被覆線路またはマイクロ波導入窓を有する反応器のす
くなくともどちらか一方をマイクロ波の導入側から進行
方向に向かって両者間の間隔が小さくなるような傾斜角
度調整部材を備えさせたり、また、誘電体被覆線路を構
成する誘電体層の厚みをマイクロ波の導入側から進行方
向に向かって薄くなしたりするのは、次の理由による。
【００１３】すなわち、前記したように構成しない場合
には、プラズマは発振器側に偏って発生し、プラズマの
発生量はマイクロ波の進行方向に向かって少なくなる傾
向にあった。しかし、本発明のような構成とすることに
よってプラズマを全域に均一となるように発生させるこ
とができる。
には、プラズマは発振器側に偏って発生し、プラズマの
発生量はマイクロ波の進行方向に向かって少なくなる傾
向にあった。しかし、本発明のような構成とすることに
よってプラズマを全域に均一となるように発生させるこ
とができる。
【００１４】
【作用】本発明は、誘電体被覆線路またはマイクロ波導
入窓を有する反応器のすくなくともどちらか一方をマイ
クロ波の導入側から進行方向に向かって両者間の間隔が
小さくなるような傾斜角度調整部材を備えさせたり、ま
た、誘電体被覆線路を構成する誘電体層の厚みをマイク
ロ波の導入側から進行方向に向かって薄くしたりしてい
るので、プラズマを全域に均一となるように発生させる
ことができる。
入窓を有する反応器のすくなくともどちらか一方をマイ
クロ波の導入側から進行方向に向かって両者間の間隔が
小さくなるような傾斜角度調整部材を備えさせたり、ま
た、誘電体被覆線路を構成する誘電体層の厚みをマイク
ロ波の導入側から進行方向に向かって薄くしたりしてい
るので、プラズマを全域に均一となるように発生させる
ことができる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明のマイクロ波プラズマ発生装置
を添付図面に示す１実施例に基づいて説明する。図１
（ａ）は請求項１に対応する本発明のマイクロ波プラズ
マ発生装置の１実施例を示す正面図中央縦断面図、
（ｂ）はその側面図、図２は請求項２に対応する本発明
のマイクロ波プラズマ発生装置の１実施例を示す正面図
中央縦断面図、図３は導波管と誘電体被覆線路の接合部
を示す図面、図４は誘電体層の平面図である。
を添付図面に示す１実施例に基づいて説明する。図１
（ａ）は請求項１に対応する本発明のマイクロ波プラズ
マ発生装置の１実施例を示す正面図中央縦断面図、
（ｂ）はその側面図、図２は請求項２に対応する本発明
のマイクロ波プラズマ発生装置の１実施例を示す正面図
中央縦断面図、図３は導波管と誘電体被覆線路の接合部
を示す図面、図４は誘電体層の平面図である。
【００１６】図面において、１はマイクロ波発振器であ
り、ここから例えば２．４５ＧＨｚのマイクロ波が発生
され、導波管２（ＷＲＩ−２２，１０９．２２ｍｍ×５
４．６１ｍｍ）より伝送される。
り、ここから例えば２．４５ＧＨｚのマイクロ波が発生
され、導波管２（ＷＲＩ−２２，１０９．２２ｍｍ×５
４．６１ｍｍ）より伝送される。
【００１７】３は前記導波管２に接続された誘電体被覆
線路であり、この誘電体被覆線路３を構成する誘電体層
４には例えばテフロン、ポリスチレン、ポリエチレン等
の誘電損失の小さい物質が採用されている。すなわち、
この誘電体層４は表面波導波路として電磁界の集中をも
たらし、また、当該表面波は光の速度より遅い遅波とな
るため、マイクロ波のエネルギーを有効にガスに伝達
し、プラズマを発生させることができるのである。
線路であり、この誘電体被覆線路３を構成する誘電体層
４には例えばテフロン、ポリスチレン、ポリエチレン等
の誘電損失の小さい物質が採用されている。すなわち、
この誘電体層４は表面波導波路として電磁界の集中をも
たらし、また、当該表面波は光の速度より遅い遅波とな
るため、マイクロ波のエネルギーを有効にガスに伝達
し、プラズマを発生させることができるのである。
【００１８】また、本例のように導波管２と誘電体被覆
線路３を別体構成すれば誘電体層４の幅を導波管２の幅
に比較して広くできるため、大面積のプラズマを発生さ
せることができる。
線路３を別体構成すれば誘電体層４の幅を導波管２の幅
に比較して広くできるため、大面積のプラズマを発生さ
せることができる。
【００１９】５は前記誘電体被覆線路３の終端に敷設さ
れた反射板であり、本実施例では導波管２方向への接離
移動が可能なようになされている。６は前記誘電体被覆
線路３の下方に配設された反応器であり、この上面には
マイクロ波導入窓として誘電損失の小さな耐熱性物質、
例えば石英ガラス板７が載置されており、これを通して
マイクロ波を反応器６内に導入するようになされてい
る。
れた反射板であり、本実施例では導波管２方向への接離
移動が可能なようになされている。６は前記誘電体被覆
線路３の下方に配設された反応器であり、この上面には
マイクロ波導入窓として誘電損失の小さな耐熱性物質、
例えば石英ガラス板７が載置されており、これを通して
マイクロ波を反応器６内に導入するようになされてい
る。
【００２０】８は前記反応器６と誘電体被覆線路３間の
反マイクロ波発振器１側の間隔を狭くするように反応器
６の下方に配設された傾斜角度調整部材であり、マイク
ロ波が放射やプラズマによる損失のために減衰するのを
補ってプラズマを均一に発生させるためのものである。
なお、反応器６を傾斜させる代わりに、誘電体被覆線路
３を傾斜させてもよいことは勿論であり、また、両者を
傾斜させてもよい。
反マイクロ波発振器１側の間隔を狭くするように反応器
６の下方に配設された傾斜角度調整部材であり、マイク
ロ波が放射やプラズマによる損失のために減衰するのを
補ってプラズマを均一に発生させるためのものである。
なお、反応器６を傾斜させる代わりに、誘電体被覆線路
３を傾斜させてもよいことは勿論であり、また、両者を
傾斜させてもよい。
【００２１】また、これらを傾斜させる代わりに、図２
に示すように、誘電体層４の厚さをマイクロ波の進行方
向に向かって薄くし、誘電体層４とマイクロ波の結合度
を小さくしてゆくことによって均一なプラズマを発生さ
せるようにしてもよい。９はガスボンベや流量計を備え
たガス導入装置、１０は排気装置である。
に示すように、誘電体層４の厚さをマイクロ波の進行方
向に向かって薄くし、誘電体層４とマイクロ波の結合度
を小さくしてゆくことによって均一なプラズマを発生さ
せるようにしてもよい。９はガスボンベや流量計を備え
たガス導入装置、１０は排気装置である。
【００２２】上記したような構成の本発明装置を用いて
プラズマを発生させる場合には、先ず、反応器６内を低
真空又は高真空になるまで排気した後、この状態の反応
器６内にガスを導入し、その後マイクロ波発振器１を作
動させてマイクロ波を発振させれば、反応器６内の全域
にプラズマが均一に発生する。
プラズマを発生させる場合には、先ず、反応器６内を低
真空又は高真空になるまで排気した後、この状態の反応
器６内にガスを導入し、その後マイクロ波発振器１を作
動させてマイクロ波を発振させれば、反応器６内の全域
にプラズマが均一に発生する。
【００２３】〔実験結果〕図１に示す本発明装置を用い
てプラズマを発生させた。本実験では、２．４５ＧＨｚ
マイクロ波発振器を用い、また、誘電体層には幅２００
ｍｍ、長さ４８４ｍｍ、厚さ２０ｍｍのテフロンを使用
した。
てプラズマを発生させた。本実験では、２．４５ＧＨｚ
マイクロ波発振器を用い、また、誘電体層には幅２００
ｍｍ、長さ４８４ｍｍ、厚さ２０ｍｍのテフロンを使用
した。
【００２４】但し、導波管と誘電体被覆線路の結合部に
おける反射を小さくして電界分布を乱さないように、図
３に示すような形状のテフロンを導波管内に挿入し、ま
た、誘電体被覆線路内のテフロンも図４に示すように１
２０ｍｍの長さにわたってテーパをつけた。なお、図３
中のλｇは管内波長、λは誘電体の表面波の波長を表し
ている。
おける反射を小さくして電界分布を乱さないように、図
３に示すような形状のテフロンを導波管内に挿入し、ま
た、誘電体被覆線路内のテフロンも図４に示すように１
２０ｍｍの長さにわたってテーパをつけた。なお、図３
中のλｇは管内波長、λは誘電体の表面波の波長を表し
ている。
【００２５】また、反射板は幅２００ｍｍ、高さ４０ｍ
ｍのものを使用し、石英ガラス板は幅２００ｍｍ、長さ
３００ｍｍのものを使用した。このような形状、寸法の
プラズマ発生装置の反応器に、プラズマ発生ガスとして
空気を導入し、ガス圧１０Ｐａ、マイクロ波電力１ｋ
ｗ、誘電体被覆線路のマイクロ波導入口部分（図１にお
ける左端）でのテフロンとプラズマ発生部の距離を６０
ｍｍとし、反応器を５°傾けてプラズマを発生させたと
ころプラズマは２００ｍｍ×３００ｍｍ全域に均一に発
生した。
ｍのものを使用し、石英ガラス板は幅２００ｍｍ、長さ
３００ｍｍのものを使用した。このような形状、寸法の
プラズマ発生装置の反応器に、プラズマ発生ガスとして
空気を導入し、ガス圧１０Ｐａ、マイクロ波電力１ｋ
ｗ、誘電体被覆線路のマイクロ波導入口部分（図１にお
ける左端）でのテフロンとプラズマ発生部の距離を６０
ｍｍとし、反応器を５°傾けてプラズマを発生させたと
ころプラズマは２００ｍｍ×３００ｍｍ全域に均一に発
生した。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように本発明のマイクロ波
プラズマ発生装置は、誘電体被覆線路またはマイクロ波
導入窓を有する反応器のすくなくともどちらか一方をマ
イクロ波の導入側から進行方向に向かって両者間の間隔
が小さくなるような傾斜角度調整部材を備えさせたり、
また、誘電体被覆線路を構成する誘電体層の厚みをマイ
クロ波の導入側から進行方向に向かって薄くしたりして
いるので、プラズマを広い範囲にわたり全域に均一とな
るように発生させることができ、多量の処理材を均質に
一度に処理したり、また、大型の処理材を均質に処理で
きる。さらに、本発明のマイクロ波プラズマ発生装置は
整合も簡単にとれるので、装置の構造や調整を簡単にで
きる等益するところ大なる効果を有する。
プラズマ発生装置は、誘電体被覆線路またはマイクロ波
導入窓を有する反応器のすくなくともどちらか一方をマ
イクロ波の導入側から進行方向に向かって両者間の間隔
が小さくなるような傾斜角度調整部材を備えさせたり、
また、誘電体被覆線路を構成する誘電体層の厚みをマイ
クロ波の導入側から進行方向に向かって薄くしたりして
いるので、プラズマを広い範囲にわたり全域に均一とな
るように発生させることができ、多量の処理材を均質に
一度に処理したり、また、大型の処理材を均質に処理で
きる。さらに、本発明のマイクロ波プラズマ発生装置は
整合も簡単にとれるので、装置の構造や調整を簡単にで
きる等益するところ大なる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は請求項１に対応する本発明のマイクロ
波プラズマ発生装置の１実施例を示す正面図中央縦断面
図、（ｂ）はその側面図である。
波プラズマ発生装置の１実施例を示す正面図中央縦断面
図、（ｂ）はその側面図である。
【図２】請求項２に対応する本発明のマイクロ波プラズ
マ発生装置の１実施例を示す正面図中央縦断面図であ
る。
マ発生装置の１実施例を示す正面図中央縦断面図であ
る。
【図３】導波管と誘電体被覆線路の接合部を示す図面で
ある。
ある。
【図４】誘電体層の平面図である。
１ マイクロ波発振器 ２ 導波管 ３ 誘電体被覆線路 ４ 誘電体層 ６ 反応器 ８ 傾斜角度調整部材
Claims (2)
- 【請求項１】 マイクロ波発振器と、該マイクロ波発振
器からのマイクロ波を伝送する導波管と、該導波管に接
続された誘電体被覆線路と、該誘電体被覆線路に対向配
置されるマイクロ波導入窓を有する反応器とを備えたマ
イクロ波プラズマ発生装置において、誘電体被覆線路ま
たはマイクロ波導入窓を有する反応器のすくなくともど
ちらか一方をマイクロ波の導入側から進行方向に向かっ
て両者間の間隔が小さくなるような傾斜角度調整部材を
備えたことを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。 - 【請求項２】 マイクロ波発振器と、該マイクロ波発振
器からのマイクロ波を伝送する導波管と、該導波管に接
続された誘電体被覆線路と、該誘電体被覆線路に対向配
置されるマイクロ波導入窓を有する反応器とを備えたマ
イクロ波プラズマ発生装置において、誘電体被覆線路を
構成する誘電体層の厚みがマイクロ波の導入側から進行
方向に向かって薄くなっていることを特徴とするマイク
ロ波プラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6103798A JP2570170B2 (ja) | 1994-05-18 | 1994-05-18 | マイクロ波プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6103798A JP2570170B2 (ja) | 1994-05-18 | 1994-05-18 | マイクロ波プラズマ発生装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60240070A Division JPH0695479B2 (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | マイクロ波プラズマ発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07312298A true JPH07312298A (ja) | 1995-11-28 |
| JP2570170B2 JP2570170B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=14363423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6103798A Expired - Fee Related JP2570170B2 (ja) | 1994-05-18 | 1994-05-18 | マイクロ波プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2570170B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005310478A (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Naohisa Goto | プラズマ処理装置および処理方法、並びに、フラットパネルディスプレイの製造方法 |
-
1994
- 1994-05-18 JP JP6103798A patent/JP2570170B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005310478A (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Naohisa Goto | プラズマ処理装置および処理方法、並びに、フラットパネルディスプレイの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2570170B2 (ja) | 1997-01-08 |
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