JPH07306245A - Formation of test pattern - Google Patents
Formation of test patternInfo
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- JPH07306245A JPH07306245A JP6096394A JP9639494A JPH07306245A JP H07306245 A JPH07306245 A JP H07306245A JP 6096394 A JP6096394 A JP 6096394A JP 9639494 A JP9639494 A JP 9639494A JP H07306245 A JPH07306245 A JP H07306245A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はテストパターン作成方式
に関し、特に半導体集積回路(以下、LSIと云う)の
実装機の動作状態を参照して、当該実装機自身より所定
のテストパターンを作成するテストパターン作成方法に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a test pattern creating system, and in particular, creates a predetermined test pattern from the mounting machine itself by referring to the operating state of a mounting machine of a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as LSI). Regarding the test pattern creation method.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来この種のテストパターン作成方法の
第1の従来例としては、実装機に搭載されている披測定
用LSIの端子波形を採取し、当該端子波形に対して、
前記実装機の作成者より入手された入出力情報を、人手
により波形エディタ等を用いて付加して得られたデータ
を用い、前記LSIの検査用のテストパターンを作成し
ているのが通例である。このテストパターン作成方法に
おいて完成されたテストパターンの品質は、実装機の作
成者より提出される前記入出力情報がどれだけ正確な情
報であるかに依存している。しかしながら、披測定用L
SIの端子に、ソフトウェアにより入出力状態が頻繁に
切替えられるような端子が存在する場合には、実装機の
作成者によって、当該入出力情報を正確に把握すること
は現実問題として非常に困難なことである。2. Description of the Related Art Conventionally, as a first conventional example of this type of test pattern creating method, a terminal waveform of a measuring LSI mounted on a mounting machine is sampled and
It is customary to create a test pattern for inspecting the LSI by using the data obtained by manually adding the input / output information obtained from the creator of the mounting machine using a waveform editor or the like. is there. The quality of the test pattern completed in this test pattern creating method depends on how accurate the input / output information submitted by the creator of the mounting machine is. However, L for measurement
In the case where the SI terminal has a terminal whose input / output state can be switched frequently by software, it is very difficult as a practical matter for the creator of the mounting machine to accurately grasp the input / output information. That is.
【0003】上記の問題に対応する第2の従来例として
は、実装機から前記入出力情報を直接抽出するテストパ
ターン作成方法が提案されている。この従来例は、披測
定用LSIと実装機の電源レベルおよびGNDレベルに
それぞれ電位差を設定し、LSIに対する入力信号と当
該LSIからの出力信号における電位の差異を検出し
て、入出力情報を抽出する方法である。図4は、本従来
例における披測定用LSIと実装機との接続部分の一例
を抽出して示した部分回路図である。図4において、L
SI41と実装機42との間の入出力兼用端子43を例
にとると、LSI41の電源電圧VDDは4.5Vに設定
され、GND電圧は0.5Vに設定される。また、実装
機42においては、電源電圧VDDは5Vに設定され、G
ND電圧は0Vに設定される。このような電圧設定によ
り、実装機42を動作させた場合のLSI41の入出力
端子43における信号波形の一例が図5(a)に示され
る。As a second conventional example that addresses the above problem, a test pattern creating method has been proposed in which the input / output information is directly extracted from a mounting machine. In this conventional example, a potential difference is set to each of the power supply level and the GND level of the measuring LSI and the mounting machine, the potential difference between the input signal to the LSI and the output signal from the LSI is detected, and the input / output information is extracted. Is the way to do it. FIG. 4 is a partial circuit diagram showing an extracted example of a connecting portion between a measuring LSI and a mounting machine in the conventional example. In FIG. 4, L
Taking the input / output terminal 43 between the SI 41 and the mounter 42 as an example, the power supply voltage VDD of the LSI 41 is set to 4.5V and the GND voltage is set to 0.5V. Further, in the mounting machine 42, the power supply voltage VDD is set to 5 V, and G
The ND voltage is set to 0V. FIG. 5A shows an example of signal waveforms at the input / output terminals 43 of the LSI 41 when the mounting machine 42 is operated by such voltage setting.
【0004】図4において、実装機42の側からLSI
41の側に信号が入力される場合には、入出力端子43
の電位レベルは5Vまたは0Vになる。一方、LSI4
1の側より実装機42に信号が出力される場合には、入
出力端子43の電位レベルは4.5Vまたは0.5Vに
なる。従って、一連の動作中においては、入出力端子4
3における信号波形は図5(a)に示されるようにな
る。なお、図5(a)、(b)および(c)において
は、タイミングおよびは、実装機42の側からLS
I41の側に信号が入力される場合のタイミングを示
し、タイミングおよびは、LSI41の側より実装
機42に信号が出力される場合のタイミングを示してい
る。In FIG. 4, the LSI is mounted from the mounting machine 42 side.
When a signal is input to the side of 41, the input / output terminal 43
Has a potential level of 5V or 0V. On the other hand, LSI4
When a signal is output from the 1 side to the mounting machine 42, the potential level of the input / output terminal 43 becomes 4.5V or 0.5V. Therefore, during a series of operations, the input / output terminal 4
The signal waveform in 3 is as shown in FIG. In addition, in FIGS. 5A, 5B, and 5C, the timing and the LS from the mounting machine 42 side.
The timing when the signal is input to the I41 side is shown, and the timing is the timing when the signal is output from the LSI 41 side to the mounting machine 42.
【0005】上記の入出力端子43における信号波形
を、しきい値2.5Vのプローブによりデータ採取した
場合には、図5(b)に示されるように、のタイミン
グにおいては“1”、のタイミングにおいては
“0”、のタイミングにおいては“1”、のタイミ
ングにおいては“0”となるデータが、パターンデータ
として採取される。そして同時に、入出力端子43にお
ける信号波形を、しきい値として4.75Vおよび0.
25Vの二つのしきい値を持ち、且つ当該二つのしきい
値の間のレベルに対しては“0”と判定し、それ以外の
レベルの場合に対しては“1”と判定するプローブによ
りデータ採取した場合には、図5(c)に示されるよう
に、およびのタイミングにおいては“1”、およ
びのタイミングにおいては“0”となるデータが採取
される。この図5(c)に示されるデータの“1”およ
び“0”を、それぞれ入力および出力として定義するこ
とにより、入出力情報が抽出される。即ち、本従来例に
おいては、図5(c)に示されるデータが、求めんとす
る入出力情報である。When data of the signal waveform at the input / output terminal 43 is sampled by a probe having a threshold value of 2.5 V, as shown in FIG. 5B, at the timing of "1", Data that is "0" at the timing, "1" at the timing, and "0" at the timing is collected as pattern data. At the same time, the signal waveform at the input / output terminal 43 is set to 4.75 V and 0.
With a probe that has two thresholds of 25V and that judges "0" for the level between the two thresholds and "1" for other levels. When the data is collected, as shown in FIG. 5C, the data is “1” at the timings of and, and is “0” at the timing of. Input / output information is extracted by defining "1" and "0" of the data shown in FIG. 5C as an input and an output, respectively. That is, in this conventional example, the data shown in FIG. 5C is the input / output information to be sought.
【0006】また、第3の従来例としては、信号の伝播
遅延を利用する方法で、同一の配線上の2点において信
号波形を採取し、当該信号波形の変化が発生したタイミ
ングが、LSI側と実装機側の何れが先であるかを検出
して、入出力情報を抽出するという方法がある。図6
は、本従来例における披測定用LSIと実装機との接続
部分の一例を抽出して示した部分的な概念ブロック図で
あり、LSI61と実装機62との間の同一配線上に
は、二つのプローブポイント601および602が設定
されている。このプローブポイント601および602
における信号遅延量が、測定可能な大きさである場合に
はこのままでよいが、当該遅延量が測定困難な程に小さ
い量である場合には、信号波形の変化が生じたタイミン
グの測定を可能とするために、図6に示されるように、
二つのプローブポイント601および602の間に遅延
回路63が設けられる。この遅延回路63としては、こ
れを挿入接続することにより、実装機62の動作に支障
を来たさないレベルの遅延回路を使用することが必要で
ある。この接続状態において実装機62を動作させた場
合のプローブポイント601および602における信号
波形の一例が、それぞれ図7(a)および(b)に示さ
れる。図7(a)および(b)において、のタイミン
グおよびのタイミングにおいては、プローブポイント
602における信号波形の変化が、プローブポイント6
01における信号波形の変化よりも先である状態を示
し、また、のタイミングおよびのタイミングにおい
ては、プローブポイント601における信号波形の変化
が、プローブポイント602における信号波形の変化よ
りも先である状態を示している。As a third conventional example, a method of utilizing a signal propagation delay is used to collect signal waveforms at two points on the same wiring and the timing at which the signal waveform change occurs is the LSI side. There is a method of detecting which is on the mounting machine side first and extracting the input / output information. Figure 6
FIG. 4 is a partial conceptual block diagram showing an extracted example of a connecting portion between a measuring LSI and a mounting machine in the conventional example, in which two wirings are provided on the same wiring between the LSI 61 and the mounting machine 62. Two probe points 601 and 602 are set. This probe point 601 and 602
If the signal delay amount at is a measurable amount, it can be left as it is, but if the delay amount is so small that it is difficult to measure, it is possible to measure the timing at which the signal waveform changes. For example, as shown in FIG.
A delay circuit 63 is provided between the two probe points 601 and 602. As the delay circuit 63, it is necessary to use a delay circuit of a level that does not hinder the operation of the mounting machine 62 by inserting and connecting the delay circuit 63. Examples of signal waveforms at the probe points 601 and 602 when the mounting machine 62 is operated in this connection state are shown in FIGS. 7A and 7B, respectively. 7A and 7B, at the timings of and, the change of the signal waveform at the probe point 602 is
A state before the change of the signal waveform at 01 is shown, and at the timings of and, the change of the signal waveform at the probe point 601 is before the change of the signal waveform at the probe point 602. Shows.
【0007】図6において、実装機62の側からLSI
61の側に信号が入力される場合には、プローブポイン
ト602における信号の変化は、プローブポイント60
1における信号の変化よりも先に発生する。一方、LS
I61の側より実装機62に信号が出力される場合に
は、プローブポイント601における信号の変化は、プ
ローブポイント602における信号の変化よりも先に発
生する。これらの二つのプローブポイントにおける信号
の変化が、プローブポイント601および602のどち
らにおいて先に発生するかを検出して、その変化がプロ
ーブポイント601において先に検出される場合には出
力であると定義し、また、その変化がプローブポイント
602において先に検出される場合には入力であると定
義することにより、図7(c)に示されるように入出力
情報が抽出される。As shown in FIG.
When the signal is input to the side of 61, the change of the signal at the probe point 602 is
It occurs before the change in signal at 1. On the other hand, LS
When a signal is output from the I61 side to the mounter 62, the signal change at the probe point 601 occurs before the signal change at the probe point 602. Detect which of the probe points 601 and 602 the change in the signal at these two probe points occurs first, and if the change is detected first at the probe point 601, it is defined as an output. If the change is detected first at the probe point 602, the input / output information is extracted as shown in FIG. 7C by defining the input as input.
【0008】上記の第2および第3の従来例において
は、実装機自体の改造を必要とするとともに、LSIお
よび実装機に対する電源電圧およびGND電圧として、
それぞれ相互に異なる電圧を設定することを必要とする
という問題がある。また、第3の従来例においては、信
号波形の変化が生じたタイミングの測定を可能とするた
めに、LSIと実装機との間の遅延量を大きくし、これ
により、その遅延量が或レベルを超過すると、実装機の
正常動作を保持することが不可能な状態となるため、当
該遅延回路の遅延量による対応策には限度があり、これ
に対処するためには、非常に精度の高いタイミング差異
検出手段が要求されるという問題点が介在している。In the above-mentioned second and third conventional examples, the mounting machine itself needs to be modified, and the power supply voltage and the GND voltage for the LSI and the mounting machine are
There is a problem that it is necessary to set different voltages to each other. Further, in the third conventional example, in order to measure the timing at which the signal waveform changes, the delay amount between the LSI and the mounting machine is increased, whereby the delay amount is kept at a certain level. If it exceeds, it becomes impossible to maintain the normal operation of the mounting machine, so there is a limit to the countermeasures by the delay amount of the delay circuit, and in order to cope with this, it is very accurate. There is a problem that a timing difference detecting means is required.
【0009】これらの第1、第2および第3の従来例以
外の他の方法としては、特開昭64−78331号公報
の「テストパターン自動作成方式」において、採取した
データを全てLSIテスト用の入力パタンに変換し、L
SIテスタ上において入出力情報を抽出して入力パター
ンにフィ−ドバックして検査用テストパタ−ンを作成す
る方法が提案されている。図8(a)、(b)、(c)
および(d)は、上記提案による第4の従来例における
テストパターンへの変換過程の概要を示す図である。図
8においては、入力パターンは、その論理に従って
“0”または“1”として表示され、出力パターンは、
その期待値のHighレベル、Lowレベルおよびハイ
インピーダンスに対応して、それぞれ“H”、“L”お
よび“Z”として表示されている。また、図8における
パターンにおいては、横方向にはLSIの端子の並びが
とられ、縦方向には時系列に対応する配列が示されてい
る。As a method other than the first, second and third conventional examples, in the "test pattern automatic generation method" of Japanese Patent Laid-Open No. 64-78331, all the collected data are used for LSI test. To the input pattern of
A method has been proposed in which input / output information is extracted on an SI tester and fed back to an input pattern to create an inspection test pattern. 8 (a), (b), (c)
And (d) are diagrams showing an outline of a conversion process into a test pattern in the fourth conventional example proposed above. In FIG. 8, the input pattern is displayed as “0” or “1” according to its logic, and the output pattern is
Corresponding to the high level, low level and high impedance of the expected value, they are displayed as "H", "L" and "Z", respectively. Further, in the pattern in FIG. 8, the terminals of the LSI are arranged in the horizontal direction, and the arrangement corresponding to the time series is shown in the vertical direction.
【0010】まず、実装機を動作させて、図8(a)に
示されるような動作中のLSIのパターン801を採取
する。このパターン801は、図8(b)に示される入
力パターン802に変換される。このパターン802
は、図8に(b)に示されるように、パターン801に
おける“H”および“L”が、それぞれ“1”および
“0”に変換されて形成されるパターンである。ここに
おいて、ハイインピーダンス“Z”が正しいか否かが判
断され、次いで1ビットづつ出力パターンに変換され
る。図8(c)に示されるパターン803においては、
1パターン目の1チャネルのビット“0”が、入力パタ
ーン(パターン802)から出力パターン(パターン8
01)における“L”に戻されている。この状態におい
て、LSIテスタを用いて試験が行われ、PASSすれ
ば、1パターン目の1チャネルは出力であるものと判定
されて“L”として決定され、またFAILすれば、入
力であると判定されて“0”のパターンに決定される。
この手順を、指定されたチャネルの指定されたパターン
の範囲において繰返して実行することにより、図8
(d)に示されるような所望の検査用テストパターンを
得ることができ、入出力情報の抽出が可能となる。First, the mounting machine is operated to collect a pattern 801 of the operating LSI as shown in FIG. This pattern 801 is converted into the input pattern 802 shown in FIG. This pattern 802
Is a pattern formed by converting “H” and “L” in the pattern 801 into “1” and “0”, respectively, as shown in FIG. 8B. Here, it is judged whether or not the high impedance "Z" is correct, and then converted into an output pattern bit by bit. In the pattern 803 shown in FIG. 8C,
The bit “0” of channel 1 of the first pattern is changed from the input pattern (pattern 802) to the output pattern (pattern 8).
It has been returned to "L" in 01). In this state, a test is performed using an LSI tester, and if PASS, the first channel of the first pattern is determined to be an output and is determined as "L", and if FAIL, it is determined to be an input. Then, the pattern of "0" is determined.
By repeating this procedure in the range of the specified pattern of the specified channel,
A desired test pattern for inspection as shown in (d) can be obtained, and input / output information can be extracted.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のテスト
パターン作成方法においては、第1の従来例の場合に
は、実装機の作成者より入出力情報を受ける場合に、当
該作成者より提出される入出力情報の正確さによって、
作成されるテストパターンの品質が左右されるという問
題があるが、実際問題として、前記作成者には、パター
ン単位およびクロック単位にて正確に入出力情報を把握
することは極めて困難であり、結果的に、テストパター
ンの品質が保証され得ないという欠点がある。In the above-mentioned conventional test pattern creating method, in the case of the first conventional example, when the input / output information is received from the creator of the mounting machine, it is submitted by the creator. Depending on the accuracy of the input / output information
There is a problem that the quality of the created test pattern is affected, but as a practical matter, it is extremely difficult for the creator to accurately grasp input / output information in pattern units and clock units. In addition, the quality of the test pattern cannot be guaranteed.
【0012】また、実装機とLSIに設定される電源電
圧およびGND電圧に差異を設けて、この電位差を検出
して入出力情報を抽出する第2の従来例の場合には、実
装機の改造を必要とするとともに、電位差を正確に検出
することのできる高精度の検出器を必要とするという欠
点があり、また第3の従来例の場合には、同様に、実装
機の改造を必要とするとともに、当該実装機の正常動作
を保持する条件の下において、遅延時間を正確に検出す
ることのできる高精度の検出器を必要とするという欠点
がある。Further, in the case of the second conventional example in which the power supply voltage and the GND voltage set in the mounting machine and the LSI are provided and the potential difference is detected to extract the input / output information, the mounting machine is modified. And the need for a highly accurate detector capable of accurately detecting the potential difference, and in the case of the third conventional example, similarly, a mounting machine needs to be modified. In addition, there is a drawback in that a highly accurate detector capable of accurately detecting the delay time is required under the condition that the mounting machine is normally operated.
【0013】更に、採取された全パターンを入力パター
ンに変換して、LSIテスト上において入出力情報を抽
出する第4の従来例の場合には、1パターンごとに入力
パターンを出力パターンに変換し、PASS/FAIL
を判定して入出力情報を決定して抽出するという手順を
繰返して行う必要があるために、全パターンの入出力情
報を得るのに非常に多くの時間を要するという欠点があ
る。Further, in the case of the fourth conventional example in which all the collected patterns are converted into input patterns and the input / output information is extracted on the LSI test, the input patterns are converted into output patterns for each pattern. , PASS / FAIL
Since it is necessary to repeat the procedure of determining the input / output information and determining and extracting the input / output information, it takes a very long time to obtain the input / output information of all patterns.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明のテストパターン
作成方法は、被測定用半導体装置を搭載する実装機の動
作時に、前記半導体装置の端子における動作データを採
取し、当該動作デ−タを用いて前記被測定用半導体装置
を検査するLSIテスタ用の検査用テストパ−ンを作成
するテストパターン作成方法において、前記被測定用半
導体装置の端子における動作データを取得して、所定の
入力パターンを生成して保持するパターン生成手段と、
前記被測定用半導体装置の正常動作を維持するととも
に、当該半導体装置において電流測定用として指定され
た少なくとも一つ以上の特定の端子において、所定の入
力パターンの駆動入力により生じる入力電流および出力
電流の電流値に差を設けるために、電源電圧VDD、Hi
ghレベル入力電圧VIH、Lowレベル入力電圧VI
Lおよび接地電位VGを含む電圧を、VDD>VIH>V
IL>VGの関係により規定される電位レベルに設定し
て、前記半導体装置に送出する電圧設定手段と、前記パ
ターン生成手段より出力される入力パターンを受けて前
記特定の端子に印加することにより、当該特定の端子に
おいて生じる前記入力電流ならびに出力電流を測定し、
これらの入力電流と出力電流との差を検出して、前記入
力パターンにおけるPASS/FAILを判定して所定
のFAIL情報を抽出して保持する入出力情報抽出手段
とを備え、前記パターン生成手段において生成されるテ
スト用の入力パターンと、前記入出力情報抽出手段より
出力されるFAIL情報とを前記パターン生成手段にお
いて合成することにより、前記半導体装置に対応する検
査用テストパターンを作成することを特徴としている。A test pattern creating method of the present invention collects operation data at a terminal of the semiconductor device during operation of a mounting machine having a semiconductor device to be measured, and obtains the operation data. In a test pattern creating method for creating an inspection test pattern for an LSI tester for inspecting the semiconductor device for measurement using, operation data at a terminal of the semiconductor device for measurement is acquired, and a predetermined input pattern is obtained. Pattern generation means for generating and holding,
While maintaining normal operation of the semiconductor device to be measured, at least one or more specific terminals designated for current measurement in the semiconductor device, the input current and the output current generated by the drive input of a predetermined input pattern In order to provide a difference between the current values, the power supply voltages V DD , Hi
gh level input voltage VIH, low level input voltage VI
A voltage including L and the ground potential VG is set to V DD >VIH> V
By setting the potential level defined by the relationship of IL> VG and sending the voltage to the semiconductor device and the input pattern output from the pattern generation means and applying it to the specific terminal, Measuring the input current and the output current generated at the specific terminal,
An input / output information extraction unit that detects a difference between the input current and the output current, determines PASS / FAIL in the input pattern, extracts predetermined FAIL information, and holds the FAIL information. A test test pattern corresponding to the semiconductor device is created by synthesizing the generated test input pattern and the FAIL information output from the input / output information extraction unit in the pattern generation unit. I am trying.
【0015】なお、前記パターン生成手段としては、動
作状態にある被測定用半導体装置の端子をプロ−ビング
し、当該端子にける信号波形データを採取するロジック
・アナライザと、前記ロジック・アナライザより出力さ
れるデータを、テスト用の入力パターンに変換するデー
タ変換回路と、前記データ変換回路より出力される入力
パターンを逐次に入力して格納するデ−タ・メモリとを
備えて構成し、前記テスト用の入力パターンと前記入出
力情報抽出手段より出力されるFAIL情報とを前記デ
ータ変換回路において合成して、前記検査用テストパタ
ーンを作成するようにしてもよい。As the pattern generation means, a logic analyzer for probing a terminal of the semiconductor device under test in an operating state and collecting signal waveform data at the terminal, and an output from the logic analyzer A test data input circuit for converting the data to be input into a test input pattern, and a data memory for sequentially inputting and storing the input pattern output from the data conversion circuit. The input test pattern and the FAIL information output from the input / output information extraction means may be combined in the data conversion circuit to create the inspection test pattern.
【0016】また、前記入出力情報抽出手段としては、
前記パターン生成手段より出力されるテスト用の入力パ
ターンを受けて、動作状態にある前記被測定用半導体装
置の前記特定の端子に対する駆動用の入力パターンを出
力する入力パターン発生回路と、前記入力パターン発生
回路と、前記被測定用半導体装置の特定の端子に直接接
続されるLSIテスタ側の端子との間に挿入接続され、
前記駆動用の入力パターンにより、前記被測定用半導体
装置の特定の端子において発生する入力電流ならびに出
力電流の電流値を測定する電流測定回路と、前記電流測
定回路から出力される入力電流ならびに出力電流の電流
値を受けて、当該電流値を参照して前記入力パターンに
おけるPASS/FAILを判定して所定のFAIL情
報を抽出して出力するFAIL情報抽出回路と、前記F
AIL情報抽出回路より出力されるFAIL情報を入力
して格納するFAIL情報メモリとを備えて構成し、前
記FAIL情報メモリより出力されるFAIL情報を、
前記検査用テストパターンを合成するために前記入力パ
ターン生成手段に送出するようにしてもよい。As the input / output information extraction means,
An input pattern generation circuit for receiving a test input pattern output from the pattern generation means and outputting a drive input pattern for the specific terminal of the semiconductor device under test in an operating state; Inserted and connected between the generation circuit and a terminal of the LSI tester side directly connected to a specific terminal of the semiconductor device for measurement,
A current measuring circuit for measuring a current value of an input current and an output current generated at a specific terminal of the semiconductor device to be measured by the input pattern for driving, and an input current and an output current output from the current measuring circuit. A FAIL information extraction circuit that receives the current value of F, determines PASS / FAIL in the input pattern by referring to the current value, extracts predetermined FAIL information, and outputs the FAIL information;
A FAIL information memory for inputting and storing FAIL information output from the AIL information extraction circuit, and the FAIL information output from the FAIL information memory is
It may be sent to the input pattern generating means in order to synthesize the test pattern for inspection.
【0017】[0017]
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
【0018】図1は、被測定用LSIを含む実装機に対
応して形成される、本発明の一実施例の要部の部分シス
テム構成を示す概念ブロック図である。図1に示される
ように、実装機20内のLSI21に対応して、ロジッ
ク・アナライザ12、データ変換回路13、データメモ
リ14、入力パターン発生回路15、電圧設定回路1
6、電流測定回路17、FAIL情報抽出回路18およ
びFAIL情報メモリ19を備えて構成される。また、
図2は、本実施例におけるテストパターン作成の処理手
順を示すフローチャートであり、図3は、本実施例にお
いて、被測定用のLSI21とLSIテスタ11との間
において、FAIL情報を取得する際に、電流測定用と
して指定された入出力兼用端子36による接続部分の一
例を抽出して示した部分的な概念ブロック図で、電流計
31を含むLSIテスタ11と、MOSトランジスタ3
4および35を含むLSI21が、それぞれの入出力兼
用端子36および33を介して接続されている。以下、
図1、図2および図3を参照して、本実施例の動作につ
いて説明する。FIG. 1 is a conceptual block diagram showing a partial system configuration of an essential part of one embodiment of the present invention, which is formed corresponding to a mounting machine including an LSI to be measured. As shown in FIG. 1, the logic analyzer 12, the data conversion circuit 13, the data memory 14, the input pattern generation circuit 15, and the voltage setting circuit 1 are associated with the LSI 21 in the mounting machine 20.
6, a current measuring circuit 17, a FAIL information extracting circuit 18, and a FAIL information memory 19 are provided. Also,
FIG. 2 is a flow chart showing a processing procedure for creating a test pattern in this embodiment, and FIG. 3 is a diagram showing a procedure for acquiring FAIL information between the LSI to be measured 21 and the LSI tester 11 in this embodiment. FIG. 3 is a partial conceptual block diagram showing an extracted connection example of the input / output dual-purpose terminal 36 designated for current measurement, showing an LSI tester 11 including an ammeter 31 and a MOS transistor 3;
An LSI 21 including 4 and 35 is connected via respective input / output terminals 36 and 33. Less than,
The operation of this embodiment will be described with reference to FIGS. 1, 2 and 3.
【0019】図2におけるフローチャートにおいて、ス
テップ201においては、図1の実装機20に搭載され
ているLSI21の端子をプロービングして、ロジック
・アナライザ12により、当該LSI21の実動作時に
おける波形データが採取される。次いで、ステップ20
2においては、ロジック・アナライザ12により採取さ
れた波形データは、データ変換回路13に入力されて、
テストパターンとして使用される入力パターンに変換さ
れて出力され、データ・メモリ14に格納される。この
場合には、LSI21の全端子に対応する全入力パター
ンが生成されて、デ−タ・メモリ14に格納される。な
お、場合により、入力専用端子と入出力専用端子に対応
するパターンは入力パターンとして変換され、出力専用
端子パターンに対応するパターンは出力パターンとして
変換される。In the flowchart of FIG. 2, in step 201, the terminals of the LSI 21 mounted on the mounting machine 20 of FIG. 1 are probed, and the logic analyzer 12 collects the waveform data of the LSI 21 during actual operation. To be done. Then step 20
In 2, the waveform data collected by the logic analyzer 12 is input to the data conversion circuit 13,
It is converted into an input pattern used as a test pattern, output, and stored in the data memory 14. In this case, all input patterns corresponding to all terminals of the LSI 21 are generated and stored in the data memory 14. In some cases, the pattern corresponding to the input-only terminal and the input-output only terminal is converted as the input pattern, and the pattern corresponding to the output-only terminal pattern is converted as the output pattern.
【0020】ステップ203においては、LSIテスタ
11上におけるテスト条件が設定される。即ち、電圧設
定回路16においては、LSI21に供給される電圧と
して、電源電圧VDD、Highレベルの電圧VIH、L
owレベルの電圧VILおよびGNDレベルの電圧VG
を含む電圧が、VDD>VIH>VIL>VGとなるよう
に設定される、また電流測定時に必要とされるしきい値
が設定される。上記の設定電圧は、被測定用のLSI2
1が正常に動作する範囲内の電圧値であることが必要条
件であり、一例として、本実施例においては、VDD=5
V、VIH=4.5V、VIL=0.5V、VG=0V
となるように設定するものとする。LSI21における
入出力兼用端子が入力状態にある場合には、当該入出力
兼用端子はハイインピーダンスの状態にあり、当該端子
を介しては殆ど電流が流れない。逆に、入出力兼用端子
が出力状態にある場合には、VDDとVIHとの間の電位
差、またはVGとVILとの間の電位差により、出力バ
ッファを通して、当該入出力兼用端子に電流が流れる状
態となる。この場合における電流の差異を検出すること
が可能となるように、前述のしきい値が、電圧設定回路
17において設定されてLSI21に供給される。本実
施例においては、一例として、上限として10μA、下
限として−10μAのしきい値が設定される。この場合
には、当該しきい値の設定に際して、電流の向きに対し
ても十分な注意が必要である。In step 203, the test conditions on the LSI tester 11 are set. That is, in the voltage setting circuit 16, the power supply voltage V DD and the high-level voltages VIH and L are supplied to the LSI 21.
ow level voltage VIL and GND level voltage VG
Is set such that V DD >VIH>VIL> VG, and the threshold value required for current measurement is set. The above set voltage is the LSI2 to be measured.
It is a necessary condition that 1 is a voltage value within a range in which it normally operates. As an example, in this embodiment, V DD = 5
V, VIH = 4.5V, VIL = 0.5V, VG = 0V
Shall be set. When the input / output combined terminal in the LSI 21 is in the input state, the input / output combined terminal is in a high impedance state, and almost no current flows through the terminal. Conversely, when the input / output combined terminal is in the output state, a current flows through the output buffer to the input / output combined terminal due to the potential difference between V DD and VIH or the potential difference between VG and VIL. It becomes a state. The threshold value is set in the voltage setting circuit 17 and supplied to the LSI 21 so that the difference in current in this case can be detected. In the present embodiment, as an example, a threshold value of 10 μA is set as the upper limit and a threshold value of −10 μA is set as the lower limit. In this case, it is necessary to pay sufficient attention to the direction of current when setting the threshold value.
【0021】次に、ステップ204においては、LSI
21における電流測定用として使用されるべき入出力兼
用端子が指定される。この場合に、測定時に1回の測定
により全ての入出力兼用端子に対応する測定が可能であ
れば、全入出力兼用端子を指定してもよく、また全入出
力兼用端子に対応する測定が不可能であれば、電流測定
端子の指定と電流測定とを何回かに分けて繰返して行え
ばよい。ステップ205においては、前記ステップ20
3およびステップ204において設定された条件によ
り、ステップ202において作成されたテストパターン
を使用して、LSIテスタ11において電流測定が行わ
れる。この電流測定により、前記ステップ204におい
て電流測定端子として指定された入出力兼用端子におい
て、何パターン目においてFAILが発生したかという
FAIL情報が取得される。この場合のFAIL情報の
取得方法においては、図3に示されるように、LSIテ
スタ11から、電流測定端子として指定されたLSI2
1の入出力兼用端子36に対して、図3(b)に示され
るような入力波形が入力される。この入力波形は、図3
(b)に示されるように、VIH=4.5V、VIL=
0.5Vとなっている。入出力兼用端子36が入力状態
にある時には、MOSトランジスタ34および35は共
にOFFの状態となり、入出力兼用端子36はハイイン
ピーダンスの状態となっている。従って、VIHおよび
VILの何れの電圧レベルが入出力兼用端子36に印加
されても、当該端子には電流が流れない。一方、入出力
兼用端子36がHighレベル出力状態にある時には、
MOSトランジスタ34はONの状態となり、MOSト
ランジスタ35はOFFの状態となる。従って、入出力
兼用端子36に対する入力波形としてVIH=4.5V
が印加されると、VDD=5VとVIH=4.5Vの電位
差により、LSI21の側からLSIテスタ11の側に
対して電流が流れる。また、入出力兼用端子36がLo
wレベル出力状態にある時には、MOSトランジスタ3
4はOFFの状態となり、MOSトランジスタ35はO
Nの状態となる。これにより、入力波形としてVIL=
0.5Vが印加されると、VG=0VとVIL=0.5
Vの電位差により、LSIテスタ11の側からLSI2
1の側に対して電流が流れる。これらの2種類の電流
は、それぞれ電流計31(図1の電流測定回路17に含
まれる)により測定される。PASS/FAILの判定
は、FAIL情報抽出回路18において、この電流計3
1による2種類の電流測定値の差を検出することにより
判定される。なお、電圧設定回路16において設定され
る電流のしきい値は、電流測定回路17において前記電
流値の差異を効果的に検出することができるように設定
されており、本実施例においては、ステップ203にお
いて示した例と同様に、しきい値は10μAおよび−1
0μAとして設定され、測定された電流値が10μA以
下または−10μA以上ならばPASSであると判定さ
れ、それ以外ならばFAILであると判定される。この
ような条件設定によってLSI21に対する測定試験を
実行することにより、FAIL情報抽出回路18におい
ては、上述のように、PASS/FAILを判定するF
AIL情報が得られ、当該FAIL情報はFAIL情報
メモリ19に入力されて格納される。Next, in step 204, the LSI
An input / output terminal to be used for current measurement in 21 is designated. In this case, if it is possible to measure all the input / output terminals by one measurement at the time of measurement, all the input / output terminals may be designated, and the measurement corresponding to all the input / output terminals may be performed. If not possible, the current measurement terminal designation and the current measurement may be repeated several times. In Step 205, the Step 20
3 and the conditions set in step 204, the current is measured in the LSI tester 11 using the test pattern created in step 202. By this current measurement, FAIL information indicating in what pattern FAIL has occurred at the input / output combined terminal designated as the current measurement terminal in step 204 is acquired. In the FAIL information acquisition method in this case, as shown in FIG. 3, the LSI 2 designated by the LSI tester 11 as a current measurement terminal is used.
An input waveform as shown in FIG. 3B is input to the one input / output terminal 36. This input waveform is shown in Figure 3.
As shown in (b), VIH = 4.5V, VIL =
It is 0.5V. When the input / output combined terminal 36 is in the input state, both the MOS transistors 34 and 35 are in the OFF state, and the input / output combined terminal 36 is in the high impedance state. Therefore, no matter what voltage level of VIH or VIL is applied to the input / output combined terminal 36, no current flows in that terminal. On the other hand, when the I / O terminal 36 is in the High level output state,
The MOS transistor 34 is turned on and the MOS transistor 35 is turned off. Therefore, VIH = 4.5V as an input waveform to the input / output terminal 36
Is applied, a current flows from the LSI 21 side to the LSI tester 11 side due to the potential difference between V DD = 5V and VIH = 4.5V. Also, the input / output terminal 36 is Lo
When in the w level output state, the MOS transistor 3
4 is turned off, and the MOS transistor 35 is turned off.
The state becomes N. As a result, VIL =
When 0.5V is applied, VG = 0V and VIL = 0.5
Due to the potential difference of V, the LSI 2 from the LSI tester 11 side
Current flows to the 1 side. These two kinds of currents are respectively measured by the ammeter 31 (included in the current measuring circuit 17 of FIG. 1). The PASS / FAIL judgment is made in the FAIL information extraction circuit 18 by the ammeter 3
It is determined by detecting the difference between two types of current measurement values according to 1. The threshold value of the current set in the voltage setting circuit 16 is set so that the current measuring circuit 17 can effectively detect the difference in the current value. Similar to the example shown at 203, the thresholds are 10 μA and −1.
It is set as 0 μA, and if the measured current value is 10 μA or less or −10 μA or more, it is determined to be PASS, and otherwise it is determined to be FAIL. By executing the measurement test on the LSI 21 under such condition setting, the FAIL information extraction circuit 18 determines the PASS / FAIL F as described above.
AIL information is obtained, and the FAIL information is input and stored in the FAIL information memory 19.
【0022】ステップ206においては、ステップ20
5までの処理手順を終了した後において、なお他に測定
の対象とする入出力兼用端子があるか否かが判定され、
他に測定する端子が未だ存在する場合にはステップ20
4に戻り、ステップ204以降の処理手順が繰返して実
行される。またステップ206において他に測定対象の
入出力兼用端子が存在しない場合には本測定は終了し、
ステップ207に移行して、FAIL情報メモリ19よ
り出力されるFAIL情報はデータ変換回路13に帰還
入力される。データ変換回路13においては、実装機2
0に含まれるLSI21より採取され、データ変換回路
13において生成された入力パターンと当該FAIL情
報が付加されて、LSI21に対する検査用テストパタ
ーンが合成され、当該検査用テストパターンはデータ・
メモリ14に入力されて格納される。この検査用テスト
パターンは、作成後、LSIテスタにおけるLSIの動
作の良否判定が可能であることが確認された上で、始め
て所望の検査用テストパターンとして完成される。In step 206, step 20
After completing the processing steps up to 5, it is determined whether there is any other input / output terminal to be measured,
If there are other terminals to be measured, step 20
Returning to step 4, the processing procedure after step 204 is repeatedly executed. If there is no other input / output terminal to be measured in step 206, this measurement ends,
In step 207, the FAIL information output from the FAIL information memory 19 is fed back to the data conversion circuit 13. In the data conversion circuit 13, the mounting machine 2
0 is collected from the LSI 21 and the input pattern generated in the data conversion circuit 13 and the FAIL information are added to combine the test pattern for the LSI 21 with the test pattern.
It is input and stored in the memory 14. After the inspection test pattern is created, it is confirmed that it is possible to determine the quality of the LSI operation in the LSI tester, and then the inspection test pattern is first completed as a desired inspection test pattern.
【0023】即ち、本発明においては、被測定用のLS
I21が正常に動作する状態を確保し、且つ入出力兼用
端子における入力電流と出力電流の電流値に差を設ける
ために、電源電圧VDD、Highレベルの電圧VIH、
Lowレベルの電圧VILおよびGNDレベルの電圧V
Gを含む電圧を電圧設定回路16により設定してLSI
21に供給し、電流測定用として指定された入出力兼用
端子を通してLSI21に印加される入力パターンによ
り、当該入出力兼用端子を通して流れる電流を電流測定
回路17により測定することにより、FAIL情報抽出
回路18においてFAIL情報が抽出され、当該FAI
L情報をデータ変換回路13に帰還して入力パターンと
合成することにより、人手に依存することなく、また実
装機の改造および高精度の検出器の使用等を必要とする
ことなく、検査用テストパターンを作成することが可能
となり、なお且つ当該検査用テストパターンの作成に要
する時間を著しく短縮することができる。例えば、特開
昭64−78331号公報において提案されている前記
第4の従来例においては、1パターンごとに入出力を切
替えながらPASS/FAILを判定して入出力を決定
するために、所望のテストパターンを取得するまでには
非常に多くの時間が必要となる。一例として、実装機の
動作1sec間におけるデータを採取してテストパター
ンを作成する場合を考える。この場合にテストパターン
が100パターンあるものとすると、1パターンごとに
入力パターンを出力パターンに変換して、PASS/F
AILの判定を行って入出力を決定するという手順を1
00回繰返して行うことが必要となる。従って、所望の
テストパターンを得るためには、1sec×100=1
00secの時間を要することになる。That is, in the present invention, the LS to be measured is
In order to secure the normal operation state of I21 and to provide a difference between the input current and the output current at the I / O terminal, the power supply voltage V DD and the high-level voltage VIH,
Low level voltage VIL and GND level voltage V
The voltage including G is set by the voltage setting circuit 16 and the LSI
The FAIL information extraction circuit 18 is supplied to the FAIL information extraction circuit 18 by measuring the current flowing through the I / O terminal with the input pattern supplied to the LSI 21 through the I / O terminal designated for current measurement. FAIL information is extracted at
By returning the L information to the data conversion circuit 13 and synthesizing it with the input pattern, the test for inspection can be carried out without depending on manpower and without needing to modify the mounting machine or use a highly accurate detector. It is possible to create a pattern, and it is possible to significantly reduce the time required to create the test pattern for inspection. For example, in the fourth conventional example proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 64-78331, it is desirable to determine PASS / FAIL while determining input / output while switching input / output for each pattern. It takes a very long time to acquire the test pattern. As an example, consider a case where data is collected during 1 second of operation of the mounting machine to create a test pattern. In this case, assuming that there are 100 test patterns, the input pattern is converted into an output pattern for each pattern and the PASS / F
The procedure of determining the input / output by performing AIL judgment is 1
It is necessary to repeat it 00 times. Therefore, in order to obtain a desired test pattern, 1 sec × 100 = 1
It takes a time of 00 sec.
【0024】即ち、一連の全パターンの内で、被測定半
導体装置自身において行われる入出力の切替えが行われ
るタイミングが不明な状況にはあるものの、この状態に
おいても、第4の従来例においては論理試験が用いられ
ているために、なお1パターンごとに或パターンのみの
入出力切替えを行い、当該1パターンのみの論理試験に
よりPASS/FAILを判定することが必要となる。
従って、当該従来例においては、全パターン内に含まれ
る1パターンのそれぞれに対して同様の試験を繰返して
行う必要があり、上述のように、全パターンに亘りPA
SS/FAILの判定を行い、これにより所望のテスト
パターンを得るのには多大の時間を要することになる。That is, although the timing at which input / output switching is performed in the semiconductor device under test itself is unknown in the entire series of patterns, even in this state, in the fourth conventional example, Since the logic test is used, it is still necessary to switch the input / output of only one pattern for each pattern and determine PASS / FAIL by the logic test of only the one pattern.
Therefore, in the conventional example, it is necessary to repeat the same test for each of the one pattern included in all the patterns, and as described above, PA is applied to all the patterns.
It takes a lot of time to determine SS / FAIL and obtain a desired test pattern by this.
【0025】しかしながら、本発明においては、被測定
用半導体装置の入出力兼用端子ごとに電流を測定するこ
とができる手段をLSIテスタ内に備えることにより、
パターンごとの何らかの切替動作を一切伴なうことなく
試験を行うことが可能となり、全パターンに対応して1
回のみテストパターンを印加して対応する電流測定を行
うことにより、極めて短時間内に全パターンに対応する
テストパターンを得ることができる。例えば、上記の第
4の従来例において用いられている数値例を引用する場
合には、本発明においては、当該従来例による100s
ecの所要時間に対比して、1secにおいて所望のテ
ストパターンを取得することが可能となる。However, in the present invention, the LSI tester is provided with means capable of measuring a current for each input / output terminal of the semiconductor device to be measured,
Tests can be performed without any switching operation for each pattern.
By applying the test pattern only once and measuring the corresponding current, it is possible to obtain the test pattern corresponding to all the patterns within an extremely short time. For example, when citing the numerical examples used in the above-mentioned fourth conventional example, in the present invention, 100s according to the conventional example is cited.
It becomes possible to acquire a desired test pattern in 1 second as compared with the time required for ec.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、被測定
用LSIが正常に動作し、且つ入力電流と出力電流の電
流値に差を設けるために、電源電圧VDD、Highレベ
ルの電圧VIH、Lowレベルの電圧VILおよびGN
Dレベルの電圧VGを含む電圧を電圧設定回路により設
定してLSIに供給し、電流測定用として指定された入
出力兼用端子を通してLSIに印加される入力パターン
により、当該入出力兼用端子を通して流れる電流を電流
測定回路により測定し、当該電流の電流値における差異
を検出することにより、FAIL情報抽出回路において
抽出されたFAIL情報をデータ変換回路に帰還入力し
て、当該データ変換回路において入力パターンと合成す
ることにより、人手に依存することなく、また実装機の
改造および高精度の検出器の使用等をも必要とすること
なしに、検査用テストパターンを作成することができる
とともに、極めて短時間内に検査用テストパターンを作
成することができるという効果がある。As described above, according to the present invention, the power supply voltage V DD and the voltage at the high level are set in order that the LSI to be measured operates normally and the difference between the input current and the output current is provided. VIH, Low level voltage VIL and GN
The voltage including the voltage VG of the D level is set by the voltage setting circuit and supplied to the LSI, and the current flowing through the I / O terminal by the input pattern applied to the LSI through the I / O terminal designated for current measurement. Is measured by a current measuring circuit, and the difference in the current value of the current is detected, so that the FAIL information extracted by the FAIL information extracting circuit is fed back to the data converting circuit and combined with the input pattern in the data converting circuit. By doing so, it is possible to create a test pattern for inspection without depending on manpower, and without the need to modify the mounting machine or use a high-precision detector. In addition, there is an effect that a test pattern for inspection can be created.
【図1】本発明の一実施例を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
【図2】前記実施例のテストパターン作成のフローチャ
ートを示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a flow chart of test pattern creation in the embodiment.
【図3】前記実施例のLSI/LSIテスタ間の部分ブ
ロック図である。FIG. 3 is a partial block diagram between the LSI / LSI tester of the embodiment.
【図4】第2の従来例のLSI/実装機間の部分ブロッ
ク図である。FIG. 4 is a partial block diagram between an LSI / mounting machine of a second conventional example.
【図5】前記第2の従来例のLSI/実装機間の入出力
兼用端子における波形を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing waveforms at an input / output terminal between the LSI and the mounting machine of the second conventional example.
【図6】第3の従来例のLSI/実装機間の部分ブロッ
ク図である。FIG. 6 is a partial block diagram between an LSI / mounting machine of a third conventional example.
【図7】前記第3の従来例のLSI/実装機間の入出力
兼用端子における波形を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing waveforms at an input / output terminal between the LSI / mounting machine of the third conventional example.
【図8】第4の従来例のテストパターンへの変換過程を
示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a process of converting into a test pattern of a fourth conventional example.
11 LSIテスタ 12 ロジック・アナライザ 13 データ変換回路 14 データメモリ 15 入力パターン発生回路 16 電圧設定回路 17 電流測定回路 18 FAIL情報抽出回路 19 FAIL情報メモリ 20、42、62 実装機 21、41、61 LSI 31 電流計 32 出力バッファ 33、36、43、64、65 入出力兼用端子 34、35、44〜47 MOSトランジスタ 63 遅延回路 201 「実装機の動作パターンの吸い上げ」ステッ
プ 202 「全パターン入力パターンの変換」ステップ 203 「LSIテスタ上でのテスト条件の設定」ス
テップ 204 「電流測定端子(入出力兼用端子)の指定」
ステップ 205 「テスト→FAIL情報の取得」ステップ 206 「他に測定する端子があるか?」ステップ 207 「FAIL情報と入力パターンにより検査用
テストパターンの合成」ステップ11 LSI Tester 12 Logic Analyzer 13 Data Conversion Circuit 14 Data Memory 15 Input Pattern Generation Circuit 16 Voltage Setting Circuit 17 Current Measurement Circuit 18 FAIL Information Extraction Circuit 19 FAIL Information Memory 20, 42, 62 Mounting Machine 21, 41, 61 LSI 31 Ammeter 32 Output buffer 33, 36, 43, 64, 65 Input / output terminals 34, 35, 44 to 47 MOS transistor 63 Delay circuit 201 "Sucking up operation pattern of mounting machine" Step 202 "Conversion of all pattern input patterns" Step 203 "Set test conditions on LSI tester" Step 204 "Specify current measurement terminal (input / output terminal)"
Step 205 “Test → Acquisition of FAIL information” Step 206 “Are there other terminals to measure?” Step 207 “Composition of test pattern for inspection by FAIL information and input pattern” Step
Claims (3)
動作時に、前記半導体装置の端子における動作データを
採取し、当該動作デ−タを用いて前記被測定用半導体装
置を検査するLSIテスタ用の検査用テストパ−ンを作
成するテストパターン作成方法において、 前記被測定用半導体装置の端子における動作データを取
得して、所定の入力パターンを生成して保持するパター
ン生成手段と、 前記被測定用半導体装置の正常動作を維持するととも
に、当該半導体装置において電流測定用として指定され
た少なくとも一つ以上の特定の端子において、所定の入
力パターンの駆動入力により生じる入力電流および出力
電流の電流値に差を設けるために、電源電圧VDD、Hi
ghレベル入力電圧VIH、Lowレベル入力電圧VI
Lおよび接地電位VGを含む電圧を、VDD>VIH>V
IL>VGの関係により規定される電位レベルに設定し
て、前記半導体装置に送出する電圧設定手段と、 前記パターン生成手段より出力される入力パターンを受
けて前記特定の端子に印加することにより、当該特定の
端子において生じる前記入力電流ならびに出力電流を測
定し、これらの入力電流と出力電流との差を検出して、
前記入力パターンにおけるPASS/FAILを判定し
て所定のFAIL情報を抽出して保持する入出力情報抽
出手段と、 を備え、前記パターン生成手段において生成されるテス
ト用の入力パターンと、前記入出力情報抽出手段より出
力されるFAIL情報とを前記パターン生成手段におい
て合成することにより、前記半導体装置に対応する検査
用テストパターンを作成することを特徴とするテストパ
ターン作成方法。1. An LSI tester for collecting operation data at a terminal of the semiconductor device during operation of a mounting machine having the semiconductor device under test, and inspecting the semiconductor device under test using the operation data. In a test pattern creating method for creating a test pattern for inspection, a pattern generating means for acquiring operation data at a terminal of the semiconductor device to be measured and generating and retaining a predetermined input pattern, In addition to maintaining normal operation of the semiconductor device for use in the semiconductor device, at least one or more specific terminals designated for current measurement in the semiconductor device have a current value of an input current and an output current generated by driving input of a predetermined input pattern. In order to make a difference, the power supply voltages V DD , Hi
gh level input voltage VIH, low level input voltage VI
A voltage including L and the ground potential VG is set to V DD >VIH> V
By setting the potential level defined by the relationship of IL> VG and sending it to the semiconductor device, and receiving the input pattern output from the pattern generation means and applying it to the specific terminal, The input current and the output current generated at the specific terminal are measured, and the difference between these input current and output current is detected,
Input / output information extraction means for judging PASS / FAIL in the input pattern and extracting and holding predetermined FAIL information, and a test input pattern generated by the pattern generation means, and the input / output information A test pattern creating method characterized in that an inspection test pattern corresponding to the semiconductor device is created by synthesizing the FAIL information output from the extracting means with the pattern creating means.
る被測定用半導体装置の端子をプロ−ビングし、当該端
子にける信号波形データを採取するロジック・アナライ
ザと、 前記ロジック・アナライザより出力されるデータを、テ
スト用の入力パターンに変換するデータ変換回路と、 前記データ変換回路より出力される入力パターンを逐次
に入力して格納するデ−タ・メモリと、 を備えて構成され、前記テスト用の入力パターンと前記
入出力情報抽出手段より出力されるFAIL情報とを前
記データ変換回路において合成して、前記検査用テスト
パターンを作成するすることを特徴とする請求項1記載
のテストパターン作成方法。2. A logic analyzer for probing a terminal of a semiconductor device under test in an operating state and collecting signal waveform data at the terminal, the pattern generating means outputting the signal from the logic analyzer. Data conversion circuit for converting the data to be input into a test input pattern, and a data memory for sequentially inputting and storing the input pattern output from the data conversion circuit. 2. The test pattern creation according to claim 1, wherein said test pattern is created by synthesizing the input pattern for the test and the FAIL information output from said input / output information extraction means in said data conversion circuit. Method.
ン生成手段より出力されるテスト用の入力パターンを受
けて、動作状態にある前記被測定用半導体装置の前記特
定の端子に対する駆動用の入力パターンを出力する入力
パターン発生回路と、 前記入力パターン発生回路と、前記被測定用半導体装置
の特定の端子に直接接続されるLSIテスタ側の端子と
の間に挿入接続され、前記駆動用の入力パターンによ
り、前記被測定用半導体装置の特定の端子において発生
する入力電流ならびに出力電流の電流値を測定する電流
測定回路と、 前記電流測定回路から出力される入力電流ならびに出力
電流の電流値を受けて、当該電流値を参照して前記入力
パターンにおけるPASS/FAILを判定して所定の
FAIL情報を抽出して出力するFAIL情報抽出回路
と、 前記FAIL情報抽出回路より出力されるFAIL情報
を入力して格納するFAIL情報メモリと、 を備えて構成され、前記FAIL情報メモリより出力さ
れるFAIL情報を、前記検査用テストパターンを合成
するために前記入力パターン生成手段に送出することを
特徴とする請求項1記載のテストパターン作成方法。3. The input / output information extraction means receives a test input pattern output from the pattern generation means, and receives a drive input for the specific terminal of the semiconductor device under test in an operating state. An input pattern generating circuit that outputs a pattern, an input pattern generating circuit, and an input for driving that are inserted and connected between a terminal on the LSI tester side that is directly connected to a specific terminal of the semiconductor device under test. A pattern is used to receive a current measuring circuit that measures the input current and the output current value generated at a specific terminal of the semiconductor device to be measured, and the input current and the output current value output from the current measuring circuit. Then, referring to the current value, PASS / FAIL in the input pattern is determined, and predetermined FAIL information is extracted and output. An information extraction circuit; and a FAIL information memory for receiving and storing the FAIL information output from the FAIL information extraction circuit. The FAIL information output from the FAIL information memory is used as the inspection test pattern. 2. The test pattern creating method according to claim 1, wherein the test pattern creating means outputs the test pattern to the input pattern creating means.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6096394A JPH07306245A (en) | 1994-05-10 | 1994-05-10 | Formation of test pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6096394A JPH07306245A (en) | 1994-05-10 | 1994-05-10 | Formation of test pattern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07306245A true JPH07306245A (en) | 1995-11-21 |
Family
ID=14163749
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6096394A Pending JPH07306245A (en) | 1994-05-10 | 1994-05-10 | Formation of test pattern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07306245A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6617842B2 (en) | 1999-12-24 | 2003-09-09 | Nec Corporation | Semiconductor device testing method and system employing trace data |
-
1994
- 1994-05-10 JP JP6096394A patent/JPH07306245A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6617842B2 (en) | 1999-12-24 | 2003-09-09 | Nec Corporation | Semiconductor device testing method and system employing trace data |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990323 |