JPH07297264A - Detecting device of wafer position - Google Patents

Detecting device of wafer position

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JPH07297264A
JPH07297264A JP8422594A JP8422594A JPH07297264A JP H07297264 A JPH07297264 A JP H07297264A JP 8422594 A JP8422594 A JP 8422594A JP 8422594 A JP8422594 A JP 8422594A JP H07297264 A JPH07297264 A JP H07297264A
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JP
Japan
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wafer
sensor
carrier
position detecting
height
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Application number
JP8422594A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Toyoshima
毅 豊嶋
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH07297264A publication Critical patent/JPH07297264A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a device which can detect a wafer position vertically a horizontally to prevent a failure of transfer and to perform a normal transfer operation on transferring the wafer from a wafer carrier, by providing a sensor for height detection, a sensor for horizontal position detection and a drive mechanism being specific respectively. CONSTITUTION:A sensor 3 for height detection which moves vertically in relation to a wafer carrier for accommodating a plurality of wafers 8 in a horizontal state and thereby detects the position in a height direction of a prescribed wafer 8 accommodated by the wafer carrier is provided. Besides, a sensor 4 for horizontal position detection which so moves as to be inserted into a gap between the prescribed wafer 8 and the wafer positioned lower than this and thereby detects the position on the end face of the prescribed wafer 8 horizontally is provided. Moreover, a drive mechanism 2 for moving the two sensors 3 and 4 is provided. Both of the sensors 3 and 4 are made optical sensors detecting an emission light reflected from a material to be measured, for instance.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェハ自動移載
装置に係り、特にウェハの移載に必要な、ウェハキャリ
ア(ウェハ収納容器)内におけるウェハの3次元位置お
よび姿勢検出を行なうウェハ位置検出装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer automatic transfer apparatus, and more particularly to a wafer position for detecting the three-dimensional position and orientation of a wafer in a wafer carrier (wafer storage container), which is necessary for transferring a wafer. Regarding a detection device.

【0002】[0002]

【従来の技術】移載用ハンドを用いたウェハキャリアか
らのウェハの取り出し、格納の工程を自動化する際のハ
ンドの位置決め方法として、ウェハキャリア内における
ウェハの位置をセンサで検知し、その情報を元にハンド
を所望の位置に移動する方法がある。
2. Description of the Related Art As a hand positioning method for automating the process of taking out and storing a wafer from a wafer carrier using a transfer hand, the position of the wafer in the wafer carrier is detected by a sensor and the information is stored. There is a method of moving the hand to a desired position.

【0003】この方法を具体化した例としてのウェハ取
り出し収納装置を図3および図4に示す。図3におい
て、22はキャリアエレベータであって、ウェハキャリ
ア23を載せたキャリアテーブル25をモータ29によ
って正逆転される送りねじ27と、キャリアテーブル2
5に固定されたナット26から成る機構で上下に駆動す
る。ウェハキャリア23の両側内壁には上下方向に等間
隔に複数段のスロット23aが形成されており、これら
のそれぞれにウェハ24の両端が挿入されて支持される
ようになっている。上記キャリアテーブル25には光学
式センサ30が取り付けられ、テーブル25が昇降する
とき光学式センサ30のONまたはOFFを行なって位
置検出信号を発生させるスリット板31が設けられてい
る。
A wafer take-out / accommodation apparatus as an example embodying this method is shown in FIGS. In FIG. 3, reference numeral 22 denotes a carrier elevator, which is a carrier table 25 on which a wafer carrier 23 is placed and a feed screw 27 which is rotated in the forward and reverse directions by a motor 29 and a carrier table 2.
It is driven up and down by a mechanism composed of a nut 26 fixed to 5. A plurality of slots 23a are formed at equal intervals in the vertical direction on both inner walls of the wafer carrier 23, and both ends of the wafer 24 are inserted into and supported by the slots 23a, respectively. An optical sensor 30 is attached to the carrier table 25, and a slit plate 31 for generating a position detection signal by turning on or off the optical sensor 30 when the table 25 moves up and down is provided.

【0004】スリット板31には、図4に示すように、
ウェハキャリア23のスロット23aの1ピッチPに対
して2個のスリット31aが設けられており、例えば、
N段目上,N段目下というように、同一のスロット23
aに対して2箇所の位置検出信号が発生するようになっ
ている。
The slit plate 31, as shown in FIG.
Two slits 31a are provided for one pitch P of the slots 23a of the wafer carrier 23.
The same slot 23 such as N-stage upper and N-stage lower
Two position detection signals are generated with respect to a.

【0005】図3に示す32は、矢印A方向(水平方
向)に摺動可能な吸着アームで、バキュームホース33
が接続されており、吸着アーム32先端部の小孔32a
を負圧にしてウェハ24に対する吸着力を発生するよう
になっている。この吸着アーム32は、ウェハキャリア
23の隣接するスロット23a,23a間に挿脱されて
ウェハ24を取り出したり、収納したりする。
Reference numeral 32 shown in FIG. 3 is a suction arm slidable in the direction of arrow A (horizontal direction).
Is connected to the small hole 32a at the tip of the suction arm 32.
Is set to a negative pressure to generate a suction force for the wafer 24. The suction arm 32 is inserted / removed between the adjacent slots 23a, 23a of the wafer carrier 23 to take out or store the wafer 24.

【0006】そして、この吸着アーム32とウェハキャ
リア23の相対位置は、N段目上の位置検出信号を受け
てウェハキャリア23が停止したときはN段目のスロッ
ト23aに支持されたウェハ24の下面が吸着アーム3
2の上面よりも高い位置になり、N段目下の位置検出信
号を受けてウェハキャリア23が停止したときはN段目
のスロット23aに支持されたウェハ24の下面が吸着
アーム32の上面よりも低い位置になるように設定され
ている。
The relative position between the suction arm 32 and the wafer carrier 23 is that of the wafer 24 supported by the slot 23a at the Nth stage when the wafer carrier 23 stops upon receiving the position detection signal at the Nth stage. The bottom surface is the suction arm 3.
When the wafer carrier 23 stops at the position higher than the upper surface of No. 2 and receives the position detection signal of the Nth lower stage, the lower surface of the wafer 24 supported by the Nth slot 23a is higher than the upper surface of the suction arm 32. It is set to a low position.

【0007】上記のように構成されたウェハ取り出し収
納装置の動作について以下に説明する。
The operation of the wafer take-out / accommodation device configured as described above will be described below.

【0008】すなわち、ウェハキャリア23内からN段
目のウェハ24を取り出す場合は、図示しない制御回路
により、キャリアエレベータ22を制御してウェハキャ
リア23を上昇または下降させ、光学式センサ30がN
段目下の位置を検出したときそこでウェハキャリア23
を一旦停止させる。続いてウェハキャリア23を上昇さ
せ、光学式センサ30がN段目上の位置を検出したとき
再停止させ、吸着アーム32をN段目のウェハ24の下
側に挿入する。次に、ウェハキャリア23を下降させ、
光学式センサ30がN段目下の位置を検出したとき停止
させることにより、N段目のウェハ24を吸着アーム3
2の上に乗せ、続いて吸着アーム32の負圧をONにし
てウェハ24を吸着し、その後、吸着アーム32をウェ
ハキャリア23外へ引き出す。このようにして、N段目
のウェハ24の取り出しが完了する。
That is, when the Nth stage wafer 24 is taken out from the wafer carrier 23, the carrier elevator 22 is controlled by a control circuit (not shown) to raise or lower the wafer carrier 23 so that the optical sensor 30 operates at N level.
When the position below the step is detected, the wafer carrier 23
Stop once. Subsequently, the wafer carrier 23 is raised, and is stopped again when the optical sensor 30 detects the position on the Nth stage, and the suction arm 32 is inserted below the wafer 24 on the Nth stage. Next, the wafer carrier 23 is lowered,
When the optical sensor 30 detects the position of the Nth lower stage, it is stopped so that the wafer 24 of the Nth stage is sucked by the suction arm 3.
2, the negative pressure of the suction arm 32 is turned on to suck the wafer 24, and then the suction arm 32 is pulled out of the wafer carrier 23. In this way, the taking out of the Nth stage wafer 24 is completed.

【0009】また、ウェハキャリア23内のN段目のス
ロット23aへウェハ24を収納する場合は、上記と同
様にしてウェハキャリア23を上昇または下降させ、N
段目上の位置で一旦ウェハキャリア23を停止させ、続
いてウェハキャリア23を下降させてN段目下の位置で
再停止させ、ウェハ24を吸着している吸着アーム32
をN段目のスロット23aの上側に挿入し、更に、吸着
アーム32の負圧をOFFにする。次に、ウェハキャリ
ア23を上昇させてN段目上の位置で停止させることに
より、ウェハ24をN段目のスロット23aに乗せ、そ
の後、吸着アーム32をウェハキャリア23外へ引き出
す。このようにして、N段目のスロット23aへのウェ
ハ24の収納が完了する。
When the wafer 24 is to be stored in the N-th slot 23a in the wafer carrier 23, the wafer carrier 23 is raised or lowered in the same manner as above.
The wafer carrier 23 is once stopped at the position above the stage, and then the wafer carrier 23 is lowered and stopped again at the position below the N stage, and the suction arm 32 that sucks the wafer 24 is held.
Is inserted into the upper side of the slot 23a of the Nth stage, and the negative pressure of the suction arm 32 is turned off. Next, the wafer carrier 23 is lifted and stopped at a position above the Nth stage, so that the wafer 24 is placed in the slot 23a at the Nth stage, and then the suction arm 32 is pulled out of the wafer carrier 23. In this way, the storage of the wafer 24 in the N-th slot 23a is completed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の方法では、
位置検出サンサを用いて決定できるのは、正確には吸着
アーム32とウェハキャリア23の位置関係であり、ウ
ェハキャリア23のスロット23aによって支持されて
いるウェハ24がウェハキャリア23内でどのような位
置,姿勢にあるのかを検知することはできない。
SUMMARY OF THE INVENTION In the above conventional method,
Accurately, it is possible to determine the positional relationship between the suction arm 32 and the wafer carrier 23 by using the position detection sensor. What position the wafer 24 supported by the slot 23 a of the wafer carrier 23 in the wafer carrier 23 can be determined. , It is not possible to detect whether it is in the posture.

【0011】したがって、ウェハ移載の際にウェハ24
に対する吸着アーム32の位置決めは、ウェハキャリア
23に対して行なわれており、ウェハキャリア内におけ
るウェハの位置ずれや傾斜については考慮していない。
このため、ウェハの搬出・搬入の際にキャリアの支持ス
ロットとの間の摩擦によるウェハの位置ずれなどによ
り、正確な移載動作を行なえない場合があった。
Therefore, the wafer 24 is transferred when the wafer is transferred.
The positioning of the suction arm 32 with respect to the wafer carrier 23 is performed with respect to the wafer carrier 23, and the positional deviation and inclination of the wafer in the wafer carrier are not taken into consideration.
For this reason, when the wafer is unloaded and loaded, there are cases where the wafer cannot be accurately transferred due to the displacement of the wafer due to friction with the support slot of the carrier.

【0012】また、上記のウェハ取り出し収納装置で
は、ウェハキャリア23に対応した位置検出のための特
別の駆動装置(キャリアエレベータ22)も必要であ
り、装置のコストならびに汎用性の面からも問題があ
る。
Further, in the above-mentioned wafer take-out / accommodation device, a special drive device (carrier elevator 22) for position detection corresponding to the wafer carrier 23 is also required, which causes a problem in terms of cost and versatility of the device. is there.

【0013】そこで本発明は、ウェハキャリアからウェ
ハを移載する際の移載の失敗を防ぎ、正常な移載動作を
行なうために、ウェハキャリアに格納されたウェハの高
さ方向の位置および水平方向の位置をそれぞれ検出する
ことができるウェハ位置検出装置を提供することを目的
とする。
Therefore, according to the present invention, in order to prevent a transfer failure at the time of transferring a wafer from the wafer carrier and to perform a normal transfer operation, the position of the wafer stored in the wafer carrier in the height direction and the horizontal direction. An object of the present invention is to provide a wafer position detecting device that can detect the position in each direction.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明のウェハ位置検出
装置は、複数のウェハを水平状態で格納するためのウェ
ハキャリアに対して上下方向に移動することによりウェ
ハキャリアに格納された所定のウェハの高さ方向の位置
を検出する高さ検出用センサと、前記所定のウェハとそ
の下段のウェハとの隙間に挿入するように移動すること
により前記所定のウェハの端面上の水平方向の位置を検
出する水平方向位置検出用センサとこれら2つのセンサ
を移動させるための駆動機構とを具備したことを特徴と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION A wafer position detecting device of the present invention is a predetermined wafer stored in a wafer carrier by vertically moving a wafer carrier for storing a plurality of wafers in a horizontal state. A sensor for height detection that detects the position in the height direction of the wafer, and the horizontal position on the end face of the predetermined wafer by moving so as to be inserted into the gap between the predetermined wafer and the lower wafer. It is characterized by comprising a horizontal position detecting sensor for detecting and a drive mechanism for moving these two sensors.

【0015】また、本発明のウェハ位置検出装置は、水
平方向位置検出用センサが所定のウェハの端面上の3点
の位置を検出するようにしたことを特徴とする。
Further, the wafer position detecting device of the present invention is characterized in that the horizontal position detecting sensor detects the positions of three points on the end face of a predetermined wafer.

【0016】また、本発明のウェハ位置検出装置は、高
さ検出用センサおよび水平方向位置検出用センサが共に
出射光の被測定物からの反射光を検出する光学式センサ
であることを特徴とする。
Further, the wafer position detecting device of the present invention is characterized in that both the height detecting sensor and the horizontal position detecting sensor are optical sensors for detecting the reflected light of the emitted light from the object to be measured. To do.

【0017】また、本発明のウェハ位置検出装置は、高
さ検出用センサが検出方向を水平に指向し、水平方向位
置検出用センサが検出方向を鉛直に指向して1個の架台
に組み込まれ、センサモジュールを構成していることを
特徴とする。
Further, in the wafer position detecting apparatus of the present invention, the height detecting sensor is oriented horizontally in the detecting direction, and the horizontal position detecting sensor is oriented vertically in the detecting direction and is incorporated in one pedestal. , A sensor module is configured.

【0018】また、本発明のウェハ位置検出装置は、セ
ンサモジュールをロボットアームにより上下方向および
水平方向に移動させることを特徴とする。
Further, the wafer position detecting apparatus of the present invention is characterized in that the sensor module is moved vertically and horizontally by a robot arm.

【0019】[0019]

【作用】本発明のウェハ位置検出装置においては、駆動
機構によって高さ検出用センサをウェハキャリアに対し
て上下方向に移動する。高さ検出用センサとして光学式
センサを用いることで、センサはウェハによる反射光を
検出することにより、その位置におけるウェハの有無を
判別する。かくして特定のウェハの高さ方向の位置が検
出される。
In the wafer position detecting apparatus of the present invention, the height detecting sensor is moved vertically with respect to the wafer carrier by the driving mechanism. By using an optical sensor as the height detection sensor, the sensor determines the presence or absence of the wafer at that position by detecting the reflected light from the wafer. Thus, the position of the specific wafer in the height direction is detected.

【0020】次に、駆動機構によって水平方向位置検出
用センサをウェハに対し水平に動かしてこのセンサを前
記特定のウェハとその下段のウェハとの隙間に挿入する
ように移動させる。このとき、水平方向位置検出用セン
サとして光学式センサを用いることにより、この光学式
センサからの鉛直上向きの出射光が、ウェハの端面をよ
ぎるときに、その端面からの反射光をセンサが検出し、
この特定のウェハの水平方向の位置を検知することがで
きる。
Next, the horizontal position detecting sensor is moved horizontally with respect to the wafer by the driving mechanism, and this sensor is moved so as to be inserted into the gap between the specific wafer and the lower wafer. At this time, by using an optical sensor as the horizontal position detection sensor, when the vertically upward emitted light from this optical sensor crosses the end face of the wafer, the sensor detects the reflected light from the end face. ,
The horizontal position of this particular wafer can be detected.

【0021】上記の検出動作を特定のウェハ上の合計3
点について実行することで、3組の3次元位置データを
得ることができる。一般に、平面の位置は、この平面上
の3点の位置を与えることで一意に決まるので、この方
法により得られるデータを用いれば、ウェハキャリアに
支持されたウェハの水平方向の位置と傾きを知ることが
できる。
The above detection operation is performed for a total of 3 on a specific wafer.
By executing on the points, three sets of three-dimensional position data can be obtained. In general, the position of the plane is uniquely determined by giving the positions of three points on this plane, and thus the data obtained by this method can be used to know the horizontal position and tilt of the wafer supported by the wafer carrier. be able to.

【0022】また、本発明のウェハ位置検出装置におい
ては、高さ検出用センサと水平方向位置検出用センサが
1個の架台に組み込まれてセンサモジュールを構成する
ことにより、駆動機構が1台ですみ、コスト低減を可能
にする。
Further, in the wafer position detecting device of the present invention, the height detecting sensor and the horizontal position detecting sensor are incorporated in one mount to constitute a sensor module, so that one drive mechanism is provided. It enables cost reduction.

【0023】また、本発明のウェハ位置検出装置におい
ては、高さ検出用センサと水平方向位置検出用センサを
センサモジュールに構成し、このセンサモジュールをロ
ボットアームで上下および水平の両方向に移動させるこ
とにより、センサモジュールと駆動機構との結合が簡素
化され、信頼性の向上につながる。
Further, in the wafer position detecting apparatus of the present invention, the height detecting sensor and the horizontal position detecting sensor are formed in a sensor module, and the sensor module is moved vertically and horizontally by the robot arm. As a result, the coupling between the sensor module and the drive mechanism is simplified, and the reliability is improved.

【0024】[0024]

【実施例】以下、図面に示した実施例に基いて本発明を
詳細に説明する。
The present invention will be described in detail below with reference to the embodiments shown in the drawings.

【0025】本発明の一実施例のウェハ位置検出装置を
図1(a),(b)に示す。図1(a)に示すように、
本発明の一実施例のウェハ位置検出装置は、ウェハの位
置・姿勢を3次元データとして検出するためのセンサモ
ジュール1、およびセンサモジュール1を測定位置に移
動するためロボットアーム2から構成されている。
A wafer position detector according to an embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). As shown in FIG.
A wafer position detecting device according to an embodiment of the present invention includes a sensor module 1 for detecting the position / orientation of a wafer as three-dimensional data, and a robot arm 2 for moving the sensor module 1 to a measurement position. .

【0026】センサモジュール1は、図1(b)に示す
ように、ウェハキャリア内に水平に支持されているウェ
ハ8の高さ方向の位置を検出するための光学式の高さ検
出用センサ3と、ウェハ8の端面の水平方向の位置を検
出するための光学式の水平方向位置検出用センサ4とが
1個の架台5に組み込まれ、この架台5が長方形状のプ
レート6の一端寄り上面に取り付けられた構成になって
いる。
As shown in FIG. 1B, the sensor module 1 is an optical height detecting sensor 3 for detecting the position in the height direction of the wafer 8 horizontally supported in the wafer carrier. And an optical horizontal position detection sensor 4 for detecting the horizontal position of the end face of the wafer 8 are incorporated in one pedestal 5, and this pedestal 5 is an upper surface near one end of a rectangular plate 6. It is configured to be attached to.

【0027】光学式の高さ検出用センサ3は、光源から
の出射光の被測定物からの反射光を受光素子で検出する
構成になっていて、検出方向を水平に指向して架台5に
取り付けられている。
The optical height detecting sensor 3 has a structure in which a light receiving element detects the reflected light of the emitted light from the light source from the object to be measured, and the detection direction is directed horizontally to the gantry 5. It is installed.

【0028】また、光学式の水平方向位置検出用センサ
4は、棒状で、その先端部上面に光源からの光の出射口
および被測定物からの反射光を受光して受光素子へ導く
受光口が配置された構成になっていて、検出方向を鉛直
上方に指向し、且つ高さ検出用センサ3の検出指向線と
所要寸法だけ下へ離間し、棒状のセンサ本体が水平を保
つように架台5の下部に取り付けられている。
Further, the optical horizontal position detecting sensor 4 is rod-shaped and has a light emitting port for emitting light from the light source and a light receiving port for guiding reflected light from the object to be measured to the light receiving element on the upper surface of the tip end thereof. Is arranged so that the detection direction is directed vertically upward and is separated from the detection directivity line of the height detection sensor 3 by a required dimension downward, so that the rod-shaped sensor main body is kept horizontal. It is attached to the bottom of 5.

【0029】ロボットアーム2は、その作動ロッド2a
がセンサモジュール1のプレート6の一端寄り上面に結
合されてセンサモジュール1を保持しており、センサモ
ジュール1の水平面内のX,Y方向の移動および回動
と、高さ方向の移動とを行なわせることができる。
The robot arm 2 has its operating rod 2a.
Is coupled to the upper surface of the plate 6 of the sensor module 1 near one end and holds the sensor module 1, and performs movement and rotation in the X and Y directions in the horizontal plane of the sensor module 1 and movement in the height direction. Can be made.

【0030】次に、上記のように構成された本発明の一
実施例のウェハ位置検出装置の作用を以下に説明する。
Next, the operation of the wafer position detecting apparatus according to the embodiment of the present invention constructed as described above will be described below.

【0031】まず、ロボットアーム2によって、センサ
モジュール1を図2(a)に示すウェハキャリア7に対
して上下方向に移動する。この際、高さ検出用センサ3
はウェハキャリア7内のウェハ8による反射光を検出す
ることにより、その位置におけるウェハの有無を判断す
る。かくして、所望の特定ウェハ8の高さ方向の位置が
検出される。
First, the robot arm 2 moves the sensor module 1 vertically with respect to the wafer carrier 7 shown in FIG. At this time, the height detecting sensor 3
Detects the light reflected by the wafer 8 in the wafer carrier 7 to determine the presence / absence of a wafer at that position. Thus, the desired position of the specific wafer 8 in the height direction is detected.

【0032】次に、ロボットアーム2を前記特定のウェ
ハ8に対し水平に動かして、図2(b)に示すように、
水平方向位置検出用センサ4を前記特定のウェハ8とそ
の下段のウェハとの隙間に挿入するように移動させる。
この移動中、水平方向位置検出用センサ4からの鉛直上
向きの出射光が、ウェハ8の端面をよぎるときに、その
端面からの反射光をセンサ4が検出し、この特定のウェ
ハ8の水平方向の位置を検出することができる。
Next, the robot arm 2 is moved horizontally with respect to the specific wafer 8 and, as shown in FIG.
The horizontal position detecting sensor 4 is moved so as to be inserted into the gap between the specific wafer 8 and the lower wafer.
During this movement, when the vertically upward emitted light from the horizontal position detecting sensor 4 crosses the end face of the wafer 8, the sensor 4 detects the reflected light from the end face, and the horizontal direction of this specific wafer 8 is detected. The position of can be detected.

【0033】上記の検出動作を特定のウェハ8上の複数
の点、例えば合計3点について実行することで、3組の
3次元位置データを得ることができる。一般に、平面の
位置は、この平面上の3点の位置を与えることで一意に
決まるので、この方法により得られるデータを用いれ
ば、ウェハキャリア7に支持された特定のウェハ8の水
平方向の位置と、高さ方向における位置の不同、すなわ
ちウェハ8の傾きを知ることができる。
By performing the above-described detection operation on a plurality of points on the specific wafer 8, for example, a total of three points, three sets of three-dimensional position data can be obtained. In general, the position of the plane is uniquely determined by giving the positions of three points on this plane. Therefore, using the data obtained by this method, the horizontal position of the specific wafer 8 supported by the wafer carrier 7 is used. Then, it is possible to know the non-uniformity of the position in the height direction, that is, the inclination of the wafer 8.

【0034】本発明の一実施例のウェハ位置検出装置に
よれば、移載対象である所定のウェハ8の3次元位置デ
ータをもとに、ウェハ8の位置,姿勢を計測し、これに
基いて移載用のハンド(図3における吸着アーム32)
の位置決めをするので、ウェハの位置ずれや傾斜に対応
することができ、正確な移載を可能にする。
According to the wafer position detecting apparatus of one embodiment of the present invention, the position and orientation of the wafer 8 are measured based on the three-dimensional position data of the predetermined wafer 8 to be transferred, Hand for transfer (suction arm 32 in FIG. 3)
Since the positioning is performed, it is possible to cope with the positional deviation and the inclination of the wafer, which enables accurate transfer.

【0035】また、このウェハ位置検出装置を用いれ
ば、ウェハキャリア7側には特別の機構(図3における
キャリアエレベータ22など)を要しないので、どのよ
うなウェハキャリアに対しても対応できることになり、
従来技術には無い利点である。なお、本発明は上述した
実施例に限らず、次のように変形して実施できる。
Further, if this wafer position detecting device is used, no special mechanism (the carrier elevator 22 in FIG. 3 or the like) is required on the wafer carrier 7 side, so that it can be applied to any wafer carrier. ,
This is an advantage that the prior art does not have. The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be modified and implemented as follows.

【0036】(1)センサモジュール1の移動機構とし
ては、ロボットアーム2に限らず、センサモジュール1
の位置,方向を変えられる他の機構でもよい。
(1) The moving mechanism of the sensor module 1 is not limited to the robot arm 2, but the sensor module 1
Other mechanisms capable of changing the position and direction of the may be used.

【0037】(2)図1の実施例では、高さ検出用セン
サ3と水平方向位置検出用センサ4は、どちらもセンサ
モジュール2に取り付けられ、同一の駆動装置で移動す
るが、2つのセンサをモジュールにはしないで独立さ
せ、それぞれ別の駆動機構で動かすようにしてもよい。
(2) In the embodiment of FIG. 1, both the height detecting sensor 3 and the horizontal position detecting sensor 4 are attached to the sensor module 2 and moved by the same driving device, but two sensors are used. May be independent of each other and may be driven by different driving mechanisms.

【0038】(3)図1の実施例では、高さ検出用セン
サ3によりウェハ8の高さを検出した後に、水平方向位
置検出用センサ4により水平方向の位置を検出している
が、必ずしもこの手順である必要はない。ウェハ8の高
さがおおよそ分かっている場合には、センサ4、センサ
3の順に操作することも可能である。
(3) In the embodiment shown in FIG. 1, after the height detecting sensor 3 detects the height of the wafer 8, the horizontal position detecting sensor 4 detects the horizontal position. It need not be this procedure. When the height of the wafer 8 is roughly known, it is possible to operate the sensor 4 and the sensor 3 in this order.

【0039】(4)位置,姿勢を検出したいウェハの下
部に隙間が無い場合は、水平方向位置検出用センサ4を
センサモジュールの上部に取り付ければ対応可能であ
る。
(4) If there is no gap in the lower part of the wafer for which the position and orientation are to be detected, the horizontal position detecting sensor 4 can be mounted on the upper part of the sensor module.

【0040】(5)本発明のウェハ位置検出装置は、移
載装置以外にも、階層状に格納されているウェハの間に
センサを挿入できる隙間がある場合には、同様な構成で
対応できる。
(5) In addition to the transfer device, the wafer position detecting device of the present invention can be adapted with a similar structure when there is a gap into which a sensor can be inserted between wafers stored in a hierarchical manner. .

【0041】[0041]

【発明の効果】以上詳述したように本発明のウェハ位置
検出装置によれば、高さ検出用センサによりウェハの高
さ方向の位置を検出し、さらに水平方向位置検出用セン
サによりウェハの水平方向の位置を検出する検出動作を
対象とするウェハ上の3点について実行することで、移
載対象であるウェハの3次元位置データをもとに、ウェ
ハの位置,姿勢を計測し、これに基いて移載用のハンド
(吸着アーム)の位置決めをするので、ウェハの位置ず
れや傾斜に対応することができ、ハンドの位置決めをウ
ェハキャリアに対して行なっていた従来技術に比べて、
正確な移載を可能にする。
As described above in detail, according to the wafer position detecting apparatus of the present invention, the height detecting sensor detects the position of the wafer in the height direction, and the horizontal position detecting sensor detects the horizontal position of the wafer. By performing the detection operation for detecting the position in the direction for three points on the wafer, the position and orientation of the wafer are measured based on the three-dimensional position data of the wafer to be transferred, and Since the transfer hand (suction arm) is positioned on the basis of this, it is possible to cope with the positional deviation and inclination of the wafer, and compared with the conventional technique in which the hand is positioned with respect to the wafer carrier.
Enables accurate transfer.

【0042】また、本発明のウェハ位置検出装置を用い
れば、ウェハキャリア側には特別の機構(キャリアエレ
ベータなど)を要しないので、どのようなウェハキャリ
アに対しても対応できることになり、従来技術には無い
利点である。
Further, if the wafer position detecting apparatus of the present invention is used, no special mechanism (carrier elevator or the like) is required on the wafer carrier side, so that it can be applied to any wafer carrier. This is an advantage that does not exist.

【0043】また、本発明のウェハ位置検出装置は、高
さ検出用センサと水平方向位置検出用センサが1個の架
台に組み込まれてセンサモジュールを構成することによ
り、駆動機構が1台ですみ、コスト低減を可能にする。
In the wafer position detecting device of the present invention, the height detecting sensor and the horizontal position detecting sensor are incorporated in one mount to form a sensor module, so that only one drive mechanism is required. Enables cost reduction.

【0044】また、本発明のウェハ位置検出装置は、高
さ検出用センサと水平方向位置検出用センサをセンサモ
ジュールに構成し、このセンサモジュールをロボットア
ームにより上下および水平の両方向に移動させることに
より、センサモジュールと駆動機構との結合が簡素化さ
れ、コスト低減ならびに信頼性の向上につながる。
Further, in the wafer position detecting device of the present invention, the height detecting sensor and the horizontal position detecting sensor are formed in the sensor module, and the sensor module is moved in both the vertical and horizontal directions by the robot arm. The connection between the sensor module and the drive mechanism is simplified, which leads to cost reduction and improved reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は本発明の一実施例のウェハ位置検出装置
を示し、図1(a)は全体を示す斜視図であり、図1
(b)は図1(a)のA部を拡大して示す斜視図であ
る。
FIG. 1 shows a wafer position detecting device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1 (a) is a perspective view showing the whole.
FIG. 1B is a perspective view showing an enlarged part A of FIG.

【図2】図2は図1のウェハ位置検出装置での検出動作
を説明する図で、図2(a)は高さ検出動作を示す斜視
図であり、図2(b)は水平方向位置検出動作を示す斜
視図である。
2A and 2B are views for explaining a detection operation in the wafer position detection apparatus of FIG. 1, FIG. 2A is a perspective view showing a height detection operation, and FIG. 2B is a horizontal position. It is a perspective view which shows a detection operation.

【図3】従来のウェハ取り出し収納装置の要部を示す斜
視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a main part of a conventional wafer unloading and storing apparatus.

【図4】図3のウェハ取り出し収納装置におけるスリッ
ト板の要部側面図である。
FIG. 4 is a side view of a main part of a slit plate in the wafer takeout / accommodation device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…センサモジュール 2…ロボットアーム 3…高さ検出用センサ 4…水平方向位置検出用センサ 5…架台 6…プレート 7…ウェハキャリア 8…ウェハ 22…キャリアエレベータ 23…ウェハキャリア 24…ウェハ 25…キャリアテーブル 30…光学式センサ 31…スリット板 32…吸着アーム 1 ... Sensor module 2 ... Robot arm 3 ... Height detection sensor 4 ... Horizontal position detection sensor 5 ... Stand 6 ... Plate 7 ... Wafer carrier 8 ... Wafer 22 ... Carrier elevator 23 ... Wafer carrier 24 ... Wafer 25 ... Carrier Table 30 ... Optical sensor 31 ... Slit plate 32 ... Suction arm

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のウェハを水平状態で格納するため
のウェハキャリアに対して上下方向に移動することによ
り前記ウェハキャリアに格納された所定のウェハの高さ
方向の位置を検出する高さ検出用センサと、前記所定の
ウェハとその下段のウェハとの隙間に挿入するように移
動することにより前記所定のウェハの端面上の水平方向
の位置を検出する水平方向位置検出用センサと、前記2
つのセンサを移動させるための駆動機構とを具備したこ
とを特徴とするウェハ位置検出装置。
1. Height detection for detecting a position in a height direction of a predetermined wafer stored in the wafer carrier by moving the wafer carrier in a vertical direction with respect to a wafer carrier for horizontally storing the plurality of wafers. And a horizontal position detecting sensor for detecting a horizontal position on the end face of the predetermined wafer by moving the same so as to be inserted into a gap between the predetermined wafer and the lower wafer.
A wafer position detecting device comprising a driving mechanism for moving two sensors.
【請求項2】 水平方向位置検出用センサが所定のウェ
ハの端面上の3点の位置を検出するようにしたことを特
徴とする請求項1記載のウェハ位置検出装置。
2. The wafer position detecting device according to claim 1, wherein the horizontal position detecting sensor detects the positions of three points on the end face of the predetermined wafer.
【請求項3】 高さ検出用センサおよび水平方向位置検
出用センサが共に出射光の被測定物からの反射光を検出
する光学式センサであることを特徴とする請求項1また
は2のいずれか1項に記載のウェハ位置検出装置。
3. The height detecting sensor and the horizontal position detecting sensor are both optical sensors for detecting the reflected light of the emitted light from the object to be measured. The wafer position detection device according to item 1.
【請求項4】 高さ検出用センサが検出方向を水平に指
向し、水平方向位置検出用センサが検出方向を鉛直に指
向して1個の架台に組み込まれ、センサモジュールを構
成していることを特徴とする請求項1記載のウェハ位置
検出装置。
4. The height detecting sensor is oriented horizontally in the detection direction, and the horizontal position detecting sensor is oriented vertically in the detection direction and is incorporated in one mount to constitute a sensor module. The wafer position detecting device according to claim 1, wherein:
【請求項5】 センサモジュールをロボットアームによ
り上下方向および水平方向に移動させることを特徴とす
る請求項4記載のウェハ位置検出装置。
5. The wafer position detecting device according to claim 4, wherein the sensor module is moved vertically and horizontally by a robot arm.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999020552A1 (en) * 1997-10-17 1999-04-29 Olympus Optical Co., Ltd. Wafer transport device
JP2020053416A (en) * 2018-09-21 2020-04-02 オムロン株式会社 Sensor system and tilt detection method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999020552A1 (en) * 1997-10-17 1999-04-29 Olympus Optical Co., Ltd. Wafer transport device
US6208909B1 (en) 1997-10-17 2001-03-27 Olympus Optical Co., Ltd. Wafer transport device
JP2020053416A (en) * 2018-09-21 2020-04-02 オムロン株式会社 Sensor system and tilt detection method

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