JPH07295484A - Thin film el display - Google Patents

Thin film el display

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JPH07295484A
JPH07295484A JP6086838A JP8683894A JPH07295484A JP H07295484 A JPH07295484 A JP H07295484A JP 6086838 A JP6086838 A JP 6086838A JP 8683894 A JP8683894 A JP 8683894A JP H07295484 A JPH07295484 A JP H07295484A
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JP
Japan
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thin film
panel
panels
electrodes
film
Prior art date
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Application number
JP6086838A
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Japanese (ja)
Inventor
Megumi Moriya
恩美 守屋
Ikuo Fujisawa
郁夫 藤沢
Kaname Iga
要 伊賀
Takayuki Hiyoshi
隆之 日吉
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TEC CORP
Original Assignee
TEC CORP
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Publication date
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To facilitate the connection between the electrodes of adjacent panels by shortening the intervals between the electrodes of adjacent thin film EL panels, and making the interval between the display picture elements at the joint small, and equalizing the interval between the display picture elements at the joint and the interval between the adjacent display picture elements within the same panel. CONSTITUTION:Thin film EL panels 201 and 202 of a thin film emission structure are provided in succession by arranging a plurality of transparent electrodes 22 and a plurality of upper electrodes 26, with EL element layers 24 inbetween, in a matrix shape on a glass board 21, and also each band-shaped conductor connects the upper electrodes that each thin film El panel corresponds to by covering each thin film EL panel with a cover glass board 27 in which a plurality of band shaped conductors 27 for connecting the upper electrodes which each thin film EL panel corresponds to are made on one side.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電界の印加によりEL
発光する薄膜発光構造を形成した薄膜ELパネルを複数
連設してなる薄膜ELディスプレイに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an EL device by applying an electric field.
The present invention relates to a thin film EL display in which a plurality of thin film EL panels having a thin film light emitting structure for emitting light are arranged in series.

【0002】[0002]

【従来の技術】発光パネルの一種である薄膜EL(Elec
tro Luminescent )パネルは、透光性の絶縁基板の表面
に、下部電極層、下部誘電体層、マンガンなどの活性元
素を含む硫化亜鉛等からなる薄膜状の活性層、上部誘電
体層、上部電極層を順次積層した構成になっている。そ
して下部電極と上部電極を交流電源に接続することで薄
膜EL素子を発光動作している。
2. Description of the Related Art A thin film EL (Elec
tro Luminescent) panel is a translucent insulating substrate with a lower electrode layer, a lower dielectric layer, a thin film active layer made of zinc sulfide containing an active element such as manganese, an upper dielectric layer, and an upper electrode. It has a structure in which layers are sequentially laminated. By connecting the lower electrode and the upper electrode to an AC power source, the thin film EL element is emitting light.

【0003】このような薄膜ELパネルは、電界腐食や
雰囲気による経時的な劣化等を防止するため、ガラスか
らなる筐体で素子内部が密閉構造になるようにオイルや
固体樹脂を使用して封止している。
In order to prevent electric field corrosion and deterioration with time due to atmosphere, such a thin film EL panel is sealed using oil or solid resin so that the inside of the element has a hermetically sealed structure in a case made of glass. It has stopped.

【0004】薄膜ELパネルは発光面積を任意に選定で
きる面発光源であり、最近では照明や指示表示パネル等
に使用することから発光領域の面積が広いものが要望さ
れている。
The thin film EL panel is a surface emitting light source whose light emitting area can be arbitrarily selected. Recently, a thin film EL panel is required to have a wide light emitting area because it is used for illumination, an indication display panel and the like.

【0005】しかし薄膜ELパネルは発光領域の大面積
化を図ると、活性層や誘電体層を全領域にわたって均一
な膜厚に形成することが困難なことから、発光領域内に
輝度むらが発生するという問題がある。
However, in a thin film EL panel, it is difficult to form an active layer or a dielectric layer with a uniform film thickness over the entire area when the area of the light emitting area is increased, so that uneven brightness occurs in the light emitting area. There is a problem of doing.

【0006】このようなことから比較的小面積の発光領
域からなる薄膜ELパネルを複数連設して全体として発
光領域の広いディスプレイを構成するものが知られてい
る。
For this reason, it is known that a plurality of thin film EL panels each having a light emitting region having a relatively small area are connected in series to form a display having a wide light emitting region as a whole.

【0007】例えば実開平4−105496号公報には
有機厚膜分散型ELの連設技術が開示されている。
[0007] For example, Japanese Utility Model Laid-Open No. 105496/1992 discloses a technique for continuously arranging an organic thick film dispersion type EL.

【0008】これは図15に示すように、透光性基板1
の表面に透明電極2、蛍光体層3、誘電体層4、対向電
極5を順次形成し、かつ透明電極2の上に補助電極6を
付設し、外形切断加工で図中鎖線で示す部分を除去する
ことにより、側端面に透明電極2と蛍光体層3及び誘電
体層4からなる発光体層を露出して1つのELパネル7
を形成する。
As shown in FIG. 15, this is a transparent substrate 1
A transparent electrode 2, a phosphor layer 3, a dielectric layer 4, and a counter electrode 5 are sequentially formed on the surface of, and an auxiliary electrode 6 is attached on the transparent electrode 2, and a portion indicated by a chain line in the figure is cut by an outer shape cutting process. By removing it, the light emitting layer composed of the transparent electrode 2, the phosphor layer 3 and the dielectric layer 4 is exposed on the side end face to form one EL panel 7.
To form.

【0009】このELパネル7を図14に示すように、
側端面同士を突き合わせて配置し、絶縁フィルムや金属
箔の片面に導電性接着剤や導電性粘着剤を塗布形成して
なる帯状導電体8を用いて隣接するELパネル7の対向
電極5同士並びに補助電極6同士をそれぞれ接続する。
そして各ELパネル7の対向電極5及び帯状導電体8を
吸湿剤9及び封止フィルム10で覆うと共に、各ELパ
ネル7の透光性基板1を透光性の封止フィルム11で覆
って密封する。
This EL panel 7 is shown in FIG.
The opposite electrodes 5 of the adjacent EL panels 7 and the adjacent electrodes 5 are arranged by using the strip-shaped conductor 8 which is formed by applying the conductive adhesive or the conductive adhesive on one surface of the insulating film or the metal foil by arranging the side end surfaces to face each other. The auxiliary electrodes 6 are connected to each other.
The counter electrode 5 and the strip-shaped conductor 8 of each EL panel 7 are covered with the hygroscopic agent 9 and the sealing film 10, and the translucent substrate 1 of each EL panel 7 is covered with the translucent sealing film 11 to be hermetically sealed. To do.

【0010】このように複数のELパネル7を使用して
発光領域の広いELディスプレイを構成している。
As described above, an EL display having a wide light emitting region is constructed by using a plurality of EL panels 7.

【0011】しかしこの有機厚膜分散型ELの連設技術
を薄膜ELの連設にそのまま適用したのでは、封止が不
十分となり、寿命が短くなる。
However, if this organic thick film dispersion type EL connection technique is applied to the connection of thin film EL as it is, the sealing becomes insufficient and the life is shortened.

【0012】そこで薄膜ELの連設ではガラス等からな
る筐体で薄膜ELパネル内部が密閉構造になるようにオ
イルや固体樹脂等を用いて封止している。
Therefore, when the thin film ELs are connected in series, the thin film EL panel is sealed with a casing made of glass or the like using oil or solid resin so that the inside of the thin film EL panel has a closed structure.

【0013】薄膜ELパネルは図16に示すように、ガ
ラス基板12の表面に透明電極13、下部絶縁層、EL
発光層、上部絶縁層の層14、上部電極15を順次薄膜
形成し、その上をカバーガラス16で覆って形成してい
る。
As shown in FIG. 16, the thin film EL panel has a transparent electrode 13, a lower insulating layer, and an EL on the surface of a glass substrate 12.
A light emitting layer, a layer 14 of an upper insulating layer, and an upper electrode 15 are sequentially formed into a thin film, and a cover glass 16 is formed on the thin film.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】このような構成の薄膜
ELパネルを複数連設する場合、パネルの連設部におい
て透明電極13の電極間の間隔が広くなるため、透明電
極13と上部電極15とのクロス点である表示画素の間
隔が隣接したパネルの表示画素間において広くなり、例
えば文字を複数の薄膜ELパネルを連設したディスプレ
イでスクロール表示するような場合、連設部で文字が跡
切れてしまい表示品位が低下するという問題があった。
When a plurality of thin-film EL panels having such a structure are arranged in series, the transparent electrode 13 and the upper electrode 15 are widened because the distance between the transparent electrodes 13 in the continuous section of the panel becomes wide. The distance between the display pixels, which is the crossing point between and, becomes wider between the display pixels of the adjacent panels. For example, when characters are scroll-displayed on a display in which a plurality of thin film EL panels are arranged in series, the characters are traced in the connection section. There is a problem that the display quality is degraded due to the break.

【0015】そこで薄膜ELパネルの透明電極13から
パネル端部までの距離を短くし、連設部における表示画
素の間隔と同一パネル内の隣接表示画素の間隔を等しく
しようとすると、隣接する薄膜ELパネルの透明電極1
3からパネル端部までの距離が短くなり過ぎて従来の絶
縁フィルムや金属箔の片面に導電性接着剤や導電性粘着
剤を塗布形成してなる帯状導電体では接続が困難となる
問題があった。
Therefore, if the distance from the transparent electrode 13 of the thin film EL panel to the panel end is shortened and the interval between the display pixels in the continuous portion is made equal to the interval between the adjacent display pixels in the same panel, the adjacent thin film EL is adjacent. Panel transparent electrode 1
The distance from 3 to the end of the panel becomes too short, and there is a problem that connection is difficult with a strip-shaped conductor formed by applying a conductive adhesive or a conductive adhesive on one surface of a conventional insulating film or metal foil. It was

【0016】そこで本発明は、隣接する薄膜ELパネル
の電極間の距離を短くでき、従って薄膜ELパネルの連
設部での表示画素の間隔を充分に小さくでき、また連設
部における表示画素の間隔と同一パネル内の隣接表示画
素の間隔を等しくすることができ、しかも隣接する薄膜
ELパネルの電極間の接続が容易にできる薄膜ELディ
スプレイを提供する。
Therefore, according to the present invention, the distance between the electrodes of adjacent thin film EL panels can be shortened, and therefore the interval between the display pixels in the continuous portion of the thin film EL panel can be made sufficiently small, and the display pixel in the continuous portion can be reduced. (EN) Provided is a thin film EL display in which the distance and the distance between adjacent display pixels in the same panel can be made equal and the electrodes of adjacent thin film EL panels can be easily connected.

【0017】また、本発明は、各薄膜ELパネルの密閉
が確実にできる薄膜ELディスプレイを提供する。
The present invention also provides a thin film EL display capable of reliably sealing each thin film EL panel.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】請求項1対応の発明は、
透光性の第1の絶縁性基板上に複数の下部電極を配置
し、この各下部電極の上にEL発光層を介して複数の上
部電極をマトリックス状に配置して薄膜発光構造を形成
した薄膜ELパネルを複数連設すると共に、一面側に各
薄膜ELパネルの対応する上部電極間を接続するための
複数の帯状導電体を形成した第2の絶縁性基板を用意
し、その第2の絶縁性基板で各薄膜ELパネルの上を覆
うことにより、各帯状導電体が各薄膜ELパネルの対応
する電極間を接続したものである。
The invention according to claim 1 is
A plurality of lower electrodes are arranged on a transparent first insulating substrate, and a plurality of upper electrodes are arranged in a matrix on each lower electrode via an EL light emitting layer to form a thin film light emitting structure. A plurality of thin film EL panels are arranged in a row, and a second insulating substrate having a plurality of strip-shaped conductors for connecting between the corresponding upper electrodes of each thin film EL panel is prepared on one surface side. By covering each thin film EL panel with an insulating substrate, each strip-shaped conductor connects the corresponding electrodes of each thin film EL panel.

【0019】請求項2対応の発明は、請求項1記載の発
明において、第2の絶縁性基板を1枚の基板で構成し、
その基板で各薄膜ELパネルの上を覆って一体化したも
のである。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the second insulating substrate is composed of one substrate,
The thin film EL panel is covered and integrated with the substrate.

【0020】請求項3対応の発明は、透光性の第1の絶
縁性基板上に複数の下部電極を配置し、この各下部電極
の上にEL発光層を介して複数の上部電極をマトリック
ス状に配置して薄膜発光構造を形成した薄膜ELパネル
を複数連設すると共に、一面側に各薄膜ELパネルの対
応する上部電極間を接続するための複数の帯状導電体を
形成した第2の絶縁性基板を用意し、その第2の絶縁性
基板で各薄膜ELパネルの上を覆うことにより、各帯状
導電体が各薄膜ELパネルの対応する電極間を接続し、
各絶縁性基板間に絶縁性樹脂を充填して硬化させたもの
である。
According to a third aspect of the present invention, a plurality of lower electrodes are arranged on a light-transmitting first insulating substrate, and a plurality of upper electrodes are arranged on each of the lower electrodes via an EL light emitting layer. A plurality of thin-film EL panels, which are arranged in a rectangular pattern to form a thin-film light-emitting structure, are connected in series, and a plurality of strip-shaped conductors for connecting the corresponding upper electrodes of the thin-film EL panels are formed on one surface side. An insulative substrate is prepared, and each thin film EL panel is covered with the second insulative substrate so that each strip-shaped conductor connects between the corresponding electrodes of each thin film EL panel,
An insulating resin is filled between the insulating substrates and cured.

【0021】[0021]

【作用】このような構成の発明においては、複数の帯状
導電体を形成した第2の絶縁性基板で各薄膜ELパネル
の上を覆うことで、各帯状導電体が各薄膜ELパネルの
対応する電極間を接続することになる。
In the invention having such a structure, each strip-shaped conductor corresponds to each thin-film EL panel by covering each thin-film EL panel with the second insulating substrate having a plurality of strip-shaped conductors formed thereon. The electrodes will be connected.

【0022】また、各薄膜ELパネルの絶縁性基板間は
絶縁性樹脂により密閉される。
The insulating substrates of each thin film EL panel are sealed with an insulating resin.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0024】図1は2個の薄膜ELパネル201,20
2を連設してなるEL薄膜ディスプレイの斜視図、図2
はそのEL薄膜ディスプレイの連設部の部分断面図であ
る。
FIG. 1 shows two thin film EL panels 201 and 20.
2 is a perspective view of an EL thin film display in which two are arranged in series, FIG.
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a continuous portion of the EL thin film display.

【0025】前記薄膜ELパネル201,202は、図
3に示す工程により作成する。先ず図3の(a) に示すよ
うに、透光性の第1の絶縁性基板であるガラス基板21
を良く洗浄した後、蒸着装置によりITO(indium tin
oxide)からなる透明導電膜を1000オングストロー
ムの厚さに成膜し、これを図4に示すようなストライプ
平行配列になるようにエッチング等を行って下部電極で
ある透明電極22を形成する。
The thin film EL panels 201 and 202 are formed by the process shown in FIG. First, as shown in FIG. 3A, a glass substrate 21 which is a translucent first insulating substrate.
After thoroughly cleaning, the ITO (indium tin
A transparent conductive film made of oxide) is formed to a thickness of 1000 angstrom, and the transparent conductive film 22 is formed as a lower electrode by performing etching or the like so as to form a stripe parallel arrangement as shown in FIG.

【0026】続いて図3の(b) に示すように、rfスパ
ッタリングにより下部絶縁膜を成膜して下部絶縁層23
を形成する。この下部絶縁層23は例えばSi−Nを2
500オングストロームの厚さに成膜し、さらにその上
にSiO2 を500オングストロームの厚さに成膜して
形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 3B, a lower insulating film is formed by rf sputtering to form a lower insulating layer 23.
To form. The lower insulating layer 23 is made of, for example, Si--N.
A film is formed to a thickness of 500 angstroms, and SiO 2 is further formed thereon to a film thickness of 500 angstroms.

【0027】なお、絶縁膜としては他に、Y2 3 、A
2 3 、Si3 4 、又これら絶縁材の複合膜等があ
り、加工プロセスや必要な誘電率等により選択する。ま
た、成膜方法としては、CVDやEB蒸着などがある。
Other insulating films include Y 2 O 3 and A
There are l 2 O 3 , Si 3 N 4 , and composite films of these insulating materials, etc., which are selected depending on the processing process and the required dielectric constant. Further, as a film forming method, there are CVD and EB vapor deposition.

【0028】続いて図3の(c) に示すように、ZnS:
Mn(Mn濃度0.4wt%)をEB蒸着装置で約50
00〜10000オングストロームの厚さに成膜してE
L発光層24を形成する。
Then, as shown in FIG. 3 (c), ZnS:
About 50 Mn (Mn concentration 0.4 wt%) with EB evaporation system
E to form a film with a thickness of 00 to 10000 angstroms
The L light emitting layer 24 is formed.

【0029】なお、成膜方法としてはEB蒸着の他、ス
パッタ法、CVD、ホットウォールエピタキシ、分子線
エピタキシなどの方法がある。
As the film forming method, in addition to EB vapor deposition, there are methods such as sputtering method, CVD, hot wall epitaxy and molecular beam epitaxy.

【0030】また、EL発光層24としては、ZnS:
Mnの他、ZnSe,SrSなど発光する光のエネルギ
ーより大きなエネルギーギャップを有する材料に発光中
心となる、TbF3 ,ErF3 ,TmF3 ,DyF3
HoF3 ,SmF3 特性を示すものであればどの組み合
わせでも可能である。
Further, as the EL light emitting layer 24, ZnS:
In addition to Mn, ZnSe, SrS, TbF 3 , ErF 3 , TmF 3 , DyF 3 , which serve as an emission center in a material having an energy gap larger than the energy of emitted light,
Any combination is possible as long as it exhibits HoF 3 and SmF 3 characteristics.

【0031】続いて図3の(d) に示すように、rfスパ
ッタリングにより上部絶縁膜を成膜して上部絶縁層25
を形成する。この上部絶縁層25は下部絶縁層23と同
様Si−Nを2500オングストロームの厚さに成膜
し、さらにその上にSiO2 を500オングストローム
の厚さに成膜して形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 3D, an upper insulating film is formed by rf sputtering to form an upper insulating layer 25.
To form. Similar to the lower insulating layer 23, the upper insulating layer 25 is formed by depositing Si-N to a thickness of 2500 Å and further depositing SiO 2 to a thickness of 500 Å thereon.

【0032】そして最後に図3の(e) に示すように、A
lを成膜し、かつ前記透明電極22に対してストライプ
状で直交するようにパターニングして上部電極26を形
成する。すなわち、前記上部電極26と透明電極22と
は間に下部絶縁層23、EL発光層24及び上部絶縁層
25を介してマトリックス状に配置されることになる。
Finally, as shown in FIG. 3 (e), A
l is formed into a film and is patterned so as to be orthogonal to the transparent electrode 22 in a stripe shape to form an upper electrode 26. That is, the upper electrode 26 and the transparent electrode 22 are arranged in a matrix with the lower insulating layer 23, the EL emission layer 24, and the upper insulating layer 25 interposed therebetween.

【0033】こうして図5に示すような薄膜発光構造を
形成した薄膜ELパネル20が構成される。すなわち、
ガラス基板21に形成した透明電極22は一端側におい
ては基板21の先端から少し離れた位置に形成される
が、他端側においては基板21の先端に近接した位置に
形成されている。
Thus, the thin film EL panel 20 having the thin film light emitting structure as shown in FIG. 5 is constructed. That is,
The transparent electrode 22 formed on the glass substrate 21 is formed at a position slightly away from the tip of the substrate 21 on one end side, but is formed at a position near the tip of the substrate 21 on the other end side.

【0034】そして図7に示すように2つの薄膜ELパ
ネル201,202を用意し、透明電極22あるいは上
部電極26、例えば上部電極26同士を治工具で位置合
わせして突き合わせる。このとき各薄膜ELパネル20
1,202は透明電極22が基板21の先端に近接した
側をそれぞれ突き合わせる。これにより各薄膜ELパネ
ル201,202の連設部における隣り合う透明電極2
2の間隔が他の透明電極22の間隔と一致することにな
る。
Then, as shown in FIG. 7, two thin film EL panels 201 and 202 are prepared, and the transparent electrode 22 or the upper electrode 26, for example, the upper electrodes 26 are aligned and abutted by a jig. At this time, each thin film EL panel 20
Reference numerals 1 and 202 respectively abut the transparent electrode 22 on the side close to the tip of the substrate 21. As a result, the transparent electrodes 2 adjacent to each other in the continuous portion of the thin film EL panels 201 and 202 are connected.
The interval of 2 corresponds to the interval of the other transparent electrodes 22.

【0035】そして図8に示すように、2つの薄膜EL
パネル201,202をまとめて覆う第2の絶縁性基板
である1枚のカバーガラス基板27を薄膜ELパネル2
01,202の上に載せる。なお、薄膜ELパネル20
2の外側となる端部にはスペーサ28を介挿する。又、
図示しないがパネル面積により所定箇所にスペーサ28
をさらに介挿する。スペーサ28としてはポリイミドを
使用する。
Then, as shown in FIG.
One cover glass substrate 27, which is a second insulating substrate that collectively covers the panels 201 and 202, is attached to the thin film EL panel 2.
Place it on 01, 202. The thin film EL panel 20
A spacer 28 is inserted at the end portion on the outer side of 2. or,
Although not shown, a spacer 28 is provided at a predetermined position depending on the panel area.
Is further inserted. Polyimide is used as the spacer 28.

【0036】前記カバーガラス基板27は、その一面
側、すなわち薄膜ELパネル201,202と接する側
に複数の帯状導電体29を形成している。この各帯状導
電体29は、カバーガラス基板27を薄膜ELパネル2
01,202の所定位置に載せたとき薄膜ELパネル2
01の上部電極26と薄膜ELパネル202の上部電極
26の上に位置するように形成している。
The cover glass substrate 27 has a plurality of belt-shaped conductors 29 formed on one surface thereof, that is, on the side in contact with the thin film EL panels 201 and 202. The strip-shaped conductors 29 cover the cover glass substrate 27 and the thin-film EL panel 2.
Thin film EL panel 2 when placed at a predetermined position 01, 202
01 and the upper electrode 26 of the thin film EL panel 202.

【0037】前記帯状導電体29は導電性接着剤や導電
性粘着剤などからなり、図6に示すようにスクリーン印
刷によりパターニングして形成している。なお、図中3
1はスキージ、32はスクリーン、33は帯状導電体2
9となる材料である。
The band-shaped conductor 29 is made of a conductive adhesive or a conductive adhesive, and is formed by patterning by screen printing as shown in FIG. In addition, 3 in the figure
1 is a squeegee, 32 is a screen, 33 is a strip conductor 2
It is a material that becomes 9.

【0038】前記カバーガラス基板27は、膨脹係数な
どELに発生する応力や光の波長領域を考慮して前記ガ
ラス基板21と同一の種類、同一の厚さのものを使用し
ている。例えば、厚さ1.1mmのコーニング7059を
使用する。
The cover glass substrate 27 is of the same type and has the same thickness as the glass substrate 21 in consideration of the stress generated in the EL such as the expansion coefficient and the wavelength region of light. For example, 1.1 mm thick Corning 7059 is used.

【0039】前記カバーガラス基板27は治工具で位置
合わせして薄膜ELパネル201,202の所定位置に
載せる。そのときにエポキシ樹脂等の封入樹脂よりも粘
度の高い、塗布し易い、かつ防湿性の高い接着剤をカバ
ーガラス基板27の周囲に所定量を供給装置を使用して
塗布して加圧固定する。
The cover glass substrate 27 is aligned with a jig and placed on the thin film EL panels 201 and 202 at predetermined positions. At that time, an adhesive having a higher viscosity than the encapsulating resin such as epoxy resin, easy to apply, and highly moisture-proof is applied around the cover glass substrate 27 by using a supply device and fixed under pressure. .

【0040】そして2つのガラス基板21,27の隙間
からスポイト等で光硬化型接着剤を浸透させる。光硬化
型接着剤としては、例えばアクリル系の可視光硬化型接
着剤で低粘度のものを使用する。
Then, the photocurable adhesive is permeated through the gap between the two glass substrates 21 and 27 with a dropper or the like. As the light curable adhesive, for example, an acrylic visible light curable adhesive having a low viscosity is used.

【0041】なお、可視光硬化型接着剤の他、紫外線硬
化型ものやオレフィン系など高粘度の光硬化型接着剤を
使用してもよい。
In addition to the visible light curable adhesive, an ultraviolet curable adhesive or a highly viscous photocurable adhesive such as olefin may be used.

【0042】可視光硬化型接着剤を浸透させた後、減圧
容器内で接着層内の脱泡及びカバーガラス基板27とE
Lパネル201,202の周辺及びELパネル201,
202間にまで充分に接着剤が浸透するようにしてから
硬化させる。
After permeating the visible light curable adhesive, defoaming in the adhesive layer and the cover glass substrate 27 and E
Around the L panels 201, 202 and the EL panels 201,
The adhesive is sufficiently penetrated into the space between 202 and then cured.

【0043】このように2つの薄膜ELパネル201,
202を連設する場合に、各薄膜ELパネル201,2
02の透明電極22が基板21の先端に近接した側をそ
れぞれ突き合わせて連設するので、各薄膜ELパネル2
01,202の連設部における隣り合う透明電極22の
間隔が他の透明電極22の間隔と一致することになる。
従って、2つの薄膜ELパネル201,202を連設し
て1つのELディスプレイを構成した場合に、薄膜EL
パネル201,202の連設部で表示画素の間隔が他の
表示画素の間隔に比べて広くなることはない。
Thus, the two thin film EL panels 201,
When the 202 are connected in series, each thin film EL panel 201,
Since the transparent electrodes 22 of No. 02 are arranged so that the sides close to the tip of the substrate 21 are butted against each other, each thin film EL panel 2
The distance between the transparent electrodes 22 adjacent to each other in the continuous portion of 01 and 202 coincides with the distance between the other transparent electrodes 22.
Therefore, when two thin film EL panels 201 and 202 are arranged in series to form one EL display,
The interval between the display pixels in the continuous portion of the panels 201 and 202 does not become wider than the interval between the other display pixels.

【0044】従って、文字をスクロール表示する場合に
も連設部で文字が跡切れることはなく表示品位を確保で
きる。
Therefore, even when the characters are scroll-displayed, the characters are not cut off in the continuous portion, and the display quality can be secured.

【0045】また、2つの薄膜ELパネル201,20
2を連設した後、その上に一面側に予め複数の帯状導電
体29を形成したカバーガラス基板27を載置して加圧
固定することにより、各帯状導電体29が連設部の隣接
する上部電極26間を接続する構成にしているので、連
設部の隣接する上部電極26間の距離が短くても上部電
極26間を容易にかつ確実に接続することができる。
Two thin film EL panels 201, 20
After the two strips are connected in series, a cover glass substrate 27 having a plurality of strip-shaped conductors 29 formed on one surface thereof is placed thereon and fixed under pressure. Since the upper electrodes 26 are connected to each other, the upper electrodes 26 can be easily and surely connected to each other even if the distance between the adjacent upper electrodes 26 of the continuous portion is short.

【0046】また、2つの薄膜ELパネル201,20
2の上を1枚のカバーガラス基板27で覆って封入する
ので密閉性がよく、しかも内部に樹脂を充填しかつカバ
ーガラス基板27の周囲に封入樹脂よりも粘度の高い、
塗布し易い、かつ防湿性の高い接着剤を塗布して加圧固
定しているので、湿気等の侵入を確実に防ぐことができ
長寿命化を図ることができる。
Two thin film EL panels 201 and 20 are also provided.
2 is covered and sealed with one cover glass substrate 27, so that the airtightness is good, and moreover, the resin is filled inside and the viscosity around the cover glass substrate 27 is higher than that of the filled resin.
Since an adhesive that is easy to apply and has high moisture resistance is applied and fixed under pressure, intrusion of moisture and the like can be reliably prevented, and a long life can be achieved.

【0047】次に本発明の他の実施例を図面を参照して
説明する。なお、前記実施例と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The same parts as those in the above embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0048】図9の(a) に示すように、カバーガラス基
板27の一面側に球形ガラスビーズ粉末38を混入した
帯状導電体39を図6に示すスクリーン印刷法を使用し
て形成する。前記帯状導電体39としては、例えばニッ
ケル、銀又は高導電性の金属微粒子を溶媒又は接着成分
を有する樹脂又は粘着材の中に球径が3〜100μmの
球形ガラスビーズ粉末38を分散混入したものを使用し
ている。
As shown in FIG. 9A, a belt-shaped conductor 39 mixed with spherical glass bead powder 38 is formed on one surface of the cover glass substrate 27 by using the screen printing method shown in FIG. As the belt-shaped conductor 39, for example, nickel, silver, or highly conductive metal fine particles in which a spherical glass bead powder 38 having a spherical diameter of 3 to 100 μm is dispersed and mixed in a resin or an adhesive having a solvent or an adhesive component. Are using.

【0049】そして前記帯状導電体39が硬化する前
に、2つの薄膜ELパネル201,202を突き合わ
せ、図9の(b) に示すようにカバーガラス基板27の一
面側を薄膜ELパネル201,202に向けて載置す
る。
Before the band-shaped conductor 39 is cured, the two thin film EL panels 201 and 202 are butted, and one surface side of the cover glass substrate 27 is placed on the thin film EL panels 201 and 202 as shown in FIG. 9B. Place it toward.

【0050】そしてカバーガラス基板27を加圧治工具
で加圧しながら帯状導電体39を硬化させる。これによ
り図9の(c) に示すように帯状導電体39は押し潰され
るが内部に球形ガラスビーズ粉末38が混入しているの
で、カバーガラス基板27と薄膜ELパネル201,2
02上の上部電極26との間隔が球形ガラスビーズ粉末
38の直径に規制される。また、帯状導電体39の導電
性微粒子が上部電極26に接触又は押し込まれ、各薄膜
ELパネル201,202間の上部電極26は電気的に
接続することになる。
Then, the belt-shaped conductor 39 is cured while the cover glass substrate 27 is pressed by the pressing jig. As a result, the belt-shaped conductor 39 is crushed as shown in FIG. 9 (c), but the spherical glass bead powder 38 is mixed therein, so that the cover glass substrate 27 and the thin-film EL panels 201 and 201.
The distance between the upper electrode 26 and the upper electrode 26 is regulated by the diameter of the spherical glass bead powder 38. Further, the conductive fine particles of the strip-shaped conductor 39 are brought into contact with or pushed into the upper electrode 26, and the upper electrode 26 between the thin film EL panels 201 and 202 is electrically connected.

【0051】その後、各薄膜ELパネル201,202
のガラス基板21とカバーガラス基板27との間の隙間
に封入樹脂を浸透させる。これにより封入樹脂はEL発
光層24の上部にも入り込み、帯状導電体39は上部電
極26との接続状態を保持したまま樹脂により固められ
る。
After that, each thin film EL panel 201, 202
The encapsulating resin is permeated into the gap between the glass substrate 21 and the cover glass substrate 27. As a result, the encapsulating resin also enters the upper portion of the EL light emitting layer 24, and the belt-shaped conductor 39 is hardened by the resin while maintaining the connection state with the upper electrode 26.

【0052】さらに各薄膜ELパネル201,202の
連設部においては樹脂の浸透のみでは充填が不十分とな
るので、その隙間には例えば注射器等を使用して別途樹
脂を充填する。
Further, since the resin cannot be sufficiently filled in the continuous portion of the thin film EL panels 201 and 202 by only permeating the resin, the gap is filled with the resin separately by using, for example, a syringe.

【0053】このように帯状導電体39に球形ガラスビ
ーズ粉末38を混入することにより、カバーガラス基板
27と薄膜ELパネル201,202上の上部電極26
との間隔が球形ガラスビーズ粉末38の直径に規制され
るので、その間隔を精度よく均一にすることができる。
By mixing the spherical glass bead powder 38 into the strip conductor 39 in this manner, the cover glass substrate 27 and the upper electrode 26 on the thin film EL panels 201 and 202 are mixed.
Since the distance between and is regulated by the diameter of the spherical glass bead powder 38, the distance can be made uniform with high accuracy.

【0054】その他については本実施例も前記実施例と
同様の効果が得られるものである。
In other respects, this embodiment can obtain the same effects as those of the above embodiment.

【0055】なお、カバーガラス基板27の一面側に帯
状導電体39を形成する方法としては、前述したスクリ
ーン印刷法の他、図10に示すように樹脂ディスペンサ
を使用して形成してもよい。
As a method for forming the strip-shaped conductor 39 on the one surface side of the cover glass substrate 27, a resin dispenser as shown in FIG. 10 may be used in addition to the screen printing method described above.

【0056】すなわち、図10の(a) に示すように帯状
導電体39となる導電性接着剤を樹脂ディスペンサ40
に充填し、支持部材41にセットした後、その支持部材
41を一定速度で移動させつつ図10の(b) に示すよう
にカバーガラス基板27の一面側に樹脂ディスペンサ4
0から一定量の導電性接着剤を射出して帯状導電体39
を形成する。
That is, as shown in FIG. 10 (a), the conductive adhesive that becomes the belt-shaped conductor 39 is applied to the resin dispenser 40.
10 and then set on the support member 41, and while moving the support member 41 at a constant speed, the resin dispenser 4 is attached to one surface of the cover glass substrate 27 as shown in FIG. 10 (b).
A certain amount of conductive adhesive is injected from 0 to form a strip-shaped conductor 39.
To form.

【0057】前記各実施例では2つの薄膜ELパネル2
01,202を連設してELディスプレイを構成する場
合について述べたが必ずしもこれに限定するものではな
い。
In each of the above embodiments, two thin film EL panels 2 are used.
The case where the EL display is configured by connecting 01 and 202 in series has been described, but the present invention is not necessarily limited to this.

【0058】例えば図11は10個の薄膜ELパネル3
01〜310を縦2列、横5列に連設してELディスプ
レイを構成した場合を示している。そして連設した各薄
膜ELパネル301〜310の上に1枚のカバーガラス
基板271を載置している。
For example, FIG. 11 shows ten thin film EL panels 3
It shows a case where the EL display is configured by connecting the columns 01 to 310 in two columns vertically and five columns horizontally. Then, one cover glass substrate 271 is placed on each of the thin film EL panels 301 to 310 arranged in series.

【0059】前記カバーガラス基板271には横5列の
上部電極26をそれぞれ接続する帯状導電体291を形
成している。透明電極22は駆動系と接続するためその
電極の引出し部を上下にそれぞれ設け、上部電極26は
コモン電極のためその引出し部を一方の側にのみ設け
る。
The cover glass substrate 271 is formed with strip-shaped conductors 291 for connecting the upper electrodes 26 arranged in five rows. Since the transparent electrode 22 is connected to the drive system, lead-out portions of the electrode are provided on the upper and lower sides, respectively, and the upper electrode 26 is a common electrode, so the lead-out portion is provided on only one side.

【0060】こうして構成されるELディスプレイは表
示画面が比較的大きく、例えば16×16ドットの漢字
表示のみでなく、32×32ドットの大型漢字表示も可
能となる。
The EL display constructed in this way has a relatively large display screen, and for example, not only 16 × 16 dot Chinese character display but also 32 × 32 dot large Chinese character display is possible.

【0061】また、図12は20個の薄膜ELパネル4
01〜420を縦4列、横5列に連設してELディスプ
レイを構成した場合を示している。そして連設した各薄
膜ELパネル401〜420の上に1枚のカバーガラス
基板272を載置している。
FIG. 12 shows 20 thin film EL panels 4
The case where the EL display is configured by connecting 01 to 420 in four columns vertically and five columns horizontally is shown. Then, one cover glass substrate 272 is placed on each of the thin film EL panels 401 to 420 arranged in series.

【0062】前記各薄膜ELパネル401〜420は図
13に示すように、各薄膜ELパネル401〜420の
製造工程において、上部電極26を形成した後に、その
上にさらにパシベーション膜51を成膜する。
As shown in FIG. 13, in each of the thin film EL panels 401 to 420, after the upper electrode 26 is formed in the manufacturing process of the thin film EL panels 401 to 420, the passivation film 51 is further formed thereon. .

【0063】そしてその上に横配列した各薄膜ELパネ
ルの上部電極26間を接続する複数の帯状導電体291
を形成すると共に縦配列した各薄膜ELパネルの透明電
極22間を接続する比較的厚さの厚い複数の帯状導電体
292を形成したカバーガラス基板272を加圧固定す
る。
A plurality of strip-shaped conductors 291 for connecting the upper electrodes 26 of the respective thin film EL panels arranged laterally thereon are connected.
And a cover glass substrate 272 formed with a plurality of relatively thick strip-shaped conductors 292 for connecting the transparent electrodes 22 of the thin film EL panels arranged vertically is fixed under pressure.

【0064】前記帯状導電体291は前記実施例同様に
各薄膜ELパネルの上部電極26間に圧着されて両電極
を接続する。また、前記帯状導電体292はその先端部
が各薄膜ELパネルの透明電極22間に圧着されて両電
極を接続する。
The strip-shaped conductor 291 is pressure-bonded between the upper electrodes 26 of the respective thin-film EL panels to connect both electrodes, as in the above-mentioned embodiment. Further, the tip end of the strip-shaped conductor 292 is crimped between the transparent electrodes 22 of each thin film EL panel to connect both electrodes.

【0065】前記カバーガラス基板272に対する帯状
導電体292の形成は、帯状導電体291と同様にスク
リーン印刷法や樹脂ディスペンサを使用する方法により
可能である。
The strip-shaped conductor 292 can be formed on the cover glass substrate 272 by a screen printing method or a method using a resin dispenser like the strip-shaped conductor 291.

【0066】このようにすることによってさらに大画面
のELディスプレイを構成できる。
By doing so, an EL display having a larger screen can be constructed.

【0067】[0067]

【発明の効果】以上、本発明によれば、隣接する薄膜E
Lパネルの電極間の距離を短くでき、従って薄膜ELパ
ネルの連設部での表示画素の間隔を充分に小さくでき、
また、連設部における表示画素の間隔と同一パネル内の
隣接表示画素の間隔を等しくできる。これにより文字を
スクロール表示する場合に連設部で文字が跡切れるとい
うことがなく表示品位を確保できる。
As described above, according to the present invention, the adjacent thin film E
The distance between the electrodes of the L panel can be shortened, so that the distance between the display pixels in the continuous portion of the thin film EL panel can be made sufficiently small.
Further, the interval between the display pixels in the continuous portion and the interval between the adjacent display pixels in the same panel can be made equal. As a result, when the characters are scroll-displayed, the display quality can be ensured without the characters being cut off in the continuous portion.

【0068】また、各薄膜ELパネルの上を覆う第2の
絶縁性基板に予め帯状導電体を形成し、第2の絶縁性基
板で各薄膜ELパネルを覆ったときに帯状導電体が各薄
膜ELパネルの電極間に圧着して両電極間を接続する構
成にしているので、隣接する薄膜ELパネルの電極間の
接続が容易にできる。
Further, a strip-shaped conductor is formed in advance on a second insulating substrate which covers each thin-film EL panel, and when the thin-film EL panel is covered with the second insulating substrate, the strip-shaped conductor has each thin film. Since the electrodes of the EL panel are pressure-bonded to each other to connect the electrodes, the electrodes of the thin film EL panels adjacent to each other can be easily connected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の外観を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing an appearance of an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例の薄膜ELパネルの連設部の構成を示
す部分断面図。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the configuration of a continuous portion of the thin film EL panel of the same example.

【図3】同実施例の薄膜ELパネルの製造工程を説明す
るための図。
FIG. 3 is a view for explaining the manufacturing process of the thin film EL panel of the same example.

【図4】同実施例の薄膜ELパネルの透明電極のパター
ン例を示す図。
FIG. 4 is a view showing an example of a pattern of transparent electrodes of the thin film EL panel of the same example.

【図5】同実施例の薄膜ELパネルの構成を示す平面
図。
FIG. 5 is a plan view showing the configuration of the thin film EL panel of the same example.

【図6】同実施例のカバーガラス基板に対する帯状導電
体の形成に使用するスクリーン印刷法を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a screen printing method used for forming a belt-shaped conductor on the cover glass substrate of the same example.

【図7】同実施例の連設する2つの薄膜ELパネルの斜
視図。
FIG. 7 is a perspective view of two thin film EL panels connected in series according to the embodiment.

【図8】同実施例の薄膜ELパネルとこのパネルに載置
するカバーガラス基板を示す斜視図。
FIG. 8 is a perspective view showing a thin film EL panel of the same embodiment and a cover glass substrate mounted on this panel.

【図9】本発明の他の実施例において薄膜ELパネルに
カバーガラス基板を載置して密着させるときの工程を説
明するための部分断面図。
FIG. 9 is a partial cross-sectional view for explaining a step of placing a cover glass substrate on and adhering the cover glass substrate to the thin film EL panel in another embodiment of the present invention.

【図10】カバーガラス基板に対する帯状導電体の形成
に使用する他の方法を示す図。
FIG. 10 is a view showing another method used for forming the strip-shaped conductor on the cover glass substrate.

【図11】本発明の他の実施例の外観を示す一部切欠し
た斜視図。
FIG. 11 is a partially cutaway perspective view showing the outer appearance of another embodiment of the present invention.

【図12】本発明の他の実施例の外観を示す一部切欠し
た斜視図。
FIG. 12 is a partially cutaway perspective view showing the outer appearance of another embodiment of the present invention.

【図13】同実施例の薄膜ELパネルの連設部の構成を
示す部分断面図。
FIG. 13 is a partial cross-sectional view showing the configuration of a continuous portion of the thin film EL panel of the same example.

【図14】従来のELパネルの連設部の構成を示す部分
断面図。
FIG. 14 is a partial cross-sectional view showing the structure of a continuous portion of a conventional EL panel.

【図15】同従来例のELパネルの構成を示す部分断面
図。
FIG. 15 is a partial cross-sectional view showing the configuration of an EL panel of the conventional example.

【図16】同従来例のELパネルの構成を示す平面図。FIG. 16 is a plan view showing a configuration of an EL panel of the conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

201,202…薄膜ELパネル 21…ガラス基板(第1の絶縁基板) 22…透明電極(下部電極) 24…EL発光層 26…上部電極 27…カバーガラス基板(第2の絶縁基板) 29…帯状導電体 201, 202 ... Thin-film EL panel 21 ... Glass substrate (first insulating substrate) 22 ... Transparent electrode (lower electrode) 24 ... EL light emitting layer 26 ... Upper electrode 27 ... Cover glass substrate (second insulating substrate) 29 ... Strip conductor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 日吉 隆之 静岡県三島市南町6番78号 東京電気株式 会社技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takayuki Hiyoshi 6-78 Minamimachi, Mishima City, Shizuoka Prefecture Tokyo Electric Co., Ltd. Technical Research Institute

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透光性の第1の絶縁性基板上に複数の下
部電極を配置し、この各下部電極の上にEL発光層を介
して複数の上部電極をマトリックス状に配置して薄膜発
光構造を形成した薄膜ELパネルを複数連設すると共
に、一面側に前記各薄膜ELパネルの対応する上部電極
間を接続するための複数の帯状導電体を形成した第2の
絶縁性基板を用意し、その第2の絶縁性基板で前記各薄
膜ELパネルの上を覆うことにより、前記各帯状導電体
が各薄膜ELパネルの対応する電極間を接続したことを
特徴とする薄膜ELディスプレイ。
1. A thin film in which a plurality of lower electrodes are arranged on a translucent first insulating substrate, and a plurality of upper electrodes are arranged in a matrix on each of the lower electrodes via an EL light emitting layer. A second insulating substrate is provided in which a plurality of thin film EL panels having a light emitting structure are arranged in a row and a plurality of strip-shaped conductors for connecting between the corresponding upper electrodes of each thin film EL panel are formed on one surface side. Then, by covering the thin film EL panels with the second insulating substrate, the strip conductors connect the corresponding electrodes of the thin film EL panels to each other.
【請求項2】 第2の絶縁性基板は1枚の基板からな
り、その基板で各薄膜ELパネルの上を覆って一体化し
たことを特徴とする請求項1記載の薄膜ELディスプレ
イ。
2. The thin film EL display according to claim 1, wherein the second insulating substrate is composed of one substrate, and the substrate covers and integrates each thin film EL panel.
【請求項3】 透光性の第1の絶縁性基板上に複数の下
部電極を配置し、この各下部電極の上にEL発光層を介
して複数の上部電極をマトリックス状に配置して薄膜発
光構造を形成した薄膜ELパネルを複数連設すると共
に、一面側に前記各薄膜ELパネルの対応する上部電極
間を接続するための複数の帯状導電体を形成した第2の
絶縁性基板を用意し、その第2の絶縁性基板で前記各薄
膜ELパネルの上を覆うことにより、前記各帯状導電体
が各薄膜ELパネルの対応する電極間を接続し、前記各
絶縁性基板間に絶縁性樹脂を充填して硬化させたことを
特徴とする薄膜ELディスプレイ。
3. A thin film in which a plurality of lower electrodes are arranged on a translucent first insulating substrate, and a plurality of upper electrodes are arranged in a matrix on each lower electrode via an EL light emitting layer. A second insulating substrate is provided in which a plurality of thin film EL panels having a light emitting structure are arranged in a row and a plurality of strip-shaped conductors for connecting between the corresponding upper electrodes of each thin film EL panel are formed on one surface side. Then, by covering the thin film EL panels with the second insulating substrate, the strip-shaped conductors connect the corresponding electrodes of the thin film EL panels to each other, thereby insulating the insulating substrates from each other. A thin-film EL display characterized by being filled with resin and cured.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006201649A (en) * 2005-01-24 2006-08-03 Nishiyama Stainless Chem Kk Method for filling in inner cavity, glass substrate for flat panel display, and flat panel display
US7443096B2 (en) 2004-02-19 2008-10-28 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus

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