JPH0729205A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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Publication number
JPH0729205A
JPH0729205A JP5169068A JP16906893A JPH0729205A JP H0729205 A JPH0729205 A JP H0729205A JP 5169068 A JP5169068 A JP 5169068A JP 16906893 A JP16906893 A JP 16906893A JP H0729205 A JPH0729205 A JP H0729205A
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JP
Japan
Prior art keywords
recording
film
recording medium
layer
optical
Prior art date
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Pending
Application number
JP5169068A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Nakamura
浩一 中村
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP5169068A priority Critical patent/JPH0729205A/en
Publication of JPH0729205A publication Critical patent/JPH0729205A/en
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To inhibit the cracking of a protective layer and a reflecting layer and the mass transfer of a recording film even after repeated recording and erasing with laser light and to improve repetitive characteristics. CONSTITUTION:A recording layer 9 causing an optical change when irradiated with laser light is formed in fine recesses 13 in a glass disk substrate 1 and a GeTe film 10 whose reflectance is equal or close to that of the recording layer 9 is formed on the surface of the recording layer 9. The mass transfer of the recording film caused by making the recording film repeatedly crystalline and amorphous by irradiation with laser light is inhibited and the repetitive recording-erasing characteristics of the resulting optical recording medium are improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光記録装置等に用いら
れる光記録媒体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium used in an optical recording device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報の高記録密度化が進み、レー
ザを用いた光記録媒体は大容量記録が可能であり、また
光ヘッドと光記録媒体がハードディスクドライブとは異
なり、非接触であるため、光記録媒体の損傷も少なく信
頼性が高いことから大容量記録媒体として有望視されて
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, the recording density of information has been increased, and an optical recording medium using a laser is capable of large-capacity recording, and an optical head and an optical recording medium are non-contact unlike a hard disk drive. Therefore, the optical recording medium is highly promising as a large-capacity recording medium because it has little damage and has high reliability.

【0003】高密度記録が可能な光記録媒体には、再生
専用型,一度だけ情報の書き込み可能な追記型,記録/
消去が可能な書換型の3タイプがある。
An optical recording medium capable of high density recording includes a read-only type, a write-once type in which information can be written only once, and a recording / writing type.
There are three rewritable types that can be erased.

【0004】これらの光記録媒体の基本構成は、プラス
チック,ガラス等からなる円盤状の透明基板と、その透
明基板上に設けられた積層薄膜よりなる。
The basic structure of these optical recording media comprises a disk-shaped transparent substrate made of plastic, glass or the like, and a laminated thin film provided on the transparent substrate.

【0005】再生専用型の光記録媒体は、凹凸を形成し
たポリカーボネート基板上に反射膜であるAl,Auを形
成し、基板側からレーザを集光して照射し、反射膜より
戻ってくる光の反射光強度を検出する。
In a read-only type optical recording medium, reflective films Al and Au are formed on a polycarbonate substrate on which irregularities are formed, a laser is focused and irradiated from the substrate side, and light is returned from the reflective film. The reflected light intensity of is detected.

【0006】追記型の光記録媒体は、1回だけ情報を記
録することが可能で、主に文書・静止画像ファイルとし
て用いられる。
The write-once type optical recording medium can record information only once and is mainly used as a document / still image file.

【0007】追記型の光記録媒体には、数種類の記録方
式があり、レーザの熱で昇華させることにより穴を空け
情報を記録する穴開きタイプ、記録膜の結晶状態とアモ
ルファス状態の光学定数の変化による反射率の差を用い
た相変化タイプ、レーザによりバブルを形成するバブル
タイプ、さらに有機色素を用いたタイプ等がある。追記
型光ディスクは、これらの反応が非可逆性であるため1
回しか記録できないが、再生は何度でも可能である。
The write-once type optical recording medium has several types of recording methods. A perforated type which records information by making holes by sublimation by heat of a laser, and an optical constant of a crystalline state and an amorphous state of a recording film. There are a phase change type that uses a difference in reflectance due to a change, a bubble type that forms bubbles by a laser, and a type that uses an organic dye. Write-once optical discs are irreversible in these reactions.
It can be recorded only once, but can be played back as many times as desired.

【0008】書換型の光記録媒体の記録方式としては、
レーザの照射により記録膜が加熱され、その加熱された
部分が外部磁界により磁化の向きが反転することにより
記録ピットを形成し記録が行われる。また、再生には記
録膜のカー効果を利用する光磁気記録、光を用いて異な
る吸収スペクトルを持つ2つの状態の可逆変化を利用し
た光モード記録、そして相変化記録がある。
As a recording method of a rewritable optical recording medium,
The recording film is heated by laser irradiation, and the heated portion reverses the direction of magnetization by an external magnetic field to form a recording pit and recording is performed. For reproduction, there are magneto-optical recording utilizing the Kerr effect of the recording film, optical mode recording utilizing reversible change of two states having different absorption spectra using light, and phase change recording.

【0009】図10は従来の光記録媒体のディスクの構造
図を示し、前記相変化記録は、図10に示されるように、
ガラスディスク基板1に第1の誘電体膜2,記録膜3,
第2の誘電体膜4,反射膜5,保護層としてのUV硬化
樹脂6を順に積層させた構造となっている。記録方法と
しては、図11に示すようにレーザ光源7aからのレーザ
7を、図10に示す光記録媒体8のガラスディスク基板1
側から集光,照射し、レーザ7が記録パワーで光記録媒
体8に照射されると、照射された部分の記録膜3が融解
して急冷され非結晶になる。レーザ7が消去パワーで光
記録媒体8に照射されると、結晶化可能な温度まで記録
膜3が加熱されるので、記録膜3は、結晶状態になる。
再生は、記録/消去パワーよりも低いレーザパワーを用
いてアモルファス,結晶間の相転移による光学定数の差
を利用して行う。
FIG. 10 is a structural diagram of a disk of a conventional optical recording medium. The phase change recording is performed as shown in FIG.
The glass disk substrate 1 has a first dielectric film 2, a recording film 3,
It has a structure in which a second dielectric film 4, a reflective film 5, and a UV curable resin 6 as a protective layer are sequentially laminated. As a recording method, the laser 7 from the laser light source 7a is used as shown in FIG. 11, and the glass disk substrate 1 of the optical recording medium 8 shown in FIG.
When the laser beam 7 is focused and irradiated from the side and the optical recording medium 8 is irradiated with the laser 7 with the recording power, the recording film 3 in the irradiated portion is melted and rapidly cooled to become amorphous. When the optical recording medium 8 is irradiated with the erasing power of the laser 7, the recording film 3 is heated to a temperature at which it can be crystallized, so that the recording film 3 becomes a crystalline state.
Reproduction is performed by using a laser power lower than the recording / erasing power and utilizing the difference in optical constants due to the phase transition between amorphous and crystalline.

【0010】図10に示す光記録媒体8(以下、相変化デ
ィスクという)は、単一ビームでのオーバーライトが可
能であり、しかも光学系も単純化できることから研究開
発が活発に進められている。
The optical recording medium 8 (hereinafter referred to as a phase change disk) shown in FIG. 10 can be overwritten by a single beam, and the optical system can be simplified. .

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、相変化
光ディスクにおいてレーザ照射により記録膜3を融解
し、急冷させることで記録マークである非晶質を形成す
るため、記録/消去を繰り返し行うと、ガラスディスク
基板1上に形成した記録膜3の薄膜に欠陥が生じる場合
がある。この記録膜3の薄膜に欠陥が生じる原因として
は、保護層としてのUV硬化樹脂6や反射膜5に生じる
クラック、記録膜3の物質移動などであり、そのためレ
ーザによる記録/消去の繰り返し特性が劣化するといっ
た問題があった。
However, in the phase-change optical disk, the recording film 3 is melted by laser irradiation and rapidly cooled to form an amorphous material which is a recording mark. A defect may occur in the thin film of the recording film 3 formed on the disk substrate 1. The cause of the defect in the thin film of the recording film 3 is a crack generated in the UV curable resin 6 or the reflective film 5 as a protective layer, a mass transfer of the recording film 3, and the like. There was a problem of deterioration.

【0012】図12は上記従来の相変化光ディスクの記録
/消去の繰り返し特性を示したもので、レーザによる記
録/消去の繰り返し回数が増加(103回以上)するにつれ
て、エラービット数が増加するということが分かる。
FIG. 12 shows the repetitive recording / erasing characteristics of the conventional phase change optical disk. The number of error bits increases as the number of repetitive recording / erasing by laser increases (10 3 or more). I understand that.

【0013】また、従来の光記録媒体は図10に示すよう
に第1の誘電体膜2,記録膜3,第2の誘電体膜4,反
射膜5を、順次、積層する4層構造であり、光記録媒体
の製造工程が複雑化するといった問題がある。
Further, the conventional optical recording medium has a four-layer structure in which a first dielectric film 2, a recording film 3, a second dielectric film 4 and a reflective film 5 are sequentially laminated as shown in FIG. However, there is a problem that the manufacturing process of the optical recording medium becomes complicated.

【0014】したがって、本発明は上記従来の問題点を
解決し、記録膜の物質移動の発生を抑え、記録/消去の
繰り返し特性が良好な、しかも製造工程を簡略化し、量
産性に優れた光記録媒体の提供を目的とする。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned conventional problems, suppresses the mass transfer of the recording film, has good recording / erasing repetitive characteristics, simplifies the manufacturing process, and is excellent in mass productivity. The purpose is to provide a recording medium.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、その第1は、基板上に微細な凹部を有し、そ
の凹部にレーザを照射することにより光学的変化が生じ
る記録層を有し、その記録層の表面上に前記記録層の反
射率と同じ、またはそれに近い反射率を有する膜を有す
ることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the first aspect of the present invention is to provide a recording layer having a fine recess on a substrate, and an optical change caused by irradiating the recess with a laser. And a film having a reflectance equal to or close to the reflectance of the recording layer on the surface of the recording layer.

【0016】また、第2は、基板上に微細な凹部を有
し、その凹部にレーザを照射することにより光学的変化
が生じる記録層を有し、その記録層の表面上に断熱層を
有し、さらにその断熱層上に前記記録層の反射率と同
じ、またはそれに近い反射率を有する膜を有することを
特徴とする。
Secondly, the substrate has a minute concave portion, and the concave portion has a recording layer in which an optical change is generated by irradiating the concave portion with a laser, and a heat insulating layer is provided on the surface of the recording layer. In addition, a film having a reflectance equal to or close to the reflectance of the recording layer is further provided on the heat insulating layer.

【0017】[0017]

【作用】本発明によれば、基板上の微細な凹部に記録層
を形成することで、レーザの照射による記録膜の結晶,
非晶質化の繰り返しにより生ずる記録膜の物質移動の発
生を抑え、光記録媒体の繰り返し特性を向上させること
ができる。
According to the present invention, by forming the recording layer in the fine recesses on the substrate, the crystal of the recording film due to laser irradiation,
It is possible to suppress the occurrence of mass transfer of the recording film caused by the repeated amorphization, and to improve the repeating characteristics of the optical recording medium.

【0018】また、上記手段により光記録媒体の構造を
従来の4層構造から、2層あるいは3層構造に簡略化す
ることができることで、製造工程の簡略化,量産性に優
れた光記録媒体を提供することができる。
Further, since the structure of the optical recording medium can be simplified from the conventional four-layer structure to the two-layer structure or the three-layer structure by the above means, the manufacturing process is simplified and the optical recording medium is excellent in mass productivity. Can be provided.

【0019】[0019]

【実施例】以下に、本発明による各実施例について説明
する。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.

【0020】光記録媒体の基板としては、ポリカーボネ
ート,アクリル樹脂,エポキシ樹脂またはガラス等が用
いられる。
Polycarbonate, acrylic resin, epoxy resin, glass or the like is used as the substrate of the optical recording medium.

【0021】光記録媒体の製造方法は、まず、ガラス原
盤に感光剤を塗布し、レーザによる露光を行い現像する
ことにより、微細な凹部を形成する。この原盤にニッケ
ル電気鋳造を行い、剥離・洗浄することでスタンパを形
成する。
In the method for producing an optical recording medium, first, a glass master is coated with a photosensitizer, exposed by a laser and developed to form fine recesses. Nickel electroforming is performed on this master, and the stamper is formed by peeling and washing.

【0022】このスタンパに上記した基板を載せ、フォ
トポリマー樹脂を充填させ硬化させることで、光記録媒
体上に微細な凹部をつける。
The substrate described above is placed on this stamper, and a photopolymer resin is filled and cured to form fine recesses on the optical recording medium.

【0023】上記微細な凹部をつけた基板に記録層を形
成し、さらにその上に記録層の反射率と同じ、またはそ
れに近い反射率を有する膜を成膜するか、または記録層
の上に断熱層を成膜し、さらにその上に記録層の反射率
と同じ、またはそれに近い反射率を有する膜を成膜す
る。
A recording layer is formed on the substrate having the fine recesses, and a film having a reflectance equal to or close to the reflectance of the recording layer is formed on the recording layer, or on the recording layer. A heat insulating layer is formed, and a film having a reflectance equal to or close to the reflectance of the recording layer is further formed thereon.

【0024】記録層の材料としては、結晶と非晶質との
間で可逆的に相変化する材料が選ばれ、このような材料
として、Ge−Te,Ge−Sb−Te,Ge−Te−S,Ge
−Se−Sb,In−Sb−Te,Ge−As−Se,In−T
e,Se−Te,Se−As,In−Sb等がある。
As the material of the recording layer, a material which reversibly changes its phase between crystalline and amorphous is selected. As such a material, Ge--Te, Ge--Sb--Te, Ge--Te-- S, Ge
-Se-Sb, In-Sb-Te, Ge-As-Se, In-T
e, Se-Te, Se-As, In-Sb, etc.

【0025】断熱層の材料としては、ZnS・SiO2
Ta25,SiO2,SiN,ZnS等がある。
As the material of the heat insulating layer, ZnS.SiO 2 ,
There are Ta 2 O 5 , SiO 2 , SiN, ZnS and the like.

【0026】使用する半導体レーザでの記録層の反射率
に近い反射率を有し、かつ記録層よりも高融点である材
料としては、Ge−Sb−Teに対しては、GeTeがあ
る。
As a material having a reflectance close to that of the recording layer of the semiconductor laser used and having a melting point higher than that of the recording layer, there is GeTe for Ge-Sb-Te.

【0027】上記薄膜は、真空蒸着法,電子ビーム蒸着
法,イオンプレーティング法,プラズマCVD法,光C
VD法,スパッタリング法等によって形成できる。
The thin film is formed by vacuum vapor deposition, electron beam vapor deposition, ion plating, plasma CVD, light C
It can be formed by a VD method, a sputtering method, or the like.

【0028】薄膜の成膜は、Arガスによるスパッタリ
ング法が適するが、材料によっては、(Ar+N2)ガス,
(Ar+H2)ガス,N2ガス,H2ガスによるスパッタリン
グが適する。
The sputtering method using Ar gas is suitable for forming the thin film, but depending on the material, (Ar + N 2 ) gas,
Sputtering with (Ar + H 2 ) gas, N 2 gas, and H 2 gas is suitable.

【0029】ディスクに記録膜等を成膜した後に、オー
バーコートとしてUV硬化樹脂を使用する。UV硬化樹
脂はスピンコータによって被膜する。
After forming a recording film or the like on the disc, a UV curable resin is used as an overcoat. The UV curable resin is coated with a spin coater.

【0030】基板に薄膜を成膜し、UV硬化樹脂を被膜
した後、薄膜を内側に対向するように張り合わせを行
う。光記録媒体の張り合わせを行う際に用いる接着剤と
しては、ホットメルトタイプがよく知られている。
After forming a thin film on the substrate and coating the UV curable resin, the thin films are laminated so as to face each other inward. A hot melt type adhesive is well known as an adhesive used when laminating optical recording media.

【0031】このような製造過程を経て、光記録媒体が
作製される。なお、張り合わせを行った光記録媒体の表
面上に潤滑剤または帯電防止剤を塗布しても構わない。
An optical recording medium is manufactured through the above manufacturing process. A lubricant or an antistatic agent may be applied on the surface of the optical recording medium that has been laminated.

【0032】以下に、本発明の光記録媒体について具体
的に説明する。
The optical recording medium of the present invention will be specifically described below.

【0033】(実施例1)本実施例1の光記録媒体の構成
は、図1に示すように直径86mmのガラスディスク基板1
上につけられた凹部13に記録層9としてGe−Sb−Te
を形成し、その上に記録層Ge−Sb−Teのレーザ波長8
30nmにおける反射率に近い反射率を有するGeTe膜10を
成膜し、その上にUV硬化樹脂6を積層させた記録層9
とGeTe膜10の2層構造となっている。
(Embodiment 1) As shown in FIG. 1, the structure of the optical recording medium of the embodiment 1 is such that a glass disk substrate 1 having a diameter of 86 mm is used.
Ge-Sb-Te is used as the recording layer 9 in the recess 13 formed above.
And the laser wavelength of the recording layer Ge-Sb-Te is formed on it.
Recording layer 9 in which a GeTe film 10 having a reflectance close to that at 30 nm is formed and a UV curable resin 6 is laminated thereon
And the GeTe film 10 have a two-layer structure.

【0034】このとき、ガラスディスク基板1の表面に
潤滑剤11または帯電防止剤12を塗布しても構わない。
At this time, the lubricant 11 or the antistatic agent 12 may be applied to the surface of the glass disk substrate 1.

【0035】なお、ガラスディスク基板1上の凹部13の
幅は、0.1μm、深さは250Åであり、この凹部13がガラ
スディスク基板1上に均一に多数形成されている。
The width of the recesses 13 on the glass disk substrate 1 is 0.1 μm and the depth is 250 Å, and many recesses 13 are uniformly formed on the glass disk substrate 1.

【0036】次に、光記録媒体の製造方法を図2ないし
図6に基づいて説明する。図2に示すように、表面を研
磨したガラス原盤15を洗浄,乾燥させ、その上に記録剤
であるフォトレジスト膜16を膜厚250Åでコーティング
する。コーティングを行ったガラス原盤15は、ベーキン
グによりガラス原盤15とフォトレジスト膜16との密着性
を高めさせる。
Next, a method of manufacturing the optical recording medium will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 2, a glass master disk 15 whose surface has been polished is washed and dried, and a photoresist film 16 as a recording material is coated thereon with a film thickness of 250 Å. The coated glass master 15 enhances the adhesion between the glass master 15 and the photoresist film 16 by baking.

【0037】次に、フォトレジスト膜16をコーティング
したガラス原盤15は、レーザ光源7aから変調を受けた
レーザ7により図3に示すように露光され、露光後、フ
ォトレジスト膜16を除去すると、図4に示すようにガラ
ス原盤15に幅0.1μm、深さ250Åの凹部13が形成され
る。
Next, the glass master 15 coated with the photoresist film 16 is exposed by the laser 7 modulated by the laser light source 7a as shown in FIG. 3, and after the exposure, the photoresist film 16 is removed. As shown in FIG. 4, a recess 13 having a width of 0.1 μm and a depth of 250 Å is formed on the glass master disk 15.

【0038】この微細な凹部13を多数形成したガラス原
盤15に対し、ニッケル電気鋳造を行い、剥離,洗浄を行
うことでスタンパを形成する。
A glass stamper 15 having a large number of minute recesses 13 formed thereon is electroformed with nickel, and is peeled off and washed to form a stamper.

【0039】このスタンパに直径86mmのガラスディスク
基板1を載せ、図5のようにスタンパとガラスディスク
基板1の間にフォトポリマー樹脂17を充填、あるいは塗
布し、赤外線を照射することで液体状であった樹脂は光
架端反応により硬化する。その後、ガラスディスク基板
1と硬化したフォトポリマー樹脂17を剥ぎ取ると、図6
に示すようにガラスディスク基板1上に微細な凹部13を
形成させる。
The glass disk substrate 1 having a diameter of 86 mm is placed on this stamper, and the photopolymer resin 17 is filled or applied between the stamper and the glass disk substrate 1 as shown in FIG. The existing resin is hardened by the reaction at the optical bridge end. Then, when the glass disk substrate 1 and the cured photopolymer resin 17 are peeled off, as shown in FIG.
As shown in FIG. 3, fine recesses 13 are formed on the glass disk substrate 1.

【0040】このようにして作成したガラスディスク基
板1を真空スパッタ装置内に設置し、チャンバー内を高
真空にする。次に、チャンバー内にArガスを導入し、
Ge−Sb−Teターゲットをスパッタリングして、ガラ
スディスク基板1に記録層9を350Å成膜する。次に、
この記録層9にドライエッチングを行い、記録層9を10
0Åドライエッチングする。このことにより、ガラスデ
ィスク基板1上の凹部13のみに記録層9を形成する。
The glass disk substrate 1 thus prepared is placed in a vacuum sputtering apparatus and the chamber is evacuated to a high vacuum. Next, Ar gas was introduced into the chamber,
A Ge—Sb—Te target is sputtered to form a 350 Å recording layer 9 on the glass disk substrate 1. next,
This recording layer 9 is dry-etched to remove the recording layer 9 by 10
0Å Dry etching. As a result, the recording layer 9 is formed only in the concave portion 13 on the glass disk substrate 1.

【0041】次に、記録層9上にレーザ波長830nmにお
ける記録層9の反射率に近い反射率を有し、記録膜の融
点よりも高い融点を持ったGeTe膜10をスパッタリング
して50nmの薄膜を形成する。その後、スピンコータによ
りUV硬化樹脂6を被膜する。なお、ガラスディスク基
板1の表面に潤滑剤11または帯電防止剤12を塗布しても
構わない。
Next, a GeTe film 10 having a reflectance close to that of the recording layer 9 at a laser wavelength of 830 nm and having a melting point higher than that of the recording film is sputtered on the recording layer 9 to form a thin film of 50 nm. To form. After that, the UV curable resin 6 is coated with a spin coater. The surface of the glass disk substrate 1 may be coated with the lubricant 11 or the antistatic agent 12.

【0042】次に、この光記録媒体に対し、記録/消去
の繰り返し特性の試験を行った。
Next, the optical recording medium was tested for repetitive recording / erasing characteristics.

【0043】試験方法としては、ディスクの線速度10m
/sで半導体レーザを使用して信号の書き込みを行った。
使用した半導体レーザの波長は、λ=830nmで繰り返し
特性として光記録媒体のエラービット数の測定を行っ
た。図7は本発明の実施例1による光記録媒体の記録/
消去の繰り返し特性を示し、前記図12に示した従来の光
記録媒体の記録/消去の繰り返し特性に比べて、エラー
ビット数が著しく低減されていることが分かる。
As a test method, the linear velocity of the disk is 10 m.
Signals were written using a semiconductor laser at / s.
The wavelength of the semiconductor laser used was λ = 830 nm, and the error bit number of the optical recording medium was measured as a repetitive characteristic. FIG. 7 shows the recording / recording of the optical recording medium according to the first embodiment of the present invention.
The erasing repetition characteristics are shown, and it can be seen that the number of error bits is significantly reduced as compared with the recording / erasing repetition characteristics of the conventional optical recording medium shown in FIG.

【0044】すなわち、図12より従来の光記録媒体では
繰り返し回数103回以上からエラービット数が増加する
のに対し、図7の本発明の実施例1ではガラスディスク
基板1上に微細な凹部13をつけ、その凹部13に記録層9
を形成し、記録層9の反射率に近い反射率を有し、記録
膜の融点よりも高い融点を持ったGeTe膜10を成膜する
ことにより、繰り返し回数107回においてもエラービッ
ト数の増加がほとんど見られない。
That is, as shown in FIG. 12, the number of error bits increases from the number of repetitions of 10 3 or more in the conventional optical recording medium, whereas in Example 1 of the present invention in FIG. 7, fine recesses are formed on the glass disk substrate 1. 13 is provided, and the recording layer 9 is provided in the recess 13.
Is formed and has a reflectivity close to the reflectivity of the recording layer 9, by forming a GeTe film 10 having a melting point higher than the melting point of the recording film, the number of error bits in the repeat count 107 times Little increase is seen.

【0045】(実施例2)本実施例2の光記録媒体の構成
は、図8に示すように、直径86mmのガラスディスク基板
1上につけられた凹部13に記録層9としてGe−Sb−T
eを形成し、その上に断熱層14としてZnS・SiO2を成
膜し、さらにその上に記録層9としてのGe−Sb−Te
のレーザ波長830nmにおける反射率に近い反射率を有す
るGeTe膜10を成膜し、その上にUV硬化樹脂6を積層
させた記録層9,断熱層14,GeTe膜10の3層構造とな
っている。このとき、ガラスディスク基板1の表面に潤
滑剤11または帯電防止剤12を塗布しても構わない。
(Embodiment 2) As shown in FIG. 8, the construction of the optical recording medium of the present embodiment 2 is such that Ge-Sb-T as the recording layer 9 is formed as the recording layer 9 in the recess 13 formed on the glass disk substrate 1 having a diameter of 86 mm.
e is formed, ZnS.SiO 2 is formed as a heat insulating layer 14 thereon, and Ge-Sb-Te as a recording layer 9 is further formed thereon.
Of the GeTe film 10 having a reflectance close to that at the laser wavelength of 830 nm, and a UV curable resin 6 is laminated thereon to form a three-layer structure of a recording layer 9, a heat insulating layer 14, and a GeTe film 10. There is. At this time, the lubricant 11 or the antistatic agent 12 may be applied to the surface of the glass disk substrate 1.

【0046】なお、ガラスディスク基板1上の凹部13の
幅は、0.1μm、深さは250Åであり、この凹部13がガラ
スディスク基板1上に均一に多数形成されている。
The recesses 13 on the glass disk substrate 1 have a width of 0.1 μm and a depth of 250 Å, and a large number of recesses 13 are uniformly formed on the glass disk substrate 1.

【0047】次に、光記録媒体の製造方法について説明
するが、ガラスディスク基板1の凹部13のみに記録層9
を形成する工程までは前記実施例1と同様である。ここ
で、本実施例による断熱層14としてZnS・SiO2を100
nmを成膜し、これによりレーザ照射による熱を遮断す
る。この断熱層14の上にレーザ波長830nmにおける記録
層の反射率に近い反射率を有するGeTe膜10をスパッタ
リングして50nmの薄膜を形成する。その後、スピンコー
タによりUV硬化樹脂6を被膜する。なお、ガラスディ
スク基板1の表面に潤滑剤11または帯電防止剤12を塗布
しても構わない。
Next, a method of manufacturing the optical recording medium will be described. The recording layer 9 is formed only in the concave portion 13 of the glass disk substrate 1.
The process up to the step of forming is similar to that of the first embodiment. Here, as the heat insulating layer 14 according to this embodiment, 100% ZnS.SiO 2 is used.
A film of nm is formed to block heat from laser irradiation. On the heat insulating layer 14, a GeTe film 10 having a reflectance close to that of the recording layer at a laser wavelength of 830 nm is sputtered to form a 50 nm thin film. After that, the UV curable resin 6 is coated with a spin coater. The surface of the glass disk substrate 1 may be coated with the lubricant 11 or the antistatic agent 12.

【0048】次に、この光記録媒体に対し、実施例1と
同様の記録/消去の繰り返し特性の試験を行った。その
結果を図9に示す。
Next, the same recording / erasing repetitive characteristic test as in Example 1 was conducted on this optical recording medium. The result is shown in FIG.

【0049】図9によりガラスディスク基板1上に微細
な凹部13を有し、その凹部13に記録層9を有し、さらに
記録層9と記録層9のレーザ波長830nmにおける反射率
に近い反射率を有するGeTe膜10との間に断熱層(ZnS
・SiO2)14を有することで従来の図12に示す光記録媒
体の記録/消去の繰り返し特性に比べて、繰り返し回数
107回でもエラービット数の増加が見られず、優れた繰
り返し特性を示す。
As shown in FIG. 9, a minute concave portion 13 is formed on the glass disk substrate 1, a recording layer 9 is formed in the concave portion 13, and the recording layer 9 and the reflectance of the recording layer 9 close to the reflectance at a laser wavelength of 830 nm. Between the GeTe film 10 and the heat insulating layer (ZnS
・ By having SiO 2 ) 14, the number of repetitions is greater than that of the conventional recording / erasing repetition characteristics of the optical recording medium shown in FIG.
No increase in the number of error bits was observed even after 10 7 times, showing excellent repeatability.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体は、この光記録媒体の基板上に微細な凹部を有し、そ
の凹部にレーザを照射することにより光学的変化が生じ
る記録層を有し、その記録層の表面上に記録層の反射率
と同じ、またはそれに近い反射率を有する膜を有する
か、または光記録媒体の基板上に微細な凹部を有し、凹
部にレーザを照射することにより光学的変化が生じる記
録層を有し、この記録層の表面上に断熱層を有し、さら
にその断熱層の反射率と同じ、またはそれに近い反射率
を有する膜を有することにより、レーザ照射による記録
/消去の繰り返しによる記録膜の物質移動などが抑制さ
れ、繰り返し特性に優れ、なおかつ従来の光記録媒体よ
りもディスク構造を簡略化することができるので、量産
性に優れた光記録媒体を提供することができる。
As described above, the optical recording medium of the present invention has a fine concave portion on the substrate of the optical recording medium, and a recording layer which causes an optical change by irradiating the concave portion with a laser. Having a film having a reflectance equal to or close to the reflectance of the recording layer on the surface of the recording layer, or having a minute concave portion on the substrate of the optical recording medium, and laser in the concave portion. By having a recording layer that undergoes an optical change by irradiation, having a heat insulating layer on the surface of this recording layer, and further having a film having a reflectance equal to or close to the reflectance of the heat insulating layer. In addition, mass transfer of the recording film due to repeated recording / erasing due to laser irradiation is suppressed, the repeatability is excellent, and the disk structure can be simplified as compared with conventional optical recording media. Recording medium It is possible to provide a.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1の光記録媒体の構造を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a structure of an optical recording medium of Example 1 of the present invention.

【図2】本実施例の製造工程におけるガラス原盤にフォ
トレジスト膜を塗布した図である。
FIG. 2 is a diagram in which a photoresist film is applied to a glass master in the manufacturing process of the present embodiment.

【図3】本実施例の製造工程におけるガラス原盤に塗布
したフォトレジスト膜をレーザにより露光している図で
ある。
FIG. 3 is a diagram in which a photoresist film applied to a glass master in the manufacturing process of this example is exposed by a laser.

【図4】本実施例の製造工程におけるガラス原盤に形成
された凹部を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a recess formed in a glass master in the manufacturing process of the present embodiment.

【図5】本実施例の製造工程におけるスタンパに基板を
載せフォトポリマー樹脂を充填している図である。
FIG. 5 is a diagram in which a substrate is placed on a stamper and filled with a photopolymer resin in the manufacturing process of the present embodiment.

【図6】本実施例の製造工程における基板上に形成され
た凹部を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a recess formed on a substrate in a manufacturing process of this embodiment.

【図7】本発明の実施例1による光記録媒体の記録/消
去の繰り返し特性を示した図である。
FIG. 7 is a diagram showing repetitive recording / erasing characteristics of the optical recording medium according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施例2の光記録媒体の構造を示す図
である。
FIG. 8 is a diagram showing the structure of an optical recording medium of Example 2 of the present invention.

【図9】本発明の実施例2による光記録媒体の記録/消
去の繰り返し特性を示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing repetitive recording / erasing characteristics of an optical recording medium according to a second embodiment of the present invention.

【図10】従来の光記録媒体のディスクの構造図であ
る。
FIG. 10 is a structural diagram of a disk of a conventional optical recording medium.

【図11】図10の光記録媒体の記録方法を示す概略図で
ある。
11 is a schematic diagram showing a recording method of the optical recording medium of FIG.

【図12】従来の光記録媒体の記録/消去の繰り返し特
性を示した図である。
FIG. 12 is a diagram showing recording / erasing repetition characteristics of a conventional optical recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラスディスク基板、 6…UV硬化樹脂、 7…
レーザ、 8…光記録媒体、 9…記録層、 10…記録
層の反射率に近い反射率を有する膜(GeTe膜)、11…潤
滑剤、 12…帯電防止剤、 13…凹部、 14…断熱層、
15…ガラス原盤、 16…フォトレジスト膜、 17…フ
ォトポリマー樹脂。
1 ... Glass disk substrate, 6 ... UV curable resin, 7 ...
Laser, 8 ... Optical recording medium, 9 ... Recording layer, 10 ... Film having a reflectance close to that of the recording layer (GeTe film), 11 ... Lubricant, 12 ... Antistatic agent, 13 ... Recess, 14 ... Heat insulation layer,
15… Glass master, 16… Photoresist film, 17… Photopolymer resin.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に微細な凹部を有し、その凹部に
レーザを照射することにより光学的変化が生じる記録層
を有し、その記録層の表面上に前記記録層の反射率と同
じ、またはそれに近い反射率を有する膜を有することを
特徴とする光記録媒体。
1. A substrate is provided with a minute concave portion, and the concave portion has a recording layer that undergoes an optical change when irradiated with a laser, and has the same reflectance as the recording layer on the surface of the recording layer. Or an optical recording medium having a film having a reflectance close to that.
【請求項2】 基板上に微細な凹部を有し、その凹部に
レーザを照射することにより光学的変化が生じる記録層
を有し、その記録層の表面上に断熱層を有し、さらにそ
の断熱層上に前記記録層の反射率と同じ、またはそれに
近い反射率を有する膜を有することを特徴とする光記録
媒体。
2. A substrate is provided with a minute concave portion, a recording layer having an optical change caused by irradiating the concave portion with a laser, and a heat insulating layer on the surface of the recording layer. An optical recording medium comprising a film having a reflectance on the heat insulating layer which is equal to or close to the reflectance of the recording layer.
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