JPH0728693Y2 - Wafer holder - Google Patents

Wafer holder

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JPH0728693Y2
JPH0728693Y2 JP1988128885U JP12888588U JPH0728693Y2 JP H0728693 Y2 JPH0728693 Y2 JP H0728693Y2 JP 1988128885 U JP1988128885 U JP 1988128885U JP 12888588 U JP12888588 U JP 12888588U JP H0728693 Y2 JPH0728693 Y2 JP H0728693Y2
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wafer
positioning
clamp
clamp plate
pins
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Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、例えば、イオン注入装置においてウェハをタ
ーゲットチャンバ内の所定位置に保持するためのプラテ
ンやディスク等の保持具に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a holder such as a platen or a disk for holding a wafer at a predetermined position in a target chamber in an ion implantation apparatus, for example.

〈従来の技術〉 イオン注入装置において、バッチ注入を行なう際に用い
られる、従来のディスクとしては、例えば第4図に示す
ように、保持すべきウェハを位置決めするためテーパ状
の穴101aが形成された支持台101、およびクランパ102等
を備え、穴101a内に挿入されたウェハWをクランパ102
の下方への押圧力によって支持台101上に固定する構造
のもの、あるいは、第5図に示すように、上面111aがフ
ラットな支持台111、その支持台111の上面111aに装着さ
れ、保持すべきウェハを位置決めするためのテーパ状の
穴113aが穿たれた位置決め板113、およびクランパ112等
を備え、位置決め板113の貫通穴113a内に挿入されたウ
ェハWをクランパ112の下方への押圧力によって支持台1
11上に固定する構造のものが挙げられる。
<Prior Art> As a conventional disk used for batch implantation in an ion implantation apparatus, as shown in FIG. 4, for example, a tapered hole 101a is formed for positioning a wafer to be held. The wafer W inserted in the hole 101a is clamped by the clamper 102.
Of the structure in which it is fixed on the support base 101 by the downward pressing force, or, as shown in FIG. 5, the support base 111 having a flat upper surface 111a is mounted on the upper surface 111a of the support base 111 and held. A positioning plate 113 having a tapered hole 113a for positioning a desired wafer, a clamper 112, and the like are provided, and the wafer W inserted into the through hole 113a of the positioning plate 113 is pressed downward by the clamper 112. By pedestal 1
11 is a structure that is fixed on top.

〈考案が解決しようとする課題〉 ところで、上述の二つのディスク構造によれば、いずれ
も、ウェハを位置決めするための穴101a,113aのテーパ
面が支持台101,111に対して固定されており、このた
め、何らかの原因によってウェハWの一部がテーパ面に
引っ掛かった状態になった場合には、ウェハWはクラン
パの押圧力によって破損していた。このウェハの破損
は、ターゲットチャンバ内の清掃等のダウンタイムを必
要とし、ひいては生産性を著しく低下させるという問題
をもたらす。
<Problems to be Solved by the Invention> By the way, according to the above-described two disk structures, the tapered surfaces of the holes 101a and 113a for positioning the wafer are fixed to the support bases 101 and 111, respectively. Therefore, when a part of the wafer W is caught by the tapered surface for some reason, the wafer W is damaged by the pressing force of the clamper. This wafer breakage requires downtime for cleaning the inside of the target chamber, resulting in a problem that productivity is significantly reduced.

〈課題を解決するための手段〉 本考案は上記の問題点を解決すべくなされたもので、そ
の構成を実施例に対応する第1図〜第3図を参照しつつ
説明すると、本考案は、上面1aにウェハWが置かれる支
持台(ディスク)1の上方位置に、ウェハWの周縁部を
押さえるためのクランプ板2が、当該支持台上面1aに対
して接近離反自在に配設されているとともに、支持台1
にはクランプ板2が対面する位置に複数本の位置決めピ
ン3…3が配設され、その各位置決めピン3は、それぞ
れ、支持台1に対して上下方向に移動自在で、弾性体
(スプリング)4の押圧力により一部が上記支持台1の
上面1aから突出し、その突出部上端が、当該支持台上面
1aに対しウェハWの厚さに相当する高さとなる位置の上
下に変位し得るように構成され、かつ、これら位置決め
ピン3の側面には、それぞれ、ウェハWを支持台上面1a
に位置決めするための面(テーパ面)3aが形成されてい
るとともに、クランプ板2を支持台上面1aに向けて、上
記弾性体4…4の押圧力よりも大きな力で押圧する手段
(例えばスプリング9)を備えていることによって特徴
づけられる。
<Means for Solving the Problems> The present invention has been made to solve the above problems, and the configuration thereof will be described with reference to FIGS. 1 to 3 corresponding to the embodiments. A clamp plate 2 for pressing the peripheral edge of the wafer W is provided above the support table (disk) 1 on which the wafer W is placed on the upper surface 1a so as to be able to move toward and away from the upper surface 1a of the support table. And support stand 1
Is provided with a plurality of positioning pins 3 at positions facing the clamp plate 2, and each of the positioning pins 3 is movable in the vertical direction with respect to the support base 1 and is made of an elastic body (spring). Part of the upper surface 1a of the support 1 is projected by the pressing force of 4, and the upper end of the protruding portion is the upper surface of the support 1.
It is configured so that it can be displaced up and down at a position having a height corresponding to the thickness of the wafer W with respect to 1a, and the wafer W is provided on the side surfaces of these positioning pins 3 respectively on the upper surface 1a of the support base.
A surface (tapered surface) 3a for positioning is formed on the clamp plate 2 and means for pressing the clamp plate 2 toward the upper surface 1a of the support base with a force larger than the pressing force of the elastic bodies 4 ... It is characterized by having 9).

〈作用〉 クランプ板2はウェハSを押圧する前に位置決めピン3
…3の上端に当たり、このクランプ板2の移動とともに
位置決めピン3…3が下方に移動するので、クランプ板
2がウェハWを押圧し始める時点では、ピン3の位置決
め面3a…3aは下方へと移動しており、これによりウェハ
Wは、その全面が支持台1の上面1aに当接した状態でク
ランプ板2によって押圧されることになる。
<Operation> The clamp plate 2 is provided with the positioning pin 3 before pressing the wafer S.
3 hits the upper end of the clamp plate 2, and the positioning pins 3 move downward with the movement of the clamp plate 2. Therefore, when the clamp plate 2 starts pressing the wafer W, the positioning surfaces 3a 3a of the pins 3 move downward. The wafer W is being moved, so that the wafer W is pressed by the clamp plate 2 in a state where the entire surface of the wafer W is in contact with the upper surface 1a of the support 1.

従って、ウェハWを支持台1上に位置決めするに際に、
その一部が位置決めピン3の位置決め面3aに引っ掛かっ
た状態となっても、ウェハWがクランプ板2によってピ
ン3の位置決め面3aに対して押圧されることがなく、こ
れによりウェハWが破損することがなくなる。
Therefore, when positioning the wafer W on the support 1,
Even if a part of the wafer is caught on the positioning surface 3a of the positioning pin 3, the wafer W is not pressed against the positioning surface 3a of the pin 3 by the clamp plate 2, and the wafer W is damaged thereby. Will disappear.

〈実施例〉 本考案の実施例を、以下、図面に基づいて説明する。<Embodiment> An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本考案実施例の要部縦断面図で、第2図はその
II−II矢視図である。なお、第1図における切断面は第
2図I−I矢視断面である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an essential part of an embodiment of the present invention, and FIG.
It is a II-II arrow line view. The cross section in FIG. 1 is a cross section taken along the line II in FIG.

ディスク1は回転・並進駆動装置(図示せず)等の回転
軸21にボルト22…22によって固着されており、回転およ
び並進運動が与えられる。
The disk 1 is fixed to a rotary shaft 21 such as a rotary / translational driving device (not shown) by bolts 22 ... 22, and is given a rotational and translational motion.

ディスク1には、その回転中心との同心の円周L上に中
心を有し、かつ、直径が保持すべきウェハWの直径に後
述する位置決めピン3の小径部の直径を加えた長さより
も僅かに大きい円周lに沿って4個の貫通孔1c…1cが穿
たれている。この各貫通孔1c…1cは円柱状の小径部およ
び大径部からなっており、その大径部の下方一部分には
雌ねじが形成されている。
The disk 1 has a center on a circumference L concentric with the center of rotation, and has a diameter larger than the diameter of the wafer W to be held plus the diameter of the small diameter portion of the positioning pin 3 described later. Four through holes 1c ... 1c are formed along a slightly larger circumference l. Each of the through-holes 1c ... 1c is composed of a cylindrical small-diameter portion and a large-diameter portion, and a female screw is formed in a lower part of the large-diameter portion.

各貫通孔1b…1b内には、それぞれ位置決めピン3…3が
摺動自在に挿入されいてる。この各位置決めピン3…3
は、円柱形状の小径部および大径部からなっており、そ
の小径部お先端部にはテーパ面3aが形成されている。ま
た、各位置決めピン3…3の下方には、スプリング4が
止めネジ5…5によって押圧挿入されており、各位置決
めピン3…3はスプリング4の弾性力によって上方へと
押圧され、その各テーパ面3a…3aがディスク上面1aから
突出するようになっている。
Positioning pins 3 ... 3 are slidably inserted into the through holes 1b. These positioning pins 3 ... 3
Is composed of a cylindrical small-diameter portion and a large-diameter portion, and a tapered surface 3a is formed at the tip of the small-diameter portion. A spring 4 is press-inserted below the positioning pins 3 ... 3 by set screws 5 ... 5, and the positioning pins 3 ... 3 are pressed upward by the elastic force of the springs 4 and their respective tapers. The surfaces 3a ... 3a project from the disk upper surface 1a.

位置決めピン3…3の上方には、4本の連結棒8…8に
よって支持されてなるクランプ板2が配設されており、
このクランプ板2には、各位置決めピン3…3が沿う円
周lに相応する位置にテーパ穴2aが穿たれている。その
テーパ穴2aの下方先端径は、保持すべきウェハWよりも
所定量だけ小さい直径を有している。
A clamp plate 2 supported by four connecting rods 8 ... 8 is provided above the positioning pins 3 ...
Tapered holes 2a are formed in the clamp plate 2 at positions corresponding to the circumference 1 along which the positioning pins 3 ... The lower tip diameter of the taper hole 2a is smaller than the wafer W to be held by a predetermined amount.

4本の連結棒8…8は、それぞれディスク1の壁体を貫
通し、下方へと突出しており、その各突出端は底板7に
固着されている。底板7は、ディスク1に固着された3
本のガイド棒10…10に沿って上下方向に移動自在となっ
ている。なお、底板7が各ガイド棒10…10に当接する部
分には、両者間のすべりを円滑にするためのリニアベア
リング11が設けられている。
Each of the four connecting rods 8 ... 8 penetrates the wall of the disk 1 and projects downward, and each projecting end thereof is fixed to the bottom plate 7. The bottom plate 7 is fixed to the disk 1 by 3
It can move vertically along the guide rods 10 ... 10 of the book. A linear bearing 11 is provided at the portion where the bottom plate 7 abuts on each of the guide rods 10 ... 10 for smooth sliding between them.

また、4本の連結棒8…8の下部周囲、ディスク1の下
面1bと底板7の上面7aとの間には、それぞれスプリング
9…9が狭設されており、その各スプリング9…9の弾
性力によって底板7は下方に向って押圧される。すなわ
ち、クランプ板2がディスクの上面1aに向って押圧され
ることになる。また、各スプリング9…9の弾性力に抗
して底板7を上方へと押し上げることによって、クラン
プ板2を上昇させることができる。なお、スプリング9
…9の弾性力は、クランプ板2が位置決めピン3…3を
下方へと押圧でき、しかもウェハWを充分に押圧できる
程度とする。
Further, springs 9 ... 9 are narrowly provided around the lower portions of the four connecting rods 8 ... 8 and between the lower surface 1b of the disc 1 and the upper surface 7a of the bottom plate 7, respectively. The bottom plate 7 is pressed downward by the elastic force. That is, the clamp plate 2 is pressed toward the upper surface 1a of the disc. Further, the clamp plate 2 can be raised by pushing the bottom plate 7 upward against the elastic force of each spring 9 ... The spring 9
.. 9 is set to such an extent that the clamp plate 2 can press the positioning pins 3 ... 3 downward and can sufficiently press the wafer W.

ディスク1には、また、円周lと同心の円周に沿って4
個の貫通孔1d…1dが穿たれており、この各貫通孔1d…1d
内にはそれぞれクランプアップピン6…6が摺動自在に
挿入されている。この各クランプアップピン6…6は下
端が底板7に固着されており、底板7を上方へと押し上
げることによって、一部がディスクの上面1aから突出す
るようになっている。
The disk 1 also has a circumference of 4 concentric with the circumference l.
The individual through holes 1d ... 1d are drilled, and the through holes 1d ... 1d are formed.
Clamp-up pins 6 ... 6 are slidably inserted therein. The lower end of each of the clamp-up pins 6 ... 6 is fixed to the bottom plate 7, and when the bottom plate 7 is pushed upward, a part of the clamp-up pin 6 is projected from the upper surface 1a of the disc.

以上のように構成された、4本の位置決めピン3…3、
クランプ板2、および4本のクランプアップピン6…6
は、ディスク1の円周L上に沿う複数の箇所に、それぞ
れ回転対称となるよう設けられている。
The four positioning pins 3 ... 3, which are configured as described above,
Clamp plate 2 and four clamp-up pins 6 ... 6
Are provided at a plurality of locations along the circumference L of the disk 1 so as to be rotationally symmetrical.

また、真空チャンバ(図示せず)内の所定位置に、ディ
スク1にウェハWを装着する際に、クランプ板2つまり
底板7を上方へと押し上げるための、公知のクランプア
ップバー12が配設されている。
A known clamp-up bar 12 is arranged at a predetermined position in a vacuum chamber (not shown) for pushing up the clamp plate 2, that is, the bottom plate 7 when the wafer W is mounted on the disk 1. ing.

次に、第3図を参照して、作用をウェハ装着手順ととも
に述べる。
Next, the operation will be described together with the wafer mounting procedure with reference to FIG.

まず、クランプアップバー12によって底板7を押し上
げ、クランプ板2を上方へと逃しておく。この状態で
は、第3図〔a〕に示すように、位置決めピン3…3お
よびクランプアップピン6…6はディスクの上面1aから
突出しており、ウェハWを、各クランプアップピン6…
6の上端部に、その位置がクランプ板2のテーパ穴2aの
真下になるように載せる。
First, the bottom plate 7 is pushed up by the clamp up bar 12, and the clamp plate 2 is released upward. In this state, as shown in FIG. 3 (a), the positioning pins 3 ... 3 and the clamp-up pins 6 ... 6 project from the upper surface 1a of the disc, and the wafer W is clamped to the clamp-up pins 6 ...
It is placed on the upper end of 6 so that its position is directly below the tapered hole 2a of the clamp plate 2.

次いで、クランプアップバー12を下方に徐々に下げてゆ
くと、ウェハWは、位置決めピン3…3の各テーパ面3a
…3aに沿って加工し、クランプアップピン6…6の先端
がディスクの上面1aの下方になった時点で、第3図
〔b〕に示すように、ディスクの上面1a上に位置決めピ
ン3…3によって位置決めされる。そして、さらにクラ
ンプアップバー12を下方に下げてゆくと、クランプ板2
がまずは位置決めピン3…3の上端部に、次いでウェハ
Wの周縁に当接し、その周縁部はクランプアップバー12
が底板7から離れた時点で、スプリング9の弾性力によ
ってディスク1に向って押圧される。これにより、ウェ
ハWはディスクの上面1a上に保持されることになる。そ
して、以上の手順を、ディスク1を所定ピッチづつ回転
させるごとに行なうことによって、複数枚のウェハW…
Wをディスクの上面1a上の所定位置に保持できる。
Then, when the clamp-up bar 12 is gradually lowered downward, the wafer W is moved to the tapered surfaces 3a of the positioning pins 3 ...
.. 3a, and when the tips of the clamp-up pins 6 ... 6 are below the upper surface 1a of the disc, as shown in FIG. 3 [b], the positioning pin 3 ... Positioned by 3. When the clamp up bar 12 is further lowered, the clamp plate 2
3 first abuts on the upper ends of the positioning pins 3 ... 3 and then on the peripheral edge of the wafer W.
When is separated from the bottom plate 7, it is pressed toward the disc 1 by the elastic force of the spring 9. As a result, the wafer W is held on the upper surface 1a of the disk. Then, by performing the above procedure every time the disk 1 is rotated by a predetermined pitch, a plurality of wafers W ...
W can be held in place on the upper surface 1a of the disc.

ここで、ウェハWをディスクの上面1aに位置決めすると
きに、何らかの原因によってウェハWの一部が位置決め
ピン3のテーパ面3aに引っ掛かった状態となっても、ウ
ェハWがクランプ板2によって押圧される時点では、位
置決めピン6はクランプ板2によって下方へと移動して
おり、ウェハWはその全面がディスクの上面1aに当接し
た状態でクランプ板2によって押圧されることになる。
これにより、ウェハWがクランプ板2の押圧力によって
破損することはない。
Here, when the wafer W is positioned on the upper surface 1a of the disk, even if a part of the wafer W is caught by the tapered surface 3a of the positioning pin 3 for some reason, the wafer W is pressed by the clamp plate 2. At that time, the positioning pin 6 is moved downward by the clamp plate 2, and the wafer W is pressed by the clamp plate 2 with the entire surface of the wafer W in contact with the upper surface 1a of the disk.
As a result, the wafer W is not damaged by the pressing force of the clamp plate 2.

なお、以上はバッチ式のディスクに本考案を適用した例
を示したが、本考案はこれに限られることなく、枚葉式
のプラテンにも適用できることは勿論である。
In the above, an example in which the present invention is applied to a batch type disk has been shown, but the present invention is not limited to this, and it is needless to say that the present invention can also be applied to a single-wafer platen.

〈考案の効果〉 以上説明したように、本考案のウェハ保持具によれば、
クランプ板の下方に配置した複数本の位置決めピンを、
支持台に対して上下方向に移動自在で弾性体の押圧力に
より一部が支持台の上面から突出し、その突出部上端
が、支持台上面に対しウェハ厚さに相当する高さとなる
位置の上下に変位し得るように構成し、さらに、その各
位置決めピンの側面にウェハを位置決めするための面を
形成したから、ウェハを押圧する前にクランプ板が位置
決めピンの上端に当たって、このクランプ板の移動とと
もに位置決めピンが下方に移動するので、ウェハの一部
が位置決めピンの位置決め面に引っ掛かった状態となっ
た場合でも、クランプ板によってウェハがピンの位置決
め面に対して押圧されることがなくなる。これによりウ
ェハ破損の虞れがなくなる結果、生産性が向上する。
<Effect of Device> As described above, according to the wafer holder of the present invention,
Plural positioning pins arranged below the clamp plate,
It is movable up and down with respect to the support table and part of it protrudes from the upper surface of the support table due to the pressing force of the elastic body, and the upper and lower parts of the position where the upper end of the protrusion is at a height corresponding to the wafer thickness with respect to the upper surface of the support table. Since the side faces of each positioning pin are formed with a surface for positioning the wafer, the clamp plate hits the upper end of the positioning pin before pressing the wafer, and the clamp plate moves. Since the positioning pins move downward together with the positioning pins, the clamping plate does not press the wafer against the positioning surfaces of the pins even when a part of the wafer is caught on the positioning surfaces of the positioning pins. As a result, there is no risk of wafer damage, and productivity is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本考案実施例の要部縦断面図、 第2図はそのII−II矢視図、 第3図は作用を説明するための要部縦断面図、 第4図および第5図はバッチ式のディスクの従来の構造
例を示す断面図である。 1……ディスク 1a……上面 2……クランプ板 3…3……位置決めピン 3a…3a……テーパ面 4,9……スプリング W…W……ウェハ
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an essential part of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II, and FIG. 3 is a longitudinal sectional view of an essential part for explaining the operation, FIGS. FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a conventional structure of a batch type disc. 1 …… Disk 1a …… Top surface 2 …… Clamp plate 3… 3 …… Positioning pin 3a… 3a …… Tapered surface 4,9 …… Spring W… W …… Wafer

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】イオン注入装置等においてウェハを所定位
置に保持するための保持具であって、上面にウェハが置
かれる支持台の上方位置に、そのウェハの周縁部を押さ
えるためのクランプ板が、当該支持台上面に対して接近
離反自在に配設されているとともに、上記支持台には上
記クランプ板が対面する位置に複数本の位置決めピンが
配設され、その各位置決めピンは、それぞれ、上記支持
台に対して上下方向に移動自在で弾性体の押圧力により
一部が上記支持台の上面から突出し、その突出部上端が
当該支持台上面に対しウェハ厚さに相当する高さとなる
位置の上下に変位し得るよう構成され、かつ、これら位
置決めピンの側面には、それぞれ、ウェハを上記支持台
の上面に位置決めするための面が形成されているととも
に、上記クランプ板を上記支持台の上面に向けて、上記
弾性体の押圧力よりも大きな力で押圧する手段を備えて
いることを特徴とする、ウェハ保持具。
1. A holder for holding a wafer at a predetermined position in an ion implantation apparatus or the like, wherein a clamp plate for holding a peripheral portion of the wafer is provided above the support table on which the wafer is placed. , Is arranged so as to be able to move toward and away from the upper surface of the support base, and a plurality of positioning pins are arranged on the support base at positions where the clamp plates face each other. A position that is movable in the vertical direction with respect to the support table and partially protrudes from the upper surface of the support table due to the pressing force of the elastic body, and the upper end of the protrusion has a height corresponding to the wafer thickness with respect to the upper surface of the support table. Of the positioning pins, each of which has a surface for positioning the wafer on the upper surface of the support table, and the clamp pins. The toward the upper surface of the support base, characterized in that it comprises a means for pressing by a force greater than the pressing force of the elastic body, the wafer holder.
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