JPH07280728A - Water content concentration control device for washing liquid - Google Patents
Water content concentration control device for washing liquidInfo
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- JPH07280728A JPH07280728A JP9391694A JP9391694A JPH07280728A JP H07280728 A JPH07280728 A JP H07280728A JP 9391694 A JP9391694 A JP 9391694A JP 9391694 A JP9391694 A JP 9391694A JP H07280728 A JPH07280728 A JP H07280728A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄液の水分濃度制御
装置に関する。ここで、洗浄液とは、はんだ付け等の作
業の際において接合すべき部品に塗布されたフラックス
およびその残渣固形分（以下、単に「フラックス」とい
う）を洗浄除去するための洗浄液をいう。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a water concentration controller for cleaning liquid. Here, the cleaning liquid means a cleaning liquid for cleaning and removing the flux applied to the parts to be joined and the residual solid content thereof (hereinafter, simply referred to as “flux”) during the work such as soldering.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えばプリント回路基板を製造する際の
はんだ付け工程において、酸化物の生成を防止する等の
理由から、接合すべき部品にフラックスを塗布すること
が行われている。そして、はんだ付け作業終了後におい
ては、このフラックスを洗浄除去することが必要とな
る。2. Description of the Related Art In a soldering process for manufacturing a printed circuit board, for example, flux is applied to parts to be joined for the purpose of preventing the formation of oxides. Then, after the soldering work is completed, it is necessary to wash and remove this flux.
【０００３】フラックスを洗浄除去するための洗浄液と
しては、従来、フロンやトリハロメタン等が用いられて
きたが、これらによって及ぼされる環境への影響を考慮
して最近では、フロン等に代わる洗浄液（以下「フロン
代替洗浄液」という）が使用され始めている。ここに、
基板の洗浄用に採用されているフロン代替洗浄液として
は、炭化水素系溶剤（例えば「ソルファイン」）、準水
系溶剤（例えば「クリンスル」、「パインアルフ
ァ」）、アルコール系溶剤（例えばメタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール）、代替フロン溶剤（例
えば「ＨＣＦＣ２２５」）、テルペン系溶剤（例えば
「ＥＣ７」）、シリコン系溶剤（例えば「テクノケア
ー」）など溶剤系の洗浄液；アルカリ鹸化型水系洗浄液
（例えば「アクアクリーナー」、「ソルトール」）、純
水など水系の洗浄液が知られている。Conventionally, as a cleaning liquid for cleaning and removing the flux, chlorofluorocarbon, trihalomethane, etc. have been used, but recently, considering the influence on the environment caused by these, a cleaning liquid replacing the fluorocarbon (hereinafter referred to as " Fluorocarbon alternative cleaning liquid ”is being used. here,
Examples of CFC substitute cleaning liquids used for cleaning substrates include hydrocarbon solvents (eg, “Solfine”), semi-aqueous solvents (eg, “Cleansul”, “pine alpha”), alcoholic solvents (eg, methanol, ethanol). , Isopropyl alcohol), alternative freon solvent (eg “HCFC225”), terpene solvent (eg “EC7”), silicone solvent (eg “Techno Care”), etc. solvent type cleaning liquid; alkaline saponification type aqueous cleaning liquid (eg “Aqua”) Water-based cleaning liquids such as "cleaner", "sortor") and pure water are known.
【０００４】上記のフロン代替洗浄液のうち溶剤系の洗
浄液は引火性を有するものである。そのため、当該洗浄
液に、一定の割合の水分を添加することにより、当該洗
浄液の引火性を抑制することが行われている。ここに、
引火性を抑制できる水分濃度の下限値は洗浄液の種類に
よって異なる。Of the above CFC substitute cleaning liquids, the solvent-based cleaning liquid is flammable. Therefore, the flammability of the cleaning liquid is suppressed by adding a certain proportion of water to the cleaning liquid. here,
The lower limit of water concentration that can suppress flammability depends on the type of cleaning liquid.
【０００５】しかして、フラックスの洗浄除去処理は、
通常６０℃程度の加温下で実施されることから、洗浄処
理時における水分の蒸発によって水分濃度が低下し、前
記下限値未満となると引火の危険性が生じることにな
る。一方、水分濃度が高くなりすぎると洗浄能力の低下
を招くことになる。従って、溶剤系のフロン代替洗浄液
においては、当該洗浄液中の水分濃度を常時監視し、こ
の水分濃度が一定範囲内に制御されるよう管理する必要
がある。このため、フロン代替洗浄液を、安全性および
洗浄性の両方の面から良好な状態に維持することができ
る水分濃度制御装置の提供が望まれている。However, the cleaning and removing process of the flux is
Since it is usually carried out under heating at about 60 ° C., water concentration during the cleaning process decreases due to evaporation of water, and if the water concentration falls below the lower limit, there is a risk of ignition. On the other hand, if the water concentration is too high, the cleaning ability will be deteriorated. Therefore, in the solvent-based CFC alternative cleaning liquid, it is necessary to constantly monitor the water concentration in the cleaning liquid and manage it so that the water concentration is controlled within a certain range. Therefore, it is desired to provide a water concentration control device that can maintain the CFC substitute cleaning liquid in a good state in terms of both safety and cleaning properties.
【０００６】一方、従来において、洗浄液中の水分濃度
の測定方法としては、カールフィッシャー法および２波
長法による赤外線吸収法が知られている。これらのう
ち、カールフィッシャー法にあっては、測定操作に熟練
技能が要求され、現場のオペレータによる測定法として
適当な方法ではない。On the other hand, conventionally, the infrared absorption method by the Karl Fischer method and the two-wavelength method is known as a method for measuring the water concentration in the cleaning liquid. Among these, the Karl Fischer method requires a skilled skill in the measurement operation and is not an appropriate method as a measurement method by an operator in the field.
【０００７】一方、２波長法による赤外線吸収法は、赤
外領域における異なる極大吸収波長（λA ，λB ）につ
いての入射光データ（ＩA0，ＩB0）および透過光データ
（ＩA ，ＩB ）を検出し、 式） ΔＡ＝ｌｏｇ（ＩA0／ＩA ）−ｌｏｇ（ＩB0／Ｉ
B ） により差吸光度ΔＡを求める方法である。この差吸光度
ΔＡと水分濃度Ｃは、 式）ΔＡ＝（ＫA −ＫB ）Ｃ （ＫA ，ＫB は、λA ，λB における吸光係数であ
る。） で示されるように比例関係がある。On the other hand, the infrared absorption method based on the two-wavelength method uses incident light data (I A0 , I B0 ) and transmitted light data (I A , I) for different maximum absorption wavelengths (λ A , λ B ) in the infrared region. B ) is detected, and the formula) ΔA = log (I A0 / I A ) −log (I B0 / I
B ) is the method of obtaining the differential absorbance ΔA. The differential absorbance ΔA and the water concentration C have a proportional relationship as shown by the formula) ΔA = (K A −K B ) C (K A and K B are the extinction coefficients at λ A and λ B ). is there.
【０００８】なお、洗浄液中に混濁物質が存在している
場合には、差吸光度ΔＡと水分濃度Ｃとの関係は、 式）ΔＡ＝〔（ＫA −ｋA ）−（ＫB −ｋB ）〕Ｃ で示される。ここに、ｋA ，ｋB は、極大吸収波長
λA ，λB における混濁物質の吸光係数であるが、
λA ，λB が近接している場合には、混濁物質の吸光係
数ｋA ，ｋB はほぼ同じ大きさである。従って、２波長
法による赤外線吸収法によれば、洗浄液中に混濁物質が
存在している場合であっても、当該混濁物質に起因する
誤差を含まない吸光度データを検出することができる。When a turbid substance is present in the cleaning liquid, the relationship between the differential absorbance ΔA and the water concentration C is expressed by the formula: ΔA = [(K A −k A ) − (K B −k B )] C. Here, k A and k B are the extinction coefficients of the turbid substances at the maximum absorption wavelengths λ A and λ B , respectively.
When λ A and λ B are close to each other, the extinction coefficients k A and k B of the turbid substance are almost the same. Therefore, according to the infrared absorption method based on the two-wavelength method, even when a turbid substance is present in the cleaning liquid, it is possible to detect the absorbance data that does not include an error due to the turbid substance.
【０００９】しかしながら、２波長法による赤外線吸収
法にあっては、高価な光学フィルターを２つ使用する必
要があり、また、光学フィルターの切り換え機構を設け
る必要があるなど構造的にも回路的にも構成が複雑とな
り、スペース効率やコストの観点からも好ましいもので
はない。However, in the infrared absorption method using the two-wavelength method, it is necessary to use two expensive optical filters, and it is necessary to provide a switching mechanism for the optical filters. However, the structure becomes complicated, and it is not preferable from the viewpoint of space efficiency and cost.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基いてなされたものである。本発明の第１の目
的は、洗浄処理槽内におけるフロン代替洗浄液中の水分
濃度を常時監視し、当該水分濃度が一定範囲内に制御さ
れるよう管理することができ、安全性を十分に確保する
ことができる洗浄液の水分濃度制御装置を提供すること
にある。本発明の第２の目的は、フロン代替洗浄液中の
混濁物質に起因する水分濃度の測定誤差を簡単な補正手
段によって消去することができ、一層正確な濃度測定お
よび濃度監視が可能である洗浄液の水分濃度制御装置を
提供することにある。本発明の第３の目的は、洗浄性お
よび安全性の両方の面から、洗浄処理槽内のフロン代替
洗浄液を良好な状態に維持することができる洗浄液の水
分濃度制御装置を提供することにある。The present invention has been made based on the above circumstances. The first object of the present invention is to constantly monitor the water concentration in the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank and manage it so that the water concentration is controlled within a certain range, thus ensuring sufficient safety. Another object of the present invention is to provide a cleaning liquid moisture concentration control device. A second object of the present invention is to eliminate the measurement error of the water concentration caused by the turbid substances in the CFC substitute cleaning solution by a simple correction means, and to perform more accurate concentration measurement and concentration monitoring of the cleaning solution. It is to provide a water concentration control device. A third object of the present invention is to provide a water concentration control device for a cleaning liquid, which can maintain the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank in a good state from the aspects of both cleaning property and safety. .
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄液の水分濃
度制御装置は、洗浄液に赤外光を投射する光源、およ
び、前記洗浄液を透過した赤外光を受光する検出器を備
えた、前記洗浄液の赤外線吸収データを検出するための
赤外線吸収センサ部と、洗浄処理槽内の洗浄液を赤外線
吸収センサ部に導入し、当該赤外線吸収センサ部による
赤外線吸収データの検出後に当該洗浄液を洗浄処理槽に
戻す循環ポンプと、前記赤外線吸収センサ部により検出
された赤外線吸収データを演算処理して洗浄液中の水分
濃度の値を算出する水分濃度演算手段と、この水分濃度
演算手段により算出された水分濃度の値を表示する表示
手段と、補給用の純水が収容されている水分補給手段
と、前記水分濃度演算手段により算出された水分濃度の
値が、予め設定された許容水分濃度未満となったとき
に、前記洗浄処理槽内に純水を補給するよう前記水分補
給手段に指示信号を出力する制御手段とを備えてなるこ
とを特徴とする。A water concentration control device for a cleaning liquid according to the present invention comprises a light source for projecting infrared light onto the cleaning liquid, and a detector for receiving infrared light transmitted through the cleaning liquid. Infrared absorption sensor unit for detecting infrared absorption data of the cleaning liquid, and the cleaning liquid in the cleaning treatment tank is introduced into the infrared absorption sensor unit, and the cleaning liquid is transferred to the cleaning treatment tank after the infrared absorption data is detected by the infrared absorption sensor unit. A circulation pump for returning, a water concentration calculating means for calculating the value of the water concentration in the cleaning liquid by calculating the infrared absorption data detected by the infrared absorption sensor part, and a water concentration of the water concentration calculated by the water concentration calculating means. The display means for displaying the value, the water replenishing means containing pure water for replenishment, and the water concentration value calculated by the water concentration calculating means are set in advance. When it becomes less than volume water content, characterized by comprising a control means for outputting an instruction signal to said hydration means to replenish the pure water into the cleaning tank.
【００１２】本発明の洗浄液の水分濃度制御装置におい
ては、洗浄液に光を投射する発光ダイオードと、前記洗
浄液を透過した光を受光する受光検出器とからなり、水
分濃度が測定されるべき洗浄液についての濁度を測定す
る濁度センサと、この濁度センサによって測定された濁
度に応じて、洗浄液中の混濁物質に起因する水分濃度の
測定誤差を消去するよう、水分濃度演算手段により算出
された水分濃度の値を補正する濁度補正手段とを備えて
なることが好ましい。The water concentration control device for a cleaning liquid according to the present invention comprises a light emitting diode for projecting light onto the cleaning liquid and a light receiving detector for receiving the light transmitted through the cleaning liquid. The turbidity sensor that measures the turbidity of water and the turbidity measured by this turbidity sensor are calculated by the water concentration calculation means so as to eliminate the measurement error of the water concentration due to the turbid substances in the cleaning liquid. Further, it is preferable to include turbidity correction means for correcting the water concentration value.
【００１３】本発明の洗浄液の水分濃度制御装置におい
ては、水分濃度が測定されるべき洗浄液の吸光度データ
を検出する吸光光度センサ部と、この吸光光度センサ部
により検出された吸光度データを演算処理して洗浄液中
のフラックス濃度を算出するフラックス濃度演算手段
と、このフラックス濃度演算手段により算出されたフラ
ックス濃度に応じて、洗浄液中のフラックスに起因する
水分濃度の測定誤差を消去するよう、水分濃度演算手段
により算出された水分濃度の値を補正するフラックス補
正手段とを備えてなることが好ましい。In the water concentration control apparatus for a cleaning liquid of the present invention, an absorptiometry sensor unit for detecting the absorption data of the cleaning liquid whose moisture concentration is to be measured, and the absorption data detected by this absorption photometric sensor unit are arithmetically processed. And a flux concentration calculation means for calculating the flux concentration in the cleaning liquid, and a water concentration calculation for eliminating the measurement error of the water concentration due to the flux in the cleaning liquid according to the flux concentration calculated by the flux concentration calculation means. It is preferable to include a flux correction means for correcting the value of the water concentration calculated by the means.
【００１４】[0014]
（１）洗浄処理槽内におけるフロン代替洗浄液中の水分
濃度が、表示手段および制御手段によって常時監視さ
れ、更に、測定された水分濃度の値が許容濃度未満とな
ったときには、前記制御手段からの指示信号により、洗
浄処理槽内へ水分が補給される。このように、洗浄処理
槽内におけるフロン代替洗浄液の水分濃度が常に一定以
上となるよう制御されるため、安全性が十分に確保され
る。(1) The water concentration in the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank is constantly monitored by the display unit and the control unit, and when the measured water concentration value is less than the allowable concentration, Water is replenished into the cleaning tank by the instruction signal. In this way, the water concentration of the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank is controlled so that it is always above a certain level, so that sufficient safety is ensured.
【００１５】（２）簡単な構成の濁度センサによってフ
ロン代替洗浄液の濁度が測定され、この濁度に応じて水
分濃度の値が補正されることにより、混濁物質が赤外線
吸収センサ部に導入された場合であっても、当該混濁物
質に起因する水分濃度の測定誤差が消去される。これに
より、赤外線吸収センサ部による測定法として１波長法
による赤外線吸収法を適用しても、水分濃度の値を十分
正確に測定ることができる。従って、従来における２波
長法による赤外線吸収法の場合に比べ、赤外線吸収セン
サ部の構成が極めて簡単なものとなり、スペース効率や
コストの観点からも有利となる。(2) The turbidity sensor having a simple structure measures the turbidity of the CFC substitute cleaning liquid, and the value of the water concentration is corrected according to the turbidity to introduce a turbid substance into the infrared absorption sensor section. Even if it is done, the measurement error of the water concentration due to the turbid substance is erased. Thereby, even if the infrared absorption method by the one-wavelength method is applied as the measurement method by the infrared absorption sensor unit, the value of the water concentration can be measured sufficiently accurately. Therefore, as compared with the conventional infrared absorption method using the two-wavelength method, the structure of the infrared absorption sensor unit becomes extremely simple, which is advantageous in terms of space efficiency and cost.
【００１６】（３）吸光光度センサ部およびフラックス
濃度演算手段によってフロン代替洗浄液のフラックス濃
度が測定され、このフラックス濃度に応じて水分濃度の
値が補正されることにより、フラックスに起因する水分
濃度の測定誤差が消去される。これにより、安全性の確
保を更に確実なものとすることができる。(3) The flux concentration of the CFC substitute cleaning solution is measured by the absorptiometric sensor section and the flux concentration calculation means, and the moisture concentration value is corrected according to this flux concentration, so that the moisture concentration due to the flux can be determined. The measurement error is erased. This makes it possible to further ensure the safety.
【００１７】[0017]
【実施例】以下、本発明の実施例について詳細に説明す
る。図１は、本発明の水分濃度制御装置の一例を示す概
略説明図である。EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below. FIG. 1 is a schematic explanatory view showing an example of a water concentration controller of the present invention.
【００１８】この水分濃度制御装置は、赤外線吸収セン
サ部１０と、循環ポンプ２０と、混濁物質除去フィルタ
ー３０と、水分濃度演算手段４０と、水分濃度表示手段
５０と、水分濃度制御手段６０と、濁度センサ７０と、
濁度補正手段７１とを備えている。同図において、９０
は基板の洗浄処理が行われる洗浄処理槽、９１は未使用
の洗浄液が収容されている洗浄液貯槽、９２は洗浄液補
給ポンプ、９３は切替バルブ、９４は純水タンク、９５
は純水補給ポンプである。This moisture concentration control device includes an infrared absorption sensor unit 10, a circulation pump 20, a turbid substance removal filter 30, a moisture concentration calculation unit 40, a moisture concentration display unit 50, and a moisture concentration control unit 60. A turbidity sensor 70,
And a turbidity correction means 71. In the figure, 90
Is a cleaning processing tank for cleaning the substrate, 91 is a cleaning liquid storage tank containing an unused cleaning liquid, 92 is a cleaning liquid supply pump, 93 is a switching valve, 94 is a pure water tank, and 95 is
Is a pure water supply pump.
【００１９】赤外線吸収センサ部１０において、１１は
白熱電球またはハロゲンランプよりなる赤外線放射光
源、１２は赤外線放射光源１１からの光のうち１．９４
μｍ±０．１μｍの赤外線のみを透過させる赤外線干渉
フィルター、１３はレンズ、１４は光導電性素子よりな
る入射光強度検出器、１５は光導電性素子よりなる透過
光強度検出器、１６は石英製のフローセル、１７は赤外
線放射光源１１からの光をチョッピングするための回転
板、１８は回転板１７の駆動モータである。この赤外線
吸収センサ部１０により赤外線吸収データ（入射光強度
Ｉ0 および透過光強度Ｉ）が検出される。ここに、赤外
線吸収データの検出は連続的に行うこともできるし、一
定の間隔をおいて間欠的に行うこともできる。赤外線吸
収データの検出が間欠的に行われる場合には、循環ポン
プ２０にかかる負荷が小さくなり循環ポンプ２０の長寿
命化を図ることができるので好ましい。In the infrared absorption sensor unit 11, 11 is an infrared radiation light source composed of an incandescent lamp or a halogen lamp, and 12 is 1.94 of the light from the infrared radiation light source 11.
An infrared interference filter that transmits only infrared rays of μm ± 0.1 μm, 13 is a lens, 14 is an incident light intensity detector made of a photoconductive element, 15 is a transmitted light intensity detector made of a photoconductive element, and 16 is quartz. The reference numeral 17 designates a flow cell made of a rotary plate for chopping the light from the infrared radiation source 11, and the reference numeral 18 designates a drive motor for the rotary plate 17. The infrared absorption sensor section 10 detects infrared absorption data (incident light intensity I 0 and transmitted light intensity I). The infrared absorption data can be detected continuously or intermittently at regular intervals. When the infrared absorption data is detected intermittently, the load on the circulation pump 20 is reduced and the life of the circulation pump 20 can be extended, which is preferable.
【００２０】循環ポンプ２０は、洗浄処理槽９０内のフ
ロン代替洗浄液を赤外線吸収センサ部１０に導入し、赤
外線吸収データの検出後において当該洗浄液を洗浄処理
槽９０に戻すためのポンプである。The circulation pump 20 is a pump for introducing the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank 90 into the infrared absorption sensor section 10 and returning the cleaning liquid to the cleaning treatment tank 90 after detecting the infrared absorption data.
【００２１】混濁物質除去フィルター３０は、洗浄処理
槽９０から赤外線吸収センサ部１０へ向かう流路に設け
られている。この混濁物質除去フィルター３０は、赤外
線吸収センサ部１０に導入されるフロン代替洗浄液中に
存在して水分濃度の測定誤差の原因となる混濁物質を予
め除去するための手段であって、開口１００μｍのメッ
シュ材により構成されている。混濁物質除去フィルター
３０によって混濁物質の除去処理が行われることによ
り、赤外線吸収センサ部１０内への混濁物質の混入が抑
制される。The turbid substance removal filter 30 is provided in the flow path from the cleaning treatment tank 90 to the infrared absorption sensor section 10. The turbid substance removal filter 30 is a means for previously removing turbid substances present in the CFC substitute cleaning liquid introduced into the infrared absorption sensor section 10 and causing a measurement error of the water concentration, and has a 100 μm opening. It is composed of mesh material. By performing the turbid substance removal processing by the turbid substance removal filter 30, mixing of the turbid substance into the infrared absorption sensor unit 10 is suppressed.
【００２２】水分濃度演算手段４０は、赤外線吸収セン
サ部１０により検出された赤外線吸収データを演算処理
してフロン代替洗浄液中の水分濃度の値を算出する手段
である。この水分濃度演算手段４０において、赤外線吸
収センサ部１０によって検出された赤外線吸収データ
（入射光強度Ｉ0 および透過光強度Ｉ）から、 式） Ａ＝ｌｏｇ（Ｉ0 ／Ｉ） により吸光度Ａが算出され、更に、予め測定された検量
線から求められた吸光係数Ｋ（この吸光係数Ｋは、フロ
ン代替洗浄液の種類と測定波長との組合せにより特定さ
れる値）から、水分濃度Ｃが下記式によって与えられ
る。 式） Ｃ＝Ａ／ＫThe water concentration calculating means 40 is a means for calculating the infrared absorption data detected by the infrared absorption sensor section 10 to calculate the value of the water concentration in the CFC substitute cleaning liquid. In the water concentration calculating means 40, the absorbance A is calculated from the infrared absorption data (incident light intensity I 0 and transmitted light intensity I) detected by the infrared absorption sensor unit 10 by the formula: A = log (I 0 / I) Further, from the extinction coefficient K obtained from the calibration curve measured in advance (this extinction coefficient K is a value specified by the combination of the type of CFC alternative cleaning solution and the measurement wavelength), the water concentration C is calculated by the following equation. Given. Formula) C = A / K
【００２３】水分濃度表示手段５０は、水分濃度演算手
段４０により算出された水分濃度の値をアナログ表示ま
たはデジタル表示する手段である。The water concentration display means 50 is means for displaying the water concentration value calculated by the water concentration calculation means 40 in an analog or digital manner.
【００２４】水分濃度制御手段６０は、水分濃度演算手
段４０により算出された水分濃度の値が、許容値入力手
段６１により予め入力された許容水分濃度未満となった
ときに、洗浄処理槽９０内のフロン代替洗浄液に純水タ
ンク９４内の純水を添加するよう、純水補給ポンプ９５
を作動させるための指示信号を出力する。なお、フロン
代替洗浄液中の水分濃度が高くなりすぎると、当該洗浄
液の洗浄能力が低下する。このため、純水の添加によっ
て、水分濃度演算手段４０により算出された水分濃度の
値が一定の設定値を超えた場合には、水分濃度制御手段
６０は、純水補給ポンプ９５の作動を停止させるための
指示信号を出力する。The water concentration control means 60 is provided in the cleaning treatment tank 90 when the water concentration value calculated by the water concentration calculation means 40 becomes less than the permissible water concentration previously input by the permissible value input means 61. In order to add the pure water in the pure water tank 94 to the CFC substitute cleaning liquid, the pure water supply pump 95
Outputs an instruction signal for operating. If the water concentration in the CFC substitute cleaning liquid becomes too high, the cleaning performance of the cleaning liquid will decrease. Therefore, when the water concentration calculated by the water concentration calculating means 40 exceeds a certain set value due to the addition of pure water, the water concentration controlling means 60 stops the operation of the pure water supply pump 95. An instruction signal for causing the output is output.
【００２５】このように、赤外線吸収データに基いて算
出された水分濃度の値が、水分濃度表示手段５０および
水分濃度制御手段６０によって常時監視され、更に、水
分濃度の値が許容濃度未満となったときには、水分濃度
制御手段６０からの指示を受けて洗浄処理槽９０内へ一
定量の水分が補給される。従って、洗浄処理槽９０内の
フロン代替洗浄液中の水分濃度は常に一定の範囲内に制
御され、これにより、安全性および洗浄性が十分に確保
される。As described above, the moisture concentration value calculated based on the infrared absorption data is constantly monitored by the moisture concentration display means 50 and the moisture concentration control means 60, and the moisture concentration value becomes less than the allowable concentration. In this case, a fixed amount of water is replenished into the cleaning treatment tank 90 in response to an instruction from the water concentration control means 60. Therefore, the concentration of water in the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank 90 is always controlled within a certain range, which ensures sufficient safety and cleaning performance.
【００２６】濁度センサ７０は、赤外線吸収センサ部１
０から洗浄処理槽９０へ向かう流路に設けられ、赤色発
光ダイオード７２（投光光源）と、受光ダイオード７３
（検出器）と、石英製のフローセル７４とからなり、水
分濃度が測定されるべきフロン代替洗浄液についての濁
度を測定する手段である。The turbidity sensor 70 is an infrared absorption sensor unit 1.
The red light emitting diode 72 (light projecting light source) and the light receiving diode 73 are provided in the flow path from 0 to the cleaning treatment tank 90.
(Detector) and a quartz flow cell 74 are means for measuring the turbidity of the CFC substitute cleaning solution whose water concentration is to be measured.
【００２７】濁度補正手段７１は、濁度センサ７０によ
って測定された濁度に応じて、水分濃度演算手段４０に
より算出された水分濃度の値を補正する手段である。こ
のように、簡単な構成の濁度センサ７０によってフロン
代替洗浄液の濁度が測定され、この濁度に応じて水分濃
度の値が補正されるので、混濁物質除去フィルター３０
によっても除去されなかった混濁物質が赤外線吸収セン
サ部１０内に混入されたとしても、当該混濁物質に起因
する水分濃度の測定誤差が消去される。これにより、赤
外線吸収センサ部による測定法として、１波長法（１つ
の干渉フィルターを備えたセンサによって吸収データを
検出する方法）による赤外線吸収法を適用することがで
き、従来における２波長法（２つの干渉フィルターおよ
びその切替機構を備えたセンサによって吸収データを検
出する方法）による赤外線吸収法の場合に比べ、赤外線
吸収センサ部の構成が極めて簡単なものとなり、スペー
ス効率の観点やコストの観点（干渉フィルターは極めて
高価な部材である）からも有利となる。The turbidity correcting means 71 is means for correcting the value of the water concentration calculated by the water concentration calculating means 40 according to the turbidity measured by the turbidity sensor 70. As described above, the turbidity sensor 70 having a simple structure measures the turbidity of the CFC substitute cleaning liquid, and the value of the water concentration is corrected according to the turbidity.
Even if the turbid substance that has not been removed by the above is mixed in the infrared absorption sensor unit 10, the measurement error of the water concentration due to the turbid substance is erased. As a result, the infrared absorption method by the one-wavelength method (method of detecting absorption data by a sensor having one interference filter) can be applied as the measurement method by the infrared absorption sensor unit, and the conventional two-wavelength method (2 Compared with the case of the infrared absorption method that uses two interference filters and a sensor equipped with its switching mechanism to detect absorption data), the structure of the infrared absorption sensor is much simpler, and space efficiency and cost ( The interference filter is an extremely expensive member), which is also advantageous.
【００２８】本実施例の水分濃度制御装置にあっては、
水分濃度の測定（赤外線吸収データの検出）を行わない
時において、フローセル１６、フローセル７４および赤
外線吸収センサ部１０の流路管内は、フラックスを含ま
ない未使用洗浄液によって充たされている。未使用洗浄
液は、切替えバルブ９３を切替えた後、循環ポンプ２０
を作動させることによって、洗浄液貯槽９１内から導入
することができる。これにより、フラックスを含む洗浄
液が残留することによるセル内や管内の汚染が防止され
る。In the water concentration controller of this embodiment,
When the moisture concentration is not measured (detection of infrared absorption data), the flow cell 16, the flow cell 74, and the flow path tube of the infrared absorption sensor unit 10 are filled with an unused cleaning liquid containing no flux. After the switching valve 93 is switched over, the unused cleaning liquid is used for the circulation pump 20.
Can be introduced from inside the cleaning liquid storage tank 91. This prevents contamination in the cell or the pipe due to the residual cleaning liquid containing the flux.
【００２９】本実施例の水分濃度制御装置によれば以下
のような効果が奏される。 洗浄処理槽９０内におけるフロン代替洗浄液中の水
分濃度が常時監視され、当該水分濃度が許容濃度未満と
なったときには、水分濃度制御手段６０からの指示を受
けて一定量の水分が補給されるので、洗浄処理槽９０内
のフロン代替洗浄液中の水分濃度が常に一定の範囲内に
制御されることになる。これにより、洗浄処理槽内のフ
ロン代替洗浄液は、洗浄性および安全性の両方の面から
良好な状態に維持される。 赤外線吸収センサ部１０に導入されるフロン代替洗
浄液について、混濁物質除去フィルター３０による混濁
物質の除去処理が行われることにより、赤外線吸収セン
サ部１０内への混濁物質の混入が抑制される。 フロン代替洗浄液の濁度に応じて水分濃度の値が補
正されることにより、混濁物質除去フィルター３０を透
過した混濁物質が赤外線吸収センサ部１０に導入された
場合であっても、当該混濁物質に起因する水分濃度の測
定誤差が消去されることになる。これにより、水分濃度
の測定法として１波長法による赤外線吸収法を適用する
ことができ、従来における水分濃度制御装置に比べてス
ペース効率やコストの観点からも有利となる。The water concentration control device of this embodiment has the following effects. The water concentration in the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank 90 is constantly monitored, and when the water concentration falls below the allowable concentration, a fixed amount of water is replenished in response to an instruction from the water concentration control means 60. The water concentration in the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank 90 is always controlled within a fixed range. As a result, the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank is maintained in a good state in terms of both cleanability and safety. By performing the turbid substance removal processing by the turbid substance removal filter 30 on the CFC substitute cleaning liquid introduced into the infrared absorption sensor unit 10, the contamination of the turbid substance into the infrared absorption sensor unit 10 is suppressed. By correcting the water concentration value according to the turbidity of the CFC substitute cleaning liquid, even if the turbid substance that has passed through the turbid substance removal filter 30 is introduced into the infrared absorption sensor unit 10, The resulting measurement error of the water concentration is eliminated. As a result, the infrared absorption method based on the one-wavelength method can be applied as the method for measuring the water concentration, which is advantageous in terms of space efficiency and cost as compared with the conventional water concentration control device.
【００３０】図２は、本発明の水分濃度制御装置の他の
例を示す概略説明図である。この水分濃度制御装置は、
洗浄液の吸光度データを検出する吸光光度センサ部８０
と、検出された吸光度データを演算処理して洗浄液中の
フラックス濃度を算出するフラックス濃度演算手段４５
と、算出されたフラックス濃度に応じて、水分濃度演算
手段４０により算出された水分濃度の値を補正して、フ
ラックスに起因する水分濃度の測定誤差を消去するフラ
ックス補正手段７７とを備えている。図２において、５
５はフラックス濃度表示手段、６５はフラックス濃度制
御手段、７６は濁度補正手段である。なお、図１で用い
た符号と同じ符号で示されている構成要素は、同図にお
けるものと同様の構成要素である。FIG. 2 is a schematic explanatory view showing another example of the water concentration controller of the present invention. This water concentration controller
Absorption photometric sensor unit 80 for detecting the absorbance data of the cleaning liquid
And a flux concentration calculating means 45 for calculating the flux concentration in the cleaning liquid by performing a calculation process on the detected absorbance data.
And a flux correction unit 77 that corrects the value of the water concentration calculated by the water concentration calculation unit 40 according to the calculated flux concentration to eliminate the measurement error of the water concentration caused by the flux. . In FIG. 2, 5
Reference numeral 5 is a flux concentration display means, 65 is a flux concentration control means, and 76 is a turbidity correction means. Note that the constituent elements denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 1 are the same constituent elements as those in the figure.
【００３１】この水分濃度制御装置においては、赤外線
吸収センサ部１０によって赤外線吸収データ（入射光強
度Ｉ0 および透過光強度Ｉ）が検出されると共に、吸光
光度センサ部８０によって吸光度データ（入射光強度Ｉ
0 ' および透過光強度Ｉ' ）が検出される。吸光度デー
タの検出は、連続的または間欠的に行われる。In this water concentration controller, the infrared absorption sensor section 10 detects infrared absorption data (incident light intensity I 0 and transmitted light intensity I), and the absorptiometry sensor section 80 absorbs the absorbance data (incident light intensity). I
0'and transmitted light intensity I ') are detected. The absorbance data is detected continuously or intermittently.
【００３２】フラックス濃度演算手段４５は、吸光光度
センサ部８０により検出された吸光度データを演算処理
してフロン代替洗浄液中のフラックス濃度の値を算出す
る手段である。このフラックス濃度演算手段４５におい
て、吸光光度センサ部８０により検出された吸光度デー
タ（入射光強度Ｉ0 ' および透過光強度Ｉ' ）および予
め測定された検量線より求めた吸光係数Ｋ' から、フラ
ックス濃度Ｃ' が下記式によって算出される。 式） Ｃ' ＝ｌｏｇ（Ｉ0 ' ／Ｉ' ）／Ｋ'The flux concentration calculation means 45 is a means for calculating the value of the flux concentration in the CFC substitute cleaning liquid by performing a calculation process on the absorbance data detected by the absorptiometry sensor section 80. In the flux concentration calculating means 45, the flux is calculated from the absorbance data (incident light intensity I 0 'and transmitted light intensity I') detected by the absorptiometric sensor section 80 and the extinction coefficient K'obtained from the calibration curve previously measured. The concentration C'is calculated by the following formula. Formula) C '= log (I 0 ' / I ') / K'
【００３３】フラックス濃度表示手段５５は、フラック
ス濃度演算手段４５により算出されたフラックス濃度の
値をアナログ表示またはデジタル表示する手段である。The flux concentration display means 55 is means for displaying the value of the flux concentration calculated by the flux concentration calculation means 45 in an analog or digital manner.
【００３４】フラックス濃度制御手段６５は、フラック
ス濃度演算手段４５により算出されたフラックス濃度の
値が、許容値入力手段６６により予め入力された許容値
を超えたときに、ランプやブザーなどの警報手段６７に
警報信号を出力すると共に、洗浄処理槽９０内における
フロン代替洗浄液の全部または一部を洗浄液貯槽９１内
に収容されている未使用洗浄液に交換するよう、洗浄液
補給ポンプ９２を作動させるための指示信号を出力す
る。The flux concentration control means 65 is an alarm means such as a lamp or a buzzer when the value of the flux concentration calculated by the flux concentration calculation means 45 exceeds the permissible value input in advance by the permissible value input means 66. An alarm signal is output to 67, and the cleaning liquid supply pump 92 is operated to replace all or part of the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank 90 with an unused cleaning liquid stored in the cleaning liquid storage tank 91. Output an instruction signal.
【００３５】濁度補正手段７６は、濁度センサ７０によ
って測定された濁度に応じて、フラックス濃度演算手段
４５により算出されるフラックス濃度の値を補正する手
段である。このように、簡単な構成の濁度センサ７０に
よってフロン代替洗浄液の濁度が測定され、濁度補正手
段７６によって濁度に応じてフラックス濃度の値が補正
されるので、混濁物質除去フィルター３０によっても除
去されなかった混濁物質が吸光光度センサ部８０内に混
入されたとしても、当該混濁物質に起因する測定誤差が
消去される。従って、フラックス濃度の測定が一層正確
なものとなる。The turbidity correcting means 76 is means for correcting the value of the flux concentration calculated by the flux concentration calculating means 45 according to the turbidity measured by the turbidity sensor 70. In this way, the turbidity sensor 70 having a simple structure measures the turbidity of the CFC substitute cleaning liquid, and the turbidity correcting means 76 corrects the flux concentration value according to the turbidity. Even if the turbid substance that has not been removed is mixed in the absorptiometric sensor section 80, the measurement error caused by the turbid substance is erased. Therefore, the measurement of the flux concentration becomes more accurate.
【００３６】フラックス補正手段７７は、水分濃度演算
手段４０によって算出された水分濃度の値をフラックス
濃度に応じて補正して、フラックスに起因する水分濃度
の測定誤差を消去する手段である。フラックス濃度演算
手段４５により算出されたフラックス濃度の値は、濁度
補正手段７６を経て、フラックス濃度表示手段５５、フ
ラックス濃度制御手段６５に入力されるほか、フラック
ス補正手段７７にも入力される。そして、このフラック
ス補正手段７７において、フロン代替洗浄液中のフラッ
クスに起因する水分濃度の測定誤差が消去される。The flux compensating means 77 is means for compensating the value of the water concentration calculated by the water concentration calculating means 40 according to the flux concentration to eliminate the measurement error of the water concentration due to the flux. The value of the flux concentration calculated by the flux concentration calculation means 45 is input to the flux concentration display means 55, the flux concentration control means 65, and also to the flux correction means 77 via the turbidity correction means 76. Then, in the flux correction means 77, the measurement error of the water concentration due to the flux in the CFC substitute cleaning liquid is erased.
【００３７】本実施例の水分濃度制御装置によれば、吸
光光度センサ部８０、フラックス濃度演算手段４５およ
びフラックス補正手段７７を備えているので、フロン代
替洗浄液中のフラックスに起因する水分濃度の測定誤差
が消去され、安全性の確保を更に確実なものとすること
ができる。According to the water concentration control device of the present embodiment, since the absorptiometric sensor section 80, the flux concentration calculating means 45 and the flux correcting means 77 are provided, the water concentration due to the flux in the CFC substitute cleaning solution is measured. The error can be eliminated, and the security can be ensured further.
【００３８】[0038]
【発明の効果】請求項１の発明によれば、フロン代替洗
浄液中における水分濃度を常時一定範囲内に制御するこ
とができ、安全性を十分に確保することができる。これ
により、洗浄処理槽内のフロン代替洗浄液を、洗浄能力
および安全性の両方の面から良好な状態に維持すること
ができる。請求項２の発明によれば、フロン代替洗浄液
中における水分濃度の測定を一層正確に行うことがで
き、濃度管理の信頼性を更に向上させることができる。
そして、１波長法による赤外線吸収法を適用することが
できるので、赤外線吸収センサ部の構成が極めて簡単な
ものとなり、スペース効率やコストの観点からも有利と
なる。請求項３の発明によれば、フロン代替洗浄液中の
フラックスに起因する水分濃度の測定誤差が消去される
ので、安全性の確保を更に確実なものとすることができ
る。According to the first aspect of the present invention, the water concentration in the CFC substitute cleaning liquid can be constantly controlled within a certain range, and sufficient safety can be ensured. This makes it possible to maintain the CFC substitute cleaning liquid in the cleaning treatment tank in a good state in terms of both cleaning performance and safety. According to the second aspect of the present invention, the water concentration in the CFC substitute cleaning liquid can be measured more accurately, and the reliability of the concentration control can be further improved.
Since the infrared absorption method based on the one-wavelength method can be applied, the structure of the infrared absorption sensor unit becomes extremely simple, which is advantageous from the viewpoint of space efficiency and cost. According to the invention of claim 3, the measurement error of the water concentration due to the flux in the CFC substitute cleaning liquid is eliminated, so that the safety can be further ensured.
【図１】本発明の水分濃度制御装置の一例を示す概略説
明図である。FIG. 1 is a schematic explanatory view showing an example of a water concentration control device of the present invention.
【図２】本発明の水分濃度制御装置の他の例を示す概略
説明図である。FIG. 2 is a schematic explanatory view showing another example of the water concentration controller of the present invention.
１０ 赤外線吸収センサ部 １１ 赤外線放射光
源 １２ 赤外線干渉フィルター １３ レンズ １４ 入射光強度検出器 １５ 透過光強度検
出器 １６ フローセル １７ 回転板 １８ 駆動モータ ２０ 循環ポンプ ３０ 混濁物質除去
フィルター ４０ 水分濃度演算手段 ４５ フラックス濃
度演算手段 ５０ 水分濃度表示手段 ５５ フラックス濃
度表示手段 ６０ 水分濃度制御手段 ６１ 許容値入力手
段 ６５ フラックス濃度制御手段 ６６ 許容値入力手
段 ６７ 警報手段 ７０ 濁度センサ ７１ 濁度補正手段 ７２ 赤色発光ダイオード ７３ 受光ダイオー
ド ７４ フローセル ７６ 濁度補正手段 ７７ フラックス補正手段 ８０ 吸光光度センサ部 ９０ 洗浄処理槽 ９１ 洗浄液貯槽 ９２ 洗浄液補給ポンプ ９３ 切替バルブ ９４ 純水タンク ９５ 純水補給ポン
プ10 Infrared Absorption Sensor Section 11 Infrared Radiation Light Source 12 Infrared Interference Filter 13 Lens 14 Incident Light Intensity Detector 15 Transmitted Light Intensity Detector 16 Flow Cell 17 Rotating Plate 18 Drive Motor 20 Circulation Pump 30 Turbid Substance Removal Filter 40 Moisture Concentration Calculator 45 Flux Concentration calculation means 50 Moisture concentration display means 55 Flux concentration display means 60 Moisture concentration control means 61 Allowable value input means 65 Flux concentration control means 66 Allowable value input means 67 Warning means 70 Turbidity sensor 71 Turbidity correction means 72 Red light emitting diode 73 Light receiving diode 74 Flow cell 76 Turbidity correction means 77 Flux correction means 80 Absorptiometric sensor section 90 Cleaning treatment tank 91 Cleaning solution storage tank 92 Cleaning solution supply pump 93 Switching valve 94 Pure water tank 95 Pure water supply pump
Claims (3)
び、前記洗浄液を透過した赤外光を受光する検出器を備
えた、前記洗浄液の赤外線吸収データを検出するための
赤外線吸収センサ部と、 洗浄処理槽内の洗浄液を赤外線吸収センサ部に導入し、
当該赤外線吸収センサ部による赤外線吸収データの検出
後に当該洗浄液を洗浄処理槽に戻す循環ポンプと、 前記赤外線吸収センサ部により検出された赤外線吸収デ
ータを演算処理して洗浄液中の水分濃度の値を算出する
水分濃度演算手段と、 この水分濃度演算手段により算出された水分濃度の値を
表示する表示手段と、 補給用の純水が収容されている水分補給手段と、 前記水分濃度演算手段により算出された水分濃度の値
が、予め設定された許容水分濃度未満となったときに、
前記洗浄処理槽内に純水を補給するよう前記水分補給手
段に指示信号を出力する制御手段とを備えてなることを
特徴とする洗浄液の水分濃度制御装置。1. An infrared absorption sensor section for detecting infrared absorption data of the cleaning liquid, comprising a light source for projecting infrared light onto the cleaning liquid, and a detector for receiving infrared light transmitted through the cleaning liquid. Introduce the cleaning liquid in the cleaning tank to the infrared absorption sensor section,
A circulating pump that returns the cleaning liquid to the cleaning treatment tank after the infrared absorption data is detected by the infrared absorption sensor, and the infrared absorption data detected by the infrared absorption sensor is arithmetically processed to calculate the value of the water concentration in the cleaning liquid. Water concentration calculating means, a display means for displaying the value of the water concentration calculated by the water concentration calculating means, a water replenishing means containing pure water for replenishment, and the water concentration calculating means. When the value of the water concentration becomes less than the preset allowable water concentration,
A cleaning liquid moisture concentration control device comprising: a control unit that outputs an instruction signal to the moisture replenishing unit to replenish pure water into the cleaning treatment tank.
装置であって、 洗浄液に光を投射する発光ダイオードと、前記洗浄液を
透過した光を受光する受光検出器とからなり、水分濃度
が測定されるべき洗浄液についての濁度を測定する濁度
センサと、 この濁度センサによって測定された濁度に応じて、洗浄
液中の混濁物質に起因する水分濃度の測定誤差を消去す
るよう、水分濃度演算手段により算出された水分濃度の
値を補正する濁度補正手段とを備えてなることを特徴と
する洗浄液の水分濃度制御装置。2. The water concentration control device for a cleaning liquid according to claim 1, comprising a light emitting diode that projects light onto the cleaning liquid and a light receiving detector that receives light transmitted through the cleaning liquid. A turbidity sensor that measures the turbidity of the cleaning liquid to be measured, and a turbidity sensor that measures the turbidity of the cleaning liquid to eliminate the measurement error of the water concentration due to the turbid substances in the cleaning liquid. A water concentration control device for a cleaning liquid, comprising: a turbidity correction unit that corrects the water concentration value calculated by the concentration calculation unit.
の水分濃度制御装置であって、 水分濃度が測定されるべき洗浄液の吸光度データを検出
する吸光光度センサ部と、 この吸光光度センサ部により検出された吸光度データを
演算処理して洗浄液中のフラックス濃度を算出するフラ
ックス濃度演算手段と、 このフラックス濃度演算手段により算出されたフラック
ス濃度に応じて、洗浄液中のフラックスに起因する水分
濃度の測定誤差を消去するよう、水分濃度演算手段によ
り算出された水分濃度の値を補正するフラックス補正手
段とを備えてなることを特徴とする洗浄液の水分濃度制
御装置。3. The water concentration control device for a cleaning liquid according to claim 1 or 2, wherein an absorptiometry sensor unit for detecting absorbance data of the cleaning liquid whose moisture concentration is to be measured; The flux concentration calculation means for calculating the flux concentration in the cleaning liquid by performing a calculation process on the absorbance data detected by, and the moisture concentration due to the flux in the cleaning liquid depending on the flux concentration calculated by the flux concentration calculation means. A cleaning liquid moisture concentration control device comprising: a flux correction unit that corrects the moisture concentration value calculated by the moisture concentration calculation unit so as to eliminate a measurement error.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9391694A JPH07280728A (en) | 1994-04-08 | 1994-04-08 | Water content concentration control device for washing liquid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9391694A JPH07280728A (en) | 1994-04-08 | 1994-04-08 | Water content concentration control device for washing liquid |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07280728A true JPH07280728A (en) | 1995-10-27 |
Family
ID=14095794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9391694A Pending JPH07280728A (en) | 1994-04-08 | 1994-04-08 | Water content concentration control device for washing liquid |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07280728A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015141125A (en) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | Method and device for measuring water of cleaning agent |
-
1994
- 1994-04-08 JP JP9391694A patent/JPH07280728A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015141125A (en) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | Method and device for measuring water of cleaning agent |
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|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030304 |