JPH0727539Y2 - タッチ入力装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、電子機器や民生機器に使用するタッチ入力装
置に関する。

（従来の技術） 第２図は、従来のタッチ入力装置に構成を示したもの
で、３は電極膜としての導電膜であり、上部絶縁基板１
及び下部絶縁基板２にそれぞれ形成されている。４は絶
縁スペーサであり、互いに対向させた上下の導電膜３が
無押圧時に接触しないように設置されている。５は接着
剤で、絶縁基板１及び２を固着している。

次に、上記従来例の動作について説明する。スペーサと
スペーサの中間部分の上部絶縁基板１を上から押圧する
と、その部分がたわみ、上下の導電膜３が接触すること
で、入力が行なわれる。無押圧にすると、絶縁スペーサ
４があるため、上下導電膜３は互いに離れ入力がされな
くなる。

このように、上記従来構成のタッチ入力装置でも、押圧
により、上下の導電膜３が接触することで入力検知する
ことができる。

（考案が解決しようとする課題） しかしながら、上記構成のタッチ入力装置では、上下導
電膜間に絶縁スペーサがあるため、入力できる位置がき
まってしまう。すなわち、絶縁スペーサのある位置及び
その周囲近傍は上下導電膜を接触させることができな
い。そのため図形などフアインな入力位置精度を必要と
する用途には使用できないという問題があった。又、部
分的に絶縁スペーサがあるため、図形などの連続入力に
対して凸凹が生じ、入力しづらいという問題もあった。

本考案は、このような従来の問題点を解決するものであ
り、入力位置点が無限に近く、図形などのファインな入
力を可能とするタッチ入力装置を提供することを目的と
するものである。

（課題を解決するための手段） 本考案は、上記目的を達成するために、透明導電膜の表
面層を強制酸化させて高抵抗とし、従来例のような絶縁
スペーサを廃止して、上下導電膜を重ね合せるようにし
たものである。

（作用） 本考案は、上記のような構成により次のような効果を有
する。すなわち、導電膜の表面が高抵抗であるため、無
押圧時は、上下導電膜間の接触抵抗が大きく、従って入
力はされない。一方、押圧して上下導電膜間の接触圧が
増加すると、接触抵抗が低下し、その結果、入力検知が
可能になる。

このように、本考案では絶縁スペーサを使用しないので
どこを押しても入力することができ、図形などのファイ
ンな入力が可能となるばかりでなく、凸凹がないので入
力し易い。

（実施例） 第１図は、本考案の一実施例の構成を示したものであ
る。第１図において、13は電極膜としての透明導電膜で
あり、上部絶縁基板11及び下部絶縁基板12にそれぞれ形
成されている。14は透明導電膜13の一方又は両方の表面
を強制的に酸化させて形成した酸化層であり、高抵抗に
なっている。15は接着剤であり、酸化層14を挟んで透明
導電膜13を対向させ上下基板を接着固定している。

次に、本実施例の動作について説明する。

無押圧時は、上下透明導電膜13間に挟まれた酸化層14が
高抵抗になっているため、その時の接触抵抗値は非常に
大きく、見掛けの入力抵抗が大きくなって入力検知でき
ない。これに対して上部絶縁基板11の上から押圧する
と、その部分の接触圧力が増大し、接触抵抗値が小さく
なる。従って、見掛けの入力抵抗が小さくなって入力を
検知することができる。又、従来例で示した絶縁スペー
サがないため、どの位置を押しても入力することができ
る。

以下、具体例を示す。

上部絶縁基板は、ｔ＝0.4mm薄板ガラスを用い、その上
に透明導電膜として、インジウム，スズドープの酸化膜
（ITO膜）200〜500Ω／口を形成し、一部配線パターン
を銀ペーストにて形成した。絶縁基板として、ｔ＝0.4m
m薄板ガラスを用いたのは、外観性がよく、又、取扱い
性，操作性が良好であるためであり、ｔ＝0.2mmやｔ＝
0.55mm以上の板ガラス、あるいは、ポリエステル，ポリ
カーボネイト，ポリイミドなどのフィルム基板であって
もよい。

透明導電膜としてのインジウム，スズドープの酸化膜
は、一般的にスパッタ，蒸着，気相法などによって絶縁
基板上に形成れ、必要に応じてエッチング等によりパタ
ーニングされる。

インジウム，スズドープ酸化膜は、一種の半導体的要素
を持つもので、In₂O₃，Sn₂O₃から成るとされているが、
それに含まれる酸素の量が多くなると、透明性が増す反
面、膜質が弱くなり、抵抗が大きくなる特性がある。こ
の特性に着目して、極く表面層を高抵抗にすべく、加熱
又は酸化雰囲気中に放置し、高抵抗表面層を形成した。

透明導電膜の表面に酸化膜を形成する方法としては、一
度透明導電膜を形成した後、酸化処理する方法、あるい
は、膜形成時に二工程に分けて、酸素量を制御し形成す
る方法がある。特性的には後者が良好であるが、コスト
面から考えると前者の方が好ましい。

又、抵抗値については、あまり高抵抗値にすると膜質が
弱くなるので、オン，オフ動作の繰返しで劣化が生じ易
く、また、オン（入力）時に高い押圧荷重が必要とな
る。

一方、低抵抗値にすると、オフ（無押圧）時の接触抵抗
値が小さくなってしまい、オン，オフ時の抵抗差が小さ
くなるので、検知するための回路設計が大変となる。

検討の結果、電極用の透明導電膜としての抵抗値は300
Ω／口、表面酸化層の抵抗値としては、10〜100kΩ／口
が良好であるが、前に述べたように各特性のバランスか
ら必ずしもこの抵抗値でなければならない理由はない。

この様なタッチ入力装置で測定したところ、無押圧時で
は、上下電極間の抵抗が1MΩ以上で、押圧時は5kΩ〜20
kΩであり、図形を入力したところ、直線の入力が可能
であった。特に従来例のような絶縁スペーサがないた
め、どこを押しても入力が可能な上、透明感もよく、入
力時の凸凹がないため、図形などが入力し易いものであ
った。

（考案の効果） 本考案は、上記実施例より明らかなように、上下導電膜
の極く表面層を酸化制御して高抵抗にすることにより、
押圧の差による上下電極膜間の接触抵抗値の変化を利用
して入力検知するようにしたものであり、特に、高抵抗
酸化層の下地とし透明導電膜が形成されているため、上
下電極膜はシート抵抗が小さく、押圧時と無押圧時の上
下電極膜間の接触抵抗値の変化が大きくとれ、入力検知
の感度が高い。さらに、絶縁スペーサを使用しない構造
になっているため、どの位置を押しても入力がでいる利
点を有し、又、凸凹がないため、スムーズな入力が可能
になり、外観もよいなどの効果も有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本考案の一実施例におけるタッチ入力装置の
概略断面図、第２図は、従来のタッチ入力装置の概略断
面図である。 11……上部絶縁基板、12……下部絶縁基板、13……透明
導電膜、14……透明導電膜の表面酸化層、15……接着
剤。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】２枚一組の絶縁基板の各一主面にそれぞれ
   透明導電膜からなる電極膜を設け、少なくとも一方の電
   極膜は、透明導電膜の表面に高抵抗酸化層を有し、前記
   酸化層を挟んで両電極膜が接するように両基板を重ねて
   なることを特徴とするタッチ入力装置。