JPH07272272A - Initializing method of phase transition type optical disk - Google Patents

Initializing method of phase transition type optical disk

Info

Publication number
JPH07272272A
JPH07272272A JP5971594A JP5971594A JPH07272272A JP H07272272 A JPH07272272 A JP H07272272A JP 5971594 A JP5971594 A JP 5971594A JP 5971594 A JP5971594 A JP 5971594A JP H07272272 A JPH07272272 A JP H07272272A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
initialization
recording
optical disk
change optical
initializing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5971594A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Okubo
修一 大久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP5971594A priority Critical patent/JPH07272272A/en
Publication of JPH07272272A publication Critical patent/JPH07272272A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an initializing method of a phase transition optical disk by which stable overwriting characteristics are obtainable from initial recording to after repetition. CONSTITUTION:Initialization is executed under a condition under which the temp. rising quantity at the time of irradiation with a laser is equaled in the initialized parts and amorphous parts. More specifically, light energy is supplied to the phase transition optical disk in such a manner that the absorbance Ai of the initialized parts subjected to photoirradiation and the absorbance Aa of the amorphous parts satisfy Ai>Aa. The light energy at which a relation between the length Mi of the recording marks recorded on the initialized parts subjected to photoirradiation and the length Ma of the recording marks overwritten and recorded on the amorphous parts attains ¦Mi-Ma¦<0.05mum is supplied.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、熱履歴の違いにより誘
起される相変化にともなう光学定数の変化を利用して情
報の記録・消去を行う光学情報記録媒体すなわち相変化
光ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium for recording and erasing information by utilizing a change in optical constants accompanying a phase change induced by a difference in thermal history, that is, a phase change optical disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザ光の照射によって情報の記録・消
去・再生を行う光学情報記録媒体としては、光磁気ディ
スクや相変化光ディスクなどが知られている。このう
ち、例えば相変化光ディスクでは、図2に示すように、
基板1上に下部保護層2、記録層3、上部保護層4、反
射層5がこの順に設けられた4層構成が通常用いられ
る。情報の記録・消去はレーザ光の照射による昇温・冷
却の熱履歴の違いによって誘起される記録層の非晶質・
結晶間の相変化を利用して行われる。すなわち、記録層
を溶融し急冷することにより非晶質化させ記録を行い、
また、結晶化温度以上に一定時間保持することにより結
晶化させ、消去を行う。信号の再生は非晶質・結晶間の
反射率差を利用して行われる。下部保護層2、記録層
3、上部保護層4及び反射層5のそれぞれの膜厚は、感
度、C/N、消去率、書換可能繰り返し回数などの観点
から最適化される。
2. Description of the Related Art Magneto-optical disks and phase change optical disks are known as optical information recording media for recording / erasing / reproducing information by irradiating laser light. Among them, for example, in a phase change optical disc, as shown in FIG.
A four-layer structure in which a lower protective layer 2, a recording layer 3, an upper protective layer 4, and a reflective layer 5 are provided in this order on a substrate 1 is usually used. Information recording / erasing is induced by the difference in thermal history of temperature rise / cooling by laser light irradiation.
It is performed by utilizing the phase change between crystals. That is, the recording layer is melted and rapidly cooled to be amorphized for recording,
In addition, erasing is performed by keeping the temperature above the crystallization temperature for a certain time to crystallize. Signal reproduction is performed by utilizing the difference in reflectance between amorphous and crystalline. The film thickness of each of the lower protective layer 2, the recording layer 3, the upper protective layer 4, and the reflective layer 5 is optimized from the viewpoints of sensitivity, C / N, erasing rate, rewritable repetition number, and the like.

【0003】高密度化には、記録マークの両端に情報を
持たせるマークエッジ記録が有効である。しかし、信号
の再生に結晶・非晶質間の反射率差を利用している相変
化光ディスクでは、結晶部の吸収率と非晶質部の吸収率
が異なる場合が多く、一般に、非晶質部の吸収率が結晶
部の吸収率より大きくなっている。このような場合、形
成されるマークの幅や長さは、新たに記録する以前の状
態が結晶であったか、非晶質であったかによって影響さ
れ、オーバライトによってジッタが大きく増加してしま
う。従って、相変化光ディスクにおいてジッタを低減
し、マークエッジ記録を実現するには、レーザ光照射時
の昇温量を非晶質部と結晶部とで等しくする必要があ
る。ところで、結晶状態の方が熱伝導率が高いこと、潜
熱が大きいことを考慮すると、結晶部の吸収率を非晶質
部の吸収率より大きくすることが望ましい。
Mark edge recording in which information is provided at both ends of a recording mark is effective for increasing the recording density. However, in a phase-change optical disk that uses the reflectance difference between crystalline and amorphous for signal reproduction, the absorptance of the crystal part and the absorptance of the amorphous part are often different. The absorption rate of the crystal part is higher than that of the crystal part. In such a case, the width and length of the formed mark are affected by whether the state before the new recording was crystalline or amorphous, and the jitter greatly increases due to overwriting. Therefore, in order to reduce the jitter and realize the mark edge recording in the phase change optical disk, it is necessary to make the temperature rise amount at the time of laser light irradiation equal in the amorphous portion and the crystal portion. By the way, considering that the crystalline state has a higher thermal conductivity and the latent heat is larger, it is desirable that the absorptance of the crystal part is larger than that of the amorphous part.

【0004】相変化光ディスクでは、成膜直後の記録膜
は非晶質状態にあるため、記録開始に先立ち記録膜を結
晶化、すなわち初期化を行わなければならない。初期化
の方法としてはレーザ光を用いる方法やフラッシュラン
プを用いる方法が知られている。初期化状態から繰り返
しオーバライトにともなう相変化光ディスクの状態変化
は、図3のように表現することができる。初期のオーバ
ライトにおけるジッタは、初期化部の吸収率Ai と記録
非晶質部の吸収率Aa の差によって、また、繰り返しオ
ーバライト後のジッタは、消去部の吸収率Ae と非晶質
部の吸収率Aaの差によって決まる。繰り返しオーバラ
イト後に低ジッタであるためには、前述したように結晶
部の吸収率を非晶質部の吸収率より大きくする必要があ
る。すなわち、Ae >Aa となるように図2に示す媒体
構成の各層の膜厚を最適化する必要がある。これを実現
するための方法として、反射層にSiや膜厚20nm以下
のAuを用いる方法が知られている(特開平1−149
238号公報)。
In a phase change optical disk, since the recording film immediately after film formation is in an amorphous state, the recording film must be crystallized, that is, initialized before starting recording. As a method of initialization, a method using a laser beam and a method using a flash lamp are known. The state change of the phase change optical disk due to repeated overwrite from the initialized state can be expressed as shown in FIG. Jitter in the initial overwriting is the difference in absorptivity A a rate of absorption initializing unit A i and the recording amorphous portion, also, the jitter after repetitive overwriting, erasing of the absorption rate A e and non It depends on the difference in the absorption rate A a of the crystalline portion. In order to have low jitter after repeated overwriting, it is necessary to make the absorptance of the crystal part larger than that of the amorphous part as described above. That is, it is necessary to optimize the film thickness of each layer of the medium structure shown in FIG. 2 so that A e > A a . As a method for realizing this, there is known a method using Si or Au having a film thickness of 20 nm or less for the reflective layer (Japanese Patent Laid-Open No. 1-149).
No. 238).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの媒体
構成における初期化方法については、具体的検討がなさ
れていなかった。これまでに提案されている初期化方法
は、レーザビーム径を長くして結晶化温度以上に保持さ
れる時間を確保する特開平3−278338号公報や、
初期化によって記録層の組成分布を不均一にする特開平
4−209317号公報などのように、消去率やC/N
の向上あるいは、初期化時間の短縮を目的としているも
のが多い。しかしながら、相変化光ディスクでは、初期
のオーバライトと繰り返し後のオーバライトでジッタや
消去率が異なるという問題があった。また、マークエッ
ジ記録においては消去率が高くてもジッタが高くなる場
合があり、消去率を高めようとする初期化条件がマーク
エッジ記録に適しているとは言えない。
However, no specific study has been made on the initialization method in these medium configurations. The initialization methods proposed so far are disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-278338, in which the laser beam diameter is lengthened to secure a time for keeping the temperature above the crystallization temperature.
As in Japanese Patent Laid-Open No. 4-209317, in which the compositional distribution of the recording layer is made non-uniform by initialization, the erasing rate and C / N
In many cases, the purpose is to improve the power consumption or shorten the initialization time. However, the phase change optical disc has a problem that the initial overwrite and the repeated overwrite have different jitters and erase rates. Further, in the mark edge recording, the jitter may increase even if the erasing rate is high, and it cannot be said that the initialization condition for increasing the erasing rate is suitable for the mark edge recording.

【0006】そこで本発明の目的は、マークエッジ記録
適用時に、初期から安定したオーバライト特性を得るこ
とができる相変化光ディスクの初期化方法を提供するこ
とにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a method for initializing a phase change optical disk which can obtain stable overwrite characteristics from the beginning when mark edge recording is applied.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明は、相変化光ディスクの初期化方法におい
て、初期化部の吸収率Ai と非晶質部の吸収率Aa の関
係がAi >Aa となる条件で初期化することを特徴と
し、また、初期化部上に記録される記録マークの長さM
i と非晶質部上にオーバライトして記録される記録マー
クの長さMa との関係が、|Ma −Mi |<0.05μ
m を満たす条件で初期化することを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention relates to a method of initializing a phase change optical disc, wherein the relationship between the absorptance A i of the initialized part and the absorptivity A a of the amorphous part is set. Is initialized under the condition that A i > A a, and the length M of the recording mark recorded on the initialization part is
relationship between the length M a recording mark recorded by overwriting on the i and an amorphous portion, | M a -M i | < 0.05μ
The feature is that initialization is performed under the condition that m is satisfied.

【0008】[0008]

【作用】初期化部と消去部とは両方とも結晶状態ではあ
るが、初期化部の結晶状態は初期化方法や初期化条件に
よって変化するので、初期化部の吸収率Ai と消去部の
吸収率Ae は常に等しいとは限らない。従って、Ae
a となるように媒体構成を最適化しても、初期化条件
によっては初期のオーバライトから低ジッタを実現でき
るわけではない。例えば直径1.5μm 程度の集光レー
ザビームを用いて初期化を行う場合、初期化部の光学的
な特性は、初期化パワによって、図1に示すように変化
する。従って、初期化部の吸収率Ai と記録部の吸収率
a がAi<Aa となる初期化パワPi1やPi2で初期化
を行った場合、結晶非晶質間の反射率差を大きくするこ
とができるのでC/Nを高くすることはできるが、初期
化部と非晶質部で感度が異なるために、初期のオーバラ
イトでは高ジッタとなってしまう。初期から低ジッタを
実現するには、Ai >Aa となる初期化パワPi0で初期
化を行う必要がある。
There is both crystalline state [act] an initialization section and the erasing section, but the crystal state of the initialization unit is changed by the initialization process and the initialization condition, the initialization unit absorptance A i and the erasing unit Absorption rates A e are not always equal. Therefore, A e
Even if the medium configuration is optimized so as to be A a , it is not possible to realize low jitter from the initial overwrite depending on the initialization conditions. For example, when initialization is performed using a focused laser beam with a diameter of about 1.5 μm, the optical characteristics of the initialization section change as shown in FIG. 1 due to the initialization power. Thus, if the absorption rate of the initialization unit A i and absorptivity A a of the recording unit has performed the initialization in A i <initialization power P i1 and P i2 as a A a, reflectivity between crystalline amorphous Although the C / N can be increased because the difference can be increased, the sensitivity is different between the initialized portion and the amorphous portion, so that the initial overwrite causes high jitter. In order to realize low jitter from the initial stage, it is necessary to perform initialization with the initialization power P i0 that satisfies A i > A a .

【0009】また、最適な初期化条件は初期化部上に形
成されるマークのマーク長Mi と、非晶質部上に形成さ
れるマークのマーク長Ma との関係を用いても規定する
ことができる。マーク長の分布が、初期化部上に記録さ
れるマークでは平均値Mi 、標準偏差σ0 のガウス分
布、非晶質部上にオーバライトされるマークでは平均値
a 、標準偏差σ0 のガウス分布をしているとする。旧
記録データの倍の記録周波数でオーバライトを行った場
合、ジッタσはσ2 =σ0 2 +(Ma −Mi 2/(4
*V2 )で表される。ここで、Vは線速を表している。
エラーレート10-4以下を実現するには、σ×V<0.
03μm が要求されるので、σ0 ×V=0.015μm
とすると、|Ma −MI |<0.05μm でなければな
らない。
Further, the optimal initializing conditions defined also using the relation between the mark length M i of a mark to be formed on the initialization section, a mark length M a mark formed on the amorphous part can do. Mark length distribution, the average value in the marks recorded on the initialization section M i, Gaussian distribution with a standard deviation sigma 0, the average value M a is a mark to be overwritten on the amorphous part, the standard deviation sigma 0 It has a Gaussian distribution of. When performing overwriting at twice the recording frequency of the old recording data, jitter sigma is σ 2 = σ 0 2 + ( M a -M i) 2 / (4
* V 2 ). Here, V represents the linear velocity.
To achieve an error rate of 10 −4 or less, σ × V <0.
Since 03 μm is required, σ 0 × V = 0.015 μm
Then, | M a −M I | <0.05 μm must be satisfied.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例について添付図面に基
づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0011】図2は本発明に係る光学情報記録媒体の断
面を示す図である。基板1上に下部保護層2、記録層
3、上部保護層4、反射層5を順次積層した構成であ
る。
FIG. 2 is a view showing a cross section of the optical information recording medium according to the present invention. It has a structure in which a lower protective layer 2, a recording layer 3, an upper protective layer 4, and a reflective layer 5 are sequentially laminated on a substrate 1.

【0012】実施例1 基板1としてポリカーボネート(PC)を用い、下部保
護層2としてZnS−SiO2 を100nm、記録層3と
してGe2 Sb2 Te5 を17nm、上部保護層4として
ZnS−SiO2 を20nm、反射層5としてAlを60
nmを順次スパッタリングにより積層した。
[0012] Example 1 Polycarbonate (PC) is used as the substrate 1, 100 nm and ZnS-SiO 2 as the lower protective layer 2, 17 nm of Ge 2 Sb 2 Te 5 as the recording layer 3, ZnS-SiO 2 as the upper protective layer 4 Of 20 nm and Al as the reflection layer 5 of 60
nm was sequentially laminated by sputtering.

【0013】上記ディスクを用いて、初期化パワを変化
させて初期化を行い、繰り返しにともなうオーバライト
特性の変化について調べた。
Using the above disk, the initialization power was changed to perform the initialization, and the change of the overwrite characteristic with the repetition was examined.

【0014】初期化は、波長830nm、集光ビーム径
1.5μm の半導体レーザを用い、線速7.5m/sに
おいて初期化パワを6,8,10mWと変化させて行っ
た。オーバライト特性の測定は、波長830nmの半導体
レーザを用い、線速11.3m/sにおいて、1.06
MHz,duty=45%の信号と2.12MHz,d
uty=45%の信号を交互にオーバライトして行っ
た。
Initialization was performed by using a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm and a focused beam diameter of 1.5 μm, and changing the initialization power to 6, 8 and 10 mW at a linear velocity of 7.5 m / s. The overwrite characteristics were measured using a semiconductor laser with a wavelength of 830 nm at 1.06 at a linear velocity of 11.3 m / s.
Signal of MHz, duty = 45% and 2.12 MHz, d
The signal of duty = 45% was alternately overwritten.

【0015】初期化パワに依存して初期化部の反射率と
吸収率は図4に示すように変化した。非晶質部の吸収率
は70%、繰り返しオーバライト後の消去部の吸収率は
80%であった。図5に示すように、繰り返しオーバラ
イト後の特性は初期化条件には依存しない。これに対
し、初期のオーバライト特性は初期化条件によって大き
く変化する。Ai =Aa となっている初期化パワ8mW
の条件では、図6の再生波形から分かるように、初期化
部の反射率と結晶部の反射率がほぼ等しいために消去率
は高いものの、レーザ照射時の昇温量が初期化部と記録
非晶質部で異なるため、ジッタは2極分化し増加してい
る。初期化パワ10mWの条件では、初期化部と非晶質
部の反射率差が大きいので高C/Nとなるが、レーザ照
射時の昇温量が初期化部と消去部で異なるので、やはり
ジッタは2極分化してしまう。一方、Ai >Aa となっ
ている初期化パワ6mWの条件では、初期化部の反射率
が消去部の反射率より低いので、消去率はやや低いもの
の、レーザ照射時の昇温量が初期化部と消去部で等しい
ので、ジッタは2極分化せず初期から繰り返し後にわた
って低い値となっている。
The reflectance and absorptance of the initialization portion changed as shown in FIG. 4 depending on the initialization power. The absorptance of the amorphous portion was 70%, and the absorptance of the erased portion after repeated overwriting was 80%. As shown in FIG. 5, the characteristic after repeated overwriting does not depend on the initialization condition. On the other hand, the initial overwrite characteristics vary greatly depending on the initialization conditions. Initialization power 8 mW with A i = A a
Under the condition (1), as can be seen from the reproduced waveform in FIG. 6, the erase rate is high because the reflectance of the initialization section and the reflectance of the crystal section are almost equal, but the temperature rise during laser irradiation is the same as that of the initialization section. Since the amorphous portion is different, the jitter is polarized and increased. Under the condition that the initialization power is 10 mW, the difference in reflectance between the initialized portion and the amorphous portion is large, so that the C / N ratio is high. However, since the temperature rise amount during laser irradiation is different between the initialized portion and the erased portion, Jitter is divided into two polarities. On the other hand, under the condition of the initialization power of 6 mW where A i > A a , the reflectance of the initialization section is lower than the reflectance of the erasure section, so the erasure rate is slightly low, but the temperature rise during laser irradiation is small. Since the initialization section and the erasing section have the same jitter, the jitter is not divided into two poles and has a low value from the initial stage to the repeated stage.

【0016】1.06MHzの信号に2.12MHzの
信号を1回オーバライトしたトラックのTEM観察を行
い初期化条件とマーク長の関係を調べた。ジッタ増加が
少ない初期化パワ6mWの条件で初期化を行ったトラッ
クでは、初期化部上に記録されたマークのマーク長Mi
が2.34μm 、非晶質部上にオーバライトして形成さ
れるマークのマーク長Ma が2.38μm であった。一
方、ジッタ増加が大きい初期化パワ8mWの条件では、
i が2.31μm でMa との差は0.07μm であっ
た。また同様に大幅にジッタが増加している初期化パワ
10mWの条件では、Mi は2.26μm であり、Ma
との差は0.12μm であった。
A TEM observation of a track in which a 2.12 MHz signal was overwritten once with a 1.06 MHz signal was carried out to examine the relationship between the initialization condition and the mark length. In the track initialized under the condition of the initialization power of 6 mW that causes less increase in jitter, the mark length M i of the mark recorded on the initialization part is
There 2.34Myuemu, mark length M a mark formed by overwriting on the amorphous portion was 2.38 .mu.m. On the other hand, under the condition of the initialization power of 8 mW that the jitter increase is large,
M i was 2.31 μm and the difference from M a was 0.07 μm. Similarly, under the condition of initialization power of 10 mW in which the jitter is greatly increased, M i is 2.26 μm, and M a is
Was 0.12 μm.

【0017】実施例2 基板1としてポリカーボネート(PC)を用い、下部保
護層2としてZnS−SiO2 を250nm、記録層3と
してGe2 Sb2 Te5 を15nm、上部保護層4として
ZnS−SiO2 を18nm、反射層5としてSiを65
nmを順次スパッタリングにより積層した。
[0017] Example 2 polycarbonate (PC) was used as the substrate 1, 250 nm and ZnS-SiO 2 as the lower protective layer 2, 15 nm of Ge 2 Sb 2 Te 5 as the recording layer 3, ZnS-SiO 2 as the upper protective layer 4 18 nm, and Si as a reflection layer 5 is 65 nm.
nm was sequentially laminated by sputtering.

【0018】初期化にはフラッシュランプを用い、照射
ランプ強度を変化させて初期化を行い、繰り返しにとも
なうオーバライト特性の変化について調べた。フラッシ
ュランプにより供給されるエネルギーに依存して初期化
部の吸収率は図7に示すように変化した。一方、非晶質
部の吸収率は58%であった。
A flash lamp was used for the initialization, the irradiation lamp intensity was changed, and the initialization was performed. Then, the change of the overwrite characteristic with the repetition was examined. The absorptance of the initialization part changed as shown in FIG. 7 depending on the energy supplied by the flash lamp. On the other hand, the absorptance of the amorphous portion was 58%.

【0019】波長830nmの半導体レーザを用い、線速
20m/sにおいて、2.12MHz,duty=45
%の信号と3.39MHz,duty=45%の信号を
交互にオーバライトしてジッタを測定した。図8に示す
ように、Ai >Aa を満たす2.6KJで初期化を行っ
た場合は、初期から繰り返し後にわたって低ジッタとな
っている。これに対し、Ai =Aa となる2.9KJで
初期化を行った場合は、初期のオーバライトで高ジッタ
であった。
Using a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm, a linear velocity of 20 m / s, 2.12 MHz, duty = 45
% And a signal of 3.39 MHz, duty = 45% were alternately overwritten to measure the jitter. As shown in FIG. 8, when the initialization is performed at 2.6 KJ that satisfies A i > A a , the jitter is low from the initial stage to the repeated stage. On the other hand, when the initialization was performed at 2.9 KJ where A i = A a , the initial overwrite resulted in high jitter.

【0020】2.12MHzの信号に3.39MHzの
信号を1回オーバライトしたトラックのTEM観察を行
い初期化条件とマーク長を調べた。ジッタ増加が少ない
2.6KJの条件で初期化を行ったトラックでは、初期
化部上に記録されたマークのマーク長Mi が2.97μ
m 、非晶質部上にオーバライトして形成されるマークの
マーク長Ma が2.95μm であった。一方、ジッタ増
加が大きい2.9KJの条件では、Mi が2.88μm
でMa との差は0.07μm であった。
Initialization conditions and mark lengths were examined by TEM observation of a track in which a 2.39 MHz signal was overwritten with a 3.39 MHz signal once. In the track which was initialized under the condition of 2.6 KJ with little increase in jitter, the mark length M i of the mark recorded on the initialized portion was 2.97 μ.
m, the mark length M a mark formed by overwriting on the amorphous portion was 2.95Myuemu. On the other hand, under the condition of a large increase in jitter of 2.9 KJ, M i is 2.88 μm.
The difference with M a was 0.07 μm.

【0021】実施例3 基板1としてポリカーボネート(PC)を用い、下部保
護層2としてZnS−SiO2 を200nm、記録層3と
してGe2 Sb2 Te5 を10nm、上部保護層4として
ZnS−SiO2 を18nm、反射層5としてSiを60
nmを順次スパッタリングにより積層した。
[0021] Example 3 Polycarbonate (PC) is used as the substrate 1, 200 nm and ZnS-SiO 2 as the lower protective layer 2, 10 nm of Ge 2 Sb 2 Te 5 as the recording layer 3, ZnS-SiO 2 as the upper protective layer 4 18 nm, and Si as the reflection layer 5 of 60
nm was sequentially laminated by sputtering.

【0022】上記ディスクを用いて、初期化パワを変化
させて初期化を行い、初期オーバライトにおけるエラー
レートを測定した。
Using the above disk, the initialization power was changed to perform initialization, and the error rate in the initial overwrite was measured.

【0023】初期化は、波長830nm、集光ビーム径
1.5μm の半導体レーザを用い、線速7.5m/sに
おいて初期化パワを4,6,8mWと変化させて行っ
た。初期化後、波長690nmの半導体レーザを用い、線
速10m/sにおいて、(1−7)変調、最短マーク長
0.7μm の条件で記録を行い、エラーレートを測定し
た。図9に示すように、繰り返しオーバライト後では初
期化条件によらず、エラーレートは10-4以下となって
いる。これに対し、初期化パワ4mWの条件では、エラ
ーレートは初期から10-4以下であるが、初期化パワ6
mWや初期化パワ8mWの条件では、初期のオーバライ
トにおいてエラーレートが悪化していることが分かる。
Initialization was performed by using a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm and a focused beam diameter of 1.5 μm, and changing the initialization power to 4, 6, 8 mW at a linear velocity of 7.5 m / s. After the initialization, a semiconductor laser having a wavelength of 690 nm was used to record at a linear velocity of 10 m / s under the conditions of (1-7) modulation and the shortest mark length of 0.7 μm, and the error rate was measured. As shown in FIG. 9, after repeated overwriting, the error rate is 10 −4 or less regardless of the initialization condition. On the other hand, under the condition that the initialization power is 4 mW, the error rate is 10 −4 or less from the initial value, but the initialization power 6
Under the conditions of mW and initialization power of 8 mW, it can be seen that the error rate deteriorates in the initial overwrite.

【0024】非晶質部と初期化部の感度差とエラーレー
ト変動の関係を調べるために、各初期化条件ごとに、線
速10m/sにおいて、まず初めに1.05MHz,d
uty=50%の信号を記録した後、2.12MHz,
duty=50%の信号をオーバライトしTEM観察を
行った。エラーレートが初期から安定して10-4以下と
なっている初期化パワ4mWの条件で、初期化部上に記
録されたマークのマーク長Mi が2.36μm 、非晶質
部上にオーバライトして形成されるマークのマーク長M
a が2.38μm であった。一方、エラーレートが変動
している初期化パワ6mWの条件では、Mi が2.32
μm でMa との差は0.06μm であった。また同様に
エラーレートが変動している初期化パワ8mWの条件で
は、Miは2.25μm であり、Ma との差は0.11
μm であった。
In order to investigate the relationship between the sensitivity difference between the amorphous part and the initialized part and the error rate fluctuation, first, 1.05 MHz, d at a linear velocity of 10 m / s for each initialization condition.
After recording the signal of duty = 50%, 2.12 MHz,
A signal of duty = 50% was overwritten and TEM observation was performed. The mark length M i of the mark recorded on the initialized portion is 2.36 μm, and the error rate is over the amorphous portion under the condition of the initialization power of 4 mW where the error rate is stable at 10 −4 or less from the initial stage. Mark length M of the mark formed by writing
a was 2.38 μm. On the other hand, under the condition of the initialization power of 6 mW in which the error rate fluctuates, M i is 2.32.
The difference from M a in μm was 0.06 μm. Similarly, under the condition of initialization power of 8 mW in which the error rate fluctuates, M i is 2.25 μm, and the difference from M a is 0.11.
It was μm.

【0025】以上の実施例では、基板としてポリカーボ
ネート(PC)を用い、保護層としてZnS−Si
2 、記録層としてGe2 Sb2 Te5 を用いている
が、本発明はこれに限定されるものではない。また、初
期化に半導体レーザ、フラッシュランプを用いたが、こ
れに限定されるものではない。
In the above embodiments, polycarbonate (PC) is used as the substrate and ZnS-Si is used as the protective layer.
Although O 2 and Ge 2 Sb 2 Te 5 are used as the recording layer, the present invention is not limited to this. Further, although the semiconductor laser and the flash lamp are used for the initialization, the present invention is not limited to this.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本発明により、初
記録から繰り返しオーバライト後にわたってマークエッ
ジ記録時のジッタが小さい媒体を提供することができる
ので、高密度化を実現することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a medium in which the jitter at the mark edge recording is small from the initial recording to the repeated overwriting, so that the high density can be realized.

【0027】また、レーザ照射時の昇温量が初期化部と
消去部で等しいので、繰り返しにともなってマーク長が
変化することもないので、安定した記録を行うことがで
きる。
Further, since the temperature rise amount at the time of laser irradiation is the same in the initialization portion and the erasing portion, the mark length does not change with repetition, and stable recording can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかる相変化光ディスクの光学特性を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing optical characteristics of a phase change optical disc according to the present invention.

【図2】本発明にかかる相変化光ディスクの媒体構成の
1例の断面を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a cross section of an example of a medium configuration of a phase change optical disc according to the present invention.

【図3】相変化光ディスクの状態変化を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a state change of a phase change optical disc.

【図4】本発明の実施例における初期化パワと反射率お
よび吸収率の関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the initialization power and the reflectance and absorptance in the example of the present invention.

【図5】本発明の実施例における繰り返しオーバライト
回数と消去率およびジッタの関係を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing the relationship among the number of repeated overwrites, the erase rate, and the jitter in the example of the present invention.

【図6】本発明の実施例における再生波形とジッタ分布
を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a reproduced waveform and a jitter distribution in the example of the present invention.

【図7】本発明の実施例における初期化エネルギーと吸
収率の関係を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the initialization energy and the absorptance in the example of the present invention.

【図8】本発明の実施例における繰り返しオーバライト
回数とジッタの関係を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the number of repeated overwrites and jitter in the example of the present invention.

【図9】本発明の実施例における繰り返しオーバライト
回数とエラーレートの関係を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the number of repeated overwrites and the error rate in the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 下部保護層 3 記録層 4 上部保護層 5 反射層 1 substrate 2 lower protective layer 3 recording layer 4 upper protective layer 5 reflective layer

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成6年10月25日[Submission date] October 25, 1994

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0027[Name of item to be corrected] 0027

【補正方法】削除[Correction method] Delete

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】マークエッジ記録を用いて情報の記録・消
去・再生を行う相変化光ディスクの初期化方法におい
て、光照射した初期化部の吸収率Ai と非晶質部の吸収
率Aaの関係がAi >Aa を満たすべく光エネルギーを
相変化光ディスクに供給して初期化することを特徴とす
る相変化光ディスクの初期化方法。
1. A method of initializing a phase-change optical disk for recording / erasing / reproducing information by using mark edge recording, wherein an absorptance A i of an initialized part and an absorptivity A a of an amorphous part irradiated with light. The method for initializing a phase-change optical disk is characterized in that optical energy is supplied to the phase-change optical disk so as to satisfy the relationship of A i > A a .
【請求項2】マークエッジ記録を用いて情報の記録・消
去・再生を行う相変化光ディスクの初期化方法におい
て、光照射した初期化部上に記録される記録マークの長
さMiと非晶質部上にオーバライトして記録される記録
マークの長さMa との関係が、|Ma −Mi |<0.0
5μm を満たすべく光エネルギーを相変化光ディスクに
供給して初期化することを特徴とする相変化光ディスク
の初期化方法。
2. A method of initializing a phase change optical disk for recording / erasing / reproducing information using mark edge recording, wherein a length M i of a recording mark recorded on a light-irradiated initializing portion and an amorphous state. relationship between the length M a recording mark recorded by overwriting on the quality portion, | M a -M i | < 0.0
An initialization method for a phase-change optical disk, which comprises supplying light energy to a phase-change optical disk so as to satisfy 5 μm for initialization.
【請求項3】初期化にレーザ光を用いることを特徴とす
る請求項1または請求項2記載の相変化光ディスクの初
期化方法。
3. The method for initializing a phase change optical disk according to claim 1, wherein a laser beam is used for initialization.
【請求項4】初期化にフラッシュランプを用いることを
特徴とする請求項1または請求項2記載の相変化光ディ
スクの初期化方法。
4. A method for initializing a phase change optical disk according to claim 1, wherein a flash lamp is used for initialization.
JP5971594A 1994-03-30 1994-03-30 Initializing method of phase transition type optical disk Pending JPH07272272A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5971594A JPH07272272A (en) 1994-03-30 1994-03-30 Initializing method of phase transition type optical disk

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5971594A JPH07272272A (en) 1994-03-30 1994-03-30 Initializing method of phase transition type optical disk

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10165767A Division JP3033559B2 (en) 1998-06-15 1998-06-15 Initialization method of phase change optical disk

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07272272A true JPH07272272A (en) 1995-10-20

Family

ID=13121187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5971594A Pending JPH07272272A (en) 1994-03-30 1994-03-30 Initializing method of phase transition type optical disk

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07272272A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6683275B2 (en) 2000-06-23 2004-01-27 Memex Optical Media Solutions Ag Method and apparatus for fabricating phase-change recording medium

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6683275B2 (en) 2000-06-23 2004-01-27 Memex Optical Media Solutions Ag Method and apparatus for fabricating phase-change recording medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2806274B2 (en) Optical information recording medium
JPH097176A (en) Optical recording method and optical recording medium
JP2812181B2 (en) Optical information recording medium
JP2737666B2 (en) Optical information recording medium
KR950003182B1 (en) Optical disk &amp; optical infomation recording method
US4633273A (en) Information recording medium including antimony-selenium compounds
JP3080739B2 (en) Optical information recording medium and optical information recording / erasing / reproducing method
JP2643883B2 (en) Initialization method of phase change optical disk
JP2827545B2 (en) How to record optical information
US6438085B1 (en) Optical recording method
JP3033559B2 (en) Initialization method of phase change optical disk
JPH11513166A (en) Reversible optical information medium
JPH0562193A (en) Recording method of optical information
JPH07272272A (en) Initializing method of phase transition type optical disk
JP2577349B2 (en) Optical recording medium
KR100186525B1 (en) Structure for phase change type optical disk
JP3455521B2 (en) Optical recording method
US7096479B2 (en) Optical information recording medium
JP2625843B2 (en) Optical information recording method
JPH07262612A (en) Phase transition type optical information recording medium
JP2000043414A (en) Phase change type optical recording medium
US20040142277A1 (en) Optical information recording medium
JPS63155439A (en) Information recording medium
JPH0827981B2 (en) Information carrier disc
JPH04219623A (en) Initialization method for information recording medium